JPH02289228A

JPH02289228A - 曲率測定装置

Info

Publication number: JPH02289228A
Application number: JP2091830A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Tamaki; 田巻　弘
Original assignee: Topcon Corp
Current assignee: Topcon Corp
Priority date: 1990-04-06
Filing date: 1990-04-06
Publication date: 1990-11-29
Also published as: JPH0316132B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、曲面の曲率半径を測定する装置に関しさらに
詳しくは人眼の角膜の曲率半径を測定するオフサルモメ
ータやコンタクトレンズの曲率半径を測定するラジアス
メータに応用できる曲率測定装置に関する。

本明細書においては本発明の原理及び実施例を土にオフ
サルモメータについて説明するが本発明はこれに限定さ
れるものでなく、広く光反射性を有する球面またはトー
リンク曲面体の曲面の主径線の曲率半径く以下、単に「
曲率半径」ということもある）を測定する装置にも本発
明は適用できるものである。

人眼角膜自体の屈折力は、眼全体の総圧折力の略８０％
約４５０の屈折力をもち、また乱視眼においては約７５
％が角膜乱視すなわち角膜前面が球面でなくトーリンク
面形状をしていることに起因している。また、コンタク
トレンズ処方に際しては、そのベースカーブは、コンタ
クトレンズを装用させる眼の角膜前面の主径線曲率半径
をもとに処方する必要がある。これら観点から角膜前面
の曲率半径を測定することは重要な意義がある。

この要求から、人眼角膜前面の曲率半径を測定する装置
として、種々の型式のオフサルモメータが実用化されて
いる。いずれの型式のオフサルモメータも、被検角膜上
に１つ、もしくは複数の視標を投影し、その投影像の大
きさ、あるいはその反射像、位置を、観察望遠鏡の焦点
面で観察し、投影像の大きさの変化量あるいは視標反射
像の相対的位置ズレ量から被検角膜の曲率半径及び角膜
乱視軸を測定するものであった。

オフサルモメータにおいては、特に角膜がトーリンク面
形状の乱視眼角膜の測定に際しては、その第１　（強主
径ｖＡ）及び第２主径線（弱主径線）の曲率半径及び少
なくとも一方の主径線方向の軸角度の３つの被測定量を
測定することが必要であり上述の従来のオフサルモメー
タはこれら３つの測定値をもとめるのに３段階の測定を
必要としていた。しかしながら、人眼には生理的な眼球
振動がつねにともなっており、測定時間の長時間化は眼
球振動にともなう投影像の振動となり、それゆえに測定
誤差や、測定中の頻繁なアライメント調整操作を必要と
するという大きな問題点があった。

この従来の装置の欠点を解決する装置として、例えば特
開昭５６−１８８３７号公報、特開昭５６−６６２３５
公報、あるいは米国特許４１５９８６７号明細書には、
投影像の角膜からの反射像を、１次元型あるいは２次元
型のポジションセンサで検出して、その検出位置から被
検眼角膜の曲率半径及び主径線角度を測定する装置が開
示されている。

しかしながら、これら装置も、従来の実用されているオ
フサルモメータと同様に、投影視標の角膜からの反射像
を望遠鏡で結像する型式であり、測定精度を上げるには
望遠鏡の焦点距離を大きくせねばならず、いきおい装置
が大型化するという欠点があった。また結像型式である
ためその合焦機構を必要としていた。また、装置と被検
角膜とのアライメントもこの合焦望遠鏡のレチクル板上
の十字線を使って被検眼像を目測で規準するため、アラ
イメント調整は不正確であり、かつ測定時間の短縮化の
さまたげとなり、安全な自動測定にはつながらなかった
。

非結像光学系を利用して、光学系の屈折特性、主に眼鏡
レンズの球面屈折力や円柱屈折力及びその軸角度並びに
プリズム屈折力を測定する装置が、米国特許４２７５９
６４号明細書に開示されている。この装置は、被検眼鏡
レンズに平行光束を入射させ、被検レンズの屈折特性に
より偏向された光束を円形開口を有するマスク手段で選
択し、その選択光束を被検レンズの焦点距離より短かい
距離に配置された平面型ポジションセンサか放射状に配
列した複数本のリニアポジションセンサあるいは回転す
るリニアポジションセンサで検出し、この検出器の検出
点から前記円形開口に対応した円形または楕円投影パタ
ーンの形状を算定し、その形状から被検レンズの屈折特
性をもとめる構成である。しかしながら、この米国特許
は、屈折光学系における屈折特性測定を開示するのみで
あり、反射光学系の曲面特性、特にその反射曲面の曲率
半径の測定等については何ら開示も示唆もしていない。

さらに検出器として、平面型センサや回転リアニセンサ
を利用するため、検出器が高価となり、また回転リニア
センサにおいてはその回転精度、特に軸精度が直接測定
精度に影響するため、その組立、調整、保守管理が難し
いという欠点があった。

そこで、本発明は、上述の従来のオフサルモメータの欠
点を解決し、非結像型光学系を利用して自動測定が可能
なオフサルモメータやラジアスメータ等に応用できる曲
率測定装置を提供せんとするものである。

本発明のもう一つの目的は、非結像型光学系を使用する
ことにより、従来の装置に比較して、小型で、かつ結像
望遠鏡等の検者が視察および操作する必要のある光学部
材を有しない、自動的に曲率半径を測定出来る曲率測定
装置を提供することである。

本発明の更にもう一つの目的は、さらに従来の装置が規
準により行なっていた被検曲面と装置光軸とのアライメ
ントのための情報を自動的に出力できる操作性にすぐれ
そして測定時間を短縮できる自動化された曲率半径測定
装置を提供することである。

本発明の更にもう一つの目的は、比較的安価に人手可能
な検出器を利用でき、しかも回転等の可動機構を必要と
せず、組立、調整、保守管理の容易な自動化された曲率
測定装置を提供することである。

すなわち、以上の目的を達成するために、本発明による
ならば、光源と該光源からの光を平行光束とするコリメ
ーター手段とを有する照明光学系と、該照明光学系から
の光束で被検曲面によって反射された光束を選択する予
め定められた半径をもつ円形を成すパターンを有するマ
スク手段と、該マスク手段で選択された該反射光束を検
出する検出手段と、該検出手段で検出した前記円形パタ
ーンに対応した投影パターンの形状から前記被検曲面の
曲率半径を演算する演算手段とを有し、前記マスク手段
と前記検出手段のいずれもが前記光源と光学的に互いに
異なる非共役な面内にそれぞれ配置されている曲率測定
装置が提供される。

本発明の好ましい態様においては、円形を成す光源は、
それと実質的又は仮想的に交差する少くとも１本の直線
をなす光源を更に有し、円形をなす光検出手段は、それ
と実質的又は仮想的に交差する少くとも１本の直線をな
す光検出器を有し、またマスク手段は円形を成すパター
ンと実質的もしくは仮想的に交差する直線を成すパター
ンを更に有している。

本発明において、以上の構成上の特徴により、従来の曲
率半径測定装置に比較して、装置が小型となり、測定時
間が短く、測定精度が高く自動的に被検曲面の曲率半径
を測定できる。さらに、アライメント情報を自動的に出
力できるので、さらに測定精度を高くすることができる
。

これら本発明の長所は、特にオフサルモメータに本発明
を応用した場合、眼球振動の影響を受けない測定精度が
高く、測定時間の短かい、小型で構成の簡単な自動測定
が可能なオフサルモメータを提供することができる。

また、本発明をコンタクトレンズの裏面のベースカーブ
を測定するラジアスメータに応用すれば。

ターゲツト像をコンタクトレンズの裏面と、その曲率中
心に２度合焦してそのときの対物レンズの移動量からベ
ースカーブの曲率中心を測定していた従来のラジアスメ
ータに比較して、従来のラジアスメータがもっていたタ
ーゲツト像観察及びそれによる測定用の顕微鏡光学系を
一切必要とせず、ゆえに測定精度を直接左右する視度調
節を一切必要としないばかりか、測定者間のパーソナル
エラーも発生しない、自動測定が出来る高精度なラジア
スメータを提供することができる。

以下本発明を角膜の曲率半径を測定するオフサルモメー
タに適用した測定原理及び実施例を図面を参照して説明
する。

第１図は、本発明の第１の測定原理を説明するための斜
視図であり、第２図は平面図である。

これらの図において装置光軸０１に原点を有するＸ６　
　Ｙ＠直交座標系を考える。このＸｏ　　Ｙ。

座標系を含む面にその頂点を接するように角ｐｓＣが配
置されているものとする。この角膜Ｃはその光学中心Ｏ
ｃをＸ、軸方向にＥイ、Ｙ、軸方向にＥｖずらして配置
されており、かつ、曲率半径ｒ１の第１主径線がＸ０軸
と角度θだけ傾けて配置されているものとする。またそ
の第２主径線の曲率半径をｒｔとする。今このＸｏ　　
Ｙａ座標面から装置光軸０１にそって距離Ｉｌ離れた位
置に、その装置光軸０１上に原点０をもつＸ−Ｙ直交座
標系を想定し、このＸ−Ｙ座標面に検出面りを配置した
とする。

今、予め定められた半径Ｒの円形光源からの光束Ｆ、が
、装置光軸Ｏ３とその主径線が平行になるように、Ｘｏ
Ｙｏ座標面上に結像されているものとする。この照明光
束の角膜Ｃでの反射光は、角膜Ｃの曲面特性、すなわち
その角膜前面の形状の３要素である第１主径線の曲率半
径ｒｌ、第２主径線の曲率半径ｒ２及び第１主径線の方
向θ、さらに光学中心ＤＣの装置光軸０１に対する偏位
量ＥＨ，Ｅｖの影響により偏向され、検出面り上に楕円
パターンＦＸ’を投影形成する。

円形光源と検出面り上の楕円パターンＦＸ’との関係は
、円形光源からの光束ＦＸＯ主光線が作る円形照明光束
がｘ２　＋　ｙ！　＝ＲＭ　Ｅ定数の条件のもとに（ａ”（１）ｓｉｎ”θ＋ｂ”（ｊりｃｏｓ”θ）（ｘ
　　−ｃｙ）”＋　　（ａ”（ｊりｃｏｓ”θ＋ｂ”（
１）ｓｉｎ”θ）（ｙ’　−β）”（ａ”（ｆ）　　ｂ
”（ｊりｓｉｎ”θ＋ａ（Ｊ）ｂ（ｊり−Ｒ”＝　０・
・・・・・（１１の方程式が成り立つ、ここでｒχ である。今、この方程式の２根をＩとする。またこの方程式中のα、βは、それぞれ角膜Ｃ
の頂点Ｏｃ　（光学中心でもある）のＸ０Ｙ０座標系の
原点０゜からの偏位量Ｅ□＋ＥＶに起因し、測定に際し
て装置をアライメントしなければならないアライメント
量であり、水平方向アライメント量をα、垂直方向アラ
イメント量をβと定義しである。

今、第２図に示すように、検出面りを角膜Ｃから距離β
′の位置におき、これを検出面Ｄ′とし、このときの楕
円パターンについても上記（１）式が成り立つので、そ
の２根をｌとすると、（２）、（２’）式より λ１−λ。

λ２−λ２ｒｌ＝ｒｚ＝１１−１　　’ ｇ−ｘ　　’ ・・・・・・（３）としてもとめられる。

（３）式から、本測定原理においては、雨検出面位置り
、Ｄ’の間の距離（ｌ−１’）を予め定めておけば、測
定結果が、角膜Ｃと検出面との間の距Ｎｊ！には無関係
であるといえる。このことにより、第２図に示すように
装置の基準面Ｐ（通常装置の最前面かもしくは光学系の
最前のレンズ面）と角膜との間の距離、すなわち作動距
離εに測定結果が影響されず、従って、従来のオフサル
モメータのように作動距離調整をしなくてもよい。

このように＜１−１！’）を予め定数としておけるから
、結局、（１１〜（３）式の未知数ｒ、　、ｒｚ　、θ
、α、βは、楕円パターンＦＸ’上の最低５点の座標（
ｘ　Ｊ、ｙ’）を知り、それぞれについて（１１式を適
用し、この５つの連立方程式を解法すればもとめること
ができる。

ゆえに第１図に示すように検出面Ｄ（およびＤ’）で楕
円パター７ＦＸ’上の５点（Ｘｌ’、ｙｌ’）、（Ｘ＊
　　、）’！’）　、（ｘｚ’、）’３’）、（Ｘ４’
、（Ｘ、′、ｙ、′）をもとめればよいことになる。

もし、５つの座標を知るために検出器として平ｙ４′）固型のポジションセンサや光軸０１を中心にリニアポジ
ションセンサを回転させる等の検出器のコストアップや
精度保証上の問題があるならば、以下のような構成をと
ればよい。すなわち、第３図に示すように、円形光源に
加えて、円形光源と交差する一本の直線光源をもちいる
と、直線光源からの平面光束が角膜Ｃで反射され検出面
りに投影されても、その傾きは変化しても直線性自身は
くずれないので、この傾きの変化を知ることにより逆に
被検角膜Ｃの曲面特性の情報を得ることができる。

今第３図に示すように直線光源のｘ０軸との傾き角をａ
、直線光源に対応する検出面り上の投影直線パターンＬ
Ａ’のＸ軸との傾きをａ′とすれば、以下の方程式が成
り立つ。

（Ａ、（６）ａ−Ｂ（ｌａ”Ｊ　　ｔａｎ”θ＋　　（
Ａ（Ｉり−Ｂ（Ｉり’Ｊ　　（ｌ　　ａ−ａ’）ｔａｎ
θ＋　　（Ａ（Ｊ）ａ’　　−Ｂ（ｌａ）　　−〇　　
　　　　＝（４１２！Ａ（ｊ）−１＋ｌｔである。

これにより、Ｘ−Ｙ座標系のＸ軸上に配したリニアポジ
ションセンサ２．ＩとＹ軸上に配置されたリニアポジシ
ョンセンサＪＶとにより、投影楕円パターン上の４点Ｕ
　（Ｏｉ　＋　　）’ｌ　）　、Ｖ　（Ｘ＋、０）　、
Ｗ　（０，ｙｘ　）、、Ｑ　Ｃｘｔ　、、Ｏ）を求め、
また投影直線パターン上の２点１　　（ｘ、ｓ　、Ｏ）
、Ｊ　（０，ｙｓ　）をもとめれば、角膜Ｃの曲面特性
をもとめることができる。

またリニアセンサｌ、、ｌ、の配置としては第４（ａ）
図に示すように検出面上で斜交させてもよい。

この場合、周知の座標変換式を使えばよい。また第４山）図に示すように、２本の平
行なリニアセンサＩＡ、、２β、を使用してもよい、こ
のとき投影楕円パターンＦＸ’は検出点ｙ、いｙ＋３、
ｙｚ＋、ｙｏから、投影直線パターンＬＡ’は検出点ｙ
１２、ｙ、がそれぞれ決定できる。

第５図は、本発明の第２の測定原理を示す斜視図であり
、第６図はその平面図である。角膜Ｃには半径φ／２の
平行光束が光軸０．と平行に照射されており、この照射
光束の角膜による反射光束は、角膜から距離ｌのところ
に配置されたマスクＭＡに形成された開ロバターンで選
択透過され、マスクＭＡから距離ｄ＃ｌれた検出面りに
投影される。そこでマスクＭＡの間ロバターンは前記第
１の測定原理と同様に半径Ｒの円形関口ＳＡとこれに交
差する直線開口ＬＡとからなっている。検出面り上に出
来る楕円投影パターンＳＡ’については、前記（１）式
と同様の〔＾”（１）ｓｌｎｆｆｉθ＋Ｂ”（Ｉｌ）ｃｏｓ”θ
）（ｘ’　−α）”＋　（Ａ”（１）ｃｏｓ”θ十Ｂ”
（１）ｓｉｎ”θ〕（ｙ′−β）１が成り立つ。ここで
Ａ　（ｊｌり　、Ｂ　（Ｊ）は■　＋である。

本測定原理においては、平行光束の角膜での反射光をマ
スクＭＡの開口で選択し、この選択された光束を検出面
りで検出しているので、マスクＭＡと角膜Ｃとの間の距
離ｌ、すなわち作動距離は、あらかじめ公知の作動距離
検知装置で予め定めた定数となるように装置を設定する
必要がある。

好ましくはｌ＝０となるように設定するのがよい。

また実際の投影パターンの検出は前記第３図のようにＸ
軸、Ｙ軸上に配置したりニアセンサで検出すればよいし
、また第４（ａ）図、第４（ｂ）図に示したようにリニ
アセンサを斜交させても平行させてもよい。

また投影直線パターンの傾きａ′に関しては、前記（４
）弐と同様の（Ａ（Ｊ）ａ　−Ｂ　（ｊりｏ　’　）　ｊａｎ”θ＋
　（Ａ（ｊり−Ｂ（１））　（１−ａ−ａ’）ｔａｎθ
＋　（Ａ（ｊりａ　’　−Ｂ　（１）ａ）　−０−旧−
（４）　’但し、１　＋が成り立つ。

以上説明した第１及び第２の原理について、「光線逆進
の原理」が適用できる。即ち、第１の原理についてみる
ならば、第１図及び第２図において検出面り及びＤ′の
位置に多数の発光単位が面状に配列された面発光体をお
き、そして、円形光源の位置にこの円形パターン部分の
みに受光部をもつ受光手段をおく。そして、面発光体を
検出面りの位置とＤ′の位置にそれぞれ位置づけて、面
発光体の各発光単位を順次発光させて、前記受光手段が
光を受けたときの面発光体の発光単位の座標上の位置を
プロットしてゆくことにより、面り及びＤ′の各位置に
おける円ＦＸ’が得られ、それらデータから、前述の第
（１）から第（３）式を利用して、曲率半径や軸角度を
得ることができる。更に第３図の例について「光線逆進
の原理」を適用するならば、検出面りの位置のＸ軸とＹ
軸に沿って直線状発光素子アレイを交差配置し、そして
、円形光源と直線光源の位置に前述の円形受光手段と直
線部分のみに受光部を有するリニア受光手段をおく。こ
の場合も上述した光線逆進の原理の適用例と同様な操作
により、Ｉ、Ｊ、Ｑ、Ｕ、Ｖ、Ｗの各座標点にある発光
単位の位置を求めて、それから曲率半径を求めることが
できる。

第２の原理に「光線逆進の原理Ｊを適用した本発明の第
３の測定原理を次に説明する。

第７図はその本発明の第３の測定原理を示す斜視図であ
り、第８図はその平面図である。

この第３の原理は、すなわち、前述の第２の原理の角膜
Ｃへの照明光束と角膜からの反射光束を逆に考え、検出
面りに多数の発光単位からなる発光面Ｓをおいてこの発
光面Ｓからの光の内でマスクＭＡの円形および／または
直線開口を通過し、角膜Ｃで反射され光軸Ｏ１と平行に
なる光線を射出した発光面Ｓ上の発光単位の位置から角
膜Ｃの曲面特性を求めるものである。

発光体としては、第２の原理の平面型ポジションセンサ
に対応する多数の発光単位を平面状に配列して成る平面
型発光素子アレイでもリニアポジションセンサｌｘ、ｌ
、に対応する多数の発光単位を直線状に配列してなるリ
ニア発光素子アレイを使用してもよく、その配置も前述
のりニアセンサのように直交、斜交、平行を問わない。

第７図において、発散光束ｆｘを発光する発光素子ＸＳ
、、　　２　、Ｘ　ｓｉ　、”’５　ＸＲを直線状　Ｓに配列して成るリニア発光素子アレイＳ、ＩをＸ軸上に
・発光素子Ｖ　３＋　、３Ｆ　ａｔ　、Ｖ　ａｓ　””
）’　ｌｉｎを有するリニア発光素子アレイＳ、をＹ軸
上にそれぞれ配置した例を示している。

光軸Ｏ３上でマスクＭＡと角ＷＡＣとの間には、角ＭＣ
で反射して光軸Ｏ８と平行となった光線をその焦点位置
に配置したピンホールＰ８に導びく集光レンズＰ、が配
置されており、またピンホールＰ工の後方にはピンホー
ルＰＭを通過した光線を検知する検知器ＤＭが配置され
ている。リニアアレイＳ、、Ｓ、を発光走査するとある
発光単位Ｘ３１　、）！５１１からの光束の一部はマス
クＭＡの円形および直線開口を通過でき、角膜Ｃを照射
できる。角膜Ｃで反射された照明光の内ある一部の光線
束は光軸０．と平行となり、この平行な光線束は集光レ
ンズＰＬによりピンホールＰ、に集光され、そのピンホ
ールＰ、ｌを通過して検知器り。

で検知される。

この検知器り、が検知したときに発光していた発光単位
例えばＳＸｌ、”　Ｘｌ　ｓ　ＳＸ２．３　Ｙｌ、５Ｙ
ｔｓａＹ３を知り、ＳＸｌ　、、ｓＹｔ　、５Ｘ３、ｓ
Ｙ３よりの楕円軌跡ＯＢの方程式が決定でき、ｓＹｔと
ＳＸｔから直線軌跡Ｌ１の方程式が決定できるので、こ
れら楕円軌跡ＯＢと直線軌跡Ｌｌについて前記（１）′
式、（４）′式をそれぞれ適用すれば角膜Ｃの曲面特性
はもとめることができる。

以上説明した本発明の原理に基づ〈実施例を以下に説明
する。

第９図は前述の第１の測定原理を利用したオフサルモメ
ータの光学配置図である。本実施例においては検出器と
して平面型ポジションセンサを利用しているが、この平
面型ポジションセンサのかわりに、２本の平行または交
差するリニア型ポジションセンサを使用してもよいこと
は上述の原理説明から明らかであろう。

本実施例のオフサルモメータは、大きく３つの光学系、
即ち、照明光学系１、測定光学系２、固視光学系３、と
から構成されている。

照明光学系ｌの直線光源としては、多数の微少発光体を
円形状に配列したリニア発光素子アレイを使用してもよ
いが、以下の構成を取ることも出来る。照明光学系１に
は、光源ランプ４と、このランプ４からの光のうち赤外
光のみを透過する赤外フィルター５と、拡散板６、コン
デンサレンズ７とからなる光源部８があり、この光源部
８からの光は、第１０図に示すように、円形間口２５と
、これと交差する少なくとも２本の平行な直線開口２６
１．２６２からなる直線開口群２６を形成してなる開口
板９を照明する。ここで直線開口２６１゜２６２の２本
を形成させたのは、第１１図に示すように、Ｘ軸、Ｙ軸
上に２本のリニアセンサを配置する構成を使った場合、
１方の投影直線パターンが原点Ｏ上に投影されても、他
方の投影直線パターンはＸ軸、Ｙ軸と２点でましねるた
め検知でき、その方程式は決定できるからである。

この開口板９のそれぞれの開口２５．２６がそれぞれ前
述の原理説明における円形及び直線光源としてそれぞれ
作用する。開口２５．２６からの光は、ピンホール板の
ピンホール１０を通って結像レンズ１１により角膜Ｃの
頂点Ｏ８に接する接平面Ｈ上に結像される。この結像レ
ンズ１１はその焦点を前記ピンホール１０の位置にもっ
ているので、結像レンズ１１を通った照明光束は測定光
学系２の光軸０．上に傾設された穴開きハーフミラ−１
２で反射されたのち、その主光線は光軸Ｏ８と平行にな
って角膜Ｃを照明する。

一方測定光学系２にはその光軸０＋に垂直な平面内に平
面型ポジションセンサ、例えば平面型ＣＣＤアレイ１３
が配置されている。このポジションセンサ１３は穴開き
リレーレンズ１４によりその光学的共役像がＤの位置に
結像されている。

そして、この光学的共役像りの位置は、前記開口板９と
は、光学的に非共役な位置になっている。

またリレーレンズ１４とポジションセンサ１３との間に
は、ポジションセンサ１３のリレーレンズ１４による共
役像りをＤ′の位置にずらすための例えば平行平面ガラ
スからなる光路長変換部材９３が光路中に挿脱可能に配
置されている。

また固視光学系３は、光源８０、コンデンサレンズ８１
、固視標板８２、コリメータレンズ８３、及び光軸０．
に傾設された可視計反射赤外光透過型のハーフミラ−８
４とから構成され、固視標板８２からの可視光はリレー
レンズ１４、穴開きハーフミラ−１２の穴を通って平行
光線となって被検角Ｉｌ！ｃをもつ被検眼に入射され被
検者に固視される。この同視標板８２には例えば第１２
図に示すように２重同心円型の固視標８２ａが形成され
ている。

また、本実施例においては、演算処理上の基準座標系を
設計上子めあたえる変わりに、測定時の基準座標系が作
れるように、穴開きハーフミラ−１２の前に装置光軸０
１と垂直な反射面をもつ測定光路内に挿脱可能な反射鏡
９０が配置されている。

まず、測定に際しては、光路変換部材９３を測定光路内
に挿入した状態で、反射１Ｉ９０を測定光路に図示しな
いアクチュエーターの作動で挿入したのち、光源４を照
明する。光源４の光により開口板９の開口２５．２６が
円形光源および直線光源として働き、その射出光束は反
射鏡９０上に照射される。反射１ｔ９０からの反射光は
光軸０１と平行に反射され、リレーレンズ１４を介して
ポジションセンサー１３に入射し、その投影パターンが
検出される。この状態を模式的に第１３図に示す。円形
及び直線光源２５．２６に対応する投影パターン２５’
　　２６’を検出し、これより、円形投影パターン２５
′の中心をもとめ、この中心に原点がくるようにＸ−Ｙ
座標系を定める。以後このＸ−Ｙ座標系を測定演算の基
準座標系とする。

次に、反射鏡９０を測定光路外に退出させ、被検角膜Ｃ
に円形及び直線光源２５．２６からの光を照射する。角
膜Ｃからの反射光はリレーレンズ１４を通すボジション
センサ１３で検出され、投影パターン２５′、２６“を
検出し、その検出点例えば両座標軸Ｘ、Ｙ上の検出点１
ｓＪｓｋｓｌ、ｍ、ｎＳＱ、ｔから上記（１）、（４）
をつかってα、βを演算でもとめ、このアライメント量
にしたがって装置を図示しない移動機構で左右上下に移
動させアライメントする。第１４図に示すように７ライ
メントが完了したら、光路長変換部材９３を測定光路外
に退出させ、今まで検出に使用していた共役検出面の位
置をＤ′からＤに位置させる。そして再度ポジションセ
ンサ１３を走査して投影直線を検出し、その検出された
投影直線２５′２６″の検出点、例えばｉｒ　　ｊｒ　
、ｋｒ　　ｌＬｍ　Ｉ　ｎＬ　、Ｑ　／　　ｔ　／から
（１１、（４）式を適用して角膜の曲面特性すなわち第
１及び第２の主径線の曲率半径Ｒ＋ＳＲｚ及び第１主径
線角度θを演算する。

第１５図は、本発明の第２の実施例であり、前述の第１
の実施例の照明光学系１の直線光源２５．２６を作る別
の構成を示す実施例であり、照明光学系１の一部分のみ
を図示した部分光学配置図である。

前述の第１実施例では円形及び直線光源とじて働く開口
２５．２６を１枚の開口板９に形成したが、第１５図に
示す本実施例は別々の開口板にそれぞれ開口の１方を形
成し、結像レンズ１１で接平面Ｈ上に結像されたときに
２つの開口が合成される実施例を示している。

本実施例の照明光学系１には、前述の第１実施例の光源
部と同様の構成からなる２つの光源部８１．８−２があ
り、それぞれに開口板９−１１９−２が配置されている
。開口板９−１には、第１０図に示した円形光源の２５
に相当する円形開口が、開口板９−２には直線光源の２
６に相等する直線開口がそれぞれ形成されている。

開口板９−１．９−２を射出した光束はハーフミラ−９
１で合成されハーフミラ−９１の上面に形成されたピン
ホール９２ａを有する遮光ｒｆＩＡ９２のピンホール９
２ａを通って結像レンズ１１に入射する。以後の作用は
前述の第１の実施例と同様である。

以上の実施例に「光線逆進の原理」を適用して変形する
には、ポジションセンサ１３の位置に、多数の赤外発光
素子を面状に配列した発光素子アレイをおき、開口板９
の開ロバターンとが部分のみに受光部を有する平面型受
光素子を開口板９の位置に配置するか、もしくは開口板
９の開ロバターンと同一部分のみに受光部を有する平面
型受光素子を開口板９の位置に配置するか、もしくは光
源ランプ４の位置に受光素子をおいて、そして、その受
光素子が受光したときにその光を発した発光素子の位置
を検出すればよい。また、前述の実施例の場合と同様に
様々な変形が可能である。

第１６図は本発明の第３の実施例を示す光学配置図であ
る０本実施例は前述の第２の測定原理を利用したオフサ
ルモメータである。上述の第１実施例と同一もしくは均
等の構成要素にば同一の符号を付して説明を省略する。

また本実施例は共役検出面内で直交する２本のリニア型
ポジションセンサを検出器として利用しているが、本発
明においては、これに限定されるものでなく、平面型ポ
ジションセンサや斜交する２本のリニア型ポジションセ
ンサあるいは平行な２本のポジションセンサを利用して
も検出できることは前述の原理説明から明かである。

照明光学系ｌの光源としては、発光波長の互いに異なる
二つの赤外発光ダイオード７０．７１を使用する。発光
ダイオード７０から光はグイクロイックプリズム７２の
グイクロイック面７２ａを透過しコンデンサレンズ７に
入射する。一方、発光ダイオード７１からの光はダイク
ロツク面７２ａを反射して、同様にコンデンサレンズ７
に入射する。

コンデンサレンズ７からの射出光は、ピンホール板１０
のピンホールを通って、このピンホールにその焦点位置
をもつコリメータレンズ７３によって平行光束とされた
のち、装置光軸Ｏ３上に傾設された微小ミラー８５によ
って反射され、光軸０、と平行に被検角ｌ１ＵＣに照射
される。固視光学系３は、照明光学系ｌに傾設されたハ
ーフミラ−８４によって、その固視標像を被検眼に照明
している。

リレーレンズ１４の後方にはグイクロイックミラー８６
が配置され、その後方の光路を第１光路１２０と第２光
路１２１に部分する。

第１光路にはマスク１３ａが、第２光路１２１にはマス
ク１３ｂがそれぞれ配置される。マスク１３ａを通過し
た光束はハーフミラ−３０３でささらに二分割され、反
射光束リニアポジションセンサ１５に、透過光束はりニ
アポジションセンサ１６に入射する。また同様にマスク
１３ｂを通過した光束もハーフミラ−３０３で反射及び
透過され、それぞれリニアセンサ１５．１６に入射する
。

ここでリニアセンサ１３ａと１３ｂはリレーレンズ１４
により、その共役検出面り内で互いに合成されるように
配置されている。またマスク１３ａ。

１３ｂはリレーレンズ１４により共役像を図中ＭＡの位
置に形成される。そしてこれら共役面ＭＡ及びＤはそれ
ぞれピンホール１０と光学的に非共役な関係にある。

すでにアライメント調整は前述の方法で調整されている
ものとして以後の測定手順を説明する。

まず発光ダイオード７０を発光すると、その射出光は角
ｌｌＩｃで反射されたのち、第１光路１２０を進み、マ
スク１３ａに入射する。このマスク１３ａには、第１０
図に示した円形開口２５が形成されており、この円形開
口２５で選択透過された光束は、リニアセンサ１５．１
６に入射し、検出される。例えば第１１図のＹ軸方向に
配置されたりニアセンサ１５により検出点１５１．１５
２が検出され、またＸ軸方向に配置されたりニアセンサ
１６により検出点１６１．１６２が検出される。

次に発光ダイオード７１に切替えると、その角膜Ｃから
の反射光は第２光路１２１を通り、マスク１３ｂに入射
する。マスク１３ｂには第１０図は直線開口２６が形成
されており、この直線開口２６で選択透過された光束が
リニアセンサ１５．１６に投影される。リニアセンサ１
５で検出点１５３．１５４が、リニアセンサ１６で検出
点１６３．１６４が、それぞれ検出される。これら８点
の検出点１５１．１５２・・・・・・１６３．１６４を
第（１）′式、第（４）′式に適用し角膜Ｃの曲面特性
を演算しもとめる。

第１７図は、以上のごとき演算処理を行なう為の処理回
路の一例をブロック図で簡単に示すものである。リニア
センサドライバ１００．１０１によって駆動されるリニ
アセンサ１５．１６は第１５図（Ｂ）〜（Ｃ）で示すご
とき、まず、ドライブ回路６０によって駆動された光源
７０の発光により、光束制限マスク１３ａの直線間ロバ
ターン投影像による検出出力信号を信号ライン１０２．
１０３に送出する。１０４はアナログスイッチであり、
マイクロプロセッサ１０５によってコントロールされる
。マイクロプロセッサ１０５はリニアセンサ１５をドラ
イブするドライバー１００によりリニアセンサの走査開
始パルス１０６により割込を受けると、アナログスイッ
チを制御して、リニアセンサ１５の出力がＡ／Ｄ変換器
１０７に入力されるようにする。Ａ／Ｄ変換器１０７は
、ドライバー回路１００からの第１７図（Ａ）に示すよ
うなりニアセンサ読み出しパルス１０８により読み出さ
れるリニアセンサの１素子毎の出力をアナログ・デジタ
ル変換し、変換されたデジタル値をマイクロプロセッサ
に供給する。ここでＡ／Ｄ変換器１０７は、８ピント（
１／２５６）程度の分解能を有し、かつリニアセンサの
走査周波数より速い変換時間を有するものが選ばれる。

マイクロプロセッサ１０５は、１素子毎にデジタル値に
変換されたりニアセンサ１５の出力を読み込み、ＲＡ、
Ｍ（ランダムアクセスメモリー）等で構成されるデータ
メモリ１０９に逐次格納する。従って、データメモリ１
０９には、あらかじめ定められた位置（番地）より、リ
ニアセンサの最初の素子による出力から順にデジタル値
として格納される。

例えばリニアセンサが１７２８素子のものであれば、１
７２８個のデータ取り込みが終了すると、マイクロプロ
セッサ１０５は、それ以上のデータ取り込みをやめ、リ
ニアセンサ１６を駆動する走査開始パルス１１０により
、割込みを受けるのを待つ。割込を受けるとアナログス
イッチ１０４を制御してリニアセンサ読み出しパルス１
１１により読み出されるリニアセンサ１６の出力をデジ
タル値としてデータメモリ１０９に引きつづき格納する
。つぎにマイクロプロセッサ１０５は、ドライブ回路１
を制御して今まで発していた光源７０を消し、光源７１
を発光させる。そして前述と同様の駆動により検出出力
をデジタル値としてデータメモリ１０９に格納する。こ
れで全ての測定データがデータメモリ１０９に格納され
たことになる。以後マイクロプロセッサ１０５内の演算
回路１１２はデータメモリ１０９に書き込まれたデータ
を基に（１’）、（４’）式をもとに演算し角膜の曲面
特性を演算する。

以上の処理により求められた各値は、第２２図に示す表
示器１１３、プリンタ装置１１４に出力される。

なお表示器としては公知のＣＲＴデイスプレィ装置をも
ちい、アライメント量α、βは図形表示“すると測定上
便利である。さらにアライメント量α、βを電気信号と
して装置筐体駆動部１１７に人力し、その信号に応じ電
動駆動させればオートアライメントも可能である。

以上の処理は、全てプログラムメモリ１１５に記録され
ているプログラムに従って行なわれる。

マイクロプロセッサによって以上の様な処理を行なう事
は特殊なものでなく、関連する技術分野に属する当業者
にとっては容易に達成できるものである。

本発明は以上に説明した実施例に限定されるものでなく
、種々の変形例を有するものである。以下にその２．３
の例を開示する。

第１８図は本発明の第４の実施例を示す部分光学配置図
である。なお、照明光学系、固視光学系は前述の第３実
施例と同様であるので図示及び説明は省略する。また同
様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。

測定光学系２にはリレーレンズ１４の後方に第２リレー
レンズ群８７が配置されており、このリレーレンズ群８
７とリレーレンズ１４の間に前記第１０図に図示したと
同様のマスク板９が配置されており、このマスク板９は
リレーレンズ１４によりその共役像を図中ＭＡの位置に
作っている。

第２リレーレンズ８７の後方にはダイクロイックミラー
８６があり、このミラー８７の反射及び透過光路がそれ
ぞれ第１光路１２０、第２光路１２１を形成する。第２
光路１２１には、イメージローチーター１２５が予め定
めた所定角、光軸を中心に回転され配置されている。ま
た第１光軸１２０と第２光路１２１はダイクロインクミ
ラー１２３で合成され、このダイクロイックミラー１２
３の後方には、第３リレーレンズ１２４が、その後方に
はりニアポジションセンサ１５が配置されている。リニ
アセンサ１５は、リレーレンズ１４、第２リレーレンズ
群８７及び第３リレーレンズ１２４によりその共役像を
図中りの位置に作られる。そして第２光路１２１内に前
記したようにイメージロテータ１２５が配置されている
ので、リニアセンサ１５はこの共役検出面り内で交差す
る２本のりニアセンサと等価になる。

測定に際しては発光源７０を発光すると角膜Ｃからの反
射光は、光束制御マスク９の開口２５．２６により選択
透過され、第１光路１２０を通ってリニアセンサ１５上
に投影パターン２５′２６′として投影され、この投影
パターン群は第１９図に示すようにリニアセンサー５に
より検出点ｅ、ｅ２、１、ｅ４として検出される。次に
、発光［７１に切り替えると、その角膜での反射光束は
同様にマスク９の開口２５．２６で選択され、その選択
光束は、第２光路１２１を通り、そのイメージロテータ
で回転されて、第１９図に示すようにリニアセンサー５
が１５′の位置に配置されだのと等価になり、開口２５
．２６の投影パターン２５′、２６′を検出点ｆ＋　、
ｆｚ、Ｉｓ、ｆａとして検出される。

以下、これら検出点をもとに（１）′式、（４）′式を
もちいて被検角膜の曲面特性を算出する方法は前述の第
２実施例と同様である。

前述の第３実施例（第１６図）においてリニアセンサー
５．１６をそのリレーレンズ１４による共役面りで互い
に平行になるように配置しても測定は可能である。また
第２０図に示すように、リレーレンズ群８７の後に平行
平面ガラスからなる光束シフト手段３０１を配し、これ
を光軸０１と垂直な軸を回転軸として４つの位置（Ａ）
　、（Ｂ）に回転変位すれば、光束制限マスク９で選択
された角膜Ｃからの反射光束はシフトされ、１本のリニ
アセンサ１５が共役面り上で２本手行に配置されたと等
価になり、これより各投影パターン２５′２６′の各パ
ターンの４点が検出されるので、その検出点をもとに前
述の実施例と同様に被検角膜Ｃの曲面特性を測定できる
。

また第２０図の光束シフト手段３０１のかわりに、イメ
ージロテータを光軸ＯＩを回転軸として回転すれば、第
２２図に示すように各投影平行直線パターン群が検出で
きることは前述の第４実施例から、きわめて容易にわか
るであろう。

またイメージロテータを回転するかわりに、第２１図に
示すようにパルスモータ駆動回路３０３で回転制御され
るパルスモータ３０２でリニアセンサ１５を光軸０１を
回転軸として回転して投影パターンを検出してもよい。

第２２図は本発明の第７の実施例を示す光学配置図であ
る。本実施例は前述の第３の測定原理を応用したオフサ
ルモメータの図である。なお、この実施例は、平面型の
発光素子アレイを利用しているが、前述の種々の実施例
のリニアポジションセンサをリニア発光素子アレイに置
き換えた形で、第３の測定原理をオフサルモメータに応
用できることはあえて説明するまでもないであろう。リ
レーレンズ１４の光軸を垂直な平面内に平面型発光素子
アレイ３２０が配置されている。この平面型発光素子ア
レイ３２０は微細な発光ダイオードを稠密的に平面基板
上に配列して構成されている。

リレーレンズ１４と、発光素子アレイ３２０との間には
、前記第３の実施例と同様の光束制限マスク９が配置さ
れており、リレーレンズ１４により、マスク９はその共
役像がＭＡの位置に、また、発光素子子レイはその共役
像がＳの位置にそれぞれ作られている。またリレーレン
ズ１４は、前述の原理説明でのべた集光レンズＬをも兼
ねており、角膜Ｃの反射光のうちリレーレンズ１４の光
軸Ｏと平行な光線を反射鏡３２１を介してピンホール３
２２に集光させ、このピンホール３２２を通過した光線
はリレーレンズ３２３により検知器３２４に入射される
。この検知器３２４としては高感度のアバランジャフォ
トダイオードが利用される。

またさらに感度をあげるにはペルチェ効果を利用した電
子冷却手段を兼用してもよいし、公知の光電子倍増管を
利用してもよい。

測定方法は平面型発光素子アレイ３２０の各発光ダイオ
ードを順次発光走査し、走査発光されたダイオードのう
ちの一部の発光ダイオードからの光がマスク９の平行直
線群２５及び２６を通過し、角膜Ｃに照射される。そし
て角膜Ｃで反射され、その一部はリレーレンズ１４に下
りピンホール３２２に集光され、検知器３２４で検知さ
れる。

この検知器３２４で検知されたとき光を出した発光ダイ
オードの位置、たとえば第１９図のｅ８、ｅｇ　％　ｅ
３．６４及びｆ＋　、ｆｚ、ｆｆｆ、ｒ、の各発光点か
ら円形及び直線軌跡２５′、２６′を算出し、この各軌
跡をもとに仮想平行四辺形を作成し、第（ｌ）′〜第（
４）′式を使って角膜の曲率半径ｒ、、ｒ＠及び角度θ
を演算する。

本実施例の駆動演算回路としては、前述の第１７図に示
した回路とほぼ同様の構成で達成できる。相異点は、ポ
ジションセンサ１５．１６のかわりに平面型発光素子ア
レイか、またはリニア発光素子アレイを使用することと
、この発光素子アレイの駆動パルスと、検知器３２４の
検知出力との同期をとる同期回路を追加すること等がわ
ずか相違するのみである。

また、発光素子アレイとしては、その発光単位として発
光ダイオードを利用するかわりにレーザを利用すること
もできる。

第２３図はその第１の例でＧ、Ａ、半導体レーザ５００
からのレーザ光５０１を例えば回転多面鏡やガルバノメ
ータ反射鏡あるいは音響光学素子等を使ったレーザ光走
査手段５０２で走査し後側にコリメーターレンズ５０３
を有し前側に多数の微少光ファイバロッ）５０４ａを平
面状に配列した光フアイバ集合体５０４の各光フアイバ
ロット５０４ａにレーザ光を入射させ、この光フアイバ
ロフトの開口数の大きいことを利用して発散光束にして
射出するような構成をとってもよい。

またリニア型発光素子アレイのかわりに、第２４図に示
すように、多数のオプティカルファイバ５１０の一端を
直線状に配列し、他端を円筒状に束ねこのオプティカル
ファイバの円筒束他端にレーザ光ガイド光学系５１１を
内蔵した回転円板５１２をパルスモータ３１１で回転し
ながら半導体レーザ５１２からのレーザ光をスキャンさ
せてもよい。

第２５図は、本発明の第１の測定原理をコンタクトレン
ズのベースカーブあるいは前面のカーブを測定するラジ
アスメータに応用した実施例を示す光学配置図である。

第１実施例と同様の構成要素には同一の符号を付して説
明は省略する。

コンタクトレンズＣＬのベースカーブを測定する時は、
コンタクトレンズの凸面を下にして、コンタクトレンズ
保持手段６００の円管状突出部６０１に保持される。

この円管状突出部の底面には、第１２図の反射鏡２１と
同様の作用をする反射鏡６０２がはめ込まれている。コ
ンタクトレンズＣＬを保持手段６００に保持する前に、
この反射鏡６０２を使って基準座標系の設定ができるよ
うになっている。

尚、本実施例においては、ポジションセンサ１３のリレ
ーレンズ１４による共役面り、Ｄ’は、それぞれ測定し
ようとするコンタクトレンズの後面の焦点距離ｒｃｔよ
り内側に位置するように設計する。

ラジアスメータへの応用は、本実施例で示したように本
発明の第１の原理だけが応用できるのでなく他の第２、
第３の測定原理を利用できることは言うまでもない。

以上説明した測定原理及び各実施例のマスク手段には、
光束を選択的に透過させる直線開口を形成した例を示し
たが、このかわりに光束を選択的に反射する反射型直線
パターンを利用しても本発明と同一の作用、効果が得ら
れることは言うまでもない。

また、発光素子又は受光素子を走査駆動しそして検出デ
ータを演算処理する回路は、前述した回路に限らず、必
要なデータが得られそして前述した演算式を処理できる
ならばどのような回路でもよく、当業者には様々な回路
が設計できるであろうことは明らかであろう。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の第１の測定原理を示す斜視図、第２
図は本発明の第１の測定原理を示す平面図、第３図は本
発明の第１の測定原理を他の態様により説明するための
斜視図、第４（ａ）図はりニアセンサの斜交配置と直交
座標系の関係を示す図、第４（ｂ）図はりニアセンサの
平行配置を示す図、第５図は本発明の第２の測定原理を
示す斜視図、第６図は第２の測定原理を示す平面図、第
７図は本発明の第３の測定原理を示す斜視図、第８図は
第３の測定原理を示す平面図、第９図は本発明の第１の
実施例を示す光学配置図、第１０図は開口板もしくはマ
スク板に形成された開ロバターンの一例を示す正面図、
第１１図は投影パターンの検出方法を示す概略図、第１
２図は固視標の一例を示す正面図、第１３図はアライメ
ント時の投影パターンの関係を示す概略図、第１４図は
測定時の投影パターンの検出方法を示す概略図、第１５
図は本発明の第２の実施例を示す照明光学系の部分光学
配置図、第１６図は本発明の第３の実施例を示す光学配
置図、第１７図は本発明を適用した装置の演算処理電気
回路の一例を示すブロック図、第１８図は本発明の第３
の実施例を示す部分光学配置図、第１９図は第３実施例
における投影パターンの検出方法を示す概略図、第２０
図は本発明の第４の実施例を示す部分光学配置図、第２
１図は本発明の第５の実施例を示す検出部を示す図、第
２２図は本発明の第６の実施例を示す部分光学配置図、
第２３図は本発明の発光素子プレイの他のり、様を示す
図、第２４図は本発明の発光素子アレイのさらに他の態
様を示す図、そして、第２５図は本発明の第７の実施例
の示す光学配置図である。９・・・・・・開口板またはマスク板、１０・・・・・
・ピンホール、１４・・・・・・リレーレンズ、１３・・・・・・平面型ポジションセンサ、５．１６・
・・・・・リニアポジションセンサ、５．２６・・・・
・・開ロバターン、５’、２６’・・・・・・投影パターン、３・・・・・
・マリメーターレンズ、３・・・・・・光路長変換部材、２５・・・・・・イメージローチーター０１・・・・・
・光束シフト手段、２４・・・・・・検知器。第図第図第図第１日図第図第第２２図図第２４図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）光源と該光源からの光を平行光束とするコリメー
タ手段とを有する照明光学系と、該照明光学系からの光束で被検曲面によって反射された
光束を選択する予め定められた半径をもつ円形パターン
を有するマスク手段と、該マスク手段で選択された該反
射光束を検出する検出手段と、該検出手段で検出した前記円形パターンに対応した投影
パターンの形状から前記被検曲面の曲率半径を演算する
演算手段とを有し、前記マスク手段と前記検出手段のいずれもが前記光源と
光学的に互いに異なる非共役な面内にそれぞれ配置され
ていることを特徴とする曲率測定装置。
（２）前記マスク手段にはさらに前記円形パターンと実
質的又は仮想的に交差する少なくとも１本の直線パター
ンを有することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の曲率測定装置。
（３）前記マスク手段のパターンは前記反射光を選択的
に透過する開口であることを特徴とする特許請求の範囲
第１項又は第２項記載の曲率測定装置。
（４）前記マスク手段は、２つのマスク手段から成り、
一方のマスク手段には前記円形パターンが、他方のマス
ク手段には前記直線パターンがそれぞれ形成されており
、かつ両パターンは前記非共役面内で仮想的に合成され
ることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の曲率測
定装置。
（５）前記マスク手段と前記検出手段の両方をそれぞれ
の前記非共役面に結像するリレー光学手段を有してなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第４項の
いずれかに記載の曲率測定装置。
（６）前記被検曲面と前記マスク手段との間に前記照明
光学系の光軸と垂直な反射面を有する反射部材を挿入可
能に有してなることを特徴とする特許請求の範囲第１項
ないし第５項のいずれかに記載の曲率測定装置。
（７）前記リレー光学手段の光軸と前記照明光学系の光
軸とを少なくとも一部共通に有したことを特徴とする特
許請求の範囲第５項または第６項記載の曲率測定装置。
（８）前記被検手段は多数の受光素子を平面状に配置し
た平面型ポジションセンサであることを特徴とする特許
請求の範囲第１項ないし第７項のいずれかに記載の曲率
測定装置。
（９）前記検出手段は多数の受光素子を直線状に配列し
て成り、前記非共役面内で回転するリニアポジションセ
ンサであることを特徴とする特許請求の範囲第１項ない
し第７項のいずれかに記載の曲率測定装置。
（１０）前記検出手段は少なくとも２本のリニアポジシ
ョンセンサであることを特徴とする特許請求の範囲第２
項ないし第７項のいずれかに記載の曲率測定装置。
（１１）前記リニアポジションセンサは前記非共役面内
で互いに交差することを特徴とする特許請求の範囲第１
０項記載の曲率測定装置。
（１２）前記リニアポジションセンサは前記非共役面内
で互いに平行に配置されることを特徴とする特許請求の
範囲第１０項記載の曲率測定装置。
（１３）前記検出手段は、少なくとも１本のリニアポジ
ションセンサと、前記反射光を装置光軸と垂直な面内で
移動させる光束移動手段とを有してなることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれかに記載
の曲率測定装置。
（１４）前記光束移動手段は光束回転手段であることを
特徴とする特許請求の範囲第１３項記載の曲率測定装置
。
（１５）前記光束移動手段は前記反射光束を平行移動さ
せる光束シフト手段であることを特徴とする特許請求の
範囲第１４項記載の曲率測定装置。