JPH0234295B2

JPH0234295B2 - Sementokanyosementosurariimakukeiseisochi

Info

Publication number: JPH0234295B2
Application number: JP1540385A
Authority: JP
Inventors: Tetsuaki Watanabe; Hitoshi Nakajo; Osamu Kamimura; Sadao Yamamoto
Original assignee: Showa Denko KK
Current assignee: Resonac Holdings Corp
Priority date: 1985-01-31
Filing date: 1985-01-31
Publication date: 1990-08-02
Anticipated expiration: 2005-01-31
Also published as: JPS61175005A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明はセメント管の製造装置に関し、殊にセ
メント管用セメントスラリー（以下単にスラリー
と云う）膜形成装置に関する。

一定長さの基布上に形成したスラリー膜を巻軸
の周りにのりまき状に巻付けて補強されたセメン
ト管を製造することは公知である。

〔従来の技術〕

従来から使用されている、セメント層と基布層
が交互に形成さてなるセメント管用セメントスラ
リー膜形成装置（以下単にスラリー膜形成装置と
云う）を第４図〜第６図について説明する。第４
図は従来装置の概略側面図、第５図及び第６図は
従来装置により得られたスラリー膜の巾方向断面
の一端を示す。

予め混合装置で適宜調合されたスラリーＳを供
給するホツパー１の下方には互いに所定の間隙を
あけて鋼等で作られた第１の成膜ローラ２及び第
２の成膜ローラ３を並設する。成膜ローラ２及び
３は共に駆動ローラで矢印の方向に回転され（例
えば表面速度４〜16ｍ／分）、両成膜ローラ間に
供給された寒冷紗等の基布Ｂ上に形成されたスラ
リー膜厚（例えば１〜４mm）の第１次制御を行な
う。

第２の成膜ローラ３の下方には該第２の成膜ロ
ーラ３から所定の間隙をあけてネツトコンベア４
をほぼ水平状に配設し、成膜ローラ２，３間を通
過した基布Ｂをさらにネツトコンベア４上に移送
する。ネツトコンベア４は駆動ローラ５と被動ロ
ーラ５と被動ローラ６の周りにSUS等の不銹材
質のネツト７を捲回したもので、被動ローラ６は
第２の成膜ローラ３の直下に位置され、被動ロー
ラ６上のネツト７と第２の成膜ローラ３間でスラ
リー膜厚の第２次制御を、次いでネツト７とドク
タープレート８間で第３次制御を行ない、ネツト
コンベア４により次の工程に移送する。この場合
ドクタープレート８は第２の成膜にローラ３とス
ラリー膜間の分離機能をも持つ。９はスクレーパ
ー、１０はスラリー回収ベルトコンベアである。

上記のスラリー膜形成装置において、ホツパー
１の幅は基布Ｂの幅にほぼ等しく調節され、ホツ
パーの最大幅は例えば約3.000mmである。又成膜
ローラ２，３、ネツトコンベアのローラ５，６及
びネツト７の幅は例えば約3.200mmである。従つ
て基布Ｂの幅は常に各ローラ及びネツトの幅より
小さく又スラリーは各ローラで押圧されて幅が拡
がるので基布Ｂの幅はスラリーの幅よりも小さ
い。

基布上に形成したスラリー膜をのりまき状に巻
付けて製造する上記のセメント管にあつては、製
品の直径及び仕上り具合を良好にするために、ス
ラリー膜の長手方向に亘つての厚さ及び幅方向に
亘つての厚さが均済なこと、及び長手方向に亘つ
ての長さが均一でなければならない。但し長さが
均一なことは本発明装置の次工程に位置するスラ
リー及び基布切断装置に関係するので本明細書で
は前者について説明する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

第４図から判るように従来装置による時は、上
記のスラリー膜の第１次制御は正確であるが、第
２次及び第３次制御個所ではスラリーＳのうち基
布よりはみ出た部分も成膜ローラ３からネツトコ
ンベア４に移り、スラリーがネツト７内に入り込
みベルトコンベアの動きを不正確にする。

すなわち供給スラリーＳが過量であると、第５
図に示すようにネツト７上にスラリーＳが幅方向
に基布Ｂから喰出した状態を生ずる。このように
なると、スラリーＳの喰出し部がネツト７上に残
り、ネツトを頻繁に洗滌する不都合を生じ、或は
巻軸（図示せず）に巻付時に喰出し部の残部が巻
軸の巻付不要部に付着して製品の生産性とか品質
の低下の原因になる。さらに基布Ｂから喰出した
スラリーＳの回収ができない。

上記を考慮して若干不足気味にスラリーＳを供
給すると第６図に示すように基布Ｂの幅方向端部
にスラリー不足を生じ従つて仕上りセメント管の
端部に外径不足ができ易い。

〔問題を解決するための手段〕

本発明は従来のスラリー膜成形装置にあつた上
記の欠点を除去するもので、その要旨は、予め調
合されたセメントスラリーを供給するホツパーの
下方に、互いに所定の間隙をあけて第１及び第２
の成膜ローラをほぼ水平状に並設すると共に上記
第２の成膜ローラの下方には該第２の成膜ローラ
からほゞ垂直方向に所定の間隙をあけて第３の成
膜ローラを並設し、該第３の成膜ローラに面する
第２の成膜ローラ表面には先端が該第２成膜ロー
ラに当接しているドクタープレートを配し、又第
３の成膜ローラから適宜の間隙をあけかつ該第３
の成膜ローラのレベルより高くはない位置にネツ
トコンベアをほぼ水平状に配設し、上記基布を第
１、第２の成膜ローラ間、次いで第２、第３の成
膜ローラ間に挿通してネツトコンベア上に連続状
に導くと共に上記ホツパーを介して該基布上にセ
メントスラリーう供給してなるセメント層と基布
層が交互に形成されてなるセメント管用セメント
スラリー膜形成装置である。

〔実施例〕

本発明の装置は第１〜第３図について説明す
る。

本発明は上記の従来装置の改良なので、従来装
置と共通の部材は同一の符号を付けて示した。

第１図に示すように、本発明の装置が従来装置
（第４図）と異なつている点は下記の通りである。
即ち第２の成膜ローラ３の下方には該第２の成膜
ローラ３から垂直方向に所定の間をあけて第３の
成膜ローラ１１を並設する。第３の成膜ローラ１
１に接近して下面側にスクレーパー１２を設け
る。この場合スクレーパー９，１２は基布Ｂより
喰出したスラリーの付着した成膜ローラ２，１１
上の該スラリーを掻取るためのもので掻き取られ
たスラリーは共通のスラリー回収ベルトコンベア
１０により回収される。

ネツトコンベア４の被動ローラ６は上記の第３
の成膜ローラ１１上の前記喰い出しスラリーがネ
ツトコンベア４に転移付着しないように該成膜ロ
ーラ１１から適宜の間隙をあけて設けられ、又ネ
ツトコンベア４のレベルは第３の成膜ローラ１１
のレベルよりも若干低く配設されている。

本発明装置の作動について説明すると、寒冷紗
等の基布Ｂを第１、第２の成膜ローラ２，３間、
次いで第２、第３の成膜ローラ３，１１間に挿通
してネツトコンベア４上に連続状に導く。一方ホ
ツパー１を介して供給されたスラリーＳにより基
布Ｂ上にスラリー膜が形成される。各成膜ローラ
間の間隙は第２の成膜ローラ３の軸線位置を固定
し、第１成膜ローラ２を矢印１３で示すように水
平に、また第３成膜ローラ１１を矢印１４で示す
ように、垂直に移動して調節すると都合がよい。
第２、第３の成膜ローラ間を出た後、第２成膜ロ
ーラに付着しているスラリーはスクレーパー８で
離されスクレーパー８と第３の成膜ローラ間でス
ラリー厚みの第３次調製がされる。基布Ｂ上に形
成されたスラリーＳの長手方向の厚さはネツト７
が介在しないので極めて均済である。

従来装置のスラリー膜の第２及び第３次制御が
不完全であるのに比し、本発明装置では第１〜第
３次制御がすべて機能するので、長さ方向に亘つ
てのスラリー膜厚制御が完全である。

第２図に示すように、第２及び第３の成膜ロー
ラ３，１１間からネツトコンベア４に乗り移され
た基布Ｂ上のスラリー膜には第３の成膜ローラ上
では存在していた耳部１５は存在せず従来装置と
は異なり第３の成膜ローラ１１の表面に付着して
取られ、スクレーパー１２で掻き取られてスラリ
ー回収ベルトコンベア１０で回収されネツトコン
ベア４のネツト７に付着することがない。従つて
ネツト７の汚染が防止される。即ち第３の成膜ロ
ーラ１１はテークアツプローラの作用を兼ねたも
のと云うことができる。第３図は本発明により得
られたスラリー膜の幅方向断面の一部を示す。

〔発明の効果〕

上記のように構成したので本発明によれば下記
の効果が得られる。

完全な厚さ制御を行ない得る制御個所が三つ
あり、また該個所にネツトコンベアのネツトが
介在しないのでスラリー厚さは極めて均一であ
る。

第３成膜ローラ上で基布から喰出したスラリ
ーがすべて第３の成膜ローラの表面に付着して
取られるので、ネツトを洗滌する必要がなく、
又後工程でスラリー膜を基布と共に巻きつけて
セメント管をつくるための巻軸上に巻付不要な
スラリーのみの部分を形成することがない。従
つて幅方向に均一な厚さのスラリー膜が得られ
る。

第３の成膜ローラに乗り移つたスラリー膜の
耳部がすべて回収ベルトコンベアで回収し、こ
れを混合装置を介してホツパーに戻すことがで
きるのでスラリーの歩留が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明装置の概略側面図、第２図は本
発明装置の要部を示す正面図、第３図は本発明装
置により得られたスラリー膜の幅方向断面図の一
部、第４図は従来装置の概略側面図、第５図及び
第６図は従来装置により得られたスラリー膜の幅
方向断面図の一部である。１……ホツパー、２……第１の成膜ローラ、３
……第２の成膜ローラ、４……ネツトコンベア、
１１……第３の成膜ローラ、Ｂ……基布、Ｓ……
セメントスラリー。

Claims

【特許請求の範囲】

１セメント層と基布層が交互に形成されてなる
セメント管の製造に当つて、寒冷紗等の基布上に
一定厚さのセメントスラリー膜を形成する装置で
あつて、予め調合されたセメントスラリーを供給
するホツパーの下方に、互いに所定の間隙をあけ
て第１及び第２の成膜ローラをほぼ水平状に並設
すると共に上記第２の成膜ローラの下方には該第
２の成膜ローラからほゞ垂直方向に所定の間隙を
あけて第３の成膜ローラを並設し、該第３の成膜
ローラに面する第２の成膜ローラ表面には先端が
該第２成膜ローラに当接しているドクタープレー
トを配し、又第３の成膜ローラから適宜の間隙を
あけかつ該第３の成膜ローラのレベルより高くは
ない位置にネツトコンベアをほぼ水平状に配設
し、上記基布を第１、第２の成膜ローラ間、次い
で第２、第３の成膜ローラ間に挿通してネツトコ
ンベア上に連続状に導くと共に上記ホツパーを介
して該基布上にセメントスラリーを供給してなる
セメント管用セメントスラリー膜形成装置。