JPH02256459A - 磁気ディスクの表面研磨方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、剛性を有する円盤状の基板の表面に磁性層が
形成された可撓性を存する磁気シートが張設されてなる
磁気ディスクの表面研磨方法に関するものである。

〔発明の概要〕

本発明は、磁性層が形成された可撓性を存する磁気シー
トが円盤状の剛性基板の凹部を覆って張設されてなる磁
気ディスクに対し、上記磁気シートと略平行に配設され
る２以上の仮バネによって支持された研削体を接触させ
、前記剛性基板を回転させ磁気シート表面を前記研削体
で研磨することにより、磁気シート表面の平滑化を可能
となし、再生出力特性の向上及びドロップアウトの低減
を図ろうとするものである。

〔従来の技術〕

例えば、コンピュータ等の記憶媒体として広く用いられ
ているハードディスクやフロッピーディスクあるいは、
ビデオテープレコーダ等に使用されている磁気テープ等
では、通常その表面を平滑化するいわゆるバニッシング
加工が施されている。

これは、上記ハードディスクやフロッピーディスクある
いは磁気テープ等の表面に突起物等が存在すると走行性
が劣化し、スペーシングの増大を招き、ひいては再生出
力特性が低下するからである。さらには、上記突起物等
によって磁気ヘッドにも傷が付く虞れがあるからである
。

上記ハードディスク、フロッピーディスクあるいは磁気
テープ等をバニッシング加工するには、例えば基体上に
砥粒が固着されたラッピングテープ等をその表面に所定
圧力を加えて押し付け、該媒体を回転あるいは走行させ
ることにより表面上の突起物等を研磨するようにしてい
る。

ところで、円盤状の剛性基板の表面に形成された円環状
の凹部を覆って磁性層が形成された可撓性を有する磁気
シートが張設されてなる磁気ディスクにあっては、従来
、このようなバニッシング加工が施されていない、この
磁気ディスクにあっても、やはり他の磁気記録媒体と同
様、その磁気シート表面に突起物等が存在すると再生出
力特性の低下や磁気ヘッドへの傷つきの問題が生ずる。

したがって、なんらからの方法により磁気シート表面を
バニッシング加工して平滑化する必要がある。

その手法として、前記ハードディスクやフロッピーディ
スク等で使用したラッピングテープを用でバニッシング
加工することも考えられるが、この磁気ディスクはフレ
キシブル磁気シートが張設されてなるのもであるから当
該磁気シートが撓みを生ずるために、突起物がラッピン
グテープから逃げてしまう虞れがあり適当でない。

〔発明が解決しようとする課Ｂ］ そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑みて提案された
ものであって、磁気シート表面の平滑化を可能となし、
再生出力特性の向上およびドロップアウトの低減が図れ
、しかも磁気ヘッドへの傷つきが防止できる新規な磁気
ディスクの表面研磨方法を提供しようとするものである
。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の磁気ディスクの表面研磨方法は、上記の目的を
達成するために、磁性層が形成された可撓性を有する磁
気シートが円盤状の剛性基板の少なくとも一方の面に形
成された円環状の凹部を覆って張設されてなる磁気ディ
スクに対し、上記磁気シートと略平行に配設される少な
くとも２以上の仮バネによって支持された研削体を接触
させ、前記剛性基板を回転させ磁気シート表面を前記研
削体で研磨することを特徴とするものである。

なお、研磨される磁気シートには、少なくとも磁性層が
形成されるが、さらに必要に応じて保護膜層、潤滑剤層
等が形成されていてもよい、また、研削体で研磨する際
には磁性層表面を直接研磨するようにしてもよいし、前
記保護膜層、潤滑剤層等の表面を研磨するようにしても
よい、すなわち、前者の場合には磁気シート表面は磁性
層表面ということになり、後者の場合には磁気シート表
面は保護膜層、潤滑剤層の表面ということになる。いず
れにしても、必要な層を全て形成した最終的な段階で磁
気シート表面を研磨するのが有効である。

〔作用〕

本発明の方法によれば、研削体が磁気シートと略平行に
配設される２以上の仮バネによって支持されているので
、上記磁気シートが撓んだ場合であっても当該研削体は
これら板バネによって上記撓みに対し追従することが可
能となり、フレキシブル磁気シートが張設された磁気デ
ィスクであってもバニッシング加工が行える。

また、上記研削体は磁気ディスクへの突き出し方向以外
は高い剛性を有するので、磁気シート表面に存在する突
起物等から受ける力によるのみでは、当該研削体は磁気
シートから逃げる虞れはなくなる。したがって、常に上
記研削体が磁気シートに接触することになるので、当該
磁気シート表面は均一に平滑化される。

〔実施例〕

以下、本発明を適用した具体的な実施例を説明するが、
本実施例の磁気ディスクの表面研磨方法の説明に先立ち
本実施例で使用した磁気ディスクおよび研磨装置につい
て説明する。

先ず、上記磁気ディスクは、第２図に示すように、剛性
を有する円盤状の剛性基板（１）の両面に磁気シー）　
（２）　、　（２）を一定の張力を加え接着剤により接
着することにより構成されるものである。

上記剛性基板（１）は、図示しない磁気記録再生装置の
スピンドル軸に装着するためのセンターコア部（３）と
磁気シート（２）　、　（２）を保持するための支持部
（４）とからなり、この支持部（４）の両面最外周縁と
最内周部に沿って、それぞれ円環状の環状凸部（５）　
、　（６）　、　（７）　、　（８）が設けられている
。逆にいえば、上記支持部（４）には、両面に幅広で浅
い溝の円環状の凹部（９）　、　（１０）がそれぞれ形
成されている。上記凹部（９）　、　（１０）は、磁気
記録再生装置の磁気ヘッドのヘッド当たりを緩和する逃
げ溝として形成されているものであり、その形状は特に
限定されるものではない。

上記剛性基板（１）の材料としては、熱膨張係数の低い
材料が好適で、この種の磁気ディスクに使用されるもの
ならばいずれも使用可能である０例示するならば、熱可
塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂および無機質充填材
を主体とする樹脂等が挙げられる。また、−１１９のハ
ードディスクの基板材料として用いられている金属材料
に近い熱膨張係数を有するボリアリレート樹脂や機械的
特性。

耐熱性、加工性等に優れたポリエーテルイミド樹脂等も
使用可能である。

また、上記支持部（４）の最外周縁の環状凸部（５）と
最内周部の環状凸部（７）間あるいは最外周縁の環状凸
部（６）と最内周部の環状凸部（８）間には、前記円環
状の凹部（９）　、　（１０）を覆う如く磁気シート（
２）　、　（２）が張設されている。

上記磁気シー）　（２）　、　（２）は、可撓性を有す
るベースフィルム、例えばポリエチレンテレフタレート
フィルムやポリイミドフィルム等の表面に磁性層、保護
膜層、潤滑側層（いずれも図示は省略する。）が順次形
成されたものである。なお、上記保護膜層は必要に応じ
て形成すれば足りる。この磁気シー）　（２）　、　（
２）は、アクリル系接着剤やエポキシ系接着剤等によっ
て前記支持部（４）に接着されている。なお、上記接着
剤はこれに限らず、いかなるものであってもよい、また
、上記磁気シー）　（２）　、　（２）表面に形成され
る磁性層は、例えばＴ−Ｆｅ、Ｏ，等の強磁性酸化物粉
末やＦｅ等の強磁性金属粉末等の磁性粉末を結合剤樹脂
中に分散して塗布したものであってもよいし、Ｃｏ−Ｃ
ｒ。

Ｃｏ−Ｎｉ合金等の強磁性金属薄膜を蒸着、スパッタリ
ング等の真空薄膜形成技術で被着したものであってもよ
い。

次に、上記磁気ディスク（１８）の磁気シー）（２）。

（２）表面を研磨する研磨装置について第１図を参照し
ながら説明する。

上記研磨装置は、第１図に示すように、一方の磁気シー
ト（２）表面に直接接して当該磁気シート（２）表面を
研磨する研削体（１１）と、該研削体（１１）を取付は
固定する研削体取付は基板（１２）と、これら研削体（
１１）および研削体取付は基板（１２）を支持する２枚
の板バネ（１３）　、　（１３）　　と、１亥牟反バネ
（１３）　。

（１３）を固定するフレーム（１４）とから構成されて
いる。

上記研削体（１１）は、通常、磁気記録再生装置に搭載
されている磁気記録媒体摺動面が円弧状となされたバル
クタイプの磁気ヘッドと略同じ形に形成されたものであ
る。したがって、この研削体（１１）にあっては、磁気
ヘッドにおける磁気記録媒体摺動面が磁気シート（２）
表面を研磨する研削面（１１ａ）に相当する。なお、上
記研削体（１１）は磁気ヘッドと異なるため、当該研削
面（ｌｌａ）上には磁気ギャップを有していない。

また、上記研削体（１１）は磁気シート（２）表面を研
磨するものであるため、硬度が高く、磁性粉が当該研削
面（ｌｌａ）に付着し難く、しかも加工性にも優れる材
料が好適である。かかる要求を満たすものとしては、フ
ェライトやチタン酸カリウム等が挙げられる。

なお、上記研削体（１１）の磁気シート（２）と接触す
る部分である当たり幅Ｗは、１回の研磨で４トラック程
度同時にバニッシング加工し得る幅であることが望まし
い０例えば、ｌＯＯ〜４００μｍ程度が好適であり、本
実施例では２００μｍとした。

前記研削体取付は基板（１２）は、例えば０．１ｇ程度
の薄い板厚の非磁性ステンレス鋼等がフォトエツチング
法等によって長方形状に形成されたものである。この研
削体取付は基板（１２）の長手方向先端部には、前記研
削体（１１）が取付は固定され、また長手方向中途部に
は前記板バネ（１３）　、　（１３）を挿入し固定する
ための切り欠き溝（図示は省略する。）が２箇所形成さ
れている。

一方、これら研削体（１１）、研削体取付は基板（１２
）を支持する板バネ（１３）　、　（１３）は、やはり
先の研削体取付は基板（１２）と同様、０．０５　ｍ程
度の極めて薄い板厚のステンレス鋼等がフォトエツチン
グ法等によって三角形状に形成されたものである。

この板バネ（１３）　、　（１３）の−頂点には、切り
欠き溝（１５）　、　（１５）が設けられ、ここに先の
研削体取付は基板（１２）　、　（１２）に設けられた
切り欠き溝が挿入され接着剤等により当該取付は基板（
１２）　、　（１２）が固定されている。

なお、上記板バネ（１３）　、　（１３）は、必ずしも
２枚でなければならないものではなく、必要に応じて２
枚以上設ければ足りる。また、上記板バネ（１３）　。

（１３）の形状は上記実施例のように三角形状に限らず
、前記磁気シート（２）　、　（２）の撓みに追従し得
る弾性を有するものであれば如何なる形状であってもよ
い。

前記フレーム（１４）は、例えば剛性の高い材料等によ
り形成されたもので、本実施例ではアーチ状に形成され
ている。なお、上記フレーム形状は研削体（１１）を安
定して固定できれば何ら限定されるものではない、また
、上記フレーム（１４）の外周部と内周部には、それぞ
れ先の板バネ（１３）　、　（１３）を前述の磁気シー
ト（２）と平行に配設するための切り欠き溝（１６）　
、　（１６）が形成されている。したがって、上記切り
欠き溝（１６）　、　（１６）に挿入固定される２枚の
板バネ（１３）　、　（１３）は、先の磁気シート（２
）と平行に配設されることになる。また、上記フレーム
（１４）の中央部には、前記板バネ（１３）、　（１３
）に取付は固定された研削体取付は基板（１２）の逃げ
溝（１７）が形成されている。

このように構成された研磨装置においては、前記研削体
（１１）が研削体取付は基板（１２）を介して磁気シー
ト（２）に平行に配される２枚の板バネ（１３）　。

（１３）により支持された構成となされているので、当
該研削体（１１）は先の板バネ（１３）　、　（１３）
により前記磁気ディスク（１日）への突き出し方向に上
下動可能となされている。したがって、磁気ディスク（
１８）の磁気シート（２）が撓んでもこれに伴って上記
研削体（１１）は追従可能となる。一方、上記磁気ディ
スク（１８）への突き出し方向以外、特に研磨方向（図
中矢印方向）での剛性は極めて高くなっている。この結
果、前記磁気シート（２）表面上に存在する突起部等に
より研削体（１１）が逃げる虞れも無くなる。

以上の構成からなる研磨装置を用い、以下の条件で前記
磁気ディスク（１８）をバニッシング加工した。

先ず、厚み４０μｍの可撓性を有するフィルム上にＣｏ
−Ｃｒ０．２μｍ、カーボン保護膜１００人、フッ素系
潤滑層約３０〜５０人を順次形成して磁気ディスク（１
８）を完成させた。

次に、上記磁気ディスク（１８）に前記研削体（１１）
を荷重０．２ｇで押圧させ、９００ｒ９■で当該磁気デ
ィスク（１日）を回転させながら磁気シート（１１）表
面をバニッシング加工した。なお、研磨に当たっては、
２０μｍ／秒で研削体（１１）を半径方向にずらしなが
ら行った。

そして、前記研磨装置をそのままに前記研削体（１１）
に替え、ギャップ長０．１５μｍ、　　Ｉ−ラック幅２
５．２μｍ、当たり幅２００μｍの磁気ヘッドを前記研
磨装置に装着した。そして、この研摩装置を用いて波長
λ−０．５μｍ、速度ｖ　＝　５　ｍ７秒の矩形波を前
記磁気ヘッドに入力し、所定の信号を先のバニッシング
加工された磁気ディスクに記録した。なお、バニッシン
グ加工されていない磁気ディスクについても同様に記録
した。そして、上記磁気ヘッドと磁気ディスクを摺接さ
せてから５分後に、この状態で先に記録した信号を読み
出し、入出力特性およびエンベロープ（包路線）からの
ドロップアウトを測定した。その結果を第１表に示す。

なお、第１表中再生出力比は、バニッシング加工が施さ
れていない磁気ディスクでのエンベロープのピーク値の
差を零として表した。また、ドロップアウトの数は、−
２ｄＢ以上であったものの個数を示す。

第１表 上記第１表かられかるように、バニッシング加工を施し
た磁気ディスクでは、バニッシング加工していない磁気
ディスクに比べ再生出力の大幅な向上が見られる。また
、ドロップアウトに関してもバニッシング加工していな
い磁気ディスクに比べて少ないことが分かる。

また、バニッシング加工した後、磁気ヘッドの摺動面を
観察したところ、当該バニッシング加工を施した磁気デ
ィスクではヘッド摺動面に傷が見られなかったが、バニ
ッシング加工していない磁気ディスクでは走行方向に筋
状の傷が見られた。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明方法によれば
、研削体は磁気シートと略平行に配設される板バネによ
り支持されているので、当ｇｌＮ気シートが撓んだ場合
であっても該研削体はこれに追従することができ、磁気
シートが張設された磁気ディスクであってもバニッシン
グ加工が行え、当該磁気シート表面を傷付けることはな
い。

したがって、得られる磁気ディスクは磁気シート表面が
均等に平滑化されるので、再生出力が向上し、且つドロ
ップアウトも低減される。また、磁気ヘッドへの傷つき
も防止することができるため、当該磁気ヘッドの耐久性
を向上させることも可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法を実施するための研磨装置の一構成
例を示す概略斜視図である。 第２図は本実施例で用いた磁気ディスクの一例を示す概
略断面図である。 ２．２・・・磁気シート １１・・・研削体 １２・・・研削体取付は基板 １３．１３・・・板バネ １４・・・フレーム １８・・・磁気ディスク

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 磁性層が形成された可撓性を有する磁気シートが円盤状
   の剛性基板の少なくとも一方の面に形成された円環状の
   凹部を覆って張設されてなる磁気ディスクに対し、 上記磁気シートと略平行に配設される少なくとも２以上
   の板バネによって支持された研削体を接触させ、 前記剛性基板を回転させ磁気シート表面を前記研削体で
   研磨することを特徴とする磁気ディスクの表面研磨方法
   。