JPH0244314A - カラー液晶パネルの支持基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、液晶を挟む２枚の支持基板のうちの一方で
あって、ガラス等の透明基板の上に、カラーフィルタ、
そのカラーフィルタの上に透明電極ラインを有するカラ
ー液晶パネルの支持基板に関し、特に、透明電極ライン
の断線を防止する技術に関する。

（従来の技術） カラー液晶パネルは、一般に、液晶を光シヤツターとし
、また、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３ｙＸ色の色
画素を有するカラーフィルタによって、カラー表示を可
能とした表示装置である。

こうしたカラー液晶パネルにおいて、液晶は２枚の支持
基板の間に挟まれ、また、カラーフィルタは、視差によ
る混色の影響をなくすため、液晶に面する側に配置され
る。

そして、各支持基板には、各々、透明電極が設けられる
が、液晶に対して有効な駆動電圧を加えるため、カラー
フィルタを有する支持基板については、カラーフィルタ
の上層に透明電極を設けるのが良い。以上については、
たとえば、特開昭６１−５１１２６号の公報に記載され
ている。

（発明が解決しようとする課題） カラーフィルタの上層に透明電極を設ける場合。

単純マトリクス方式、あるいはＭＩＭなどの二端子素子
を用いるアクティブマトリクス方式にあっては、透明電
極は、各色画素の列ごとにライン状に形成することにな
る。

ところが、このようなライン状の透明電極、すなわち、
透明電極ラインは、断線が生じやすく。

その防止対策が必要である。断線は、カラーフィルタの
各色画素を厚くしたとき、その段差部分で多く発生する
。したがって、断線防止策として、カラーフィルタを薄
くしたり、あるいは、カラーフィルタの上を厚い透明保
護膜で被うことによって１段差を小さくすることが考え
られる。しかし。

そうした対策は、充分な色濃度を出せないため、あるい
は、透明保護膜の形成が困難になるため、好ましいとは
いえない。

本発明者は、こうした断線のメカニズムについて検討し
たところ、その断線は、透明電極ラインのエツジ部分か
らエツチング液が染み込むことによって、それも、下地
との密着性の悪い段差部分からの染み込みによって生じ
ていることが分かった。

この発明は１以上の検討結果を考慮してなされたもので
あり、その目的は、カラーフィルタの各色画素を厚く、
かつ、透明保護膜を薄くした場合であっても、透明電極
ラインの断線を有効に防止することができる技術を提供
することにある。

（発明の概要） この発明では、カラーフィルタの各色画素の隣り合うも
の同志を互いに所定距離だけ離し、各色画素間に平らな
境界領域を設け、しかも、各透明電極ラインの幅を各色
画素の寸法よりも大きく設定することによって、各透明
電極ラインが各列の色画素の上を完全に被い、その両側
のエツジ部が前記子らな境界領域上に位置するようにし
ている。

これにより、各透明電極ラインのエツジ部が常に平らな
面上に位置するため、その密着性が良くなり、エツジ部
からのエツチング液の染み込みを防止することができる
。

（実施例） 透明なガラス板である透明基板１０は、上下２面が互い
に平行で、各面１０ａ、１０ｂが平らである。上面１０
ａが液晶に臨む側であり、その面１０ａに、まず、透過
光を遮断可能な遮光層２゜が設けられている。この遮光
層２０は、黒色染料を含有したポリイミド樹脂、あるい
はクロム等の金属材料によって形成することができる。

遮光層２０は、各色画素を形成するためにエツチングさ
れるが、エツチングによって生じる段差を小さくするた
め、遮光層２０自体の厚さを薄く、たとえば、１．５μ
ｍ以下にするのが好ましい、その点、遮光性の高い材料
によって、層２０を形成するのが好適である。

エツチングによる抜き部分２２の大きさは、たとえば、
１５０２ｍＸ１５０μｍのように、各色画素の大きさ、
たとえば、１７０μｍＸ１７０μｍよりも−回り小さく
する。そしてこのとき、各抜き部分２２の間に、たとえ
ば、５０μｍ幅の充分なスペースを取る。

こうした遮光層２０の上に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（
Ｂ）の各色画素、３０が形成されている６各色画素３０
は１着色材を含有したポリイミド樹脂材料などを用い、
遮光層２０と同様にフォトリングラフィ技術によって形
成する。各色画素３０は。

各抜き部分２２を完全に被うように形成するが。

遮光層２０との重なりはなるべく小さくする方が良い、
というのは、隣り合う色画素３０間に、平らな遮光層２
０のスペースを充分に取りたいからである１色画素３０
と遮光層２０との重なりを左右共に１０μｍとすると、
色画素３０間の境界領域をなす遮光層２０上のスペース
は、＠３０μｍはどである。

遮光層２０および各色画素３０を形成した透明基板１０
の上に、さらに、透明保護膜４０が全体を被うように形
成される。透明保護膜４０としては、ポリイミド等の有
機材料、あるいは二酸化ケイ素等の無機材料を用いるこ
とができる。この透明保護膜４０は、通常１表面の凹凸
を小さくするため、かなり厚く形成されるところである
が、ここでは、たとえば、１μｍ程度と比較的に薄くす
る。したがって、各色画素３０による段差は、透明保護
膜４０によって充分には緩和されない。しかし、各色画
素３０間の境界領域の部分は、下層が平らであるので、
それに応じて平らになる。

こうした透明保護膜４０の上に、透明電極ライン５０が
載る。各透明電極ライン５０は、ＩＴＯ等の透明電極材
料をスパッタリング等で成膜し、ついで、それをフォト
リソグラフィ法でエツチングする常法によって形成する
。この発明では、こうした透明電極ライン５０のエツジ
部５０ａ、５０ｂを平らな境界領域の上に位置させる。

そのため、各透明電極ライン５０の幅は、たとえば１８
０μｍと各色画素３０の寸法よりも大きい、いずれにし
ても、各透明電極ライン５０は、各色画素３０および遮
光層２０の凹凸のある表面を走るが。

画面内においては、そのエツジ部５０ａ、５０ｂはどの
部分をとっても平らな境界領域の上に位置する。それに
より、各透明電極ライン５０の両エツジ部５０ａ、５０
ｂは、下地の透明保護膜４０に良く密着している。した
がって、エツジ部５０ａ、５０ｂからエツチング液が染
み込むようなことはなく、透明電極ライン５０に断線を
生じることがない。

なお、図に示した実施例では、遮光層２０を設けている
が、各色画素の大きさ、あるいは表示装置の種類によっ
ては、遮光層２０を省略することもできる。

また、実施例では、各色画素をＸおよびＹ方向に一直線
上に整列させているが、たとえば、特開昭５９−９６３
６号の公報に示されるように、各色画素を各行あるいは
各列ごとに、たとえば半ピツチずつずらすようにするこ
ともできる。その場合、各透明電極ラインはジグザグ状
になるが、互いに隣り合うものは並行に走ることになる
。そのような場合にも、この発明を適用することができ
る。

さらに、透明保護膜４０についても、透明電極ライン５
０の形成工程によって、カラーフィルタを損傷すること
がない場合、たとえば、各色画素３０を充分に硬化した
ような場合には、きわめて薄く形成することもできるし
、あるいは省略することもできる。

（発明の効果） この発明では、透明電極ライン５０のエツジ部５０ａ、
５０ｂを平らな面上に位置させるようにしているので、
エツジ部５０ａ、５０ｂは下地との密着性が良くなり、
したがって、エツジ部かへエツチング液が染み込むこと
がなく、透明電極ライン５０の断線防止を図ることがで
きる。特に、各色画素３０間の境界領域は、透明基板１
０の平らな面１０ａに応じて確実に、かつ充分に平らに
なるので、この発明による断線防止の効果は確実なもの
である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の一実施例を示す部分的な平面図。 第２図は、第１図の■−■線に沿った部分の断面図であ
る。 １０・・・透明基板、２０・・・遮光層、３０・・・色
画素、４０・・・透明保護膜、５０・・・透明電極ライ
ン、５０ａ、５０ｂ”・エツジ部。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、液晶を挟む２枚の支持基板のうちの一方であって、
   平らな面をもつ透明基板と、この透明基板の液晶側に面
   する一面に、マトリクス状に形成された各色画素と、こ
   れらの各色画素の上層に、互いに並行に走る多数の透明
   電極ラインとを有するカラー液晶パネルの支持基板にお
   いて、前記各色画素の隣り合うもの同志が互いに離れ、
   各色画素間に平らな境界領域があり、しかも、前記透明
   電極ラインの幅は各色画素の寸法よりも大きく、各透明
   電極ラインが各列の色画素の上を完全に被い、その両側
   のエッジ部が前記平らな境界領域に位置する、カラー液
   晶パネルの支持基板。 ２、平らな境界領域が、透明基板の一面を被う遮光層で
   構成されている、請求項１に記載のカラー液晶パネルの
   支持基板。 ３、各色画素の上を透明保護膜が被い、各透明電極ライ
   ンがその透明保護膜の上に形成された、請求項１あるい
   は２のいずれかに記載のカラー液晶パネルの支持基板。