JPH0231444A - Dicer - Google Patents
DicerInfo
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- JPH0231444A JPH0231444A JP63181108A JP18110888A JPH0231444A JP H0231444 A JPH0231444 A JP H0231444A JP 63181108 A JP63181108 A JP 63181108A JP 18110888 A JP18110888 A JP 18110888A JP H0231444 A JPH0231444 A JP H0231444A
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- holder
- dicing
- stage
- wafer
- whetstone
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ウェハを多数のチップに分割する際に使用す
るダイサーに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a dicer used when dividing a wafer into a large number of chips.
従来、この種のダイサー(ダイシング装置)は第3図に
示すよ゛うに構成されている。これを同図に基づいて説
明すると、同図において、符号1で示すものは水平方向
に移動自在に設けられウェハ2を真空吸着する吸気孔(
図示せず)を有するステージである。なお、このステー
ジ1は、研磨時に高速回転する人工ダイヤモンド製のダ
イシング刃(図示せず)の下方に位置付けられる。Conventionally, this type of dicer (dicing device) has been constructed as shown in FIG. This will be explained based on the same figure. In the same figure, the one indicated by reference numeral 1 is an air intake hole (
(not shown). Note that this stage 1 is positioned below an artificial diamond dicing blade (not shown) that rotates at high speed during polishing.
このように構成されたダイサーにおいては、ステージ1
上にウェハ2を吸着保持した後、水を流しながらダイシ
ング刃(図示せず)を回転させてウェハ2に対して所定
の深さで切り込むことによりダイシングを施す。In a dicer configured in this way, stage 1
After holding the wafer 2 by suction, dicing is performed by rotating a dicing blade (not shown) while running water to cut into the wafer 2 to a predetermined depth.
ところで、この種のダイサーにおいては、長期間の使用
によってダイシング刃(図示せず)が徐々に摩耗し、ウ
ェハ2のダイシング幅が広くなったり、チッピングが発
生したりすることから、ステージ1上にドレッシング材
(砥石)を設置して刃先を定期的(−膜内には数10ウ
ェハ毎)に研磨する必要がある。By the way, in this type of dicer, the dicing blade (not shown) gradually wears out due to long-term use, and the dicing width of the wafer 2 becomes wider and chipping occurs. It is necessary to install a dressing material (grindstone) and polish the cutting edge periodically (every several dozen wafers in the film).
しかるに、従来のダイサーにおいては、ステージ1の外
形寸法が限定されており、このためステージ1上に砥石
(図示せず)を常時設置することができなかった。この
結果、研磨時にはその都度ドレッシング材(図示せず)
をステージ1上に設置する必要が生じ、この作業に多大
の時間を費やし、ダイシングの生産性が低下するという
問題があった。However, in the conventional dicer, the external dimensions of the stage 1 are limited, and therefore a grindstone (not shown) cannot be placed on the stage 1 at all times. As a result, dressing material (not shown) is used each time polishing is performed.
It became necessary to install the dicing device on the stage 1, and this work took a lot of time, resulting in a problem that the productivity of dicing decreased.
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、回転
刃の研磨時にステージに対して砥石を設置する作業を不
要にし、もってダイシングの生産性を高めることができ
るダイサーを提供するものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a dicer that eliminates the need to install a grindstone on a stage when polishing a rotary blade, thereby increasing dicing productivity. .
本発明に係るダイサーは、ステージに軸線方向に開口す
るホルダー収納部を設け、このホルダー収納部に回転刃
を研磨する砥石を保持するホルダーを進退自在に設けた
ものである。In the dicer according to the present invention, a holder housing section opening in the axial direction is provided on the stage, and a holder for holding a grindstone for polishing a rotary blade is provided in the holder housing section so as to be movable forward and backward.
本発明においては、回転刃の研磨時にステージのウェハ
側に砥石を前進させ、またダイシング時にはホルダー収
納部に後退させることができる。In the present invention, the grindstone can be advanced toward the wafer side of the stage during polishing of the rotary blade, and can be retreated into the holder housing during dicing.
〔実施例〕
以下、本発明の構成等を図に示す実施例によって詳細に
説明する。[Example] Hereinafter, the structure of the present invention will be explained in detail with reference to an example shown in the drawings.
第1図および第2図は本発明に係るダイサーを示す正面
図と平面図で、同図において第3図と同一の部材につい
ては同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。同図に
おいて、符号11で示すステージには、軸線方向に開口
するホルダー収納部12が設けられている。13は回転
刃としてのダイシング刃(図示せず)を研磨する砥石1
4を保持するホルダーで、前記ホルダー収納部12に進
退自在に設けられ、かつコントローラ(図示せず)に配
線15によって接続されている。なお、このホルダー1
3は、ウェハ2の吸着時にダイシングの邪魔にならない
位置に位置付けられている。また、このホルダー13上
の砥石14は、これにダイシング刃(図示せず)が僅か
に食い込むことにより研磨可能となるから、研磨時にス
テージ11の上方に露呈する部分を少なくする。さらに
、ダイシング刃(図示せず)の回転数は数1000rp
+mに設定されている。1 and 2 are a front view and a plan view showing a dicer according to the present invention, and in these figures, the same members as in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. In the figure, a stage indicated by reference numeral 11 is provided with a holder storage section 12 that opens in the axial direction. 13 is a grindstone 1 for polishing a dicing blade (not shown) as a rotary blade.
4, which is provided in the holder storage section 12 so as to be movable forward and backward, and is connected to a controller (not shown) by a wiring 15. In addition, this holder 1
3 is positioned at a position where it does not interfere with dicing when the wafer 2 is attracted. Furthermore, since the grindstone 14 on the holder 13 can be polished by slightly biting into it with a dicing blade (not shown), the portion exposed above the stage 11 during polishing is reduced. Furthermore, the rotation speed of the dicing blade (not shown) is several thousand rpm.
+m.
このように構成されたダイサーにおいては、ダイシング
刃(図示せず)の研磨時にステージ11のウェハ側に砥
石14を前進させる。In the dicer configured in this manner, the grindstone 14 is advanced toward the wafer side of the stage 11 when polishing the dicing blade (not shown).
一方、ダイシング時には、ホルダー収納部12に砥石1
4を後退させる。On the other hand, during dicing, the grindstone 1 is placed in the holder storage section 12.
Move 4 back.
したがって、本発明においては、ダイシング刃(図示せ
ず)の研磨時にステージ11に対して砥石14を設置す
る作業を不要にすることができる。Therefore, in the present invention, it is possible to eliminate the need for installing the grindstone 14 on the stage 11 when polishing the dicing blade (not shown).
また、本発明においては、ダイシング時にホルダー13
上の砥石14によってダイシング刃(図示せず)を研磨
することができる。In addition, in the present invention, the holder 13 is
A dicing blade (not shown) can be polished by the upper grindstone 14.
なお、本実施例においては、コントローラ(図示せず)
によってダイシング刃(図示せず)の研磨とウェハ2の
ダイシングを自動的に行うことができる。Note that in this embodiment, a controller (not shown)
The polishing of the dicing blade (not shown) and the dicing of the wafer 2 can be performed automatically.
また、本発明においては、ダイシング刃(図示せず)の
消耗度が処理ウェハ2によって異なるものであるため、
コントローラ(図示せず)によって刃先の研磨量を適宜
調整することにより、ウェハ2に対して安定したダイシ
ングを施すことかできる。Furthermore, in the present invention, since the degree of wear of the dicing blade (not shown) differs depending on the processed wafer 2,
By appropriately adjusting the amount of polishing of the cutting edge using a controller (not shown), stable dicing of the wafer 2 can be performed.
因に、本発明におけるダイシング刃(図示せず)の交換
は、ダイシングラインに付着する物質(シリコン、酸化
膜、金属あるいはガラス等)によって異なるが、致方ダ
イシング毎で行うことが望ましい。Incidentally, the replacement of the dicing blade (not shown) in the present invention differs depending on the substance (silicon, oxide film, metal, glass, etc.) attached to the dicing line, but it is desirable to replace it every time dicing is performed.
また、本発明における砥石14は、その材質を用途によ
って適宜変更するが、一般に炭化珪素、コランダム、酸
化クロムおよび酸化鉄等を含有するものとする。Further, the material of the grindstone 14 in the present invention may be changed as appropriate depending on the use, but generally contains silicon carbide, corundum, chromium oxide, iron oxide, etc.
以上説明したように本発明によれば、ステージに軸線方
向に開口するホルダー収納部を設け、このホルダー収納
部に回転刃を研磨する砥石を保持するホルダーを進退自
在に設けたので、回転刃の研磨時にステージのウェハ側
に砥石を前進させ、またダイシング時にはホルダー収納
部に後退させることができる。したがって、回転刃の研
磨時に従来必要としたステージに対する砥石の設置作業
が不要になるから、ダイシングの生産性を確実に高める
ことができる。As explained above, according to the present invention, the stage is provided with a holder storage section that opens in the axial direction, and the holder that holds the grindstone for polishing the rotary blade is provided in this holder storage section so that it can move forward and backward. During polishing, the grindstone can be advanced toward the wafer side of the stage, and during dicing, it can be moved back into the holder storage section. Therefore, the work of installing a grindstone on a stage, which was conventionally required when polishing a rotary blade, is no longer necessary, so that the productivity of dicing can be reliably increased.
第1図および第2図は本発明に係るダイサーを示す正面
図と平面図、第3図は従来のダイサーを示す正面図であ
る。
2・・・・ウェハ、11・・・・ステージ、12・・・
・ホルダー収納部、工3・・・・ホルダー、14・・・
・砥石。1 and 2 are a front view and a plan view showing a dicer according to the present invention, and FIG. 3 is a front view showing a conventional dicer. 2...Wafer, 11...Stage, 12...
・Holder storage part, work 3...Holder, 14...
・Whetstone.
Claims (1)
ダイサーにおいて、前記ステージに軸線方向に開口する
ホルダー収納部を設け、このホルダー収納部に前記回転
刃を研磨する砥石を保持するホルダーを進退自在に設け
たことを特徴とするダイサー。In a dicer that performs dicing on a wafer on a stage with a rotary blade, the stage is provided with a holder storage part that opens in the axial direction, and a holder that holds a grindstone for polishing the rotary blade is provided in the holder storage part so that it can move forward and backward. A dicer characterized by:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63181108A JPH0231444A (en) | 1988-07-20 | 1988-07-20 | Dicer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63181108A JPH0231444A (en) | 1988-07-20 | 1988-07-20 | Dicer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0231444A true JPH0231444A (en) | 1990-02-01 |
Family
ID=16094990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63181108A Pending JPH0231444A (en) | 1988-07-20 | 1988-07-20 | Dicer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0231444A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008300556A (en) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | Frame clamp |
JP2021016905A (en) * | 2019-07-18 | 2021-02-15 | 株式会社ディスコ | Dressing member and dressing method |
-
1988
- 1988-07-20 JP JP63181108A patent/JPH0231444A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008300556A (en) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | Frame clamp |
JP2021016905A (en) * | 2019-07-18 | 2021-02-15 | 株式会社ディスコ | Dressing member and dressing method |
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