JPH0235928B2 - Hikarifuaibanokozoparameetasokuteihoho - Google Patents
HikarifuaibanokozoparameetasokuteihohoInfo
- Publication number
- JPH0235928B2 JPH0235928B2 JP28011084A JP28011084A JPH0235928B2 JP H0235928 B2 JPH0235928 B2 JP H0235928B2 JP 28011084 A JP28011084 A JP 28011084A JP 28011084 A JP28011084 A JP 28011084A JP H0235928 B2 JPH0235928 B2 JP H0235928B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- light
- light intensity
- cladding
- determined
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 37
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/30—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides
- G01M11/31—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter and a light receiver being disposed at the same side of a fibre or waveguide end-face, e.g. reflectometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/30—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides
- G01M11/33—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter being disposed at one fibre or waveguide end-face, and a light receiver at the other end-face
Description
【発明の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
本発明は、光フアイバの構造パラメータ測定方
法に関する。
法に関する。
＜従来技術＞
光フアイバの構造パラメータ、たとえばコア
径、クラツド径、屈折率分布形状等は光フアイバ
の伝送特性に直接影響を及ぼすので、これらの構
造パラメータを予め測定してデータを得ておくこ
とは極めて重要である。
径、クラツド径、屈折率分布形状等は光フアイバ
の伝送特性に直接影響を及ぼすので、これらの構
造パラメータを予め測定してデータを得ておくこ
とは極めて重要である。
従来、光フアイバの構造パラメータを測定する
には、いわゆるNear Field Pattefn法（以下、
NFP法という）と称される方法で行なわれる場
合がある。この方法は、第４図ａに示すように、
光フアイバに光を入射してその出射端における透
過光の光強度パターンを測定し、その測定値から
コア径や屈折率分布形状を求め、次に、同図ｂに
示すように、前記光フアイバの出射端に光を照射
してその出射端における反射光の光強度パターン
からクラツド径を求めている。このように従来の
NFP法では、光フアイバに対する透過光と反射
光の２回の測定によりコア、クラツドの各パラメ
ータが測定される。
には、いわゆるNear Field Pattefn法（以下、
NFP法という）と称される方法で行なわれる場
合がある。この方法は、第４図ａに示すように、
光フアイバに光を入射してその出射端における透
過光の光強度パターンを測定し、その測定値から
コア径や屈折率分布形状を求め、次に、同図ｂに
示すように、前記光フアイバの出射端に光を照射
してその出射端における反射光の光強度パターン
からクラツド径を求めている。このように従来の
NFP法では、光フアイバに対する透過光と反射
光の２回の測定によりコア、クラツドの各パラメ
ータが測定される。
＜発明が解決しようとする問題点＞
上述のように従来のNFP法に基づく光フアイ
バの構造パラメータの測定では、２回に分けてコ
ア、クラツドの各パラメータをそれぞれ求めなけ
ればならないので、測定時間がかかる。しかも、
測定試料の固定が不十分で透過光測定時と反射光
測定時の間に光フアイバの出射端面が少し位置ず
れすると、光強度パターンが変化して測定誤差を
生じるという難点がある。
バの構造パラメータの測定では、２回に分けてコ
ア、クラツドの各パラメータをそれぞれ求めなけ
ればならないので、測定時間がかかる。しかも、
測定試料の固定が不十分で透過光測定時と反射光
測定時の間に光フアイバの出射端面が少し位置ず
れすると、光強度パターンが変化して測定誤差を
生じるという難点がある。
本発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので
あつて、一度の測定で光フアイバのコア径、クラ
ツド径、屈折率分布形状等の構造パラメータを精
度良く求めることができるようにして、従来の問
題点を解消することを目的とする。
あつて、一度の測定で光フアイバのコア径、クラ
ツド径、屈折率分布形状等の構造パラメータを精
度良く求めることができるようにして、従来の問
題点を解消することを目的とする。
＜問題点を解決するための手段＞
本発明は上記の目的を達成するため、光フアイ
バの一方端から光を入射して該光フアイバの他方
端から出射される透過光と、光フアイバの前記他
方端に別途照射された光のその反射光とを同時に
撮像手段で撮像し、撮像して得られた光強度のデ
ータに基づき、光フアイバの中心を横切る直線軸
の方向に渡つて光強度レベルの頻度を計測して光
強度の最大頻度を与える前記光強度レベルをクラ
ツドレベルとして判定することで光フアイバの構
造パラメータを求めるを特徴としている。
バの一方端から光を入射して該光フアイバの他方
端から出射される透過光と、光フアイバの前記他
方端に別途照射された光のその反射光とを同時に
撮像手段で撮像し、撮像して得られた光強度のデ
ータに基づき、光フアイバの中心を横切る直線軸
の方向に渡つて光強度レベルの頻度を計測して光
強度の最大頻度を与える前記光強度レベルをクラ
ツドレベルとして判定することで光フアイバの構
造パラメータを求めるを特徴としている。
＜実施例＞
以下、本発明を図面に示す実施例に基づき詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明の方法を適用するための構造パ
ラメータ測定装置の構成図である。同図におい
て、符号１は構造パラメータ測定装置、２は測定
対象であるグレーデツドインデツクス型（GI型）
の光フアイバ、４は光強度が一定になるように安
定化された透過光用光源、６はこの透過光用光源
４の出力を測定に適した大きさに調整するための
光減衰器、８は上記GI型光フアイバ２と一端が
当接または融着接続されたステツプドインデツク
ス型（SI型）の光フアイバである。このSI型光フ
アイバ８は、GI型光フアイバ２への入光状態を
一定にするため、そのコア径がGI型光フアイバ
４のコア径より大きくなるように設定されてい
る。１０は光学レンズ、１２は反射光用光源でス
テツプ的に出力が可変できるようになつている。
１４はハーフミラー、１６は撮像手段としてのビ
デオカメラ、１８はビデオカメラ１６で撮像して
得られた光強度データに基づいて各種の演算処理
を行なつて光フアイバ２の構造パラメータを算出
する演算処理装置である。
ラメータ測定装置の構成図である。同図におい
て、符号１は構造パラメータ測定装置、２は測定
対象であるグレーデツドインデツクス型（GI型）
の光フアイバ、４は光強度が一定になるように安
定化された透過光用光源、６はこの透過光用光源
４の出力を測定に適した大きさに調整するための
光減衰器、８は上記GI型光フアイバ２と一端が
当接または融着接続されたステツプドインデツク
ス型（SI型）の光フアイバである。このSI型光フ
アイバ８は、GI型光フアイバ２への入光状態を
一定にするため、そのコア径がGI型光フアイバ
４のコア径より大きくなるように設定されてい
る。１０は光学レンズ、１２は反射光用光源でス
テツプ的に出力が可変できるようになつている。
１４はハーフミラー、１６は撮像手段としてのビ
デオカメラ、１８はビデオカメラ１６で撮像して
得られた光強度データに基づいて各種の演算処理
を行なつて光フアイバ２の構造パラメータを算出
する演算処理装置である。
次に、光フアイバ２の構造パラメータを測定す
る方法について説明する。
る方法について説明する。
まず、透過光用光源４から一定強度の光を放射
して、この光を光減衰器６、SI型光フアイバ８を
介して測定対象となるGI型光フアイバ２の一方
端に入射する。この入射光はGI型光フアイバ２
内を透過してその他方端から透過光として出射さ
れる。これに並行して、反射光用光源１２からの
光をハーフミラー１４、光学レンズ１０を介して
GI型光フアイバ２の前記他方端に向けて別途照
射する。そして、GI型光フアイバ２の他方端か
ら放射される透過光と反射光とを同時にビデオカ
メラ１６で撮像する。次に、この撮像により得ら
れた光強度データを次段の演算処理装置１８に送
出する。続いて、演算処理装置１８により、測定
して得られた光強度データに基づき、第３図のフ
ローチヤートに示す手順でGI型光フアイバ２の
構造パラメータを求める。
して、この光を光減衰器６、SI型光フアイバ８を
介して測定対象となるGI型光フアイバ２の一方
端に入射する。この入射光はGI型光フアイバ２
内を透過してその他方端から透過光として出射さ
れる。これに並行して、反射光用光源１２からの
光をハーフミラー１４、光学レンズ１０を介して
GI型光フアイバ２の前記他方端に向けて別途照
射する。そして、GI型光フアイバ２の他方端か
ら放射される透過光と反射光とを同時にビデオカ
メラ１６で撮像する。次に、この撮像により得ら
れた光強度データを次段の演算処理装置１８に送
出する。続いて、演算処理装置１８により、測定
して得られた光強度データに基づき、第３図のフ
ローチヤートに示す手順でGI型光フアイバ２の
構造パラメータを求める。
すなわち、測定された光強度データのパターン
Ｓは、一般に第２図ａに示すような形状をしてい
る。この光強度パターンＳのピーク部分Ｓ１が同
図ｂに示すようにGI型光フアイバ２のコア部２
０に、光強度がほぼ一定なフラツト部分Ｓ２がク
ラツド部２２にそれぞれ相当する。従つて、クラ
ツド部２２に対応するフラツト部分Ｓ２の光強度
レベルをまず求める必要がある。そこで、測定さ
れた全光強度データの内から最大値と最小値との
差Ｐを求める（ステツプn1）。次に、この最大値
と最小値との差Ｐを区間数Ｎ（Ｎは自然数）に分
割してステツプ幅ΔPを設定する（ステツプn2）。
次いで、全体の光強度レベルを、ステツプ幅ΔP
ずつ移動させながら各ステツプ幅ΔP内に含まれ
る光強度の頻度を光フアイバ２の中心Ｏを横切る
直線軸の方向（第２図のＸ方向）に沿つて計測
し、最終的に第２図ｃに示すようにヒストグラム
を作成する（ステツプn3）。このヒストグラム
は、クラツド部２ｂに対応するフラツト部分Ｓ２
の光強度レベルにおいて最大値を与える分布曲線
Ｔとなる。従つて、計測されたヒストグラムの最
大値を示す光強度のレベルI0をクラツドレベルと
して判定する（ステツプn4）。このようにしてク
ラツドレベルが分かると、このクラツドレベルの
光強度I0の50％のときの値に対応する光強度パタ
ーンＳのＸ方向の幅からクラツド径ｄ２を求める
ことができる。また、光強度データＳからクラツ
ドレベルI0を差し引いた光強度パターンがコア部
２ａの屈折率分布形状に相当するので、その最大
強度の５％のときの値に対応する光強度パターン
ＳのＸ方向の幅からコア径ｄ１を求めることがで
きる。さらに、屈折率既知の光フアイバと比較す
ることにより、コア２０とクラツド２２の屈折率
差を求めることができる（ステツプn5）。
Ｓは、一般に第２図ａに示すような形状をしてい
る。この光強度パターンＳのピーク部分Ｓ１が同
図ｂに示すようにGI型光フアイバ２のコア部２
０に、光強度がほぼ一定なフラツト部分Ｓ２がク
ラツド部２２にそれぞれ相当する。従つて、クラ
ツド部２２に対応するフラツト部分Ｓ２の光強度
レベルをまず求める必要がある。そこで、測定さ
れた全光強度データの内から最大値と最小値との
差Ｐを求める（ステツプn1）。次に、この最大値
と最小値との差Ｐを区間数Ｎ（Ｎは自然数）に分
割してステツプ幅ΔPを設定する（ステツプn2）。
次いで、全体の光強度レベルを、ステツプ幅ΔP
ずつ移動させながら各ステツプ幅ΔP内に含まれ
る光強度の頻度を光フアイバ２の中心Ｏを横切る
直線軸の方向（第２図のＸ方向）に沿つて計測
し、最終的に第２図ｃに示すようにヒストグラム
を作成する（ステツプn3）。このヒストグラム
は、クラツド部２ｂに対応するフラツト部分Ｓ２
の光強度レベルにおいて最大値を与える分布曲線
Ｔとなる。従つて、計測されたヒストグラムの最
大値を示す光強度のレベルI0をクラツドレベルと
して判定する（ステツプn4）。このようにしてク
ラツドレベルが分かると、このクラツドレベルの
光強度I0の50％のときの値に対応する光強度パタ
ーンＳのＸ方向の幅からクラツド径ｄ２を求める
ことができる。また、光強度データＳからクラツ
ドレベルI0を差し引いた光強度パターンがコア部
２ａの屈折率分布形状に相当するので、その最大
強度の５％のときの値に対応する光強度パターン
ＳのＸ方向の幅からコア径ｄ１を求めることがで
きる。さらに、屈折率既知の光フアイバと比較す
ることにより、コア２０とクラツド２２の屈折率
差を求めることができる（ステツプn5）。
なお、この実施例では、GI型光フアイバ２の
構造パラメータを測定する場合について説明した
が、その他のタイプの光フアイバについて構造パ
ラメータを測定する場合にも本発明を適用できる
のは勿論である。
構造パラメータを測定する場合について説明した
が、その他のタイプの光フアイバについて構造パ
ラメータを測定する場合にも本発明を適用できる
のは勿論である。
＜効果＞
以上のように本発明によれば、一度の測定で得
られた強度パターンから光フアイバのコア径、ク
ラツド径、屈折率分布形状等の構造パラメータが
求まる。従つて、従来に比べて構造パラメータの
測定を短時間に、かつ、高精度に測定することが
できるようになる。
られた強度パターンから光フアイバのコア径、ク
ラツド径、屈折率分布形状等の構造パラメータが
求まる。従つて、従来に比べて構造パラメータの
測定を短時間に、かつ、高精度に測定することが
できるようになる。
図面は本発明の実施例を示し、第１図は本発明
の方法を適用するための構造パラメータ測定装置
の構成図、第２図は本発明の方法の説明図、第３
図は本発明の方法を説明するためのフローチヤー
ト、第４図は従来の光フアイバの構造パラメータ
の測定方法の説明図である。 １……構造パラメータ測定装置、２……GI型
光フアイバ、１６……ビデオカメラ、１８……演
算処理装置。
の方法を適用するための構造パラメータ測定装置
の構成図、第２図は本発明の方法の説明図、第３
図は本発明の方法を説明するためのフローチヤー
ト、第４図は従来の光フアイバの構造パラメータ
の測定方法の説明図である。 １……構造パラメータ測定装置、２……GI型
光フアイバ、１６……ビデオカメラ、１８……演
算処理装置。
Claims (1)
- １ 光フアイバの一方端から光を入射して該光フ
アイバの他方端から出射される透過光と、光フア
イバの前記他方端に別途照射された光のその反射
光とを同時に撮像手段で撮像し、撮像して得られ
た光強度のデータに基づき、光フアイバの中心を
横切る直線軸の方向に渡つて光強度レベルの頻度
を計測して最大頻度を与える前記光強度レベルを
クラツドレベルとして判定することを特徴とする
光フアイバの構造パラメータ測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28011084A JPH0235928B2 (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | Hikarifuaibanokozoparameetasokuteihoho |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28011084A JPH0235928B2 (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | Hikarifuaibanokozoparameetasokuteihoho |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61155933A JPS61155933A (ja) | 1986-07-15 |
| JPH0235928B2 true JPH0235928B2 (ja) | 1990-08-14 |
Family
ID=17620458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28011084A Expired - Lifetime JPH0235928B2 (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | Hikarifuaibanokozoparameetasokuteihoho |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0235928B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4934818A (en) * | 1989-03-24 | 1990-06-19 | American Telephone And Telegraph Company | Refractive index profiling technique |
| US5953112A (en) * | 1997-03-20 | 1999-09-14 | Hartford Hospital | Method and apparatus for evaluating the performance characteristics of endoscopes |
| JP6350275B2 (ja) * | 2014-12-26 | 2018-07-04 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの構造測定方法 |
-
1984
- 1984-12-28 JP JP28011084A patent/JPH0235928B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61155933A (ja) | 1986-07-15 |
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