JPH02303650A - セラミックシェル鋳型の迅速造型法 - Google Patents

セラミックシェル鋳型の迅速造型法

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JPH02303650A
JPH02303650A JP12645389A JP12645389A JPH02303650A JP H02303650 A JPH02303650 A JP H02303650A JP 12645389 A JP12645389 A JP 12645389A JP 12645389 A JP12645389 A JP 12645389A JP H02303650 A JPH02303650 A JP H02303650A
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JP
Japan
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mold
ceramic
ceramic shell
drying
ceramic slurry
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JP12645389A
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English (en)
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Toshio Tanaka
俊夫 田中
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Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はセラミックス鋳型の装造方法に関し、特に模型
にセラミックスラリ−をコーティングしてスタッコを行
った後の乾燥工程を減圧下で行うことにより、セラミッ
クスラリ−の沸点を下げて迅速に乾燥させるようにして
鋳型の生産性を向上させるようにしたセラミ・lクシエ
ル鋳型の迅速造型法に関するものである。
(従来の技*) 従来、模型を変形させずにセラミ・lクシエル鋳型を造
型するには、iI4図に示すことくろうmWを洗浄後、
バインダーにジルコンサンド、溶融シリカ等の耐火物を
分散させたセラミックスラリ−をコーティングする一次
コーティングを行い、緒いて前記スラリーが乾燥しない
うちに耐火物粒子を振りかける、いわゆる−次スタッコ
煽埋を行った後に90分〜120分かけて乾燥させ、続
いて前記聞様二次コーティング、二次スタッコの後に6
0分〜90分乾燥させる工程を6〜lO回繰り返し、最
終コーティングを行って、24時1Iff〜48時間か
けて乾燥させ後に、模型の材料であるろう材を脱ろうし
て鋳型を焼成していた。
(発明が解決しようとする課題) 前記従来の技術においては、w4型またはスタッコ込埋
面上にセラミックスラリ−をコーティングする、コーテ
ィング処理及び前記スラリー上に耐火物粒子を振りかけ
る、スタッフ処理を行った後にv鋳型を乾燥させるには
、前工程のセラミックスラリ−が乾燥するまで待つ必要
があるため、前記のごとく多大の時間を要し、特に最終
コーティング後の乾燥には10〜2日という長時間が必
要であった。また大量生産する場合には恒温のストック
ヤードが必要になっていた。更−に、大型の精密鋳造品
はコーティングやスタ・1コの回数が多くなるので更に
造型時間が長くなり、その間の型折れ変形等に注意する
ぜ一要もあり、セラミックシェル鋳型の生産性を大幅に
低下させていた。
(課題を解決するための手段) 本発明は前記従来の技術における課題を解決するために
成されたもので、第1の発明はセラミ・lクスラリーを
[型にコーティングしてスタッコ処理を行った後、ある
いは最終コーティングを行った後に、減圧下でマイクロ
波を照射させることによって前記セラミックスラリ−を
低温で内部から迅速に乾燥させるようにしたことを特徴
とするセラミックシェルglI型の迅速造型法により、
第2の発明は前記第1の発明において、減圧と、マイク
ロ液照射をほぼ同時に開始することを特徴とするセラミ
ックシェル鋳型の迅速造型法により、第3の発明は前記
第1の発明において、コーティング材が水溶性あるいは
有機系コーティング材であることを特徴とするセラミッ
クシェルi[の迅速造型法により、14の発明は前記第
1の発明において、ワックス系あるいは発泡ポリスチレ
ン緊の消失模型を使用することを特徴とするセラミック
シェル鋳型の迅速造型法により目的を達成するようにし
た。
(作用) 前記構成により、セラミックスラリ−は減圧下において
乾燥され、セラミックスラリ−の沸点を低く抑えること
ができるため、模型の温度を上げずに低温でセラミック
スラリ−を乾燥させることができるので、[型の変形を
防止することができる。
また、マイクロ波でセラミックスラリ−を加熱するため
、セラミックスラリ−は内部から迅速に乾燥される。従
って、晴度の高いセラミックシェルMWの生産性を向上
させることができる。
(実施例) 以下に本発明の実施例につき添付図面を参照しながら詳
述する。11図は本発明のセラミックシェル鋳型の迅速
造型法における作業工程の実施例を示す図で、IIの工
程でm型を洗浄し、第2の工程で前記模型にセラミック
スラリ−を−次コーティングし、$3の工程で前記セラ
ミックスラリ−が乾燥しないうちに耐火物粒子を振りか
ける一次スタッコを施し、114の工程で本発明の特徴
とする、前記セラミックスラリ−を−次コーティング後
スタッコ2−理した鋳型を減圧雰囲気でマイクロ波を照
射して迅速乾燥させる。該工程における乾燥時間は模型
の大きさ等により異なるが数分で完了する。次に第5の
工程では前記第4の工程で乾燥された鋳型にセラミック
スラリ−を二次コーティングし、第6の工程で二次スタ
ッフ処理を施し。
第7の工程で乾燥させる。前記第5〜7の工程を7回繰
り返した後、第9の工程で最終コーティングを行い、第
1Oの工程で前記第4の工程と同様にして減圧雰囲気で
マイクロ波を照射してセラミックスラリ−を数分間で乾
燥させる。次に第11の工程で前記鋳型を加熱して鋳型
内のろう製I鋳型を脱ろうした。後、第12の工程で摘
記鋳型を焼成してセラミックシェル鋳型を完成させる。
第2図は前記第1図に示す工程を実施するための減圧マ
イクロ波加熱装置を示す図で、lは減圧チャンバー、2
はマイクロ波導波管、3は撹拌機、4はセラミックシェ
ル鋳型、5は金属管で、マイクロ波導波管2から減圧チ
ャンバー1内に照射されたマイクロ波が外部に漏れない
ような直径に形成されている。6は真空計、7は赤外線
温度針、8は増幅器、9は計5!!、10はマイクロ波
発振機、11は減圧ポンプ、12はコントローラである
0次に第2図の作用について説明する。前記1111図
における第3の工程、第6の工程及びII9の工程を経
たセラミックシェル鋳型4を減圧チャンバー1内に入れ
、減圧ポンプ11により減圧チャンバー1内を減圧雰囲
気とする。次にマイクロ波発振機10により発振された
マイクロ波はマイクロ波導波管2を通って前記減圧チャ
ンバー1内のセラミックシェル鋳型4のスラリーに照射
されるため、前記セラミックシェル鋳型4が内部から発
熱して加熱乾燥される。尚、減圧チャンバー1内に備え
られた撹拌機3により、マイクロ波導波管2から導かれ
たマイクロ波を撹拌し、セラミックシェル鋳型に均一に
照射することができる。また、2つの金属管5内にはそ
れぞれ真空計6及び赤外線温度計7が備えられ、真空計
6により減圧チャンバー1内の減圧状態を計測し、赤外
線温度計7により減圧チャンバー1内の温度を計測し、
増幅コ8により増幅、された減圧チャンバー1内の気圧
及び温度を計器盤9に表示すると共に、コントローラ1
2に信号を送られると、該コントローラ12により前記
減圧チャンバー1内の温度及び気圧が設定値になるよう
に、マイクロ波発振機10及び減圧ポンプ11を制御す
るように構成されている。第3図は水の飽和蒸気圧と沸
点の関係を示す図で、雰囲気を減圧することにより飽和
蒸気圧が降下すると、沸点も降下するためセラミックス
ラリ−内の水分が低い温度で蒸発することを示している
。前記第1図に示した作業工程により、第2図に示した
減圧マイクロ波加熱装置を用いて行った、本発明の第1
〜4実施例を表1について説明する。本実施例における
セラミックスラリ−の骨材はジルコンフラワー井325
、バインダーは8産化学製のスノーテックス30、耐火
物粒子はジルコン系の耐火物粒子を使用した。表1にお
いて、比較例ではワックス模型が溶けて変形したが、実
施例1.2.4に示されるごとく、マイクロ波照射と減
圧を同時に開始しても、セラミックスラリ−内の水分表
1 の蒸発潜熱による冷却によって鋳型の変形及び割れは生
じなかった。また、実施例3に示されるごとく、減圧後
にマイクロ波照射を照射しても模型の変形及び割れは生
じなかった。
(発明の効果) 以上詳述した如く、本発明によるときは次の効果を奏す
る。
鋳型を構成しているセラミックスラリ−は減圧下におい
てマイクロ波加熱されるので、セラミックスラリ−の溶
剤の飽和蒸気圧が降下して沸点も降下するため、FA型
の温度を上げずに低温でセラミックスラリ−を乾燥する
ことができ、模型の変形を防止すること、ができる。ま
た、マイクロ波でセラミックスラリ−を加熱するため、
セラミックスラリ−は内部から迅速に乾燥される。従っ
て、精度の高いセラミックシェル鋳型を迅速に造型する
ことができ、生産性を大幅に向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のセラミックシェル鋳型の迅速造型法に
おける作業工程の実施例を示す図、第2図は前記第1図
に示す工程を実施するための減圧マイクロ波加熱装置を
示す図、第3図は水の飽和蒸気圧と沸点の関係を示す図
、第4図は従来の技術を示す図である。 !・・・減圧チャンバー 2・・・マイクロ波導波管 3・・・撹拌機 4・・・セラミックシェル鋳型

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)セラミックスラリーを横型にコーティングしてス
    タッコ処理を行った後、あるいは最終コーティングを行
    った後に、減圧下でマイクロ波を照射させることによっ
    て、前記セラミックスラリーを低温で内部から迅速に乾
    燥させるようにしたことを特徴とするセラミックシェル
    鋳型の迅速造型法。
  2. (2)前記第(1)の請求項において、減圧と、マイク
    ロ波照射をほぼ同時に開始することを特徴とするセラミ
    ックシェル鋳型の迅速造型法。
  3. (3)前記第(1)の請求項において、コーティング材
    は水溶性あるいは有機系コーティング材であることを特
    徴とするセラミックシェル鋳型の迅速造型法。
  4. (4)前記第(1)の請求項において、ワックス系ある
    いは発泡ポリスチレン製の消失模型を使用することを特
    徴とするセラミックシェル鋳型の迅速造型法。
JP12645389A 1989-05-19 1989-05-19 セラミックシェル鋳型の迅速造型法 Pending JPH02303650A (ja)

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