JPH0226613A - 排ガス浄化装置 - Google Patents
排ガス浄化装置Info
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- JPH0226613A JPH0226613A JP63177199A JP17719988A JPH0226613A JP H0226613 A JPH0226613 A JP H0226613A JP 63177199 A JP63177199 A JP 63177199A JP 17719988 A JP17719988 A JP 17719988A JP H0226613 A JPH0226613 A JP H0226613A
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は排ガス浄化装置に関し、さらに詳しくは医療器
材、化粧品、包装材料など衛生管理の分野における滅菌
装置から排出されるエチレンオキサイドガスの処理装置
に関する。
材、化粧品、包装材料など衛生管理の分野における滅菌
装置から排出されるエチレンオキサイドガスの処理装置
に関する。
エチレンオキ、サイド（以下ＥＯＧと略称する）はエタ
ノールアミン、アルキルエーテル等の有機合成原料或い
は界面活性剤の原料として広く使用されている。また、
ＥＯＧは酸化性を有し、この滅菌作用のため燻蒸消毒或
いは殺菌剤として医療器材、包装材料、書籍及び文化財
等の衛生管理の分野に使用されている。
ノールアミン、アルキルエーテル等の有機合成原料或い
は界面活性剤の原料として広く使用されている。また、
ＥＯＧは酸化性を有し、この滅菌作用のため燻蒸消毒或
いは殺菌剤として医療器材、包装材料、書籍及び文化財
等の衛生管理の分野に使用されている。
このＢＯＧは人体に対して毒性を有し、かつ可燃性の危
険物質である。このためＥＯＧは高圧ガス取締法及び労
働安全衛生法による規制を受るが、大気汚染防止上には
特に規制がなく、これまで未処理のまま大気に放出され
る例が多かった。
険物質である。このためＥＯＧは高圧ガス取締法及び労
働安全衛生法による規制を受るが、大気汚染防止上には
特に規制がなく、これまで未処理のまま大気に放出され
る例が多かった。
しかし近年焼却方式、湿式方式による処理装置が設置さ
れる傾向にある。すなわち湿式方式としてまず水吸収が
考えられるが、ＥＯＧの水に対する溶解度はそれ程大き
くなく（溶解度の指標であるヘンリ一定数ｍで表わすと
ｍ＝１３［： ｍｏｌ ｆｒ／ｍｏ１． ｆｒ 〕で塩
素ガスの値に略等しい）、水のみで吸収することは困難
であり、実用的ではない。
れる傾向にある。すなわち湿式方式としてまず水吸収が
考えられるが、ＥＯＧの水に対する溶解度はそれ程大き
くなく（溶解度の指標であるヘンリ一定数ｍで表わすと
ｍ＝１３［： ｍｏｌ ｆｒ／ｍｏ１． ｆｒ 〕で塩
素ガスの値に略等しい）、水のみで吸収することは困難
であり、実用的ではない。
またＥＯＧは硫酸を触媒に用いると容易に加水分解し下
記の反応式によりエチレングリコールを生成する。
記の反応式によりエチレングリコールを生成する。
Ｈ，８０゜
ＣｔＨ＊Ｏ＋ Ｈ２Ｏ−ｍ−→Ｃ２Ｈ４（ＯＨ）２この
方式によるエチレングリコールの工業的製造方法につい
ては多くの研究が報告されており、例えばＩＥＣ，ｖｏ
１５０、Ｎ１９１９５８ Ｐ、１２３６に記載されてい
る。上記加水分解反応は一次反応であ、す、ｐＨが小さ
い程（酸濃度が大きい程）、また温度が高い程反応速度
が太きい。
方式によるエチレングリコールの工業的製造方法につい
ては多くの研究が報告されており、例えばＩＥＣ，ｖｏ
１５０、Ｎ１９１９５８ Ｐ、１２３６に記載されてい
る。上記加水分解反応は一次反応であ、す、ｐＨが小さ
い程（酸濃度が大きい程）、また温度が高い程反応速度
が太きい。
この反応は本来エチレングリコールの製造に応用されて
いるが、ＥＯＧの除去にも秀れた効果を発揮する。すな
わち、水に物理溶解したＥＯＧはｌ［次エチレングリコ
ールに加水分解するため、水のみの吸収に比較して極め
て大きな吸収速度を示す。
いるが、ＥＯＧの除去にも秀れた効果を発揮する。すな
わち、水に物理溶解したＥＯＧはｌ［次エチレングリコ
ールに加水分解するため、水のみの吸収に比較して極め
て大きな吸収速度を示す。
この反応を用いた従来の吸収方式は、例えば特開昭５９
−２２２１５７に報告されている。
−２２２１５７に報告されている。
この方式は硫酸濃度０．３５〜１．５Ｎ、 見掛はガス
速度約０．０５〜０．２ｆｔ／５ｅＣ（約０．０２〜０
．０６ｒｒＶｓｅｃ ）の条件で殺菌装置から排出され
るＥＯＧの吸収を行い圧力調整弁と特定のガス分散器を
用い、このガス分散器の圧損を１〜１５ ｒｒｍＨｇに
調整することにより、９５％以上のＥＯＧ除去率を得る
ことを記載している。しかしながら、この従来方式はガ
ス拡散手段として１ミクロン程度の微多孔性のＥＯＧ噴
出手段を用い、この噴出口を酸水溶液を満たした容器内
の底部に配置している。
速度約０．０５〜０．２ｆｔ／５ｅＣ（約０．０２〜０
．０６ｒｒＶｓｅｃ ）の条件で殺菌装置から排出され
るＥＯＧの吸収を行い圧力調整弁と特定のガス分散器を
用い、このガス分散器の圧損を１〜１５ ｒｒｍＨｇに
調整することにより、９５％以上のＥＯＧ除去率を得る
ことを記載している。しかしながら、この従来方式はガ
ス拡散手段として１ミクロン程度の微多孔性のＥＯＧ噴
出手段を用い、この噴出口を酸水溶液を満たした容器内
の底部に配置している。
従ってこの方式ではガス拡散手段から容器内と共に、例
えば装置内が５ＱＴｏｒｒ近くに減圧されてくると真空
ポンプの効率が低下して、所定の圧力に達するためによ
り多くの時間を要するという問題を生じる。
えば装置内が５ＱＴｏｒｒ近くに減圧されてくると真空
ポンプの効率が低下して、所定の圧力に達するためによ
り多くの時間を要するという問題を生じる。
通常、滅菌装置は予め設定される短時間内でサイクル使
用されるので、減圧のための時間が余計にかかることは
好ましくない。
用されるので、減圧のための時間が余計にかかることは
好ましくない。
本発明はこの点に着目し、これを改良したものである。
すなわち本発明は浄化装置全体の圧損を小さくして所望
の単位時間内に排ガス処理を完了し得るｇＯＧの排ガス
浄化装置の提供を目的とする。
の単位時間内に排ガス処理を完了し得るｇＯＧの排ガス
浄化装置の提供を目的とする。
この目的を達成するため、本発明は気泡槽の上部に吸収
塔を設置し、気泡槽底部のガス分散器と、気泡槽上部空
間に開口する吸収塔ガス入口部を分配管で連通し、該分
配管には抵抗体を附設し、その下方に１ヶ或いは複数の
側管を設けて被処理ガスの入口とし、被処理ガスを直接
または真空ポンプを介して側管から該分配管に送入する
ようにしたものである。
塔を設置し、気泡槽底部のガス分散器と、気泡槽上部空
間に開口する吸収塔ガス入口部を分配管で連通し、該分
配管には抵抗体を附設し、その下方に１ヶ或いは複数の
側管を設けて被処理ガスの入口とし、被処理ガスを直接
または真空ポンプを介して側管から該分配管に送入する
ようにしたものである。
以下に本発明を第４図を用いて詳細に説明する。
本装置は基本的には吸収塔１、気泡槽２から成っている
。
。
先ず滅菌装置７より出る被処理ガスは運転当初約２ａｔ
ａの圧力を持ち自圧により排気される。
ａの圧力を持ち自圧により排気される。
パルプ９を閉じ、パルプ８を開くことにより被処理ガス
は配管ａを通り配管ｄ、ｅにそれぞれガスは流れる。こ
のガスの振分けはオリフィスの径と圧力により自動的に
行われる。
は配管ａを通り配管ｄ、ｅにそれぞれガスは流れる。こ
のガスの振分けはオリフィスの径と圧力により自動的に
行われる。
配管ｅを通ったガスはガス分散器３により気泡槽２内に
流入する。流入したガスは酸溶液１０により吸収されて
エチレングリコールとなる。
流入する。流入したガスは酸溶液１０により吸収されて
エチレングリコールとなる。
一方配管ｄを通ったガスは吸収塔へ流入する。
循環ポンプ６にて気泡槽中の吸収液が配管１１を通シ液
分散器１２により充填部に分散されてガス中のＥＯＧを
吸収する。
分散器１２により充填部に分散されてガス中のＥＯＧを
吸収する。
被処理ガスは充填部にてＢＯＧを吸収した後、デミスタ
−１３により酸ミストを除去したのち、煙突１４から大
気に放出される。
−１３により酸ミストを除去したのち、煙突１４から大
気に放出される。
滅菌装置内の圧力が低下してくると、バルブ８を閉じ、
パルプ９を開いて真空ポンプ５を作動させて配管Ｃにて
被処理ガスを流入させてｄ、ｅの配管にガスを振分ける
。
パルプ９を開いて真空ポンプ５を作動させて配管Ｃにて
被処理ガスを流入させてｄ、ｅの配管にガスを振分ける
。
排気が進行して第２図及び第３図に示すＰ点に達すると
背圧の関係で被処理ガスは気泡槽には流れにくくなり、
オリフィス４よシガスは吸収塔にすべての被処理ガスが
流入し、吸収塔のみでＥＯＧの吸収が行われる。
背圧の関係で被処理ガスは気泡槽には流れにくくなり、
オリフィス４よシガスは吸収塔にすべての被処理ガスが
流入し、吸収塔のみでＥＯＧの吸収が行われる。
本発明においては、吸収塔へ接続される配管途中には抵
抗体としてのオリフィスが挿入され、抵抗体（以下オリ
フィスと称す）から滅菌装置側では気泡槽へ接続された
配管内の圧力と同圧となり、−力吸収塔側では大気圧に
近づくことになる。
抗体としてのオリフィスが挿入され、抵抗体（以下オリ
フィスと称す）から滅菌装置側では気泡槽へ接続された
配管内の圧力と同圧となり、−力吸収塔側では大気圧に
近づくことになる。
このオリフィスは真空ポンプが作動し滅菌装置内が高真
空状態になったときに気泡槽の背圧がかかることにより
真空ポンプの排気時間が長くなることを防ぐため、オリ
フィスを通して被処理全ガス量の６〜１００係のガス量
を直接吸収塔に流すことにより真空ポンプの排気時間を
短くする。また気泡槽は酸溶液がＥＯＧを吸収してエチ
レングリコールを生成するための反応時間等を考慮し１
．単槽或いは複数槽で構成され、また気泡槽の液深は例
えば１ｍ程度に設計される。
空状態になったときに気泡槽の背圧がかかることにより
真空ポンプの排気時間が長くなることを防ぐため、オリ
フィスを通して被処理全ガス量の６〜１００係のガス量
を直接吸収塔に流すことにより真空ポンプの排気時間を
短くする。また気泡槽は酸溶液がＥＯＧを吸収してエチ
レングリコールを生成するための反応時間等を考慮し１
．単槽或いは複数槽で構成され、また気泡槽の液深は例
えば１ｍ程度に設計される。
これにより気泡槽内の溶液は、充填塔式吸収塔に吸収液
として循環され、最終的にエチレングリコール２０ｗｔ
％程度の吸収液濃度となる。
として循環され、最終的にエチレングリコール２０ｗｔ
％程度の吸収液濃度となる。
また吸収塔に用いる充填物は好ましくはプラスチック製
充填物（商品名テラレットＳ■型など）とし、そのガス
基準の総括移動単位高さ（ＨＯＧ ）は処理ガス量、オ
リフィスの径等により異なるが、通常０．２ｍ程度とし
ている。
充填物（商品名テラレットＳ■型など）とし、そのガス
基準の総括移動単位高さ（ＨＯＧ ）は処理ガス量、オ
リフィスの径等により異なるが、通常０．２ｍ程度とし
ている。
また、気泡槽中のガス分散器として合成樹脂製の散気管
を使用し、穴径は数百ミクロン程度とする。
を使用し、穴径は数百ミクロン程度とする。
本発明はオリフィスが設けられていることにより吸収塔
には常時被処理ガスが流れ、気泡槽にてのＥＯＧ吸収効
率としては全ＥＯＧの９４係以下であるが、気泡槽及び
吸収塔の組み合せにより装置全体としての吸収効率は９
９チを下回ることはない。
には常時被処理ガスが流れ、気泡槽にてのＥＯＧ吸収効
率としては全ＥＯＧの９４係以下であるが、気泡槽及び
吸収塔の組み合せにより装置全体としての吸収効率は９
９チを下回ることはない。
本発明では気泡槽の抵抗がガス量に無関係に大きいのに
比べ抵抗体の抵抗がガス量の低下と共に小さくなるとい
う性質を利用して高真空における真空ポンプの性能低下
を解決した。
比べ抵抗体の抵抗がガス量の低下と共に小さくなるとい
う性質を利用して高真空における真空ポンプの性能低下
を解決した。
第４図を用いた実施例を説明する。
条件
滅菌装置容量
滅菌装置使用ガス組成
５．５−
ＥＯＧ ２０％
ＣＯ２８０チ
ａｔａ
５ Ｑ Ｔｏｒｒ
１．６→而ｉｎ
００ｍ
５ｗｔチ水溶液
滅菌装置圧力
滅菌装置最高真空圧力
真空ポンプ排出量
気泡槽液深
酸溶液
吸収塔充填物 テラレットｓ■型吸収塔充填
高さ １５００ｍ オリスイス穴径 ９■φ 先ず開放弁８．９を閉じた状態で容量５．５−の滅菌装
置にＥ、ＯＣｘ ２０ ％、Ｃ０，８０％の混合ガスを
圧力２ ａｔａになるように注入し所定時間滅菌処理を
行った後、滅菌工程を終了させる。
高さ １５００ｍ オリスイス穴径 ９■φ 先ず開放弁８．９を閉じた状態で容量５．５−の滅菌装
置にＥ、ＯＣｘ ２０ ％、Ｃ０，８０％の混合ガスを
圧力２ ａｔａになるように注入し所定時間滅菌処理を
行った後、滅菌工程を終了させる。
次いで開、放弁８を開くと装置７内のガスは配管ａを通
って自圧で排出する。この場合開放弁８を開放した直後
の風量は５２ Ｎｒｒ？／Ｈ（１ａｔａ、２５℃）であ
り、約６．５分後に圧力１．２ ａｔａ、風量１９ Ｎ
？Ｆ／／Ｈとなり、同時に真空ポンプ５を作動し風量は
８９ Ｎｒｒ？／Ｈまで上昇する。
って自圧で排出する。この場合開放弁８を開放した直後
の風量は５２ Ｎｒｒ？／Ｈ（１ａｔａ、２５℃）であ
り、約６．５分後に圧力１．２ ａｔａ、風量１９ Ｎ
？Ｆ／／Ｈとなり、同時に真空ポンプ５を作動し風量は
８９ Ｎｒｒ？／Ｈまで上昇する。
この間ガスは気泡槽２に入ると共にオリフィス４を通し
て一定量のガスがバイパスされ吸収塔１に送入される。
て一定量のガスがバイパスされ吸収塔１に送入される。
ここで配管ｅの圧力は気泡槽２の液深で決定されＰ点ま
で一定して圧力は＋ ７００ ｍＨｌ Ｏである。オリ
フィス４の穴径は９閣φであり圧力＋７００■Ｈ，０で
風量は決定され、全ガス量に無関係にＰ点まで１０ Ｎ
ｎ／／ｆ’３ と一定量がバイパスされる。Ｐ点は排
気開始後１５．３分の時点であシ、この時排出される全
ガス量はバイパス量（１０Ｎｎ？／Ｈ）に等しくなり気
泡槽２への風量はゼロとなる。Ｐ点以降背圧は＋７００
ｍＨｔＯ以下となり、１８．１分後に装置内圧力５０Ｔ
ｏｒｒ、背圧＋１４０ ｍ Ｈ，０となり排気工程を終
了する。
で一定して圧力は＋ ７００ ｍＨｌ Ｏである。オリ
フィス４の穴径は９閣φであり圧力＋７００■Ｈ，０で
風量は決定され、全ガス量に無関係にＰ点まで１０ Ｎ
ｎ／／ｆ’３ と一定量がバイパスされる。Ｐ点は排
気開始後１５．３分の時点であシ、この時排出される全
ガス量はバイパス量（１０Ｎｎ？／Ｈ）に等しくなり気
泡槽２への風量はゼロとなる。Ｐ点以降背圧は＋７００
ｍＨｔＯ以下となり、１８．１分後に装置内圧力５０Ｔ
ｏｒｒ、背圧＋１４０ ｍ Ｈ，０となり排気工程を終
了する。
出口ｇｏａ濃度は２５０〜５００１）ｐｍであり、吸収
効率は９９．９〜９９．８％であった。このうち気泡槽
での吸収効率はオリフィスから一定量吸収塔へガスが流
入する関係上（６〜１ｏｏ ％ ）全被処理ガスの吸収
効率からすると９４〜０％となった。
効率は９９．９〜９９．８％であった。このうち気泡槽
での吸収効率はオリフィスから一定量吸収塔へガスが流
入する関係上（６〜１ｏｏ ％ ）全被処理ガスの吸収
効率からすると９４〜０％となった。
本発明による排ガス浄化装置を滅菌装置に取り付けて運
転したところ、取シ付けてないときの排気時間１７．６
分に比べ僅かに０．５分だけ長い１８．１分にて排気工
程を終了した。この位の差だと実質的に支障はない。
転したところ、取シ付けてないときの排気時間１７．６
分に比べ僅かに０．５分だけ長い１８．１分にて排気工
程を終了した。この位の差だと実質的に支障はない。
またＢＯＧｏ排気濃度は２５０〜５００ｐｐｍであり、
吸収効率は９９．９〜９９．８％であった。
吸収効率は９９．９〜９９．８％であった。
第１図は排気時間と装置内圧力の関係、第２図は排気時
間とガス量の関係、第３図は排気時間と吸収塔入口オリ
フィスにおける排圧の関係を示すグラフであシ、第４図
は本発明の排ガス浄化装置のフローシートである。 １・・・吸収塔 ２・・・気泡槽３・・・ガス
分散器 ４・・・抵抗体５・・・真空ポンプ
６・・・循環ポンプ７・・・滅菌装置 ８，９・
・・開放弁１０・・・酸溶液 １１・・・吸収
液配管１２・・・液分散器 １３・・・デミスタ
−１４・・・煙 突 １５・・・吸収塔ガス
入口部ａ−ｆ・・・配 管 特許出願人 日鉄化工機株式会社 日本ガス殺菌工業株式会社
間とガス量の関係、第３図は排気時間と吸収塔入口オリ
フィスにおける排圧の関係を示すグラフであシ、第４図
は本発明の排ガス浄化装置のフローシートである。 １・・・吸収塔 ２・・・気泡槽３・・・ガス
分散器 ４・・・抵抗体５・・・真空ポンプ
６・・・循環ポンプ７・・・滅菌装置 ８，９・
・・開放弁１０・・・酸溶液 １１・・・吸収
液配管１２・・・液分散器 １３・・・デミスタ
−１４・・・煙 突 １５・・・吸収塔ガス
入口部ａ−ｆ・・・配 管 特許出願人 日鉄化工機株式会社 日本ガス殺菌工業株式会社
Claims (1)
- （１）吸収剤としての酸水溶液を保持する気泡槽と、そ
の上部に設置された吸収塔からなり、該気泡槽の底部に
設けたガス分散器と該気泡槽の上部空間に開口する吸収
塔ガス入口部とを分配管で連通し、該分配管には抵抗体
を附設し、その下方に１ケもしくは複数の側管を設けて
被処理ガスの入口となし、被処理ガスを直接または真空
ポンプを介して側管から該分配管に送入するようにし、
該抵抗体の圧力損失は抵抗体を通って直接吸収塔部に流
入するガス量が、ガスの流量に応じて吸収装置全体に流
入するガス量（該分配管を上下に流れる全ガス量）の６
〜１００％となるように設定されている排ガス浄化装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63177199A JPH0761409B2 (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 排ガス浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63177199A JPH0761409B2 (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 排ガス浄化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0226613A true JPH0226613A (ja) | 1990-01-29 |
| JPH0761409B2 JPH0761409B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=16026912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63177199A Expired - Lifetime JPH0761409B2 (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 排ガス浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0761409B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000010692A1 (de) * | 1998-08-24 | 2000-03-02 | Environ Ingenieurgesellschaft Für Innovative Umwelttechnische Verfahren Mbh | Verfahren und vorrichtung zum entsorgen von ethylenoxid-gas |
| KR20030015805A (ko) * | 2001-08-17 | 2003-02-25 | (주)대덕바이오 | 고농도 악취가스의 제거 및 재이용을 위한 다단식악취제거장치 |
| CN103463903A (zh) * | 2013-09-25 | 2013-12-25 | 瓮福（集团）有限责任公司 | 磷石膏制硫铵副产石灰尾气净化的方法 |
-
1988
- 1988-07-18 JP JP63177199A patent/JPH0761409B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000010692A1 (de) * | 1998-08-24 | 2000-03-02 | Environ Ingenieurgesellschaft Für Innovative Umwelttechnische Verfahren Mbh | Verfahren und vorrichtung zum entsorgen von ethylenoxid-gas |
| KR20030015805A (ko) * | 2001-08-17 | 2003-02-25 | (주)대덕바이오 | 고농도 악취가스의 제거 및 재이용을 위한 다단식악취제거장치 |
| CN103463903A (zh) * | 2013-09-25 | 2013-12-25 | 瓮福（集团）有限责任公司 | 磷石膏制硫铵副产石灰尾气净化的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0761409B2 (ja) | 1995-07-05 |
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