JPH0232116A - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
半導体封止用エポキシ樹脂組成物Info
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- JPH0232116A JPH0232116A JP18175188A JP18175188A JPH0232116A JP H0232116 A JPH0232116 A JP H0232116A JP 18175188 A JP18175188 A JP 18175188A JP 18175188 A JP18175188 A JP 18175188A JP H0232116 A JPH0232116 A JP H0232116A
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Landscapes
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、耐半田ストレス性に優れた半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物に関するものである。
キシ樹脂組成物に関するものである。
〔従来の技術]
(nとmは0以上の整数、n+m=1〜10であり、式
中のRlRtRiはそれぞれ同−又は異なり、H,アル
キル基、及びCI 、B r等のハロゲンの中から選ば
れ、少なくとも1種以上の官能基をあられす)を総エポ
キシ樹脂量に対して50〜100mf!に%含むエポキ
シ樹脂 (B)フェノール樹脂硬化剤 密度を9させる方向で進んできた。そのためにメモリー
の集積度の向上や、実装方法のスルーホール実装゛から
表面実装への移行が進んでいる。従ってパッケージは従
来のDIt−タイプから表面実装用として小型薄型のフ
ラットパッケージ、sop。
中のRlRtRiはそれぞれ同−又は異なり、H,アル
キル基、及びCI 、B r等のハロゲンの中から選ば
れ、少なくとも1種以上の官能基をあられす)を総エポ
キシ樹脂量に対して50〜100mf!に%含むエポキ
シ樹脂 (B)フェノール樹脂硬化剤 密度を9させる方向で進んできた。そのためにメモリー
の集積度の向上や、実装方法のスルーホール実装゛から
表面実装への移行が進んでいる。従ってパッケージは従
来のDIt−タイプから表面実装用として小型薄型のフ
ラットパッケージ、sop。
SOJ%PLCCに変わってきており、応力によるパフ
ケージクランクの発生、これらのタラックによる耐湿性
の低下等の問題がある。
ケージクランクの発生、これらのタラックによる耐湿性
の低下等の問題がある。
特に表面実装工程でのリードの半田付は時にバフケージ
は象、激な温度変化を受け、このためにパッケージにク
ランクが生じる間脛が大きくクローズアップされている
。
は象、激な温度変化を受け、このためにパッケージにク
ランクが生じる間脛が大きくクローズアップされている
。
これらの問題を解決するために半田付は時の熱衝撃を緩
和する目的で、熱可塑性オリゴマーの添加(特開昭62
−115849号公報)や各種シリコーン化合物の添加
(特開昭62−115850号公報、62−11665
4号公報、62−128162号公報)、更にはシリコ
ーン変性(特開昭62−136860号公報)などの手
法で対処しているがいずれも半田付は時にパッケージに
クランクが生じてしまい信鯨性の優れた半導体封止用エ
ポキシ樹脂組成物を得るまでには至らなかった。
和する目的で、熱可塑性オリゴマーの添加(特開昭62
−115849号公報)や各種シリコーン化合物の添加
(特開昭62−115850号公報、62−11665
4号公報、62−128162号公報)、更にはシリコ
ーン変性(特開昭62−136860号公報)などの手
法で対処しているがいずれも半田付は時にパッケージに
クランクが生じてしまい信鯨性の優れた半導体封止用エ
ポキシ樹脂組成物を得るまでには至らなかった。
一方、耐半田ストレス性に優れた耐熱性エポキシ樹脂組
成物を得る為に樹脂系としては多官能エポキシ樹脂の使
用(特開昭61−168620号公報)等が検討されて
きたが、多官能エポキシ樹脂の使用では架橋密度が上が
り耐熱性が向上するが、特に200℃〜300℃のよう
な高温にさらされた場合においては耐半田ストレス性が
不充分であった。
成物を得る為に樹脂系としては多官能エポキシ樹脂の使
用(特開昭61−168620号公報)等が検討されて
きたが、多官能エポキシ樹脂の使用では架橋密度が上が
り耐熱性が向上するが、特に200℃〜300℃のよう
な高温にさらされた場合においては耐半田ストレス性が
不充分であった。
本発明はこのような問題に対して、エポキシ樹脂として
式!で示される多官能エポキシ樹脂を、充填材として2
次凝集シリカ粉末を用いることにより耐半田ストレス性
が著しく優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供
するところにある。
式!で示される多官能エポキシ樹脂を、充填材として2
次凝集シリカ粉末を用いることにより耐半田ストレス性
が著しく優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供
するところにある。
〔課題を解決するための手段]
本発明のエポキシ樹脂組成物は従来の封止用樹脂組成物
に比べて非常に優れた耐半田ストレス性を有したもので
ある。
に比べて非常に優れた耐半田ストレス性を有したもので
ある。
(nとmは0以上の整数、n+m=1〜10であり、式
中のR+R1R5はそれぞれ同−又は異なり、H1アル
キル基、及びC1%Br等のハロゲンの中から選ばれ、
少なくとも1種以上の官能基をあられす) 上記式!で表わされるエポキシ樹脂は1分子中に3個以
上のエポキシ基を有する多官能エポキシ樹脂であり、こ
の多官能エポキシ樹脂と平均粒径が20〜60ttms
見掛は密度が0.1〜0.6g/CCであり、かつ比表
面積が5m2/g以下である2次凝集シリカ粉末を、併
用することにより多官能エポキシ樹脂の使用だけでは得
られなかった耐半田ストレス性に非常に優れたエポキシ
樹脂組成物を得ることができる。
中のR+R1R5はそれぞれ同−又は異なり、H1アル
キル基、及びC1%Br等のハロゲンの中から選ばれ、
少なくとも1種以上の官能基をあられす) 上記式!で表わされるエポキシ樹脂は1分子中に3個以
上のエポキシ基を有する多官能エポキシ樹脂であり、こ
の多官能エポキシ樹脂と平均粒径が20〜60ttms
見掛は密度が0.1〜0.6g/CCであり、かつ比表
面積が5m2/g以下である2次凝集シリカ粉末を、併
用することにより多官能エポキシ樹脂の使用だけでは得
られなかった耐半田ストレス性に非常に優れたエポキシ
樹脂組成物を得ることができる。
このようなエポキシ樹脂の使用量は、これを調節するこ
とにより耐半田ストレス性を最大限に引き出すことがで
きる。1半[[1ストレス性の効果を出す為には好まし
くは、式(1)で示される多官能エポキシ樹脂をエポキ
シ樹脂の50重量%以上、更に好ましくは70重量%以
上の使用が望ましい。
とにより耐半田ストレス性を最大限に引き出すことがで
きる。1半[[1ストレス性の効果を出す為には好まし
くは、式(1)で示される多官能エポキシ樹脂をエポキ
シ樹脂の50重量%以上、更に好ましくは70重量%以
上の使用が望ましい。
50重量%以下だと架橋密度が、上がらず耐半田ストレ
ス性が不充分である。更に式中のR1はメチル基、R1
はL−ブチル基、またR1はメチル基及び水素原子が好
ましい0式中のnとmの比率はnが1に対してmが0.
1〜0.6となる範囲が好ましく、更に好ましくは0.
2〜0.4の範囲が良い。
ス性が不充分である。更に式中のR1はメチル基、R1
はL−ブチル基、またR1はメチル基及び水素原子が好
ましい0式中のnとmの比率はnが1に対してmが0.
1〜0.6となる範囲が好ましく、更に好ましくは0.
2〜0.4の範囲が良い。
この場合nが1としたときmの比率が0.1より小さい
と成形時の硬化性が上がらず、成形性が悪くなる(11
向があり、またmの比率が0.6より大きいと吸水性が
上がり、半田浸漬時の熱衝撃が太き(、耐半田ストレス
性が悪くなる傾向がある。
と成形時の硬化性が上がらず、成形性が悪くなる(11
向があり、またmの比率が0.6より大きいと吸水性が
上がり、半田浸漬時の熱衝撃が太き(、耐半田ストレス
性が悪くなる傾向がある。
又2官能以下のエポキシ樹脂では、架橋密度が上がらず
耐熱性が劣り耐半田ストレス性の効果が得られない。
耐熱性が劣り耐半田ストレス性の効果が得られない。
ここでいうエポキシ樹脂とは、エポキシ基を有するもの
全般をいう、たとえばビスフェノール型エポキシ#M脂
、ノボラック型エポキシWJIl!?・トリアジン核含
有エポキシ樹脂等のことをいう。
全般をいう、たとえばビスフェノール型エポキシ#M脂
、ノボラック型エポキシWJIl!?・トリアジン核含
有エポキシ樹脂等のことをいう。
充填材としては平均粒径が20〜60μmであり、見掛
は密度が0.1〜0.6 g”/ ccで、かつ比表面
積が5%/gである2次凝集シリカ粉末を、使用する充
填材量の5〜100重景%の重量で使用する。
は密度が0.1〜0.6 g”/ ccで、かつ比表面
積が5%/gである2次凝集シリカ粉末を、使用する充
填材量の5〜100重景%の重量で使用する。
2次凝集シリカ粉末は、その平均粒径が20μm未満で
あると半田熱ストレスによるクランクが発生しやすくな
り、60μmを越えると成形性が低下しいずれの場合も
、好ましくない、又好ましくは、平均粒径が20〜40
μmの範囲であれば良い、見掛は密度が0.6 g /
ccを越えると半田熱ストレスによるクラックが発生し
易くなり、耐湿性が低下してしまい好ましくない。
あると半田熱ストレスによるクランクが発生しやすくな
り、60μmを越えると成形性が低下しいずれの場合も
、好ましくない、又好ましくは、平均粒径が20〜40
μmの範囲であれば良い、見掛は密度が0.6 g /
ccを越えると半田熱ストレスによるクラックが発生し
易くなり、耐湿性が低下してしまい好ましくない。
さらに比表面積が5m2/gを越えると半田づけ工程で
クラックが発生し易く、耐湿性が低下してしまうととも
に流動性の向上がいちぢるしく低下してしまい好ましく
ない。
クラックが発生し易く、耐湿性が低下してしまうととも
に流動性の向上がいちぢるしく低下してしまい好ましく
ない。
さらに2次凝集シリカ粉末が、使用充填材の量の5重量
%未満であれば半田づけ工程でクラックが発生しやすく
なり、耐湿性が低下し、その目的とする特性が得られな
い。
%未満であれば半田づけ工程でクラックが発生しやすく
なり、耐湿性が低下し、その目的とする特性が得られな
い。
また2次凝集シリカ粉末が、使用充填材の量の80%を
越えれば流動性が低下し成形性が悪(なり実用には適さ
ない。
越えれば流動性が低下し成形性が悪(なり実用には適さ
ない。
又、2次凝集シリカ粉末以外の充填材としては通常のシ
リカ粉末やアルミナ等があげられ、と(に熔融シリカ粉
末が好ましい。
リカ粉末やアルミナ等があげられ、と(に熔融シリカ粉
末が好ましい。
本発明で用いる硬化剤としてはエポキシ樹脂と硬化反応
するポリマー全般のことを言い、例えばフェノールノボ
ラック樹脂、タレゾールノボラック樹脂、ジシクロペン
タジェン変性フェノール樹脂、酸無水物といった一般名
を挙げることが出来る。
するポリマー全般のことを言い、例えばフェノールノボ
ラック樹脂、タレゾールノボラック樹脂、ジシクロペン
タジェン変性フェノール樹脂、酸無水物といった一般名
を挙げることが出来る。
本発明に使用される硬化促進剤はエポキシ基とフェノー
ル性水酸基との反応を促進するものであればよく、一般
に封止用材料に使用されているものを広く使用すること
ができ、例えばジアザビ゛シクロウンデセン(DBU)
、トリフェニルホスフィン(TPP)、ジメチルベンジ
ルアミン(BDMA)や2メチルイミダゾール(2MZ
)等が単独もしくは2種類以上混合して用いられる。
ル性水酸基との反応を促進するものであればよく、一般
に封止用材料に使用されているものを広く使用すること
ができ、例えばジアザビ゛シクロウンデセン(DBU)
、トリフェニルホスフィン(TPP)、ジメチルベンジ
ルアミン(BDMA)や2メチルイミダゾール(2MZ
)等が単独もしくは2種類以上混合して用いられる。
本発明の封止用エポキシ樹N組成物はエポキシ樹脂、硬
化剤、無機充填剤及び硬化促進剤を必須成分とするが、
これ以外に必要に応じてシランカップリング剤、ブロム
化エポキシ樹脂、二酸化アンチモン、ヘキサブロムベン
ゼン等の難燃剤、カーボンブラック、ベンガラ等の着色
剤、天然ワックス、合成ワックス等の離型剤及びシリコ
ーンオイル、ゴム等の低応力添加剤等の種々の添加剤を
適宜配合しても差し支えがない。
化剤、無機充填剤及び硬化促進剤を必須成分とするが、
これ以外に必要に応じてシランカップリング剤、ブロム
化エポキシ樹脂、二酸化アンチモン、ヘキサブロムベン
ゼン等の難燃剤、カーボンブラック、ベンガラ等の着色
剤、天然ワックス、合成ワックス等の離型剤及びシリコ
ーンオイル、ゴム等の低応力添加剤等の種々の添加剤を
適宜配合しても差し支えがない。
又、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物を成形材料とし
て製造するには、エポキシ樹脂、硬化剤硬化促進剤、充
填剤、その他の添加剤をミキサー等によって十分に均一
に混合した後、さらに熱ロールまたはニーダ−等で溶融
混練し、冷却後粉砕して成形材料とすることができる。
て製造するには、エポキシ樹脂、硬化剤硬化促進剤、充
填剤、その他の添加剤をミキサー等によって十分に均一
に混合した後、さらに熱ロールまたはニーダ−等で溶融
混練し、冷却後粉砕して成形材料とすることができる。
これらの成形材料は電子部品あるいは電気部品の封止、
被覆、絶縁等に適用することができる。
被覆、絶縁等に適用することができる。
実施例1
下記組成物
式(II)で示されるトリス(ヒドロキシアルキルフェ
ニル)メタントリグリシジルエーテル15重量部 (n : m−3:L n+m−1〜10)オルトク
レゾールノボラック エポキシ樹脂 5重量部 フェールノボラ7り樹脂 10重量部2次凝
集シリカ粉末(平均粒径35 μm、見掛は密度0.3 g / cc、比表面積3r
rf/g) 35mW部溶融シ
リカ粉末 33.8重量部トリフェニ
ルホスフィン 0.2重lit部カーボンブ
ラック 0.5重量部カルナバワック
ス o、smi部を、ミキサーで常温
で混合し、70〜100°Cで2軸ロールにより混練し
、冷却後粉砕し成形材料とした。
ニル)メタントリグリシジルエーテル15重量部 (n : m−3:L n+m−1〜10)オルトク
レゾールノボラック エポキシ樹脂 5重量部 フェールノボラ7り樹脂 10重量部2次凝
集シリカ粉末(平均粒径35 μm、見掛は密度0.3 g / cc、比表面積3r
rf/g) 35mW部溶融シ
リカ粉末 33.8重量部トリフェニ
ルホスフィン 0.2重lit部カーボンブ
ラック 0.5重量部カルナバワック
ス o、smi部を、ミキサーで常温
で混合し、70〜100°Cで2軸ロールにより混練し
、冷却後粉砕し成形材料とした。
得られた成形材料をタブレット化し、低圧トランスファ
ー成形機にて175℃、70kg/d、120秒の条件
で半田クランク試験用として6×6−のチップを52p
パツケージに封止し、又半田耐湿性試験用として3×6
−のチップをt6psOPパンケージに封止した。
ー成形機にて175℃、70kg/d、120秒の条件
で半田クランク試験用として6×6−のチップを52p
パツケージに封止し、又半田耐湿性試験用として3×6
−のチップをt6psOPパンケージに封止した。
封止したテスト用素子について下記の半田クラック試験
及び半田耐湿性試験をおこなった。
及び半田耐湿性試験をおこなった。
半田クランク試験:封止したテスト用素子を85°C1
85%RHの環環境下で48Hrおよび72!I「処理
し、その後250 ’Cの半田槽に10秒間浸漬後、顕
微鏡で外部クランクを観察した。
85%RHの環環境下で48Hrおよび72!I「処理
し、その後250 ’Cの半田槽に10秒間浸漬後、顕
微鏡で外部クランクを観察した。
半田耐湿性試験:封止したテスト用素子を85で、85
%RHの環境下で72H「処理し、その後250℃の半
田槽に10秒間浸漬後、プレッシャークンカー試験(1
25℃、100%RH)を行い回路のオーブン不良を測
定した。
%RHの環境下で72H「処理し、その後250℃の半
田槽に10秒間浸漬後、プレッシャークンカー試験(1
25℃、100%RH)を行い回路のオーブン不良を測
定した。
試験結果を第1表に示す。
実施例2〜7
第1表の処方に従、て配合し、実施例1と同様にして成
形材料を得た。この成形材料で試験用の封止した成形品
を得、この成形品を用いて実施例1と同様に半田クラン
ク試験及び半田耐湿性試験を行なった。試験結果を第1
表に示す。
形材料を得た。この成形材料で試験用の封止した成形品
を得、この成形品を用いて実施例1と同様に半田クラン
ク試験及び半田耐湿性試験を行なった。試験結果を第1
表に示す。
比較例1〜6
第1表の処方に従って配合し、実施例1と同様にして成
形材料を得た。この成形材料で試験用の封止した成形品
を得、この成形品を用いて実施例1と同様に半田クラッ
ク試験及び半田耐湿性試験を行なった。試験結果を第1
表に示す。
形材料を得た。この成形材料で試験用の封止した成形品
を得、この成形品を用いて実施例1と同様に半田クラッ
ク試験及び半田耐湿性試験を行なった。試験結果を第1
表に示す。
本発明に従うと従来技術では得ることのできなかった耐
熱性及び、可撓性を有するエポキシ樹脂組成物を得るこ
とができるので、半田付は工程による急激な温度変化に
よる熱ストレスを受けたときの耐クラツク性に非常に優
れ、更に耐湿性が良好なことから電子、電気部品の封止
用、被覆用、絶縁用等に用いた場合、特に表面実装パッ
ケージに搭載された高集積大型チップICにおいて信顧
性が非常に必要とする製品について好適である。
熱性及び、可撓性を有するエポキシ樹脂組成物を得るこ
とができるので、半田付は工程による急激な温度変化に
よる熱ストレスを受けたときの耐クラツク性に非常に優
れ、更に耐湿性が良好なことから電子、電気部品の封止
用、被覆用、絶縁用等に用いた場合、特に表面実装パッ
ケージに搭載された高集積大型チップICにおいて信顧
性が非常に必要とする製品について好適である。
Claims (1)
- (1)、(A)式( I )で示される多官能エポキシ樹
脂▲数式、化学式、表等があります▼ (nとmは0以上の整数、n+m=1〜10であり、式
中のR_1R_2R_3はそれぞれ同一又は異なり、H
、アルキル基、及びCl、Br等のハロゲンの中から選
ばれ、少なくとも1種以上の官能基をあられす)を総エ
ポキシ樹脂量に対して50〜100重量%含むエポキシ
樹脂 (B)フェノール樹脂硬化剤 (C)平均粒径が20〜60μm、見掛け密度が0.1
〜0.6g/ccであり、かつ比表面積が5m^2/g
以下である2次疑集シリカ粉末を総充填材量に対して5
〜100重量%含む充填材 (D)硬化促進剤を必須成分とすることを特徴とする半
導体封止用エポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63181751A JP2938080B2 (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63181751A JP2938080B2 (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0232116A true JPH0232116A (ja) | 1990-02-01 |
JP2938080B2 JP2938080B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=16106249
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63181751A Expired - Fee Related JP2938080B2 (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2938080B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0232115A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-02-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
US5137940A (en) * | 1989-02-09 | 1992-08-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Semiconductor encapsulating epoxy resin compositions |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01242615A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-27 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JPH0232115A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-02-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
-
1988
- 1988-07-22 JP JP63181751A patent/JP2938080B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH01242615A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-27 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JPH0232115A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-02-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
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JPH0232115A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-02-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
US5137940A (en) * | 1989-02-09 | 1992-08-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Semiconductor encapsulating epoxy resin compositions |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2938080B2 (ja) | 1999-08-23 |
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