JPH0230220Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は遠心投射装置に関し、更に詳しくは該
装置におけるコントロールケージの改良に関す
る。

（従来技術） 線材、鋼材その他の長尺製品を長手方向に移動
させつゝ遠心投射装置で研掃する場合、投射効率
（全投射量の製品に当る割合）を向上させるため、
研掃材を遠心投射するための回転体（以下、イン
ペラと言う）の回転方向を製品の長手方向に平行
させることが行われている（例えば特公昭52−
44674号公報）。

しかし、この方向におけるインペラの投射域
（以下、巾方向投射域と言う）は極めて狭く、そ
の上該投射域における研掃材の投射密度は、中央
部ほど大きく、両側部へ行くほど小さくなるか
ら、帯状製品を研掃する場合に巾寸法が一定限度
以上に広くなると、製品の中央部と両側部では大
きな研掃ムラが生ずる。

また線材製品を研掃する場合に、製品が左右方
向に位置ずれすると研掃効果が悪くなる問題があ
つた。

（考案の目的） 本考案は上記のような事情に鑑みてなされたも
ので、遠心投射装置のコントロールケージの機構
を改良することにより、インペラの回転方向を製
品の長手方向に平行させた状態で、長尺製品の巾
寸法の変化や製品の左右方向への位置ずれに対応
せんとするものである。

（考案の構成） 以下、本考案を実施例に基づき詳細に説明する
と、第１図及び第２図において１は遠心投射装置
のインペラ側板であり、該インペラ側板１は離間
して対向配置され、かつ各々同径の回転中心孔を
有する２枚の円盤２，２と、該円盤２，２の円周
上に等ピツチで配設されて該円盤２，２を一体的
に連結支持するステーボルト３とから成つてい
る。前記円盤２，２の対向内面には放射状の嵌入
凹溝４，４が複数個、対を成して刻設されてい
る。なお該嵌入凹溝４，４の各々の基部は段付溝
部５にされている。前記嵌入凹溝４，４の各々に
は、その両側部にリブ６，６を形成したインペラ
ブレード７が該リブ６，６を介して挿嵌されてい
る。なお該リブ６，６の基部には膨出部８が形成
されており、該膨出部８が前記嵌入凹溝４，４に
おける段付溝部５に係合することにより、前記イ
ンペラ側板１が回転しても前記インペラブレード
７が外部へ飛び出さないようにされている。また
前記インペラ側板１とインペラブレード７との組
合せ体をインペラ９と言う。

前記インペラ側板１は一方の円盤２を介して回
転フランジ１１に締結されており、該回転フラン
ジ１１のボス部は更に、回転軸１２に固着されて
いる。前記インペラ側板１における前記一方の円
盤２の回転中心孔部には、その表面にキー溝１３
を刻設したセンタリングプレート１４が嵌合さ
れ、回り止めピン１５を介して前記回転フランジ
１１と共廻り可能にされている。

前記インペラ側板１の回転中心孔部には、その
外周面上に等間隔で複数個の放出窓１６を透設す
ると共に、その後端面に前記センタリングプレー
ト１４のキー溝１３に対応する突起部１７を形成
したデイストリビユータ１８が遊嵌されており、
該デイストリビユータ１８は該突起部１７を前記
キー溝１３に嵌合させた上、センタボルト１９に
より前記センタリングプレート１４と共に前記回
転軸１２端部に緊締されていて、その結果、該回
転軸１２の回転により該デイストリビユータ１８
及び前記インペラ９が同期回転する。

前記インペラ側板１の回転中心孔部と前記デイ
ストリビユータ１８の外周との隙間には、内筒体
２１と外筒体２２とから成るコントロールケージ
２３が、その基部を図示しないシヨツト導入筒の
側に装着して遊嵌されており、該内筒体２１及び
外筒体２２は互いに摺動回転可能にされている。
前記内筒体２１及び外筒体２２の各々の周壁には
開口２４，２５が設けられており、図示しないシ
ヨツト導入筒及び前記デイストリビユータ１８を
介して供給される研掃材は該両開口２４，２５を
通じて前記インペラ側板１側へ供給可能にされて
いる。前記外筒体２２の開口２５は、軸方向の長
辺とインペラ９の回転方向の短辺とから成る長方
形であり、前記内筒体２１の開口２４は、インペ
ラ９の回転方向に沿うＭ字と逆Ｍ字とを合せた鼓
形状を成していて、該両開口２４，２５を互いに
摺動回転させることにより、コントロールケージ
２３を全開（第３図参照）から全閉までの任意の
開口度に調節可能である。

なお前記内筒体開口２４の形状は実施例のもの
に限られるものではなく、亀甲型（第７図参照）、
右上り平行四辺形（第８図参照）、左上り平行四
辺形（第９図参照）等でもよく、また上記形状と
近似する楕円形でもよい。要は開口周縁の一部が
軸方向又はインペラ９の回転方向に対して直線的
又は曲線的に斜交するものであればよい。

また、前記外筒体開口２５の形状も実施例のも
のに限られるものではない。

（作 用） 上記のように構成された遠心投射装置におい
て、コントロールケージ２３の内筒体２１と外筒
体２２とを摺動回転させて該コントロールケージ
２３の開口を全開とした上、回転軸１２を介して
インペラ９及びデイストリビユータ１８を回転さ
せると共に、図示しないシヨツト導入筒を介して
研掃材を該デイストリビユータ１８内へ供給する
と、該研掃材は該デイストリビユータ１８、コン
トロールケージ２３を経てインペラ９から被処理
対象物へ投射されるが、この時の研掃材の巾方向
投射域における投射密度分布は、第５図の如く、
従来の一重コントロールケージの場合と同じにな
る。すなわち中央部ほど大きく、両側部へ行くほ
ど小さくなる。

次に内筒体開口２４により外筒体開口２５の中
央下部を遮閉した上（第４図参照）、前記と同様
にして研掃材を前記デイストリビユータ１８、コ
ントロールケージ２３を経て前記インペラ９から
被処理対象物へ投射すると、該研掃材の巾方向投
射域における投射密度分布は、第６図の如く、中
央部と両側部とがほぼ均一になる。

内筒体開口２４が亀甲型の場合、該開口２４に
より外筒体開口２５の下部両隅を遮閉した上（第
１０図参照）、前記と同様にして研掃材を被処理
対象物へ投射すると、該研掃材は巾方向投射域の
中央部により多く集中する。

内筒体開口２４が右上り平行四辺形の場合、該
開口２４により外筒体開口２５の下部右隅を遮閉
した上（第１１図参照）、研掃材を被処理対象物
へ投射すると、該研掃材は巾方向投射域の左側に
集中する。

同様にして、内筒体開口２４が左上り平行四辺
形の場合、該開口２４により外筒体開口２５の下
部左側を遮閉した上（第１２図参照）、研掃材を
被処理対象物へ投射すると、該研掃材は巾方向投
射域の右側に集中する。

（考案の効果） 以上の説明から明らかなように、本考案は遠心
投射装置におけるインペラ側板の回転中心孔部と
デイストリビユータの外周との隙間に、互いに摺
動回転可能な内外二重の筒体から成るコントロー
ルケージを遊嵌し、該筒体の各々に開口を設ける
と共に、一方の開口の周縁の一部が軸方向に対し
て斜交するように成し、前記デイストリビユータ
を通じて供給される研掃材を該両開口を通じてイ
ンペラ側板側に供給するようにしたものである。

このようなコントロールケージによつてその開
口の一部を適宜遮閉することにより、投射材の巾
方向投射域における投射密度分布を自由に変化さ
せることができる。その結果、例えば帯状製品を
研掃する場合に、巾方向投射域の中央部と両側部
の投射密度分布を均一にすることにより、製品の
巾寸法が変化しても研掃ムラが生じないようにす
ることができる。また線材製品を研掃する場合
に、巾方向投射域の中央部の投射密度をより大き
くすることにより研掃効果を上げることもでき
る。更に、線材製品が左右に位置ずれした場合
に、巾方向投射域の周辺部の投射密度を大きくす
ることにより、研掃効果の低下を防ぐこともでき
る。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の実施例を示し、第１図は遠心投
射装置の縦断正面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線
における断面図、第３図及び第４図はコントロー
ルケージの開口の一形状例を示す平面図、第５図
及び第６図は第３図及び第４図にそれぞれ対応す
る研掃材の投射密度分布図、第７図ないし第１２
図はコントロールケージの開口の他の形状例を示
す平面図である。 １……インペラ側板、７……インペラブレー
ド、９……インペラ、１１……回転フランジ、１
２……回転軸、１４……センタリングプレート、
１８……デイストリビユータ、１９……センタボ
ルト、２１……内筒体、２２……外筒体、２３…
…コントロールケージ、２４，２５……開口。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. インペラ側板１の回転中心孔部とデイストリビ
   ユータ１８の外周との隙間に、互いに摺動回転可
   能な内筒体２１と外筒体２２とから成るコントロ
   ルケージ２３を遊嵌し、該内筒体２１及び外筒体
   ２２の各々に、互いに連通可能であると共に、前
   記インペラ側板１及びデイストリビユータ１８と
   も連通可能な開口２４，２５を設け、該両開口２
   ４，２５の一方の周縁の一部を軸方向に対して斜
   交させたことを特徴とする遠心投射装置のコント
   ロールケージ。