JPH02256457A - 研磨装置 - Google Patents

研磨装置

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Publication number
JPH02256457A
JPH02256457A JP1077893A JP7789389A JPH02256457A JP H02256457 A JPH02256457 A JP H02256457A JP 1077893 A JP1077893 A JP 1077893A JP 7789389 A JP7789389 A JP 7789389A JP H02256457 A JPH02256457 A JP H02256457A
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JP
Japan
Prior art keywords
polishing
tank
liquid
abrasive
polishing liquid
Prior art date
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Pending
Application number
JP1077893A
Other languages
English (en)
Inventor
Keigo Umezawa
梅沢 計吾
Kazuo Ushiyama
一雄 牛山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP1077893A priority Critical patent/JPH02256457A/ja
Publication of JPH02256457A publication Critical patent/JPH02256457A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガラスレンズ等の光学素子を研磨する研磨装置
に関するものである。
〔従来の技術〕
研磨液中に於て被研磨部材を研磨する所謂液中研磨は1
970年11月30日社団法人日本物理学会発行「結晶
の加工と表面」第154頁乃至第156頁記載の[ボウ
ル・フィード・ポリレンズ」に於て、あるいは実開昭5
5−41295号公報所載の「液中研磨装置」に於て公
知であり、当該技術分野に於ても光学素子の表面を最大
粗さで、数十人の高精度な平滑面を得るには有効な方法
として従来より実施されているところである。
しかして、第6図は光学素子としてのレンズを研磨する
際の具体的な液中研磨装置の縦断面図である。同図にお
いて、1は被研削部材としてのガラスレンズであるとと
もにこのガラスレンズ1は貼付皿2に貼付けられ、研磨
工具3上に載置されている。また、貼付皿2は揺動機構
4に連結支持されたカンデラ5により支持されるととも
に研磨工具3は回転軸5に装着されている。
さらに、回転軸6には研磨液8を収納した液槽7が装着
され、前記ガラスレンズlおよび研磨工具3等は図示の
如く液槽7に収納された研磨液8中に浸漬された状態に
セットされている。
因で、前記回転軸6の回転に伴う研磨工具3の回転と揺
動機構4を介して揺動されるカンデラ5に支持されるガ
ラスレンズlが従属回転しなから液槽7の研磨液8中に
於て、研磨工具3による研磨加工が遂行される。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記従来の液中研磨における研磨液8の容量は液槽7中
に収納されて限りがあり、かっ液槽7中に収納された研
磨液8は連続的に使用されるので、研磨された硝材の微
細なスラッジが液I!7の研磨液8中に浮遊し、これが
原因となって被研磨部材としてのガラスレンズ1表面の
キズ発生も短時間で起り、逆に液中研階は研磨時間が長
く掛るものであって、キズ発生の欠点はより顕著となる
。しかも研磨時間が長いと光学硝材の1部と特殊低分散
硝子のFKOI、FKO2,CaFK95等の硝材では
研磨工具であるピッチ皿の表面に研磨剤と微細に研磨さ
れたスラッジが堆積し、これが原因となって被研磨部材
としてのガラスレンズ1にキズが連続的に発生し、研磨
加工を完了し得ないこととなる。
また、前記硝材は、その硝材の持つ性質から熱の影響を
受は易く、閉ざされた研磨液7中で長時間の研磨加工が
続くと研磨熱の為に液温か上昇する結果、ガラスレンズ
1の表面に砂目状のヤケが発生し、以後研磨は進行しな
くなる欠点があった。
因で、本発明は従来の液中研磨における欠点を解決すべ
く開発されたもので、研磨加工中に発生するスラッジに
よるキズの発生がなく、研階熱によるヤケの発生がない
、短時間で且つ効果的に高精度、高品質な研磨面が容易
に得られる研磨装置の提供を目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
第1図は本発明装置の概念図である。
被研磨部材lの加工槽7は回転軸6に回転自在に装着さ
れるとともにこの加工槽7内には一定温度の研磨液8を
その供給源に連結される供給ノズル9を介して大量かつ
連続的に供給し得るように構成され、かつ前記加工槽7
の研磨液8中の回転軸6に研磨工具3を回転自在に装着
するとともにこの研磨工具3上に被研磨部材1を貼付皿
2および図示しない揺動機構に連結したカンデラ6を介
して支持することにより構成されている。
〔作 用〕
本発明研磨装置は加工槽7を回転軸6を介して回転する
とともに加工槽7内に供給ノズル9を介して大量かつ連
続的に一定温度の研磨液8を供給し、回転軸6により回
転される研磨工具3によりこの研磨工具3の上側に揺動
機構に連結されるカンデラ5および貼付皿2を介して支
持される被研磨部材1を研磨することにより発生する微
細なスラッジを前記加工槽7より排出せしめるべく溢流
せしめ、研磨液8中に浮遊するスラッジによる被研磨部
材1表面のキズの発生を防止するとともに研磨液8の液
切れによるヤケ、研磨熱によるヤケの発生を防止し、良
い面精度を長く維持し得る研磨加工作用を得ることがで
きる。
〔実 施 例〕
以下本発明研磨装置の実施例を図面とともに説明する。
(第1実施例) 第2図は本発明研磨装置の第1実施例を示す断面図であ
る。
被研磨部材1は貼付皿2に貼付けられ、IZ動機構4に
連結されたカンデラ5によって研磨工具3上に支持され
ている。
また前記研磨工具3は回転軸6に回転自在に装着される
とともに前記カンザク5先端部、貼付皿2およびこれに
貼付けられた被研磨部材lとともに加工槽7の研磨液8
中に浸漬セットされている。
さらに前記加工槽7は底部中央に設けた軸着部10を回
転軸6に水蜜的に装着することにより回転軸6によって
回転自在に支持されるとともに、この加工槽7の外側に
は当該加工槽7の上側開口部7aより外側に流出する研
磨液8の受槽11が配設されている。
そして、前記受槽I■の底部に設けられた前記回転軸6
の軸受部12および回転軸6の外側には水蜜カバー13
が配設されている。
また、14は研磨液8の供給槽であって、この供給槽1
4には図示しない加熱部および冷却部が設けられるとと
もに両部の制御部が設けられ、当該供給槽14内の研磨
液8を25±1°Cの一定温度に保持し得るように構成
されている。
そして、前記供給槽14には給水ポンプ15および撹拌
羽根16を設けるとともに給水ポンプ15を介して供給
槽14内の研磨液8を吸い上げ供給パイプ17とその先
端部に連結した供給ノズル9を介して前記加工槽7内に
連続的に研磨液8を供給し得るように構成されている。
さらに、前記受槽11の底部に設けた排出部18は前記
供給槽4に連結され、前記加工槽7の上側開口部7aか
ら流出する研磨液8は受槽11および排出部18を介し
て供給槽14内に回収し得るように構成されている。
以上の構成から成る研磨装置において、カンデラ5およ
び貼付皿2を介して研磨工具3上側に支持された被研磨
部材lは、下軸側の回転軸60回転と上軸側のカンデラ
5に連結された揺動機構4の揺動運動を介して従属回転
をしつつ前記回転軸6の回転により回転される加工槽7
内に給水ポンプ15.供給パイプ17および供給ノズル
9を介して供給槽14より連続的に供給される研磨液8
中において研磨加工される。
しかして、前記加工槽7内における被研磨部材lの研磨
加工の進行、において発生する微細なスラッジが加工槽
7内に浮遊するが、加工槽7の回転による遠心力の作用
によりスラッジは加工槽7の周辺に流されるとともに加
工槽7内に連続的に供給されその上側開口部7aより溢
流する研磨液8とともに槽外に排出され、受槽11内に
受けられる。従って、被研磨部材1の研磨加工面にスラ
ッジが介在するのを防止することができるとともに研磨
加工中に発生するスラッジによるキズ発生を阻止するこ
とができるものである。
尚、受槽11内に流出する研磨液8は水蜜的な軸着部I
Oおよび水蜜カバー13により回転軸6の軸部と水蜜的
に遮断されている。
また、受槽11を介して供給槽14内に回収される研磨
液8は、当該供給槽14に設けられた制御部を介して加
熱部および冷却部によって加温あるいは冷却されつつ2
5±1°Cの温度に制御されるとともに給水ポンプ15
に連結された撹拌羽根16によって研磨液8に混合され
る研磨剤の沈澱を防止しつつ給水ポンプ15にて供給槽
14内より研磨液8を給水し、供給パイプ17.供給ノ
ズル9を介して加工槽7に連続的に供給する。
従って、従来の液中研磨における研磨時間の短縮化に要
求される加工条件の高圧、高速化によりて起る周速によ
って研磨液が周辺に流れ被研磨部材lと研磨工具3が液
不足になって発生するヤケを、前記供給槽14における
研磨液8を一定温度に制御する構成と一定温度の研磨液
8を加工槽7内における加工条件に応じて、大量かつ連
続的に供給することによって防止しつつ研磨加工するこ
とができる。
(第2実施例) 第3図は本発明研磨装置の第2実施例を示す断面図であ
る。
さて、当該実施例における研磨装置は前記第1実施例に
おける研磨装置の構成に比較して、第3図には図示され
ない揺動機構に連結される上軸例のカンデラ6に貼付皿
2を介して研磨工具19を設けるとともに下軸側の回転
軸6に貼付皿2oを介して被加工部材1を支持すること
により構成するとともに加工槽7に研磨液8の供給源(
図示しない)としての恒温槽(図示しない)より一定温
度の研磨液8を供給ノズル9を介して連続的に供給する
が、加工槽7の上側開口部7aより溢流する研磨液8を
加工槽7の外側に配設した受槽11にて受けつつ排出部
18より排出槽(図示しない)に排出し、循環せしめる
ことなく構成した点を相違点とする。
尚、図中、21は加工槽7の底部中央に設けた回転軸6
との水蜜的な軸受部、22は受槽11の底部に設けた軸
受部23と回転軸6の外周に設けた水蜜カバーを示すも
のである。
以上の構成から成る研磨装置による被研磨部材lの研磨
加工は第1実施例の研磨装置と同様に遂行し得るが、特
に前記構成上の相違点における加工槽7内に連続的に一
定温度の研磨液8を供給するが、槽外に溢流後の研磨液
8は受槽11にて受けた後、排出部18より排出槽に排
出し、再度使用しない使い捨て方式のため、被研磨部材
lの研磨加工によって発生するスラッジを回転する加工
槽7の遠心力によって周辺に流し、かつ供給ノズル9よ
り新しい研磨液8を加工槽7内に大量かつ連続的に供給
して上側開口部7aより研磨液8を溢流させつつ、この
溢流研磨液8とともに加工槽7外に排出することにより
スラッジによる被研磨部材lの研磨面に発生するキズを
防止することができる。
(第3実施例) 第4図は本発明研磨装置の第3実施例を示す断面図であ
る。
第4図示の研磨装置は、その加工槽7内における構成中
、前記第3図示の第2実施例における研磨装置の加工槽
7内における構成と同一部分の構成については同一番号
を符してその説明を省略し、その他の構成について以下
に補充する。
まず、24は加工槽7内に恒温槽より供給ノズル9を介
して連続的に供給される研磨液であるが、この研磨液2
5は研磨剤としてCentやZrOxなどの平均粒径が
0.2μ−から1/l/■の大きな粒径を持つ研磨剤を
配合することにより構成されている。
また、25は加工槽7内に設けられた撹拌部材で、この
撹拌部材25は支持装置(図示しない)に支持された支
持腕26を介して撹拌板27を設けることにより構成さ
れている。
か\る構成から成る研磨装置において、加工槽7内に設
けた撹拌部材25により、供給ノズル9を介して大量か
つ連続的に加工槽7内に供給される研磨液8を撹拌し、
研磨液8中の研磨剤を常時撹拌せしめて、これが加工槽
7の底部に沈澱するのを防止し、研磨剤が研磨加工に有
効に寄与し得るようにすると同時に回転軸6によって回
転する加工槽7の遠心力によって周辺に流れる研磨液8
を槽の中心に戻す作用を発揮することができる。
斯様にして、当該実施例による研磨装置によれば、より
大きな粒径の研磨剤を使用することにより、加工能力が
向上し、研磨時間の短縮が可能となる。
尚、前記撹拌部材25の構成については前記作用効果を
発揮し得れば、前記構成に限定されず、例えば、撹拌板
27を回転自在に支持腕26に支持するとともにこれを
モーター等の回転駆動手段によって回転し得るように構
成して実施することも可能である。
また、加工槽7に対する研鹸液8の供給について一定温
度の研磨液8を連続的に供給し、槽外に溢出せしめつつ
研磨加工を遂行する構成については前記第1および第2
実施例と同様であるが、槽外に溢出せしめた研磨液8を
第1あるいは第2実施例の如く処理するかについてはこ
れを限定するものではない、闇って、処理方法に従った
必要な構成を施しつつ実施するもので、その構成につい
ては特に図示しない。
(第4実施例) 第5図は本発明の第4実施例を示す断面図である。
さて、当該実施例の研磨装置は第2図示の第1実施例に
おける研磨装置を設計変更したもので、第2図と同一構
成部分は同一番号を符して、その説明を省略することに
する。
まず、加工槽28内にセットされる被研磨部材1は前記
第3図示の研磨装置と同様に貼付皿20を介して下軸側
の回転軸6に支持されるとともに研磨工具19は貼付皿
2を介して上軸側のカンザシ5に支持されている。
また、加工槽28は水蜜的な軸着部IOを介して回転軸
6に対して回転自在に装着されるとともに底板29を外
周部に向って傾斜せしめ、かつ外周部に環状方向間に複
数個開口した排液口30を設けることにより構成されて
いる。
さらに、24は研磨液を示し、この研磨液24は、前記
第3実施例における研磨液と同様の構成から成るもので
ある。
以上の構成から成る研磨装置による被研磨部材1の研磨
加工は第1実施例と同様に遂行されるが、加えて、当該
実施例においては、特に加工槽28の構成上、同種28
内に供給される研磨液24中の研磨剤が底部に沈澱堆積
するのを外周部方向に傾斜する低板29によって外周に
案内するとともに外周部に設けた複数個の廃液口30を
介して研磨液24を排出することにより防止することが
できる、また、か−る作用効果を同様に被研磨部材1の
研磨によって発生する微細なスラッジを回転する加工槽
28の遠心力によって周辺に流した後、研磨液24とと
もに排液口30より槽外に排出し得る作用効果が得られ
、加工槽28の上側開口部28aより溢出する研磨液2
4によって排出せしめる作用との相乗作用を発揮し得る
従って、加工槽28の容量は回転によって溢れる量と各
排液口30から排出する量、すなわち排液口30の大き
さと数を設定し、供給槽14(恒温槽)からの研磨液2
4の補給量のバランスを配慮して設定する必要がある。
また、研磨液24は研磨剤がCeO!やZr0t等の平
均粒径が0.2μ−から1μ−までの大きな粒径を持つ
ものであるから、加工条件よりも高圧、高速にできるた
め研磨時間の大幅な実現が可能になる。
さらに、一定温度の研磨液24を大量かつ連続的に供給
することにより研磨された微細なスラッジが速やかに排
出されるので研磨液24の劣化は遅く、微細なスラッジ
による被研磨部材1へのキズの影響も少ない。
しかも、当該実施例の構成から成る研磨装置は市販され
る循環方式の研磨機に加工槽を付設するとともに恒温槽
を設置するだけで安価に構成し得る。
尚、前記した各実施例の構成中、加工槽の構成について
は加工槽の上側開口部より研磨液を溢出させる構成に加
えて加工槽の底部に設けた排出口あるいは底部外周に設
けた複数の排液口を介して排出する構成について説明し
てきたが、これらの構成に加えて加工槽の壁面に排出孔
を配設する構成等の排出手段を設けることにより実施す
ることができる。
〔発明の効果〕
本発明研磨装置によれば以下の各効果を得ることができ
る。
(1)  光学硝材の1部と特殊低分散硝子FKO1゜
FKO2,CaFK95等の研磨時に良く見られるピッ
チ皿表面に研磨剤と研磨された微細なスラッジが堆積し
て起るピッチ皿の白色変化もな(、したがって白色変化
によって連続的に発生するキズがなくなる。
(2)一定温の研磨液中で研磨されるので、液切れによ
るヤケの発生、磨熱によるヤケの発生を防止出来る。
(3)一定温の研磨液中で研磨されるので、ポリシャー
の熱による変化がない、従って良い面精度を長く維持出
来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明研磨装置の概念図、第2図は本発明研磨
装置の第1寞施例を示す断面図、第3図は本発明研磨装
置の第2実施例を示す断面図、第4図は本発明研磨装置
の第3実施例を示す断面図。 第5図は本発明の第4実施例を示す断面図、第6図は従
来の液中研磨の実施例を示す断面図である。 l・・・被研磨部材     2・・・貼付皿3・・・
研磨工具      4・・・揺動機構5・・・カンザ
シ      6・・・回転軸7・・・加工槽    
   8・・・研磨液9・・・供給ノズル    10
・・・軸着部11・・・受槽 13・・・水蜜カバー 15・・・給水ポンプ 17・・・供給パイプ 19・・・研磨工具 21・・・軸受部 23・・・軸受部 25・・・撹拌部材 27・・・撹拌板 29・・・底板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被研磨部材、被研磨部材の支持部材および研磨工
    具を研磨液中に浸漬し得る加工槽と加工槽の槽外に溢流
    する研磨液を受ける受槽と前記加工槽内に連続的に一定
    温度の研磨液を供給する供給手段を備えることを特徴と
    する研磨装置。
JP1077893A 1989-03-29 1989-03-29 研磨装置 Pending JPH02256457A (ja)

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JP1077893A JPH02256457A (ja) 1989-03-29 1989-03-29 研磨装置

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JP1077893A JPH02256457A (ja) 1989-03-29 1989-03-29 研磨装置

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002178253A (ja) * 2000-12-14 2002-06-25 Topcon Corp シリンダー面の研磨装置及びその研磨方法
KR20040005072A (ko) * 2002-07-08 2004-01-16 주식회사 환웅 구심연마기의 연마유받이
WO2007137397A1 (en) * 2006-05-25 2007-12-06 Lightmachinery Inc. Submerged fluid jet polishing
JP2018126847A (ja) * 2017-02-10 2018-08-16 旭硝子株式会社 基材処理装置

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