JPH0243793A - 半導体レーザペレット位置ずれ検出器 - Google Patents
半導体レーザペレット位置ずれ検出器Info
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- JPH0243793A JPH0243793A JP19511288A JP19511288A JPH0243793A JP H0243793 A JPH0243793 A JP H0243793A JP 19511288 A JP19511288 A JP 19511288A JP 19511288 A JP19511288 A JP 19511288A JP H0243793 A JPH0243793 A JP H0243793A
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- 239000008188 pellet Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 26
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 22
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 206010041662 Splinter Diseases 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
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- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
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- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体レーザペレット位置ずれ検出器、特に、
半導体レーザペレットのマウント位置決め時の位置ずれ
検出に適用しうる半導体レーザペレット位置ずれ検出器
に関する。
半導体レーザペレットのマウント位置決め時の位置ずれ
検出に適用しうる半導体レーザペレット位置ずれ検出器
に関する。
従来の半導体レーザペレット位置ずれ検出器は、第3図
に示すようにレーザ発振部1と、ビーム位置検出器2と
を含んで構成される。
に示すようにレーザ発振部1と、ビーム位置検出器2と
を含んで構成される。
レーザ発振部1はレーザビーム10を発振する。
レーザビーム10は半導体レーザ装置Aの半導体レーサ
ペレノト7の発光面7aを斜角照射する。
ペレノト7の発光面7aを斜角照射する。
この半導体レーザ装置Aは、第4図に要部を示すように
半導体レーザペレット7と、マウントペース8と、ステ
ム9とを含んで構成される。半導体レーザビーム)7i
d、ステムベース9aに固定されたマウントベース8に
マウント位置決めされて、発光面7aからレーザ光を発
振する。この半導体レーザ装置Aはステム9の基準面(
図示せず)を基準にして機器(図示せず)に位置決めし
、取付穴9bでネジ締結される。その時、発光面7aか
ら発振するレーザ光は組付けられる機器に対して、常に
一定の位置で、且つ、一定の方向に向って発振される必
要がある。従って、半導体レーザペレット70発光面7
aはステム9の基準面に対して、常に一定の位置と一定
の傾斜に調整しマウントベース8にマウントされねばな
らない。
半導体レーザペレット7と、マウントペース8と、ステ
ム9とを含んで構成される。半導体レーザビーム)7i
d、ステムベース9aに固定されたマウントベース8に
マウント位置決めされて、発光面7aからレーザ光を発
振する。この半導体レーザ装置Aはステム9の基準面(
図示せず)を基準にして機器(図示せず)に位置決めし
、取付穴9bでネジ締結される。その時、発光面7aか
ら発振するレーザ光は組付けられる機器に対して、常に
一定の位置で、且つ、一定の方向に向って発振される必
要がある。従って、半導体レーザペレット70発光面7
aはステム9の基準面に対して、常に一定の位置と一定
の傾斜に調整しマウントベース8にマウントされねばな
らない。
斜角照射されたレーザビーム10を反射し得られたレー
ザビーム11はビーム位置検出器2を照射する。ビーム
位置検出器2は一次元位置検出デバイス等からなシ、レ
ーザビーム11の照射を受けて、そのビームスポットの
位置を検出する。
ザビーム11はビーム位置検出器2を照射する。ビーム
位置検出器2は一次元位置検出デバイス等からなシ、レ
ーザビーム11の照射を受けて、そのビームスポットの
位置を検出する。
次に、動作を説明する。拡大鏡等を用いた目視作業によ
り、半導体レーザペレット7の発光面7aはステムペー
ス9aを基準にして傾斜を調整しマウントペース8に仮
止めされる。次に、発光面7aを反射したレーザビーム
11がビーム位置検出器2の基準のスポット位置にくる
ように発光面7aの位置が調整される。上述の作業にて
発光面7aの傾斜と位置の調整が完了する。
り、半導体レーザペレット7の発光面7aはステムペー
ス9aを基準にして傾斜を調整しマウントペース8に仮
止めされる。次に、発光面7aを反射したレーザビーム
11がビーム位置検出器2の基準のスポット位置にくる
ように発光面7aの位置が調整される。上述の作業にて
発光面7aの傾斜と位置の調整が完了する。
しかしながら、最初に行う傾斜の調整は目視作業なので
不正確であり、半導体レーザペレット7が図の破線で示
すように傾斜してずれていた場合は、発光面7aを反射
したレーザビーム12は破線の光路を通ってビーム位置
検出器2の基準の位置にスホットを結び、発光面7aは
正常な位置からずれて調整されてしまう。
不正確であり、半導体レーザペレット7が図の破線で示
すように傾斜してずれていた場合は、発光面7aを反射
したレーザビーム12は破線の光路を通ってビーム位置
検出器2の基準の位置にスホットを結び、発光面7aは
正常な位置からずれて調整されてしまう。
上述したように、従来は、半導体レーサベレノト7の発
光面7aの位置決めは、傾斜と位置の双方とも不正確で
あった。
光面7aの位置決めは、傾斜と位置の双方とも不正確で
あった。
上述した従来の半導体レーサベレット位置ずれ検出器は
、半導体レーザペレットの発光面の傾斜の検出が目視作
業となっているので不正確でl)、位置の検出も不正確
な傾斜を基準にして行われるので位置決め精度が悪いと
いう欠点があった。
、半導体レーザペレットの発光面の傾斜の検出が目視作
業となっているので不正確でl)、位置の検出も不正確
な傾斜を基準にして行われるので位置決め精度が悪いと
いう欠点があった。
本発明の半導体レーザペレット位置ずれ検出器は、第1
のレーザビームを発振する第1のレーザ発振部と、前記
第1のレーザビームが半導体レザペレットの発光面に斜
角照射されることにより反射して得られた第2のレーザ
ビームの位置を検出するビーム位置検出器と、第3のレ
ーザビームを発振する第2のレーザ発振部と、前記第3
のレーザビームを1/4波長偏光して透過し第4のレー
ザビームとして出力する光路変更部と、前記第4のレー
ザビームが前記半導体レーザペレットの発光面に垂直照
射されることにより反射して得られた第5のレーザビー
ムを前記光路変更部でさらに174波長偏光されること
により光路変更して得られた第6のレーザビームの位置
を検出する傾斜検出器とを含んで構成される。
のレーザビームを発振する第1のレーザ発振部と、前記
第1のレーザビームが半導体レザペレットの発光面に斜
角照射されることにより反射して得られた第2のレーザ
ビームの位置を検出するビーム位置検出器と、第3のレ
ーザビームを発振する第2のレーザ発振部と、前記第3
のレーザビームを1/4波長偏光して透過し第4のレー
ザビームとして出力する光路変更部と、前記第4のレー
ザビームが前記半導体レーザペレットの発光面に垂直照
射されることにより反射して得られた第5のレーザビー
ムを前記光路変更部でさらに174波長偏光されること
により光路変更して得られた第6のレーザビームの位置
を検出する傾斜検出器とを含んで構成される。
また、本発明の半導体レーザペレット位置ずれ検出器は
、前記第1のレーザ発振部の代りに、前記第2のレーザ
発振部より発振した前記第3のレーザビームを前記光路
変更部を透過する第7のし−ザビームと第8のレーザビ
ームに2分割する第1のビームスプリッタ−と、前記第
8のレーザビームを反射し得られた第9のレーザビーム
を前記半導体レーザペレットの発光面に斜角照射する第
1のミラーとを含んで構成される。
、前記第1のレーザ発振部の代りに、前記第2のレーザ
発振部より発振した前記第3のレーザビームを前記光路
変更部を透過する第7のし−ザビームと第8のレーザビ
ームに2分割する第1のビームスプリッタ−と、前記第
8のレーザビームを反射し得られた第9のレーザビーム
を前記半導体レーザペレットの発光面に斜角照射する第
1のミラーとを含んで構成される。
さらに、また、本発明の半導体レーザペレット位置ずれ
検出器は、前記第2のレーザ発振部の代りに、前記第1
のレーザ発振部より発振した前記第1のレーザビームを
前記半導体レーサペレットの発光面に斜角照射する第1
0のレーザビームと第11のレーザビームに2分割する
第2のビームスプリッタ−と、前記第11のレーザビー
ムを反射し得られた第12のレーザビームを前記光路変
更部に透過する第2のミラーとを含んで構成される。
検出器は、前記第2のレーザ発振部の代りに、前記第1
のレーザ発振部より発振した前記第1のレーザビームを
前記半導体レーサペレットの発光面に斜角照射する第1
0のレーザビームと第11のレーザビームに2分割する
第2のビームスプリッタ−と、前記第11のレーザビー
ムを反射し得られた第12のレーザビームを前記光路変
更部に透過する第2のミラーとを含んで構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第1図に示す半導体レーザペレット位置ずれ検出器は、
レーザ発振部1,1′と、ビーム位置検出器2と、光路
変更部3と傾斜検出器4とを含んで構成される。
レーザ発振部1,1′と、ビーム位置検出器2と、光路
変更部3と傾斜検出器4とを含んで構成される。
レーザ発振部1はレーザビーム10を発振する。
レーザビーム10は半導体レーザ装置人の半導体レーサ
ペレット7の発光面7aを斜角照射する。
ペレット7の発光面7aを斜角照射する。
斜角照射されたレーザビーム10を反射して得られたレ
ーザビーム11はビーム位置検出器2を照射する。ビー
ム位置検出器2は一次元位置検出デバイス等からなυ、
レーザビーム11の照射を受ケチ、ソのビームスポット
の位置を検出する。
ーザビーム11はビーム位置検出器2を照射する。ビー
ム位置検出器2は一次元位置検出デバイス等からなυ、
レーザビーム11の照射を受ケチ、ソのビームスポット
の位置を検出する。
レーザ発振部1′はレーザビーム10′を発振する。光
路変更部2は偏光ビームスプリンター3aと、1/4波
長板3bからなる。レーザビーム10′は、偏光ビーム
スプリッタ−3aを透過し、1/4波長板3bにより円
偏光となりレーザビム13として出力される。レーザビ
ーム13は半導体レーサベレット7の発光面7aを垂直
照射する。照射面からはレーザビーム14が反射する。
路変更部2は偏光ビームスプリンター3aと、1/4波
長板3bからなる。レーザビーム10′は、偏光ビーム
スプリッタ−3aを透過し、1/4波長板3bにより円
偏光となりレーザビム13として出力される。レーザビ
ーム13は半導体レーサベレット7の発光面7aを垂直
照射する。照射面からはレーザビーム14が反射する。
レーザビーム14は、1/4波長板3bを再び通過する
ことにより、レーザビーム10′の偏光面と直交する偏
光面を有する直線偏光に変換される。
ことにより、レーザビーム10′の偏光面と直交する偏
光面を有する直線偏光に変換される。
偏光ビームスプリッタ−33は、レーザビーム10′を
垂直の方向に透過する一方、レーザビーム10′と偏光
面の直交するレーザビーム14は水平の方向に反射し、
レーザビーム15として出力する。傾斜検出器4は一次
元位置検出デバイス等からなシ、偏光ビームスプリンタ
ー3aで反射したレーザビーム15の照射を受けて、そ
のビームスポットの位置を検出する。
垂直の方向に透過する一方、レーザビーム10′と偏光
面の直交するレーザビーム14は水平の方向に反射し、
レーザビーム15として出力する。傾斜検出器4は一次
元位置検出デバイス等からなシ、偏光ビームスプリンタ
ー3aで反射したレーザビーム15の照射を受けて、そ
のビームスポットの位置を検出する。
上述したように、レーザビーム10′は半導体レーザペ
レット7の発光面7aを垂直照射し、照射面から反射し
たレーザビーム14は光路変更部3により光路を変更し
、傾斜検出器4を照射し、そのビームスポット位置が検
出される。
レット7の発光面7aを垂直照射し、照射面から反射し
たレーザビーム14は光路変更部3により光路を変更し
、傾斜検出器4を照射し、そのビームスポット位置が検
出される。
次に、第1図を参照しながら動作を説明する・先ず、発
光面7aの傾斜の調整が行われる。図の破線に示すよう
に、発光面7aが傾斜していると、垂直照射されたレー
ザビーム13は破線の光路で反射する。反射したレーザ
ビーム16は光路変更部3で光路を変更する。光路を変
更して得られたレーザビーム17は破線で示す光路で傾
斜検出器4を照射しビームスポットが検出される。この
ビームスポットが基準の位置にくるように、半導体レー
ザペレット7はマウントベース8上で位置を調整され、
発光面7aの傾斜が正確に位置決めされる。
光面7aの傾斜の調整が行われる。図の破線に示すよう
に、発光面7aが傾斜していると、垂直照射されたレー
ザビーム13は破線の光路で反射する。反射したレーザ
ビーム16は光路変更部3で光路を変更する。光路を変
更して得られたレーザビーム17は破線で示す光路で傾
斜検出器4を照射しビームスポットが検出される。この
ビームスポットが基準の位置にくるように、半導体レー
ザペレット7はマウントベース8上で位置を調整され、
発光面7aの傾斜が正確に位置決めされる。
次に、ステムペース9aの基準に対する発光面7aの位
置の調整が行われる。図に示す破線の位置に半導体レー
ザペレット7があると、レーザ発振部1より斜角照射さ
れたレーザビーム10は破線の光路で反射する。反射し
たレーザビーム12はビーム位置検出器2を照射し、ビ
ームスボンドが検出される。このビームスポットが基準
の位tにくるように発光面7aの位置が調整される。す
でに傾斜が正確に調整されているので、位置の調整も正
確に行われる。
置の調整が行われる。図に示す破線の位置に半導体レー
ザペレット7があると、レーザ発振部1より斜角照射さ
れたレーザビーム10は破線の光路で反射する。反射し
たレーザビーム12はビーム位置検出器2を照射し、ビ
ームスボンドが検出される。このビームスポットが基準
の位tにくるように発光面7aの位置が調整される。す
でに傾斜が正確に調整されているので、位置の調整も正
確に行われる。
次に、第2図に示す他の実施例を説明する。
第2図に示す半導体レーザペレット位置ずれ検吊器は、
第1図に示す実施例におけるレーザ発振部1の代りに、
ビームスプリッタ−5と、ミラー6とを含んで構成され
、他はすべて第1図と同じに構成される。
第1図に示す実施例におけるレーザ発振部1の代りに、
ビームスプリッタ−5と、ミラー6とを含んで構成され
、他はすべて第1図と同じに構成される。
ビームスプリンター5は、レーザ発振部1′から発振さ
れたレーザビーム10′を、半導体レーサベレット7の
発光面7aを垂直照射するレーザビーム18とミラー6
を照射するレーザビーム19とに分割する。ミラー6は
レーザビーム19を反射し、反射して得られたレーザビ
ーム20を発光面7aに斜角照射する。
れたレーザビーム10′を、半導体レーサベレット7の
発光面7aを垂直照射するレーザビーム18とミラー6
を照射するレーザビーム19とに分割する。ミラー6は
レーザビーム19を反射し、反射して得られたレーザビ
ーム20を発光面7aに斜角照射する。
以下、各部の構成と動作は第1図に示す実施例と同じで
あり、説明を省略する。
あり、説明を省略する。
本発明の半導体レーサペレソト位置ずれ検出器は、光路
変更部と傾斜検出器を追加することにより、発光面の傾
斜を正確に検出できるため斜角照射による位置決めを正
′確化できるので半導体レザペレットのマウント位置決
め精度を向上できるという効果がある。
変更部と傾斜検出器を追加することにより、発光面の傾
斜を正確に検出できるため斜角照射による位置決めを正
′確化できるので半導体レザペレットのマウント位置決
め精度を向上できるという効果がある。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図は
本発明の他の実施例を示すブロック図、第3図は従来の
一例を示すブロック図、第4図は第1図〜第3図に示す
半導体レーザ装置の要部斜視図である。 A・・・半導体レーザ装置、1.1’・・・レーザ発振
部、2・・・ビーム位置検出器、3・・・光路変更部、
3a・・・偏光ビームスプリッタ−3b・・・1/4波
長板、4・・・傾斜検出器、5・・・ビームスプリッタ
−6・・・ミラー 7・・・半導体レーザペレット、8
・・・マウントペース、9・・・ステム、9a・・・ス
テムベース、9b・・・取付穴、10.10’、11,
12,13,14,15゜16.17,18,19.2
0・・レーザビーム。 代理人 弁理士 内 原 晋
本発明の他の実施例を示すブロック図、第3図は従来の
一例を示すブロック図、第4図は第1図〜第3図に示す
半導体レーザ装置の要部斜視図である。 A・・・半導体レーザ装置、1.1’・・・レーザ発振
部、2・・・ビーム位置検出器、3・・・光路変更部、
3a・・・偏光ビームスプリッタ−3b・・・1/4波
長板、4・・・傾斜検出器、5・・・ビームスプリッタ
−6・・・ミラー 7・・・半導体レーザペレット、8
・・・マウントペース、9・・・ステム、9a・・・ス
テムベース、9b・・・取付穴、10.10’、11,
12,13,14,15゜16.17,18,19.2
0・・レーザビーム。 代理人 弁理士 内 原 晋
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、第1のレーザビームを発振する第1のレーザ発振部
と、前記第1のレーザビームが半導体レーザペレットの
発光面に斜角照射されることにより反射して得られた第
2のレーザビームの位置を検出するビーム位置検出器と
、第3のレーザビームを発振する第2のレーザ発振部と
、前記第3のレーザビームを1/4波長偏光して透過し
第4のレーザビームとして出力する光路変更部と、前記
第4のレーザビームが前記半導体レーザペレットの発光
面に垂直に照射されることにより反射して得られた第5
のレーザビームを前記光路変更部でさらに1/4波長偏
光されることにより光路変更して得られた第6のレーザ
ビームの位置を検出する傾斜検出器とを含むことを特徴
とする半導体レーザペレット位置ずれ検出器。 2、前記第1のレーザ発振部の代りに、前記第2のレー
ザ発振部より発振した前記第3のレーザビームを前記光
路変更部を透過する第7のレーザビームと第8のレーザ
ビームに2分割する第1のビームスプリッターと、前記
第8のレーザビームを反射し得られた第9のレーザビー
ムを前記半導体レーザペレットの発光面に斜角照射する
第1のミラーとを含むことを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の半導体レーザペレット位置ずれ検出器。 3、前記第2のレーザ発振部の代りに、前記第1のレー
ザ発振部より発振した前記第1のレーザビームを前記半
導体レーザペレットの発光面に斜角照射する第10のレ
ーザビームと第11のレーザビームに2分割する第2の
ビームスプリッターと、前記第11のレーザビームを反
射し得られた第12のレーザビームを前記光路変更部に
透過する第2のミラーとを含むことを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の半導体レーザペレット位置ずれ検
出器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19511288A JPH0243793A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 半導体レーザペレット位置ずれ検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19511288A JPH0243793A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 半導体レーザペレット位置ずれ検出器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0243793A true JPH0243793A (ja) | 1990-02-14 |
Family
ID=16335696
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19511288A Pending JPH0243793A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 半導体レーザペレット位置ずれ検出器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0243793A (ja) |
-
1988
- 1988-08-03 JP JP19511288A patent/JPH0243793A/ja active Pending
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