JPH022623A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH022623A JPH022623A JP14810288A JP14810288A JPH022623A JP H022623 A JPH022623 A JP H022623A JP 14810288 A JP14810288 A JP 14810288A JP 14810288 A JP14810288 A JP 14810288A JP H022623 A JPH022623 A JP H022623A
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- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置に関し、特に、半導体装置の配線
間におけるSN比(Signal−to−Noise
ratio)の向上に適用して有効な技術に関するもの
である。
間におけるSN比(Signal−to−Noise
ratio)の向上に適用して有効な技術に関するもの
である。
半導体装置においては、集積度の向上とともに集積回路
の高速動作が要求されている。
の高速動作が要求されている。
集積回路の高速化については、例えば、株式会社日経マ
グロウヒル社、昭和63年2月1日発行「日経マイクロ
デバイス」2月号、P52〜84に記載があり、CMO
Sディジタル回路にバイポーラトランジスタを組み込ん
だ高速、かつ高集積なアナログとディジタルの混在化し
た集積回路について説明がなされている。
グロウヒル社、昭和63年2月1日発行「日経マイクロ
デバイス」2月号、P52〜84に記載があり、CMO
Sディジタル回路にバイポーラトランジスタを組み込ん
だ高速、かつ高集積なアナログとディジタルの混在化し
た集積回路について説明がなされている。
ところが、本発明者は、高速、かつ高集積なアナログ−
ディジタルの混在化した集積回路を備えた半導体装置に
おいて、以下のような問題があることを見出した。
ディジタルの混在化した集積回路を備えた半導体装置に
おいて、以下のような問題があることを見出した。
すなわち、集積度の向上に伴い、集積回路を構成する配
線も高密度化、多層化するため、配線間に誘導現象によ
って生じる浮遊容量や、相互インダクタンスが大きくな
ってしまい、これらを介して配線相互間に誘導ノイズが
生じ易くなってしまう問題である。
線も高密度化、多層化するため、配線間に誘導現象によ
って生じる浮遊容量や、相互インダクタンスが大きくな
ってしまい、これらを介して配線相互間に誘導ノイズが
生じ易くなってしまう問題である。
浮遊容lや相互インダクタンスは、互いに絶縁された配
線相互間を結合するが、特に、これらによる配線間の結
合では、高周波の方が誘導を起こ(5やすいため、誘導
側の回路が高速で信号の立ち上がりが速いほど、誘導ノ
イズが大きくなってしまう。
線相互間を結合するが、特に、これらによる配線間の結
合では、高周波の方が誘導を起こ(5やすいため、誘導
側の回路が高速で信号の立ち上がりが速いほど、誘導ノ
イズが大きくなってしまう。
例えば、アナログ−ディジタルの混在化した集積回路に
ふいては、高速スイッチングを行うディジタル回路から
アナログ回路へのノイズの影響が顕著となってしまう。
ふいては、高速スイッチングを行うディジタル回路から
アナログ回路へのノイズの影響が顕著となってしまう。
また、誘導ノイズは、被誘導側の配線のインピーダンス
が高いほど大きくなることが知られている。
が高いほど大きくなることが知られている。
例えば、スイッチトキャバンタ回路の演算増幅器におけ
る反転入力端子に接続された信号配線のように、インピ
ーダンスが高い信号配線では、周囲の他の配線で生じた
微小な電圧変動(あるいは電流変動)に敏感に反応して
ノイズが生じ易く、このため、SN比が低下し、後段に
接続された回路を誤動作させてしまう。
る反転入力端子に接続された信号配線のように、インピ
ーダンスが高い信号配線では、周囲の他の配線で生じた
微小な電圧変動(あるいは電流変動)に敏感に反応して
ノイズが生じ易く、このため、SN比が低下し、後段に
接続された回路を誤動作させてしまう。
本発明は上記問題点に1着目してなされたものであり、
その目的は、半導体装置において、配線相互間に誘起さ
れるノイズを低減し、SN比を向上させる技術を提供す
ることにある。
その目的は、半導体装置において、配線相互間に誘起さ
れるノイズを低減し、SN比を向上させる技術を提供す
ることにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、明
細書の記載および添付図面から明らかになるであろう。
細書の記載および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、半導体基板に形成された集積回路を構成する
第1の配線を、基準電位に接・続された複数の第2の配
線で取り囲むことを特徴とする半導体装置構造とするも
のである。
第1の配線を、基準電位に接・続された複数の第2の配
線で取り囲むことを特徴とする半導体装置構造とするも
のである。
上記した手段によれば、第1の配線とその周囲に形成さ
れた複数の他の配線との間に、基準電位に接続された第
2の配線が配置されるため、第1の配線とその周囲に形
成されている他の配線との誘導現象による結合が大幅に
低減される。
れた複数の他の配線との間に、基準電位に接続された第
2の配線が配置されるため、第1の配線とその周囲に形
成されている他の配線との誘導現象による結合が大幅に
低減される。
これは、第1の配線と第2の配線との間、第2の配線と
他の配線との間が、それぞれ誘導現象によって結合する
ため、例えば、他の配線で生じたノイズが、第2の配線
を介して基準電位へ流れてしまうからである。
他の配線との間が、それぞれ誘導現象によって結合する
ため、例えば、他の配線で生じたノイズが、第2の配線
を介して基準電位へ流れてしまうからである。
第1図は本発明の一実施例である半導体装置の概略部分
断面図、第2図はこの半導体装置の概略部分回路図であ
る。
断面図、第2図はこの半導体装置の概略部分回路図であ
る。
第2図に示すように、本実施例における半導体装Iは、
ディジタル的なスイッチング制御でコンデンサC7の電
荷の充放電を高速に行い、かつ、コンデンサ02間の電
荷を演算増幅器へを介して高速に移動させるスイッチト
キャパシタ(以下、SCという)回路1を有している。
ディジタル的なスイッチング制御でコンデンサC7の電
荷の充放電を高速に行い、かつ、コンデンサ02間の電
荷を演算増幅器へを介して高速に移動させるスイッチト
キャパシタ(以下、SCという)回路1を有している。
演算増幅器Aの非反転入力端子に接続された信号配線2
と、コンデンサC2の一端とは、それぞれ、SC回路1
における回路系の基準となる低インピーダンスで安定な
電位(基準電位)Va に接続されている。
と、コンデンサC2の一端とは、それぞれ、SC回路1
における回路系の基準となる低インピーダンスで安定な
電位(基準電位)Va に接続されている。
また、■いはSC回路1の入力端子、V o u I
はSC回路1の出力端子である。
はSC回路1の出力端子である。
本実施例においては、第2図の破線で示す領域に本発明
の技術を適用した場合について説明する。
の技術を適用した場合について説明する。
第1図は、第2図の破線で示す領域におけるシリコン単
結晶からなる基板4の断面図を示し、その表面に形成さ
れた配線層5の内、第二配線層5aにアルミニウム(A
f)等からなる信号配線3がパターン形成されている。
結晶からなる基板4の断面図を示し、その表面に形成さ
れた配線層5の内、第二配線層5aにアルミニウム(A
f)等からなる信号配線3がパターン形成されている。
第二配線層5aにおける信号配線3の両側には、それと
平行してアルミニウム(Af)等からなるシールド用の
配線(第2の配線)6a、6bが、絶縁膜7aによって
信号配線3と絶縁されてパターン形成されている。
平行してアルミニウム(Af)等からなるシールド用の
配線(第2の配線)6a、6bが、絶縁膜7aによって
信号配線3と絶縁されてパターン形成されている。
なお、第二配線層5aには、所定の回路を構成する他の
配線3a、3bもパターン形成されている。
配線3a、3bもパターン形成されている。
第二配線層5aの下方および上方にそれぞれ絶縁膜7b
、7aで絶縁されて形成されている第一配線層5b、第
三配線層5Cには、アルミニウム(、’lり等からなる
シールド用の配線(第2の配線)6C,6dが、上記信
号配線3に沿ってそれぞれパターン形成されている。
、7aで絶縁されて形成されている第一配線層5b、第
三配線層5Cには、アルミニウム(、’lり等からなる
シールド用の配線(第2の配線)6C,6dが、上記信
号配線3に沿ってそれぞれパターン形成されている。
なお、第一配線層5b、第三配線層5Cには、所定の回
路を構成する他の配線9.10が、それぞれパターン形
成されている。
路を構成する他の配線9.10が、それぞれパターン形
成されている。
また、第二配線層5aを被覆する絶縁膜7aの上面には
、表面保護用の絶縁膜7Cが形成されている。
、表面保護用の絶縁膜7Cが形成されている。
上記したシールド用の配線6a〜6dは、いずれもスル
ーホール(図示せず)を介して回路系の基準となる低イ
ンピーダンスで安定な電位、基準電位VB に電気的に
接続されている。
ーホール(図示せず)を介して回路系の基準となる低イ
ンピーダンスで安定な電位、基準電位VB に電気的に
接続されている。
このように本実施例の半導体装置によれば、信号配線3
と配線8a、8b、9.10との間に、シールド用の配
線6a〜6dが配置されるため、信号配線3と配線8a
、8b、9.10との配線間の浮遊容量(あるいは相互
インダクタンス)による結合が大幅に低減される。
と配線8a、8b、9.10との間に、シールド用の配
線6a〜6dが配置されるため、信号配線3と配線8a
、8b、9.10との配線間の浮遊容量(あるいは相互
インダクタンス)による結合が大幅に低減される。
例えば、配線IOで電圧変動(電磁誘導の場合は、電流
変動)が生じても、配線10とシールド用の配線5b、
5dとの間に形成された浮遊容量(図示せず)を経由し
て誘導ノイズは基準電位Vに流れるため、配線10から
信号配線3へのノイズは防止される。
変動)が生じても、配線10とシールド用の配線5b、
5dとの間に形成された浮遊容量(図示せず)を経由し
て誘導ノイズは基準電位Vに流れるため、配線10から
信号配線3へのノイズは防止される。
したがって、SC回回路のインピーダンスの高い信号配
線3においても他の配線8a、8b、910からのノイ
ズを受けにくくなるため、SC回路IのSN比が大幅に
向上する。
線3においても他の配線8a、8b、910からのノイ
ズを受けにくくなるため、SC回路IのSN比が大幅に
向上する。
また、浮遊容量(あるいは、相互インダクタンス)を介
して伝わりやすい高周波のノイズを低減することが可能
となる。
して伝わりやすい高周波のノイズを低減することが可能
となる。
そして、SC回回路のSN比の低下により、SC回路1
の後段に接続される回路が誤動作してしまうことが防止
されるため、信頼性の高い半導体装置が得られる。
の後段に接続される回路が誤動作してしまうことが防止
されるため、信頼性の高い半導体装置が得られる。
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。
具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。
例えば、回路系に応じて、基準電位をGND (グラン
ド)にとってもよい。
ド)にとってもよい。
また、実施例では、SC回路の演算増幅器における反転
入力端子に接続された信号配線の周囲にシールド用の配
線を形成した場合について説明したが、これに限定され
るものではなく、例えば、誘導ノイズを受は易い配線や
、大きなノイズ源となる配線部分をシールドしてもよい
。
入力端子に接続された信号配線の周囲にシールド用の配
線を形成した場合について説明したが、これに限定され
るものではなく、例えば、誘導ノイズを受は易い配線や
、大きなノイズ源となる配線部分をシールドしてもよい
。
また、実施例では、信号配線の周囲をシールド用の配線
で取り囲んでいるが、信号配線の両側と上方、信号配線
の両側と下方、あるいは、信号配線の両側のみ等、シー
ルドする配線の状況に応じてシールド用の配線を形成す
る位置を変えてもよい。
で取り囲んでいるが、信号配線の両側と上方、信号配線
の両側と下方、あるいは、信号配線の両側のみ等、シー
ルドする配線の状況に応じてシールド用の配線を形成す
る位置を変えてもよい。
また、実施例では、シールド用の配線を構成する材料と
してアルミニウム(AJ)を使用しているが、これに限
定されるものではなく、例えばポリシリコン、銅(Cu
)等のインピーダンスの低い材料でもよい。
してアルミニウム(AJ)を使用しているが、これに限
定されるものではなく、例えばポリシリコン、銅(Cu
)等のインピーダンスの低い材料でもよい。
また、シールドする配線に応じて、電磁誘導を取り除く
ための電磁ソール材料、静電誘導を取り除くための静電
シール材料、あるいは、その両方の性質を備えた材料で
シールド用の配線を構成してもよい。
ための電磁ソール材料、静電誘導を取り除くための静電
シール材料、あるいは、その両方の性質を備えた材料で
シールド用の配線を構成してもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるスイッチトキャバシ
タ回路に適用した場合について説明したが、これに限定
されるものではなく、例えば、インピーダンスの高い配
線、微小信号を扱う配線、または信号源を有する半導体
装置、あるいは、高速動作を行う集積回路を有する半導
体装置、などの他の半導体装置に適用することもできる
。
をその背景となった利用分野であるスイッチトキャバシ
タ回路に適用した場合について説明したが、これに限定
されるものではなく、例えば、インピーダンスの高い配
線、微小信号を扱う配線、または信号源を有する半導体
装置、あるいは、高速動作を行う集積回路を有する半導
体装置、などの他の半導体装置に適用することもできる
。
また、通信系では、信号を伝達する場合の信号の良否は
、信号の大きさよりもSN比に大きく左右されるため、
本発明の技術を通信系で利用することは特に有効である
。
、信号の大きさよりもSN比に大きく左右されるため、
本発明の技術を通信系で利用することは特に有効である
。
さらに、アナログ回路とディジタル回路とが混在化した
集積回路では、回路動作が高速なディジタル回路からア
ナログ回路へ伝わる高周波なノイズを低減することが重
要となるため、本発明の技術をアナロクーディジタルの
混在化した回路に利用することは有効となる。
集積回路では、回路動作が高速なディジタル回路からア
ナログ回路へ伝わる高周波なノイズを低減することが重
要となるため、本発明の技術をアナロクーディジタルの
混在化した回路に利用することは有効となる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
すなわち、半導体基板に形成された集積回路を構成する
第1の配線を、基準電位に接続された複数の第2の配線
で取り囲むようにしたことにより、第1の配線とその周
囲に形成された他の配線との誘導現象による結合が大幅
に低減されるため、他の配線から第1の配線への誘導ノ
イズが低減され、SN比が大幅に向上する。
第1の配線を、基準電位に接続された複数の第2の配線
で取り囲むようにしたことにより、第1の配線とその周
囲に形成された他の配線との誘導現象による結合が大幅
に低減されるため、他の配線から第1の配線への誘導ノ
イズが低減され、SN比が大幅に向上する。
第1図は本発明の一実施例である半導体装置のw、!3
部部分面図、 第2図はこの半導体装置の概略部分回路図である。 1・・・スイッチトキャパシタ回路、2・・・信号配線
、3・・・信号配線(第1の配線)、4・・・基板、5
・・・配線層、5a・・・第二配線層、5b・・・第一
配線層、5c・・・第三配線層、6a〜6d・・・配線
(第2の配線)、7a〜7c・・・絶縁膜、8a、8b
・・・配線、9・・・配線、lO・・・配線、A・・・
演算増幅器、C+ 、 (,2・・・コンデンサ、VB
・・基準電位、Vl、、・・・入力端子、V o
u t ・・・出力端子。
部部分面図、 第2図はこの半導体装置の概略部分回路図である。 1・・・スイッチトキャパシタ回路、2・・・信号配線
、3・・・信号配線(第1の配線)、4・・・基板、5
・・・配線層、5a・・・第二配線層、5b・・・第一
配線層、5c・・・第三配線層、6a〜6d・・・配線
(第2の配線)、7a〜7c・・・絶縁膜、8a、8b
・・・配線、9・・・配線、lO・・・配線、A・・・
演算増幅器、C+ 、 (,2・・・コンデンサ、VB
・・基準電位、Vl、、・・・入力端子、V o
u t ・・・出力端子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、半導体基板に形成された集積回路を構成する第1の
配線を、基準電位に接続された複数の第2の配線で取り
囲むことを特徴とする半導体装置。 2、半導体基板に形成された前記集積回路が、アナログ
回路とディジタル回路とが混在化された集積回路である
ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14810288A JPH022623A (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14810288A JPH022623A (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH022623A true JPH022623A (ja) | 1990-01-08 |
Family
ID=15445289
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14810288A Pending JPH022623A (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH022623A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02105532A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-18 | Nec Corp | 半導体集積回路装置 |
-
1988
- 1988-06-17 JP JP14810288A patent/JPH022623A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02105532A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-18 | Nec Corp | 半導体集積回路装置 |
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