JPH0235742B2

JPH0235742B2 - Shisuubishikuro330okutankagobutsunoseizoho

Info

Publication number: JPH0235742B2
Application number: JP57124501A
Authority: JP
Inventors: Shiro Ikegami; Masakatsu Shibazaki; Tokuji Okazaki; Mitsuya Akaboshi
Original assignee: OTA PHARMA
Current assignee: OTA PHARMA
Priority date: 1982-07-19
Filing date: 1982-07-19
Publication date: 1990-08-13
Anticipated expiration: 2002-07-19
Also published as: JPS5916854A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、新規プロスタサイクリン類縁化合物
の製造法に関するものである。更に詳しくは、本発明は一般式(1) 〔式中、R₁は水素原子又は低級アルキル基であ
り、R₂及びR₃は同一又は異なつて、水素原子、
低級アルキル基又はアリール基であるか又は両者
が一緒になつて飽和炭素環を形成する基であり、
Ｅは低級アルキレン基であり、Ａ及びＢは同一又
は異つて水素原子又は異なつていてもよい保護基
であり、波線結合はα立体配置又はβ立体配置の
いずれかを表わす。〕で表わされる新規シス−ビシクロ〔３，３，０〕
オクタン化合物およびその製造法に関するもので
ある。前記一般式(1)で表わされる化合物においては波
線結合位置における不斉炭素に由来する立体異性
体が理論的には４種存在する。すなわち、プロス
タグランジンの命名法による呼称に従えば6α−
15α、6α−15β、6β−15α及び6β−15βの４種の立
体異性体が存在する。ところでこれら４つの立体
異性体を各別に必要に応じて任意に製造する方法
は知られていない。すなわちこれまでに、知られ
ている製造法の例としては、特開昭56−68640の
方法及び特開昭56−138130の方法があげられる
が、前者によると立体異性体については、全く言
及されておらず、開示されている方法によつて製
造し得るものは6α−15α及び6α−15βの混合物に
過ぎない。後者についても、開示されている方法で製造し
得るものは6α−15α及び6α−15βの混合物に過ぎ
ない。本発明者らは上記の４つの立体異性体を必
要に応じて任意に製造できる方法として、この様
な従来方法とは全く異なる本発明方法を提供する
ことに成功した。前記一般式(1)で表わされる化合物において、
R₁の低級アルキル基の例としては、メチル、エ
チル、ｎ−プロピレ、イソプロピル、ｎ−ブチル
等のC₁〜C₄のアルキル基が挙げられ、R₂及びR₃
の低級アルキル基の例としては、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、
イソブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｎ−
ヘキシル等のC₇以下のアルキル基があげられ、
アリール基の例としては、フエニル、置換フエニ
ル、ナフチル、置換ナフチル、チエニル、置換チ
エニル等があげられ、R₁、R₂が一緒になつて飽
和炭素環を形成する基としては、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン等のアルキレン基及び分枝ア
ルキレン基があげられる。Ｅの低級アルキレン基
の例としては、メチレン、エチレン、トリメチレ
ン、テトラメチレン等のC₁〜C₄のアルキレン鎖
が挙げられる。Ａ及びＢで示される保護基として
は、アセチル、プロピオニル等の低級アルカノイ
ル基、更にベンゾイル、置換ベンゾイル等のアロ
イル基、更にベンジル基、テトラヒドロピラニ
ル、テトラヒドロフリル、（C₁〜C₄）アルコキシ
メチル及びトリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチ
ルシリル、ｔ−ブチルジフエニルシリル基等のエ
ーテル類の通常の水酸基の保護基が含まれる。前記一般式(1)で表わされる化合物においてR₁
が水素原子である化合物は、そのカルボン酸を必
要に応じて薬理学上許容される塩の形にすること
ができる。塩としては、例えば、ナトリウム、カ
リウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウ
ム等の金属の塩、及びアンモニウム、メチルアン
モニウム、ジエチルアンモニウム、トリメチルア
ンモニウム、テトラエチルアンモニウム等の第１
級、第２級、第３級、及び第４級アンモニウムの
塩が挙げられる。プロスタサイクリンは強力な血小板凝集抑制作
用、胃酸分泌抑制作用、及び血管平滑筋弛緩作用
を有し、種々の疾病、例えば血栓症、動脈硬化
症、消化管潰瘍等の循環器疾患の予防が治療に有
用であることが知られ、近年に至つては癌転移予
防効果を有することも報告されている。しかしな
がら、この化合物は化学的に不安定で、かつ多様
な生理活性を有しているためにいまだ医薬品とし
て実用されるには至つていない現状にある。現在、安定でかつ生理作用の分離した類縁体の
出現が望まれている。ところでVane.J.R.等によ
り、6β−PGI₁化合物は、血小板凝集抑制態及び
血圧降下作用が弱いにもかかわらず抗潰瘍作用は
PGI₂の二倍も強い作用を有していると報告され
ている。更に6β体は6α体よりも強い活性を示す
ことが報告されている。しかしこの化合物を医薬
品として大量に製造し提供する製造法は確立され
ていない。本発明はプロスタサイクリン、及び6β−PGI₁
化合物と酷似した構造を有するシス−ビシクロ
〔３，３，０〕オクタン化合物およびその製造法
を提供するものである。本発明により提供される
新規な化合物は薬理試験の結果、プロスタサイク
リンと同様な生理作用を有し、6β−PGI₁と同様
な生理活性の選択性を有することが判明し、各種
循環器疾患の予防や治療に有用な用途を有するこ
とが見い出された。本発明により、前記一般式(1)で表わされる化合
物は以下の反応式に示した経路に従つて製造され
る。反応式〔式中、R₁、R₂、R₃、Ｅ、Ａ、Ｂ波線結合は前
記と同じ意味を表わし、R₄はアリールオキシ基
を表わす。〕上記反応式に示した方法は、Ａ及びＢの保護基
やエステル基等の化学的に不安定な基を有する一
般式(3)で表わされる化合物の第二級水酸基を還元
的に除去する方法である。この様に他に不安定な
基を有する第二級水酸基を還元的に除去すること
は一般的にはかなり困難なことである。すなわ
ち、上記一般式(3)で示される化合物に関し、第二
級水酸基の有効な除去法として知られている
Barton等（J.Chem.Soc.、Perkin Trans.1
1975、1574）の方法及びその水酸基をハロゲン原
子に置換したのちにトリブチルチンヒドリドで還
元する方法等を用いて検討したところ、反応が起
こらないか又は副反応が起こる等により目的とす
る水酸基の除去はできなかつた。本発明者らは、
上記の一般式(3)の化合物を一般式(2)で表わされる
チオカルボニル化合物に変換したのちトリブチル
チンヒドリドにて還元的に水酸基を除去すること
により一般式(1)で表わされる４つの立体異性体を
製造することに成功したものである。上記の一般式(3)で表わされる化合物は以下の反
応式に示した経路に従つて製造される。反応式（式中、R₁、R₂、R₃、Ｅ、Ａ、Ｂ及び波線結合
は前記と同じ意味を表わす。〕一般式(7)で表わされる化合物にアルドール縮合
等により側鎖を導入すると、一般式(6)で表わされ
るエノン化合物が得られるが、これにより、接触
還元により位置及び立体配置を選択して一般式(5)
で表わされる6α−ケトン化合物を製造し、つい
でその化合物のカルボニル基を還元することによ
りヒドロキシ化合物が得られる。一方、一般式(5)
の化合物を異性化反応に付すると、より熱力学的
に安定な一般式(4)で表わされる6β−ケトン化合
物に異性化される。引き続そのカルボニル基を還
元することにより6β化合物が製造される。この
様に一般式(5)で表わされる化合物から立体配置の
異なる異性体をそれぞれ選択的に一般式(3)で表わ
される化合物へと変換することができる。以下に本発明の実施例を示すが、これらはその
特定の例であつて、本発明は何らこれらに限定さ
れるものではない。実施例１ 2β−フエノキシチオカルボニルオキシ−3α−
（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−ｔ−ブ
チルジメチルオキシ−8β−（3′α−ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−トランス−1′−オクテニ
ル）シス−ビシクロ〔３，３，０〕オクタンの
製造。 2β−ヒドロキシ−3α−（4′−メトキシカルボニ
ルブチル）−7α−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−8β−（3′α−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−トランス−1′−オクテニル）シス−ビシクロ
〔３，３，０〕オクタンをアセトニトリルに溶解
し、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、15当量の
存在下にフエニルクロロチオノカルボネート10当
量を加え、室温下に４日間撹拌する。反応液をエ
ーテルで希釈し飽和食塩水で洗浄した後、無水硫
酸マググネシウムにて乾燥する。エーテルを減圧
下に留去し、得られた残留分をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーにより精製すると、標題化合
物が58％の収率で得られた。 IRν^Film _nax：1740、1590、1490、1460、1360、1280、
1250、1190、830、770 NMRδ（CDCl₃）：7.0〜7.6（5H、ｍ）5.69（1H、
dd、Ｊ＝６、８Hz）5.42（2H、ｍ）3.90〜4.30
（2H、ｍ）3.68（3H、ｓ）2.32（ｔ、Ｊ＝８Hz） MASS（ｍ／ｅ）：747（M⁺＋１）746（M⁺）743
739 689（M⁺−^tBu）673 実施例２ 3α−（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−8β−（3′α−
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−トランス−
1′−オクテニル）シス−ビシクロ〔３，３，
０〕オクタンの製造。実施例１で得たチオカルボニル体をトルエンに
溶解し、触媒量のα，α′−アゾビスイソブチロニ
トリルの存在下に、トリブチルチンヒドリド10当
量を加え、75゜〜80℃で１時間加熱する。次いで
トルエンを減圧下に留去し、残留分をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにより精製すると標題
化合物が92％の収率で得られた。 IRν^film _nax：1740、1460、1430、1355、1250、1190、
1160、1110、1000、965、935、900、830、810、
776 NMRδ（CDCl₃）：5.45（2H、ｍ）、3.70〜4.20（2H、
ｍ）、3.66（3H、ｓ）2.30（ｔ、Ｊ＝８） MASS（ｍ／ｅ）：595（M⁺＋１）594（M⁺）593
590 537（M⁺−^tBu）実施例３ 3α−（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−
ヒドロキシ−8β−（3′α−ヒドロキシ−トランス
−1′−オクテニル）シス−ビシクロ〔３，３，
０〕オクタンの製造。実施例２で得た化合物を無水のテトラヒドロフ
ランに溶解し、５当量のテトラ−ｎ−ブチルアン
モニウムフロリドを加え、室温下に、一夜撹拌す
る。溶媒を減圧下に留去した後、残留分をエーテ
ルに溶解し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥する。溶媒を留去した後、残留
分をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにて精
製すると標題化合物が定量的収率にて得られた。 IRν^film _nax：3380、1740、1435、1460、1255、1170、
1070、970、835、800 NMRδ（CDCl₃）：5.62（2H、ｍ）4.0〜4.3（1H、
ｍ）3.6〜3.4（1H、ｍ）3.68（3H、ｓ） MASS（ｍ／ｅ）：348（M⁺−18）330（M⁺−32）
304 実施例４ 3α−（4′−カルボキシブチル）−7α−ヒドロキ
シ−8β−（3′α−ヒドロキシ−トランス−1′−オ
クテニル）シス−ビシクロ〔３，３，０〕オク
タンの製造。実施例３で得られた化合物をメタノールに溶解
し10％水酸化カリウム４当量を加え、室温下に５
時間撹拌した後、修酸水溶液にて酸性としエーテ
ルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
すると標題化合物が定量的収率で得られた。 IRν^CHCl3 _nax：3600、3400、1705、1460、1410、1380、
1080、970、 NMRδ（CDCl₃）：5.60（2H、ｍ）3.5〜4.3（3H、
ｍ）2.63（2H、ｔ、Ｊ＝８Hz）実施例５ 2α−フエノキシチオカルボニルオキシ−3β−
（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−8β−（3′α−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−トランス−1′−オ
クテニル）シス−ビシクロ〔３，３，０〕オク
タンの製造。 2α−ヒドロキシ−3β−（4′−メトキシカルボニ
ルブチル）−7α−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−8β−（3′α−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−トランス−1′−オクテニル）シス−ビシクロ
〔３，３，０〕オクタンをアセトニトリルに溶解
し、４−（ジメチルミノ）ピリジン15当量の存在
下にフエニルクロロチオノカルボネート10当量を
加え、室温下に４日間撹拌する。反応液をエーテ
ルで希釈し飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥する。エーテルを減圧下に留去して得られた残留分を
シリカゲルカラムクロマトグラフイーにて精製す
ると標題化合物が70％の収率で得られた。 IRν^film _nax：1740、1590、1495、1460、1360 NMRδ（CDCl₃）：7.0〜7.5（5H、ｍ）5.58（2H、
ｍ）5.31（1H、ｔ、Ｊ＝８Hz）4.0〜4.2（1H、
ｍ）3.5〜3.7（1H、ｍ）3.66（3H、ｓ）、2.32
（ｔ、Ｊ＝８Hz）0.88（18H、ss） MASS（ｍ／ｅ）：746（M⁺）731、713、689（M⁺
−^tBu）614 実施例６ 3β−（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ−8β−（3′α−ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ−トランス−
1′−オクテニル）シス−ビシクロ〔３，３，
０〕オクタンの製造。実施例５で得られたチオカルボニル化合物をト
ルエンに溶解し、触媒量のα，α−アゾビスイソ
ブチロニトリルの存在下に、トリブチルチンヒド
リド、10当量を加え、75゜〜80℃で１時間加熱す
る。次いでトルエンを減圧下に留去し、残留分を
シリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製
すると、標題化合物が65％の収率で得られた。 IRν^film _nax：1740、1460、1360、1250、1120、1005、
965、935、900、835、810、770 NMRδ（CDCl₃）：5.42（2H、ｍ）3.90〜4.20（1H、
ｍ）3.66（3H、ｓ）3.40〜3.80（1H、ｍ）2.32
（2H、tJ＝８）0.86（18H、ss） MASS（ｍ／ｅ）：595（M⁺＋１）594（M⁺）579、
563、573（M⁺−^tBu）実施例７ 3β−（4′−メトキシカルボニルブチル−7α−ヒ
ドロキシ−8β−（3′α−ヒドロキシ−トランス−
1′−オクテニル）シス−ビシクロ〔３，３，
０〕オクタンの製造。実施例６で得られた化合物と無水のテトラヒド
ロフランに溶解し、５当量のテトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムフロリドを加え室温下に、一夜撹拌
する。溶媒を減圧下に留去した後、残留分をエー
テルに溶解し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムにて乾燥する。溶媒を減圧下に留
去した後、残留分をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイーにて精製すると、標題化合物が定量的収
率で得られた。 IRν^CHCl3 _nax：3600、3430、1725、1435、1455、1170、
1060、970 NMRδ（CDCl₃）：5.62（2H、ｍ）4.0〜4.3（1H、
ｍ）3.5〜3.9（1H、ｍ）3.66（3H、ｓ）2.32
（2H、ｔ、Ｊ＝８Hz） MASS（ｍ／ｅ）：366（M⁺＋１）365（M⁺）348
（M⁺−H₂O）330（M⁺−2H₂O）304、305 実施例８ 3β−（4′−カルボキシブチル）−7α−ヒドロキシ
−8β−（3′α−ヒドロキシ−トランス−1′−オク
テニル）シス−ビシクロ〔３，３，０〕オクタ
ンの製造。実施例７で得られた化合物をメタノールに溶解
し10％水酸化カリウム４当量を加え室温下に５時
間撹拌した後、修酸水溶液にて酸性とし、エーテ
ルで抽出する。流出液を飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧下
に留去すると、標題化合物が定量的収率で得られ
た。 IRν^CHCl3 _nax：3600、3400、1705、1460、1410、1380、
1090、1065、970 NMRδ（CDCl₃）：5.60（2H、ｍ）4.0〜4.3（1H、
ｍ）3.5〜3.8（1H、ｍ）実施例９ 2β−フエノキシチオカルボニルオキシ−3α−
（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−8β−（3′β−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−トランス−1′−オ
クテニル）シス−ビシクロ〔３，３，０〕オク
タンの製造。 2β−ヒドロキシ−3α−（4′−メトキシカルボニ
ルブチル）−7α−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−8β−（3′β−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−トランス−1′−オクテニル）シス−ビシクロ
〔３，３，０〕オクタンを実施例１で示した方法
と同様にして処理すると、標題化合物が60％の収
率で得られた。 IRν^film _nax：1740、1590、1490、1460、1360 NMRδ（CDCl₃）：7.0〜7.6（5H、ｍ）5.65（1H、
dd、Ｊ＝6.、８Hz）実施例 10 3α−（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−8β−（3′β−
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−トランス−
1′−オクテニル）シス−ビシクロ〔３，３，
０〕オクタンの製造。実施例９で得たチオカルボネート化合物を、実
施例２で示した方法と同様にして処理すると、標
題化合物が90％の収率で得られた。 IRν^film _nax：1740、1460、1360、1250 NMRδ（CDCl₃）：5.44（2H、ｍ）3.70〜4.20（2H、
ｍ）3.65（3H、ｓ） MASS（ｍ／ｅ）：54（M⁺）593、592、540、539、
538、537（M⁺−^tBu）実施例 11 3α−（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−
ヒドロキシ−8β−（3′β−ヒドキシ−トランス−
1′−オクテニル）シス−ビシクロ〔３，３，
０〕オクタンの製造。実施例10で得た化合物を実施例３で示した方法
と同様にして処理すると標題化合物が定量的収率
で得られた。 IRν_nax：3350、1740、1460、1435、1255、1190、
1170、965、835、800 NMRδ（CDCl₃）：5.68（2H、ｍ）3.5〜4.2（2H、
ｍ）3.68（3H、ｓ） MASS（ｍ／ｅ）：348（M⁺−H₂O）330（M⁺−
2H₂O）、317、316、304 実施例 12 3α−（4′−カルボキシブチル）−7α−ヒドロキ
シ−8β−（3′β−ヒドロキシ−トランス−1′−オ
クテニル）シス−ビシクロオクタンの製造法。実施例11で得た化合物を実施例４で示した方法
と同様にして処理すると、標題化合物が定量的収
率で得られた。 IRν^CHCl3 _nax：3600、3400、1705、1460、1410、1380、
1360、1280、1080、970、910 NMRδ（CDCl₃）：5.56（2H、ｍ）5.34（2H、ｔ、
Ｊ＝８）実施例 13 2α−フエノキシチオカルボニルオキシ−3β−
（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−8β−（3′β−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−トランス−1′−オ
クテニル）シス−ビシクロ〔３，３，０〕オク
タンの製造法。 2α−ヒドロキシ−3β−（4′−メトキシカルボニ
ルブチル）−7α−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−8β−（3′β−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−トランス−1′−オクテニル）シス−ビシクロ
〔３，３，０〕オクタンを実施例１に示した方法
と同様にして処理すると、標題化合物が70％の収
率で得られた。 IRν^film _nax：1740、1590、1490、1460、1360、1280、
1250、1190、830、770 NMRδ（CDCl₃）：7.0〜7.6（5H、ｍ）5.54（2H、
ｍ）5.25（1H、dd、Ｊ＝8.9Hz）3.90〜4.30（2H、
ｍ）3.68（3H、ｓ）2.34（ｔ、Ｊ＝８Hz） MASS（ｍ／ｅ）：747（M⁺＋１）746（M⁺）745、
731、713、689（M⁺−^tBu）614、535、451 実施例 14 3β−（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−ジ
メチルシリルオキシ−8β−（3′β−ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−トランス−1′−オクテニ
ル）シス−ビシクロ〔３，３，０〕オクタンの
製造。実施例13で得たチオカルボニル化合物を実施例
２に示した方法と同様にして処理すると、標題化
合物が80％の収率で得られた。 IRν^film _nax：1740、1460、1360、1250、1110、965、
935、905、830、770 NMRδ（CDCl₃）：5.50（2H、ｍ）3.9〜4.2（1H、
ｍ）3.5〜3.8（1H、ｍ）3.66（3H、ｓ）2.32（ｔ、
Ｊ＝８Hz） MASS（ｍ／ｅ）：595（M⁺＋１）594（M⁺）579、
535、538、537（M⁺−^tBu）実施例 15 3β−（4′−メトキシカルボニルブチル）−7α−ヒ
ドロキシ−8β−（3′β−ヒドロキシ−トランス−
1′−オクテニル）シス−ビシクロ〔３，３，
０〕オクタンの製造。実施例14で得た化合物を実施例３に示した方法
と同様にして処理すると、標題化合物が定量的収
率で得られた。 IRν^CHCl3 _nax：3600、3400、1725、1450、1435、1360、
1320、1260、1230、1170、1130、1065、1010、
970、890 NMRδ（CDCl₃）：5.66（2H、ｍ）3.9〜4.2（1H、
ｍ）3.5〜3.90（1H、ｍ）3.70（3H、ｓ）2.34
（ｔ、Ｊ＝８Hz） MASS（ｍ／ｅ）：348（M⁺−H₂O）330（M⁺−
2H₂O）実施例 16 3α−（4′−カルボキシブチル）−7α−ヒドロキ
シ−8β−（3′β−ヒドロキシ−トランス−1′−オ
クテニル）シス−ビシクロ〔３，３，０〕オク
タンの製造。実施例15で得た化合物を実施例４に示した方法
と同様にして処理すると、標題化合物が定量的収
率で得られた。 IRν^CHCl32 _Max：3600、3400、1705、1460、1410、
1090、1070、970 NMRδ（CDCl₃）：5.58（2H、ｍ）

Claims

【特許請求の範囲】１一般式〔式中、R₁は水素原子又は低級アルキル基であ
り、R₂及びR₃は同一又は異なつて水素原子低級
アルキル基又はアリール基であるか又は両者が一
緒になつて飽和炭素環を形成する基であり、Ｅは
低級アルキレン基であり、Ａ及びＢは同一又は異
つて、水素原子又は異なつていてもよい保護基を
あらわし、式中の波線結合はα立体配置又はβ立
体配置のいずれかを表わす。〕で表わされる新規シス−ビシクロ〔３，３，０〕
オクタン化合物を製造するにあたり、一般式〔式中、R₁、R₂、R₃、Ｅ、Ａ、Ｂ、波線結合は
前記と同じ表味を表わし、R₄はアリールオキシ
基を表わす。〕で表わされる新規チオカルボニル化合物を還元
し、必要に応じ、Ａ及びＢが保護基である場合に
Ａ、Ｂ及びR₁の任意の基を加水分解により除去
することを特徴とする前記シス−ビシクロ〔３，
３，０〕オクタン化合物の製造法。２一般式〔式中、R₁は水素原子又は低級アルキル基であ
り、R₂及びR₃は同一又は異なつて、水素原子低
級アルキル基又はアリール基であるか又は両者が
一緒になつて飽和炭素環を形成する基であり、Ｅ
は低級アルキレン基であり、Ａ及びＢは同一又は
異つて水素原子又は異なつていてもよい保護基を
あらわし、式中の波線結合はα立体配置又はβ立
体配置のいずれかを表わす。〕で表わされる新規シス−ビシクロ〔３，３，０〕
オクタン化合物を製造するにあたり、一般式〔式中、R₁、R₂、R₃、Ｅ、Ａ、Ｂ及び波線結合
は前記と同じ意味を表わす。〕で表わされる新規ヒドロキシ化合物を一般式〔式中、R₄はアリルオキシ基であり、Ｘはハロ
ゲン原子を表わす。〕で表わされるチオカルボニル化試薬と反応させ一
般式〔式中、R₁、R₂、R₃、R₄、Ｅ、Ａ、Ｂ及び波線
結合は前記と同じ意味を表わす。〕で表わされる新規チオカルボニル化合物を生成さ
せ、ついでこの化合物を還元し、必要に応じ、Ａ
及びＢが保護基である場合にＡ、Ｂ及びR₁の任
意の基を加水分解により除去することを特徴とす
る前記シス−ビシクロ〔３，３，０〕オクタン化
合物の製造法。