JPH02271515A - レーザ露光装置 - Google Patents

レーザ露光装置

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Publication number
JPH02271515A
JPH02271515A JP1092494A JP9249489A JPH02271515A JP H02271515 A JPH02271515 A JP H02271515A JP 1092494 A JP1092494 A JP 1092494A JP 9249489 A JP9249489 A JP 9249489A JP H02271515 A JPH02271515 A JP H02271515A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
exposure
wavelength
laser beam
section
Prior art date
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Pending
Application number
JP1092494A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomoko Kawamura
川村 智子
Naoto Nishida
直人 西田
Jun Sakuma
純 佐久間
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP1092494A priority Critical patent/JPH02271515A/ja
Publication of JPH02271515A publication Critical patent/JPH02271515A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008Production of exposure light, i.e. light sources
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/106Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は狭帯域化されたレーザ光によってワークに所
定のパターンを露光するためのレーザ露光装置に関する
(従来の技術) たとえば半導体の製造工程においては、非常に重要な工
程の1つとしてパターンの露光工程がある。近年、IC
の大容量化にともない、そのパターンも微細化しており
、これに対応して露光光源も解像力を改善するため短波
良化している。
しかしながら、300n曽以下の波長を必要とする場合
には、従来の高圧水銀ランプを光源として使用すること
は困難で、新たにKrFエキシマレーザ(波長248n
■)が用いられるようになってきた。波長248nsに
おいてはレンズの硝材として使用可能な材料は少なく、
露光レンズを色消しすることは困難である。
一方、エキシマレーザは通常の発振ではそのスペクトル
幅は0.4〜0.6n−であり、これを色消しされてい
ないレンズ(単色レンズ)に通した場合、色収差により
焦点ぼけが生じる。したがって、このような焦点ぼけを
防ぐためにレーザ光を狭帯域化して用いることが行われ
ている。
ところで、レーザ発振部に組込まれたレーザ光を狭帯域
化させるための回折格子やエタロンなどの光学部品から
なる波長選択手段は、使用にともなう温度上昇によって
屈折率などが変化し、それが原因で狭帯域化されたレー
ザ光の中心波長にずれ(ドリフト)が生じることが避け
られない。そこで、レーザ光の中心波長にずれが生じる
のを防止するために、レーザ光の波長を検出し、その検
出信号に応じて上記波長選択手段の角度を制御し、レー
ザ光の中心波長がずれるのを防止するようにしている。
ところで、従来のレーザ露光装置において、たとえばワ
ークであるウェハの交換時などに露光を一時中断する場
合には、レーザ発振部を停止してこのレーザ発振部から
のレーザ光が露光部に入射しないようにしていた。
しかしながら、レーザ発振を停止すると、それまでレー
ザ光によって加熱されていたレーザ光を狭帯域化させる
ための波長選択手段の温度が低下して屈折率なども露光
時と逆方向に変化する。そのため、ウェハの交換などが
終了して再度露光を開始したときには、上記波長選択手
段の角度が希望するレーザ光の中心波長を出力させるた
めの角度に対して大きくずれているから、上記波長選択
手段の角度を希望する波長が得られる角度とするまでに
多くの時間が掛かるばかりか、中心波長がずれたレーザ
光を出力させて露光し、不良品の発生を招くということ
もあった。
(発明が解決しようとする課題) このように、従来は露光を一時中断したのち再開すると
きに、レーザ光の波長選択手段の角度が希望するレーザ
中心波長を得るための角度に対して大きくずれているた
め、その調節に多くの時間が掛かるばかりか、中心波長
がずれたレーザ光で露光を行ない、不良品の発生を招く
などのことがあった。
この発明は上記事情にもとずきなされたもので、その目
的とするところは、露光を一時中断したのち再開すると
きに、波長選択手段の角度が希望する中心波長のレーザ
光を得るための角度に対してずれが生じることがないよ
うにしたレーザ露光装置を提供することにある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段及び作用)上記課題を解決
するためにこの発明は、波長選択手段を有するレーザ発
振部と、このレーザ発振部から所定波長に設定されて放
出されたレーザ光でワークに所定のパターンを露光する
露光部と、上記レーザ光の波長を゛検出して上記所定波
長が保たれるように上記波長選択手段を制御する制御手
段と、上記露光部に至る光路を遮蔽する遮蔽手段とを具
備し、上記制御手段はレーザ発振が継続されている状態
で上記遮蔽手段が光路を遮断中にも上記制御を続行する
このような構成とすることで、露光を中断したときにも
、レーザ発振部からレーザ光を発振させ続けて波長選択
手段を制御し、レーザ光の中心波長がずれるのを防止す
るようにした。
(実施例) 以下、この発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図に示すレーザ露光装置はレーザ発振部1を備えて
いる。このレーザ発振部1は励起部2を有する。この励
起部2には図示しないレーザ媒質と、このレーザ媒質の
励起手段とが設けられている。この励起部2の両端には
それぞれスリット13が形成された規制部材14が配置
されている。一方の規制部材14には出力鏡15が離間
対向して配置され、他方の規制部材14には複数のプリ
ズム16aからなる拡大光学系16を介して上記出力鏡
15とで共振器を構成する波長選択手段としての回折格
子、17が配置されている。
この回折格子17はベースプレート18に矢印で示すよ
うに一端側を支点として回動自在に取付けられている。
ベースプレート18の上記回折格子17の自由端側に対
向する部位には設定手段としてのモータ付のマイクロメ
ータ19が設けられ、このマイクロメータ19によって
上記回折格子17を矢示方向に回動させて傾き角度を調
節することができるようになっている。
上記出力鏡15から出力されたレーザ光りは第1の折返
しミラー21で反射してビームスブリッタ22に入射す
る。このビームスピツタッタ22で反射する約98%の
レーザ光りは露光部23に入射し、透過した約2%のレ
ーザ光りは第2の折返しミラー24で反射して検出手段
としてのスペクトルモニタ25で中心波長が検出される
ようになっている。このスペクトルモニタ25による検
出信号はオシロスコープ26を介してメインコントロー
ラ27に入力されるようになっている。このメインコン
トローラ27にはマイクロメータコントローラ29を介
して上記マイクロメータ19が接続されている。そして
、このマイクロメータ19は上記スペクトルモニタ25
の検出信号に応じて駆動制御され、それによってレーザ
発振部1から出力されるレーザ光りの中心波長が予め設
定された一定の値になるよう上記回折格子17の角度が
制御されるようになっている。
上記露光部23は、ここに入射したレーザ光りの進行方
向を変更する第3の折返しミラー31を有する。この第
3の折返しミラー31で進路変換されたレーザ光りはレ
チクル32を透過して露光レンズ33に入射したのち、
上記レチクル32に形成されたパターンをワークである
ウェハ34に露光するようになっている。
上記レーザ発振部1と露光部23との間、つまりビーム
スプリッタ22で反射したレーザ光りの光路には遮断手
段としての光学式あるいは機械式のシャッタ35が設け
られている。このシャッタ35はシャッタコントローラ
36を介して上記メインコントローラ27に接続されて
いる。そして、露光部23での露光を中断する場合に、
上記メインコントローラ27からの信号によって作動し
、レーザ発振部1から出力されたレーザ光りが上記露光
部23へ入射するのを阻止するようになってる。
このように構成されたレーザ露光装置において、レーザ
発振部1を作動させると、このレーザ発振部1から出力
されるレーザ光りは、その波長成分のうち、回折格子1
7の傾き角度に応じた所定の中心波長となって出力11
15から出力される。出力鏡15から出力されたレーザ
光りの大半は露光部23に入射してウェハ34にレチク
ル32に形成されたパターンを露光することになり、ビ
ームスピリツタ22を透過した残りのレーザ光りはスペ
クトルモニタ25によって波長が検出される。
このスペクトルモニタ25による検出信号はメインコン
トローラ27に人力され、ここに予め設定された露光に
適した波長と比較され、これらの間にずれがないかが検
出される。
上記レーザ発振部1から出力されるレーザ光りの中心波
長は、拡大光学系16のプリズム16aや回折格子17
などがレーザ光りの熱影響を受けて屈折率などの特性が
経時変化することによってずれる。このように、レーザ
発振部1から出力されるレーザ光りの中心波長が設定値
に対してずれ、そのことが上述したごとくスペクトルモ
ニタ25によって検出されると、その検出信号に応じた
駆動信号がメインコントローラ27からマイクロメータ
コントローラ29を介してマイクロメータ19に出力さ
れる。それによって、マイクロメータ19が作動し、回
折格子17の角度を調節するというフィードバックが繰
返されるから、拡大光学系16や回折格子17が熱影響
を受けることで光学的特性が変化しても、レーザ励起部
1から出力されるレーザ光りの中心波長がずれるのを防
止することができる。
ところで、露光部23による露光を一時的に中断する場
合は、まずそのことをメインコントローラ27に指令す
る。すると、このメインコントローラ27からシャッタ
コントローラ36を介してシャッタ35が駆動され°、
露光部23ヘレーザ光りが入射するのが阻止される。
しかしながら、レーザ励起部1の運転は停止させられる
ことなく、露光時よりも低い発振周波数で継続される。
それによって、露光中断時にも、ビームスプリッタ22
を透過したレーザ光りの中心波長がスペクトルモニタ2
5によって検出され、その検出信号にもとずいてレーザ
光りの中心波長が一定に制御され続ける。つまり、露光
停止時にもレーザ光りが発振され続けることによって、
拡大光学系16や回折格子17などの光学特性の変化に
応じて回折格子17の傾斜角度が制御される。
したがって、シャッタ35によるレーザ光りの遮断を解
除して露光を再開したときに、所定の中心波長のレーザ
光りを直ちに露光部23へ入射させることができるから
、露光作業を迅速に、しかも中心波長のずれたレーザ光
りによって不良品の発生を招くことなく行なえる。
[発明の効果] 以上述べたようにこの発明は、レーザ発振部と露光部と
の間に遮蔽手段を設け、上記露光部による露光を一時的
に中断するときにはレーザ発振部からのレーザ光の発振
を止めず、上記遮蔽手段によってレーザ光が露光部へ入
射するのを阻止するようにした。したがって、露光中断
時にもレーザ光の中心波長がずれないように制御される
ため、露光再開時に直ちに所定の中心波長のレーザ光を
露光部へ入射させることができるので、露光作業を迅速
に、しかも不良品の発生を招くことなく行なえる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示すレーザ露光装置の構
成図である。 1・・・レーザ発振部、17・・・回折格子(波長選択
手段)、19・・・マイクロメータ(制御手段)、23
・・・露光部、25・・・スペクトルモニタ(制御手段
)、27・・・メインコントローラ(制御手段)、35
・・・シャッタ(遮蔽手段)。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 波長選択手段を有するレーザ発振部と、このレーザ発振
    部から所定波長に設定されて放出されたレーザ光でワー
    クに所定のパターンを露光する露光部と、上記レーザ光
    の波長を検出して上記所定波長が保たれるように上記波
    長選択手段を制御する制御手段と、上記露光部に至る光
    路を遮蔽する遮蔽手段とを具備し、上記制御手段はレー
    ザ発振が継続されている状態で上記遮蔽手段が光路を遮
    断中にも上記制御を続行することを特徴とするレーザ露
    光装置。
JP1092494A 1989-04-12 1989-04-12 レーザ露光装置 Pending JPH02271515A (ja)

Priority Applications (1)

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JP1092494A JPH02271515A (ja) 1989-04-12 1989-04-12 レーザ露光装置

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JP1092494A JPH02271515A (ja) 1989-04-12 1989-04-12 レーザ露光装置

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JPH02271515A true JPH02271515A (ja) 1990-11-06

Family

ID=14055854

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1092494A Pending JPH02271515A (ja) 1989-04-12 1989-04-12 レーザ露光装置

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JP (1) JPH02271515A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05167163A (ja) * 1991-12-12 1993-07-02 Mitsubishi Electric Corp 狭帯域化レーザ装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05167163A (ja) * 1991-12-12 1993-07-02 Mitsubishi Electric Corp 狭帯域化レーザ装置

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