JPH02254150A - Surface treatment - Google Patents

Surface treatment

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JPH02254150A
JPH02254150A JP7736189A JP7736189A JPH02254150A JP H02254150 A JPH02254150 A JP H02254150A JP 7736189 A JP7736189 A JP 7736189A JP 7736189 A JP7736189 A JP 7736189A JP H02254150 A JPH02254150 A JP H02254150A
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JP
Japan
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base material
plasma
reaction vessel
oxygen
minutes
Prior art date
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Application number
JP7736189A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Ito
伊藤 徹男
Kenji Yasuda
健二 安田
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JSR Corp
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To form hydrophilic films having excellent durability on the surface of substrates by placing various kinds of base materials into a vacuum reaction chamber and generating plasma by electrodes provided on both sides thereof to reform the surface of the base materials, then subjecting various kinds of inorg. oxides to vapor deposition by an electron beam. CONSTITUTION:The inside of the reaction chamber 1 is evacuated to a vacuum and the base material 4 of a film shape, sheet shape, etc., mounted to a rotary holder 3 is placed between two pieces of the electrodes 2 and 2 and gas, such as oxygen or ozone, is introduced from a gas introducing port 10 into the chamber. Plasma is discharged between the electrodes 2 and 2 by a power source 5 to treat the surface of the base material 4. The inorg. oxides, such as SiO2, Al2O3, TiO2, MoO3, WC, ZrO2, SnO2, and glass, put into a boat 7 are irradiated with the electron beam 8 and are thereby evaporated so that the thin films thereof are formed on the surface of the base material 4. The hydrophilic films having the excellent durability are thus formed. The surface of the base material 4 may be reformed by irradiating the same with UV rays in this method.

Description

【発明の詳細な説明】 d、 産業上の利用分野 本発明は、各種基材表面を処理する方法に関し、詳しく
はフィルム、シート、繊維状物あるいは各種成形品の基
材の表面に、耐久性の優れた親水性被膜を形成する方法
に関する。
Detailed Description of the Invention d. Industrial Application Field The present invention relates to a method for treating the surface of various substrates, and more specifically, the surface of the substrate of a film, sheet, fibrous material, or various molded products is treated to improve durability. The present invention relates to a method for forming an excellent hydrophilic coating.

b、 従来の技術 基材表面に親水性の被膜を形成して帯電防止性や防曇性
を付与し、さらには汚れの吸着を防止する表面処理方法
は、従来、数多く提案されている。例えば基材表面に親
水性のプラズマ重合膜や無機酸化物膜を形成する方法、
物理的あるいは化学的処理方法によって基材表面を酸化
する方法、基材表面を放射線、プラズマ、光照射などに
よって励起したのち親水性の樹脂被膜を形成する方法な
どがある。
b. Conventional Technology Many surface treatment methods have been proposed in the past, in which a hydrophilic film is formed on the surface of a substrate to impart antistatic and antifogging properties, and furthermore to prevent the adsorption of dirt. For example, a method of forming a hydrophilic plasma polymerized film or an inorganic oxide film on the surface of a substrate,
There are methods of oxidizing the surface of the base material by physical or chemical treatment methods, and methods of exciting the surface of the base material with radiation, plasma, light irradiation, etc. and then forming a hydrophilic resin film.

C1発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記の如き表面処理方法には、初期の親
水性は良好であっても、繰り返し使用している間に親水
性が減退してしまうという問題がある。
C1 Problems to be Solved by the Invention However, the surface treatment method described above has a problem in that even if the initial hydrophilicity is good, the hydrophilicity deteriorates during repeated use.

例えばコンタクトレンズは、違和感なく装用するために
、酸素、窒素などの非重合性ガスのガスプラズマ処理や
酸処理によって、その表面を親水性にする方法がある。
For example, in order to wear contact lenses without discomfort, there is a method of making the surface hydrophilic by gas plasma treatment with a non-polymerizable gas such as oxygen or nitrogen or acid treatment.

しかし、これらの方法による効果は一時的であり、コン
タクトレンズをしばらく空気中に放置するだけで、処理
効果は損なわれるという欠点がある。
However, the effects of these methods are temporary and have the disadvantage that the treatment effect is lost even if the contact lens is left in the air for a while.

また、コンタクトレンズ表面に、親水性のプラズマ重合
膜あるいは酸化珪素、酸化アルミニウムなどの無機酸化
物膜を真空蒸着、イオンブレーティングなどによって形
成し、その表面を親水性にする方法もある。しかし、こ
の方法では、コンタクトレンズとプラズマ重合膜や無機
酸化物膜との接着性が十分でないために、繰り返し使用
している間に、プラズマ重合膜や無機酸化物薄膜が剥離
してしまうという欠点がある。
Another method is to form a hydrophilic plasma polymerized film or an inorganic oxide film such as silicon oxide or aluminum oxide on the surface of the contact lens by vacuum deposition, ion blating, etc. to make the surface hydrophilic. However, this method has the disadvantage that the plasma polymerized film or inorganic oxide thin film peels off during repeated use because the adhesion between the contact lens and the plasma polymerized film or inorganic oxide film is not sufficient. There is.

また、コンタクトレンズ表面を非重合性のガスプラズマ
などで励起したのち、親水性モノマーをその表面で重合
し、表面を親水性にする方法もある。しかしこの方法で
は、表面の親水性層が柔らかいために、洗浄を繰り返す
と、親水性層が次第に摩耗してしまうという欠点がある
Another method is to make the surface hydrophilic by exciting the contact lens surface with non-polymerizable gas plasma or the like and then polymerizing a hydrophilic monomer on the surface. However, this method has the disadvantage that since the hydrophilic layer on the surface is soft, the hydrophilic layer gradually wears out with repeated washing.

さらに、特開昭56−147829号には、第4図に示
すように、基体20上に有機ポリマー層21と有m質−
無機質複合膜22を形成する硬質被膜の形成方法が開示
されている。ごの方法によると、プラスチック基体面上
に優れた耐久性を有する硬質被膜を形成することができ
る。
Further, in JP-A-56-147829, as shown in FIG.
A method for forming a hard coating that forms the inorganic composite film 22 is disclosed. According to this method, a hard coating having excellent durability can be formed on the surface of a plastic substrate.

しかしこの方法は、有機ポリマー層のプラスチック基体
への密着性が良好ではないため、無機質硬質被膜のプラ
スチック基体への密着性も低下するという問題がある。
However, this method has a problem in that since the adhesion of the organic polymer layer to the plastic substrate is not good, the adhesion of the inorganic hard coating to the plastic substrate also decreases.

d、 課題を解決するための手段 すなわち本発明は、基材表面に、酸素および/またはオ
ゾンの存在下で紫外線を照射するか、または非重合性の
ガスプラズマで処理して基材表面を改質したのち、該基
材表面上に無機酸化物薄膜を形成することを特徴とする
表面処理方法(以下、[方法(1)]という)および基
基材面に、真空下、酸素および/またはオゾンの存在下
で紫外線を照射しながらプラズマ処理するごとを特徴と
する成形品の表面処理方法(以下、 [方法(2)j 
という)を提供するものである。
d. Means for solving the problem, that is, the present invention, modifies the surface of the base material by irradiating the surface of the base material with ultraviolet rays in the presence of oxygen and/or ozone, or by treating it with non-polymerizable gas plasma. A surface treatment method characterized by forming an inorganic oxide thin film on the surface of the substrate (hereinafter referred to as [method (1)]) and applying oxygen and/or A method for surface treatment of molded products characterized by plasma treatment while irradiating ultraviolet rays in the presence of ozone (hereinafter referred to as [Method (2))]
).

まず、方法(1)において、上記紫外線処理には、紫外
線ランプとして、1600〜4000オングストローム
の波長域を有する低圧水銀灯、キセノンランプ、メタル
ハライドランプ、カーボンアーク灯、特開昭58121
28号に開示されるような重水素ランプなどを用いるこ
とができる。特に、本発明においては、1650〜20
50オングストロームおよび2350〜2750オング
ストロームの2種の波長の紫外線を発生させるランプを
用いることが好ましい。なお、これらのランプより照射
する紫外線の照射量は、0.01J/cJ以上特に0.
1〜5J/cfIが好ましい。ここで、酸素および/ま
たはオゾンの存在下で紫外線を照射する際の酸素濃度は
、■容量%以上、好ましくは10〜1.00容量%、オ
ゾン濃度は、0.01容量%以上、好ましくは0.5〜
10容量%であることが好ましい。ここで紫外線の照射
量が少なく、酸素およびオゾンの濃度が低いと、本発明
の効果を十分に発揮することが困難である。
First, in method (1), for the ultraviolet treatment, the ultraviolet lamp may be a low-pressure mercury lamp having a wavelength range of 1600 to 4000 angstroms, a xenon lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, or a JP-A-58121 lamp.
A deuterium lamp such as that disclosed in No. 28 can be used. In particular, in the present invention, 1650 to 20
Preferably, a lamp is used that generates two wavelengths of ultraviolet radiation: 50 angstroms and 2350-2750 angstroms. The amount of ultraviolet rays emitted from these lamps should be 0.01 J/cJ or more, especially 0.01 J/cJ or more.
1 to 5 J/cfI is preferred. Here, when irradiating ultraviolet rays in the presence of oxygen and/or ozone, the oxygen concentration is 1% by volume or more, preferably 10 to 1.00% by volume, and the ozone concentration is 0.01% by volume or more, preferably 0.5~
Preferably it is 10% by volume. Here, if the amount of ultraviolet ray irradiation is small and the concentration of oxygen and ozone is low, it is difficult to fully exhibit the effects of the present invention.

なお、紫外線照射時間は、通常、1〜120分、好まし
くは5〜60分であり、照射時間が長時間にわたるとき
は、照射を間欠的に、例えば5分照射して5分消燈する
などの方法を採用すると、被処理物である基材の光また
は熱による劣化を防くことができる。
In addition, the ultraviolet irradiation time is usually 1 to 120 minutes, preferably 5 to 60 minutes, and when the irradiation time is long, the irradiation is performed intermittently, for example, by irradiating for 5 minutes and then turning off for 5 minutes. By employing this method, it is possible to prevent the substrate, which is the object to be treated, from deteriorating due to light or heat.

また、照射時の基材近傍の温度は、通常、5〜200°
C1好ましくは15〜】00°Cである。
In addition, the temperature near the base material during irradiation is usually 5 to 200°
C1 is preferably 15 to 00°C.

本発明の方法(1)のプラズマに用いられる非重合性の
ガスとしては、空気、酸素、窒素、アンモニアなどを挙
げることができ、これらは2種以−ト混合して用いるこ
ともできる。
Examples of the non-polymerizable gas used in the plasma in method (1) of the present invention include air, oxygen, nitrogen, ammonia, etc., and two or more of these gases may be used as a mixture.

本発明の方法(])において、プラズマ処理の条件は、
通常のプラズマ処理における条件と同様であり、特に限
定されるものではないが、例えば真空度]OmTorr
〜10Torr、周波数50Hz〜50MHz 、放電
電力0.2〜IOWが好ましく、処理時間は30秒〜3
0分が適当である。
In the method (]) of the present invention, the plasma treatment conditions are as follows:
The conditions are the same as those in normal plasma processing, and are not particularly limited, but for example, the degree of vacuum] OmTorr
~10 Torr, frequency 50 Hz ~ 50 MHz, discharge power 0.2 ~ IOW are preferable, and processing time is 30 seconds ~ 3
0 minutes is appropriate.

上記プラズマ処理には、例えば第1図に示すように、ヘ
ルジャーにより構成される反応容器1内に互いに対向す
る一対の電極2,2を設け、その間に回転ホルダー3に
よって基材4を保持し、各電極2゜2には例えば交流電
源5を接続して、これによって電極2,2間にプラズマ
を発生させる装置を用いることができる。なお、6は遮
蔽板、7ば無機酸化物などの蒸発源を入れる容器である
ボート、8は蒸発源を蒸発させるための電子ビーム源、
9は排気管、10はガス導入管、11は無機酸化物薄膜
の厚さをコントロールするためのシャック−である。
In the above plasma treatment, for example, as shown in FIG. 1, a pair of electrodes 2, 2 facing each other is provided in a reaction container 1 made of a Herjar, and a base material 4 is held between them by a rotating holder 3. For example, an apparatus may be used in which an AC power source 5 is connected to each electrode 2.degree. 2, thereby generating plasma between the electrodes 2. In addition, 6 is a shielding plate, 7 is a boat which is a container for storing an evaporation source such as an inorganic oxide, 8 is an electron beam source for evaporating the evaporation source,
9 is an exhaust pipe, 10 is a gas introduction pipe, and 11 is a shack for controlling the thickness of the inorganic oxide thin film.

本発明の方法(1)において、紫外線照射またはプラズ
マ処理に引き続いて行なう無機酸化物薄膜の形成は、無
機酸化物として酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタ
ン、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化ジルコニ
ウム、酸化スズ、ガラスなど、あるいはこれらの2種以
上の混合物を用いて行なうことができる。
In the method (1) of the present invention, the inorganic oxide thin film formed subsequent to ultraviolet irradiation or plasma treatment uses silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, zirconium oxide, tin oxide as the inorganic oxide. , glass, etc., or a mixture of two or more thereof.

これらの無機酸化物薄膜の形成は、真空蒸着、イオンブ
レーティング、スパッタリングなどの通常の薄膜形成技
術を用いて行なうことができる。
These inorganic oxide thin films can be formed using ordinary thin film forming techniques such as vacuum evaporation, ion blasting, and sputtering.

形成する無機酸化物薄膜の厚さは、50〜5000オン
グストロームが好ましい。50オングストロ一ム未満の
膜厚では、粘材表面に親水性を付与しにくくなる。
The thickness of the inorganic oxide thin film to be formed is preferably 50 to 5000 angstroms. If the film thickness is less than 50 angstroms, it becomes difficult to impart hydrophilicity to the adhesive surface.

また、5000オングストロームを超えると、無機酸化
物薄膜が基材表面から剥がれやすくなったり、ガス透過
性の基材の場合にはその透過性を損いやずくなるので好
ましくない。
On the other hand, if the thickness exceeds 5000 angstroms, the inorganic oxide thin film is likely to peel off from the surface of the base material, and in the case of a gas permeable base material, its permeability may be impaired, which is not preferable.

本発明の方法(1)によって表面処理を施こすことので
きる基材は、例えばフィルム、シート、繊維状物あるい
は各種成形品であり、特に限定されるものではない。ま
た、処理する基材の材質も限定されず、例えば硬質のプ
ラスチック、軟質のゴム状物などの表面を処理すること
ができる。
Substrates that can be surface-treated by method (1) of the present invention include, for example, films, sheets, fibrous materials, and various molded products, and are not particularly limited. Furthermore, the material of the base material to be treated is not limited, and for example, surfaces of hard plastics, soft rubber-like materials, etc. can be treated.

特に、ポリメチルメタクリレート、ポリジメチルシロキ
サンなどからなる眼内レンズ、メチルメタクリレート、
ブチルアクリレ−1・、シロキサニルメタクリレート、
フルオロメタクリレ−1・などからなるハートコンタク
トレンズおよびソフトコンタクトレンズに対して本発明
の方法(1)を好適に適用することができる。
In particular, intraocular lenses made of polymethyl methacrylate, polydimethylsiloxane, methyl methacrylate,
Butyl acrylate-1, siloxanyl methacrylate,
The method (1) of the present invention can be suitably applied to heart contact lenses and soft contact lenses made of fluoromethacrylate-1.

次に、本発明の方法(2)において、真空下とは、通常
、10mTorr〜]、Torr、好ましくは30ff
lTOrr〜300IIITOrの圧力である。
Next, in the method (2) of the present invention, under vacuum is usually 10 mTorr ~], Torr, preferably 30 ff
The pressure is between 1 TOrr and 300 III TOrr.

本発明の方法(2)において、紫外線ランプとしては前
記方法(1)と同様のものを用いることができる。
In method (2) of the present invention, the same ultraviolet lamp as in method (1) can be used as the ultraviolet lamp.

また、紫外線の照射量、酸素およびオゾンの濃度も、前
記方法(1)と同様である。
Further, the irradiation amount of ultraviolet rays and the concentrations of oxygen and ozone are also the same as in the method (1).

本発明の方法(2)において、紫外線の照射量が少なく
、酸素量、オゾン量が少ないと、本発明の効果を十分に
発揮することが困難である。特に、酸素やオゾンの不存
在下では強度の紫外線量が必要となり、基Hの劣化を引
き起こすことになる。    ゛さらに、酸素やオゾン
とともに空気、窒素、アンモニアなどの非重合性のガス
あるいは炭化水素、アルコール、ラジカル重合性単量体
などの重合性のガスを用いることができる。
In method (2) of the present invention, if the amount of ultraviolet irradiation is small and the amount of oxygen and ozone is small, it is difficult to fully exhibit the effects of the present invention. In particular, in the absence of oxygen or ozone, a strong amount of ultraviolet light is required, which causes deterioration of the H radical. Furthermore, in addition to oxygen and ozone, non-polymerizable gases such as air, nitrogen, and ammonia, or polymerizable gases such as hydrocarbons, alcohols, and radically polymerizable monomers can be used.

ここで、炭化水素としては、メタン、エタン、プロパン
、ブタンなどの飽和炭化水素、エチレン、プロピレン、
ブタジェン、ベンゼン、アセチレン、ジビニルアセチレ
ンなどの不飽和炭化水素を、アルコールとしては、アリ
ルアルコール、2−プロピル1−オールなどを、ラジカ
ル重合性単量体としては、N−ビニルピロリドン、ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)ア
クリレート、エチル(メタ)アクリレート、スヂレン、
酢酸ビニル、アクリル酸、アクリルアミド、メタクリル
酸ビニルなどを挙げることができる。
Here, hydrocarbons include saturated hydrocarbons such as methane, ethane, propane, butane, ethylene, propylene,
Examples of unsaturated hydrocarbons such as butadiene, benzene, acetylene, and divinylacetylene; alcohols such as allyl alcohol and 2-propyl 1-ol; and radically polymerizable monomers such as N-vinylpyrrolidone and hydroxyethyl (meth). ) acrylate, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, sutyrene,
Examples include vinyl acetate, acrylic acid, acrylamide, and vinyl methacrylate.

本発明の方法(2)におけるプラズマ処理条件は通常の
プラズマ処理における条件と同様でよく、特に限定され
るものではないが、例えば真空度10mTorr〜10
Torr、周波数50Hz〜50M)Iz 、放電電力
0.2〜IOWが好ましい。
The plasma processing conditions in method (2) of the present invention may be the same as those in normal plasma processing, and are not particularly limited, but for example, the degree of vacuum is 10 mTorr to 10 mTorr.
Torr, frequency 50 Hz to 50 M) Iz, and discharge power 0.2 to IOW are preferable.

紫外線を照射しながらプラズマで処理する時間は、通常
、1〜180分、好ましくは5〜120分であり、照射
時間が長時間にわたるときは照射を間欠的に、例えば5
分照射して5分消灯するなどの方法を採用すると被処理
である成形品の光による劣化を防ぐことができる。また
、照射時の基材の温度は、通常、5〜200°C2好ま
しくは15〜100°Cである。
The time for plasma treatment while irradiating ultraviolet rays is usually 1 to 180 minutes, preferably 5 to 120 minutes, and when the irradiation time is long, the irradiation may be performed intermittently, for example, 5 to 120 minutes.
By adopting a method such as irradiating the light for 5 minutes and then turning it off for 5 minutes, it is possible to prevent the molded product being treated from deteriorating due to the light. Further, the temperature of the base material during irradiation is usually 5 to 200°C, preferably 15 to 100°C.

本発明の方法(2)においては、プラズマ処理と紫外線
照射が同時に行なわれることが必要であるが、プラズマ
で処理する前に紫外線を照射しておき、引続き紫外線を
照射しながらプラズマで処理することも可能であり、ま
た、プラズマで処理しながら途中から紫外線を照射する
ことも可能である。
In method (2) of the present invention, it is necessary to perform plasma treatment and ultraviolet irradiation at the same time, but it is possible to irradiate ultraviolet rays before plasma treatment, and then continue to perform plasma treatment while irradiating ultraviolet rays. It is also possible to irradiate ultraviolet rays during the plasma treatment.

本発明の方法(2)において使用する、同一反応容器内
に平行平板型電極を備えたプラズマ処理装置と1600
〜4000オングストロームの波長域を有する紫外線照
射装置を備えた表面処理装置の1例を第2図に示す。本
装置は、ヘルジャーにより構成される反応容器31内に
互いに対向する一対の電極34.34と遮蔽板32を介
して上部に互いに対向する一対の紫外線うンプ35.3
5を設け、中央に回転軸を有する回転ホルダー33に基
材40を保持する。電極間には、例えば交流電源36を
接続してこれによって電極34.34間番こプラズマを
発生させると共に紫外線ランプ35に接続した電源ボッ
クス37によって紫外線を照射する。なお、38は排気
管、39はガス導入管である。
A plasma processing apparatus equipped with parallel plate electrodes in the same reaction vessel used in the method (2) of the present invention and a 1600
FIG. 2 shows an example of a surface treatment apparatus equipped with an ultraviolet irradiation device having a wavelength range of 4,000 angstroms. This device includes a pair of electrodes 34.34 facing each other in a reaction vessel 31 constituted by a Herger, and a pair of ultraviolet ray dumps 35.3 facing each other at the top with a shielding plate 32 in between.
5 is provided, and the base material 40 is held in a rotating holder 33 having a rotating shaft in the center. For example, an AC power supply 36 is connected between the electrodes to generate plasma between the electrodes 34 and 34, and a power supply box 37 connected to an ultraviolet lamp 35 irradiates ultraviolet rays. Note that 38 is an exhaust pipe, and 39 is a gas introduction pipe.

なお、本発明の方法(2)によって表面処理を施すこと
のできる基材としては、前記方法(1)と同様のものを
挙げることができる。
In addition, examples of the base material that can be surface-treated by the method (2) of the present invention include those similar to those used in the method (1).

e、実施例 以下に、本発明を図面を参照しつつ、さらに詳しく説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
e. Examples The present invention will be explained in more detail below with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 第1図に示す反応容器1を用い、回転ホルダー3によっ
て、基材である幅10胴、長さ20鵬、厚さ0.5mm
のポリメチルメタクリレート板4を電極2,2間に保持
し、ボート7中に酸化珪素粉末を入れ、酸素を10cc
(STP)/min、で反応容器1内に導入しながら、
反応容器j内を50mTorrの真空度に保ち、電極2
.2に交流電力10 K 11 zを加えてプラズマを
発生させて5分間処理した。次いで真空度をI X 1
0− ’Torrまで一ヒげ、ボート7に電子ビームF
X8で発生させた電子ビムを当てて、基材4の表面に酸
化珪素を1000オングストロームの厚さで蒸着させた
Example 1 Using the reaction vessel 1 shown in FIG.
A polymethyl methacrylate plate 4 is held between the electrodes 2, silicon oxide powder is placed in the boat 7, and 10 cc of oxygen is
(STP)/min, while introducing into the reaction vessel 1,
Keeping the inside of the reaction vessel j at a vacuum level of 50 mTorr, the electrode 2
.. 2 was applied with alternating current power of 10 K 11 z to generate plasma and treated for 5 minutes. Next, the degree of vacuum is I x 1
0- 'Torr, electron beam F to boat 7
An electron beam generated by X8 was applied to deposit silicon oxide on the surface of the base material 4 to a thickness of 1000 angstroms.

処理した基材4について、空気中に放置した場合の親水
性の経時変化および表面の耐久性を、評価した。なお、
親水性は、水の接触角を求めることにより評価すること
ができ、水の接触角は、協和科学■製接触角計rCA−
P型Jを用いて測定した。また、基材表面の耐久性は、
第3図に示すように、水を含ませたスポンジ12に1 
kgの荷重13をかけ、基材4の片面を両面テープ14
で試料台15に固定し、スポンジ12を前後に1000
回動かず、スポンジテスト、を実施したのち、水の接触
角を測定して親水性を評価することによった。結果を表
−1に示す。
The treated base material 4 was evaluated for changes in hydrophilicity over time and surface durability when left in the air. In addition,
Hydrophilicity can be evaluated by determining the contact angle of water.
Measured using P type J. In addition, the durability of the base material surface is
As shown in FIG.
A load of 13 kg is applied, and one side of the base material 4 is covered with double-sided tape 14.
Fix the sample table 15 with
After performing a sponge test without rotating, the contact angle of water was measured to evaluate hydrophilicity. The results are shown in Table-1.

実施例2 第1図に示す反応容器1を用い、回転ホルダー3によっ
て基材である幅10mm、長さ20mm、厚さ0.5M
のポリジメチルシロキザン板4を電極2.2間に保持し
、ボート7中に酸化アルミニウム粉末を入れ、酸素を1
Occ(STP)/min、で反応容器1内に導入しな
がら、反応容器1内を50mTorrの真空度に保ち、
電極2.2に交流電力10KHzを加えてプラズマを発
生させて5分間処理したのち、真空度をI Xl0−6
Torrまで上げ、ボート7に電子ビームを当てて、基
材4の表面に酸化アルミニウムを1000オンゲス1〜
ロームの厚さで蒸着させた。
Example 2 Using the reaction container 1 shown in FIG. 1, a base material having a width of 10 mm, a length of 20 mm, and a thickness of 0.5 M
A polydimethylsiloxane plate 4 is held between the electrodes 2 and 2, aluminum oxide powder is placed in the boat 7, and oxygen is
Occ (STP)/min, while maintaining the inside of the reaction container 1 at a vacuum level of 50 mTorr while introducing it into the reaction container 1.
After applying AC power of 10 KHz to electrode 2.2 to generate plasma and treating it for 5 minutes, the degree of vacuum was reduced to IXl0-6.
Raise the temperature to Torr, apply an electron beam to the boat 7, and apply aluminum oxide to the surface of the base material 4 at a rate of 1000 oz.
Deposited in loam thickness.

処理した基材4について、実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表−1に示
す。
Regarding the treated base material 4, the change in hydrophilicity over time and the durability of the surface were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table-1.

実施例3 第1図に示す反応容器1を用い、回転ホルダー3により
基材である幅10+ma、長さ20m、厚さ0.5mm
のポリメチルメタクリレ−1・板4を電極2.2間に保
持し、ボート7中に酸化モリブデンを入れ、酸素を10
cc(STP)/+++in、で反応容器1内に導入し
ながら、反応容器1内を50mTorrの真空度に保ち
、電極22に交流電力LOKIIy、を加えてプラズマ
を発生させて5分間処理したのち、真空度をI Xl0
−6Torrまで上げ、ボー1−7に電子ビームを当て
て、基板4の表面に酸化モリブデンを2000オンゲス
]・ロームの厚さで蒸着させた。
Example 3 Using the reaction vessel 1 shown in FIG. 1, a base material of width 10+ma, length 20m, and thickness 0.5mm was prepared using a rotating holder 3.
Polymethyl methacrylate 1 plate 4 is held between electrodes 2 and 2, molybdenum oxide is placed in boat 7, and oxygen is added to
cc (STP)/+++in, while maintaining the inside of the reaction vessel 1 at a vacuum of 50 mTorr, applying alternating current power LOKIIy to the electrode 22 to generate plasma and treating it for 5 minutes. The degree of vacuum is I Xl0
The temperature was raised to -6 Torr, and an electron beam was applied to bows 1-7 to deposit molybdenum oxide on the surface of the substrate 4 to a thickness of 2000 Å.

処理した基材4について、実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表−1に示
す。
Regarding the treated base material 4, the change in hydrophilicity over time and the durability of the surface were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table-1.

実施例4 基材である幅IQmm、長さ20mm、厚さ0.5mの
ポリジメチルシロキザン板4の両側から低圧水銀灯を用
い、波長が1849オングストロームおよび2537オ
ングストロームを主とする紫外線を大気中、室温下で1
5分間照射したのち、直ちに第1図に示す反応容器を用
い、回転ホルダー3に基材を取り付け、実施例1と同様
の条件で酸化珪素を蒸着させた。
Example 4 Using a low-pressure mercury lamp, ultraviolet rays mainly having wavelengths of 1849 angstroms and 2537 angstroms were emitted from both sides of a polydimethylsiloxane plate 4 having a width of IQ mm, a length of 20 mm, and a thickness of 0.5 m in the atmosphere. 1 at room temperature
Immediately after irradiation for 5 minutes, a substrate was attached to the rotary holder 3 using the reaction vessel shown in FIG. 1, and silicon oxide was vapor-deposited under the same conditions as in Example 1.

なお、紫外線の照射量は2.5J/c+flであった。Note that the amount of ultraviolet ray irradiation was 2.5 J/c+fl.

処理した基材4について、実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表−1に示
す。
Regarding the treated base material 4, the change in hydrophilicity over time and the durability of the surface were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table-1.

比較例1 第1図に示す反応容器1を用い、回転ホルダー3によっ
て基材である幅10世、長さ20+n+++、厚さ0.
5mmのポリジメチルシロキサン板4を電極2,2間に
保持し、ボート7中に酸化アルミニウム粉末を入れ、真
空度を1. Xl、0−6Torrまで上げ、ボート7
に電子ビームを当てて、基材4の表面に酸化アルミニウ
ムを1000オングストローム蒸着させた。
Comparative Example 1 Using the reaction vessel 1 shown in FIG. 1, a base material having a width of 10 mm, a length of 20+n+++, and a thickness of 0.0 mm was placed using the rotating holder 3.
A 5 mm polydimethylsiloxane plate 4 is held between the electrodes 2, aluminum oxide powder is placed in the boat 7, and the degree of vacuum is set to 1. Xl, raised to 0-6 Torr, boat 7
An electron beam was applied to the surface of the base material 4 to deposit aluminum oxide to a thickness of 1000 angstroms.

処理した基材4について、実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表−1に示
す。
Regarding the treated base material 4, the change in hydrophilicity over time and the durability of the surface were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table-1.

表−1親水性の評価(水の接触角) 実施例5 第2図に示す反応容器31を用い、回転ホルダー33に
基材として幅10陥、長さ20胴、厚さ0.5mmのポ
リメチルメタクリレート板40を保持し、紫外線ランプ
35、35とし7B)オーク社製VLIV−040/A
−2,206灯を用い、30IIII11の距離から紫
外線を照射し、同時に酸素を10cc(STP)/mi
n、で反応容器31内に導入しながら、反応容器31内
を5 X 10−2Torrの真空度に保ち、電極34
、34に交流電力10KIIzを加えてプラズマを発生
させて15分間処理した。
Table 1 Evaluation of hydrophilicity (contact angle of water) Example 5 Using the reaction vessel 31 shown in FIG. Hold the methyl methacrylate plate 40 and set the ultraviolet lamps 35, 35 7B) VLIV-040/A manufactured by Oak Co., Ltd.
-Using 2,206 lamps, irradiate ultraviolet rays from a distance of 30III11, and at the same time irradiate oxygen at 10cc (STP)/mi.
While introducing the electrode 34 into the reaction container 31 at
, 34 was applied with AC power of 10KIIz to generate plasma, and the treatment was carried out for 15 minutes.

処理した基材40について、実施例1と同様に親水性の
経時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表−2に
示す。
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table-2.

実施例6 第2図に示す反応容器31を用い、回転ホルダー33に
基材として幅10+no+、長さ20陥、厚さ0.5 
mmのポリジメチルシロキサン板40を保持し、紫外線
ランプ35゜35としテ■オーク社製VUV−040/
A−2,206灯を用い、30mmの距離から紫外線を
5分照射、10分消灯をくりかえし、同時に酸素を10
cc(STP)/min、で反応容器31内に導入しな
がら、反応容器31内を5 Xl0−2Torrの真空
度に保ち、電極34.34に交流電力10KHzを加え
てプラズマを発生させて30分間処理した。
Example 6 Using the reaction vessel 31 shown in FIG. 2, a base material was placed on the rotary holder 33 with a width of 10 + no +, a length of 20 recesses, and a thickness of 0.5
Hold a polydimethylsiloxane plate of 40 mm and set the ultraviolet lamp at 35°35 to VUV-040/T Oak Co.
Using A-2,206 lamps, irradiate ultraviolet light for 5 minutes from a distance of 30 mm, turn off the light for 10 minutes, and at the same time irradiate oxygen for 10 minutes.
cc (STP)/min, while maintaining the inside of the reaction vessel 31 at a vacuum level of 5 Xl0-2 Torr, and generating plasma by applying AC power of 10 KHz to the electrode 34.34 for 30 minutes. Processed.

処理した基材40について実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表−2に示
す。
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table-2.

実施例7 第2図に示す反応容器31を用い、回転ホルダー33に
基材として幅10 mm 、長さ20m+n、厚さ0.
5 mmのポリメチルメタクリレート板40を保持し、
紫外線ランプ35、35として■オーク社製VUV−0
40/A−2.2U 6灯を用い、30mmの距離から
紫外線を10分間照射したのち、引き続き紫外線を照射
しながら酸素を10cc(SfP)/min。
Example 7 Using the reaction vessel 31 shown in FIG. 2, a rotating holder 33 with a base material having a width of 10 mm, a length of 20 m+n, and a thickness of 0.
Holding a 5 mm polymethyl methacrylate plate 40,
As ultraviolet lamp 35, 35 ■ VUV-0 manufactured by Oak Company
Using six 40/A-2.2U lamps, ultraviolet rays were irradiated for 10 minutes from a distance of 30 mm, and then oxygen was irradiated at 10 cc (SfP)/min while continuing to irradiate ultraviolet rays.

で反応容器3I内に導入し、反応容器31内を5X10
−2Torrの真空度に保ち、電極34.34に交流電
力10 K Hzを加えてプラズマを発生させて10分
間処理した。
into the reaction vessel 3I, and the inside of the reaction vessel 31 is 5X10
The vacuum was maintained at -2 Torr, and AC power of 10 KHz was applied to the electrodes 34, 34 to generate plasma, and the treatment was carried out for 10 minutes.

処理した基材40について実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表2に示す
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

実施例8 第2図に示す反応容器31を用い、回転ホルダー33に
基材として幅]、、Omm、長さ20mm、厚さ0.5
 unlのポリメチルメタクリレ−1・板40を保持し
、酸素を10cc(STP)/min、で反応容器31
内に導入し、反応容器31内を5 Xl0−2Torr
の真空度に保ち、電極34.34に交流電力10KHz
を加えてプラズマを発生させて10分間処理したのち、
引続きプラズマを発生させながら、紫外線う77’35
.35トL7■オ一ク社製VUV−040/A−2,2
U6灯を用い、30印の距離から紫外線照射とプラズマ
処理とを10分間行なった。
Example 8 Using the reaction vessel 31 shown in FIG. 2, the rotary holder 33 was used as a base material with a width of 0 mm, a length of 20 mm, and a thickness of 0.5 mm.
The reaction vessel 31 was held with unl polymethyl methacrylate 1 plate 40 and oxygen was supplied at 10 cc (STP)/min.
The inside of the reaction vessel 31 is heated to 5 Xl0-2 Torr.
Maintain the degree of vacuum at
was added to generate plasma and treated for 10 minutes,
While continuing to generate plasma, ultraviolet rays are applied.
.. 35t L7■ VUV-040/A-2,2 manufactured by Oichiku Co., Ltd.
Ultraviolet irradiation and plasma treatment were performed for 10 minutes from a distance of 30 marks using a U6 lamp.

処理した基材40について実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表2に示す
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

実施例9 第2図に示す反応容器31を用い、回転ボルダ−33に
基材として幅10IIII11、長さ20髄、厚さ0.
5朧のポリメチルメタクリレート板40を保持し、紫外
線ランプ35、35として■オーク社製VUV−040
/A−2.216灯を用い、30朧の距離から紫外線を
照則し、同時に酸素を10cc(STP)/min、で
、メタンを10cc(STP)/min、で反応容器3
1内に導入しながら、反応容器31内を10 X 10
−2Torrの真空度に保ち、電極34.34に交流電
力1.0KHzを加えてプラズマを発生させて30分間
処理した。
Example 9 Using the reaction container 31 shown in FIG. 2, a rotary boulder 33 with a width of 10III11, a length of 20 mm, and a thickness of 0.
5 Hold the hazy polymethyl methacrylate plate 40 and use the UV lamps 35, 35 as ■ VUV-040 manufactured by Oak Co.
/A-2.Using 216 lamps, illuminate the ultraviolet rays from a distance of 30 degrees, and at the same time supply oxygen at 10 cc (STP)/min and methane at 10 cc (STP)/min to the reaction vessel 3.
1, the inside of the reaction vessel 31 is 10 x 10
The vacuum level was maintained at -2 Torr, and AC power of 1.0 KHz was applied to the electrodes 34, 34 to generate plasma, and the treatment was carried out for 30 minutes.

処理した基材40について実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表2に示す
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

実施例10 第2図に示す反応容器31を用い、回転ホルダー33に
基材として幅10mm、長さ20fflI11、厚さ0
.5++u++のポリメチルメタクリレート板40を保
持し、紫外線ランプ35、35として■オーク社製VU
V−040/A−2.2U 6灯を用い、30鵬の距離
から紫外線を照射し、同時にオゾナイザ−で発生させた
3容量%のオゾンを含む酸素を15cc(STP)/m
in、で反応容器31内に導入しながら、反応容器31
内を5 X 10−”Torrの真空度に保ち、電極3
4、34に交流電力10K)Izを加えてプラズマを発
生させて15分間処理した。
Example 10 Using the reaction vessel 31 shown in FIG. 2, a base material with a width of 10 mm, a length of 20 fflI11, and a thickness of 0 was placed on the rotary holder 33.
.. 5++u++ polymethyl methacrylate plate 40 is held, and as ultraviolet lamps 35, 35 ■ VU manufactured by Oak Co.
Using 6 V-040/A-2.2U lamps, ultraviolet rays are irradiated from a distance of 30 meters, and at the same time oxygen containing 3% by volume of ozone generated by an ozonizer is irradiated at 15 cc (STP)/m.
in, while introducing the reaction container 31 into the reaction container 31.
Maintaining a vacuum of 5 x 10-” Torr inside, electrode 3
4, 34, AC power 10K) Iz was added to generate plasma, and the treatment was carried out for 15 minutes.

処理した基材40について実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表−2に示
す。
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table-2.

比較例2 第2図に示す反応容器3工を用い、回転ホルダー33に
基材として幅10mm、長さ20胴、厚さ0.5 [1
のポリメチルメタクリレート板40を保持し、紫外線ラ
ンプ35、35として■オーク社製V11V−040/
A−2,21J 6灯を用い、30n+mの距離から紫
外線を15分間照射した。なお、反応容器内は5 Xl
、0−”Tor’rの真空度に保った。
Comparative Example 2 Three reaction vessels shown in FIG. 2 were used, and a rotary holder 33 had a base material of 10 mm in width, 20 mm in length, and 0.5 mm in thickness.
The polymethyl methacrylate plate 40 is held, and as the ultraviolet lamps 35,
Using six A-2, 21J lamps, ultraviolet rays were irradiated for 15 minutes from a distance of 30 nm+m. In addition, the inside of the reaction vessel is 5Xl.
, the degree of vacuum was maintained at 0-''Tor'r.

処理した基材40について実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表2に示す
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

比較例3 第2図に示す反応容器31を用い、回転ホルダーに基材
として幅10+nm、長さ20鴫、厚さ0.5 mmの
ポリメヂルメタクリレ−1・板40を保持し、酸素を1
0cc(STP)/min、で反応容器31内に導入し
、反応容器31内を5XIO−”Torrの真空度に保
ち、電極34.34に交流電力10HIzを加えてプラ
ズマを発生させて15分間処理した。
Comparative Example 3 Using the reaction vessel 31 shown in Fig. 2, a polymethacrylate 1 plate 40 with a width of 10+ nm, a length of 20 nm, and a thickness of 0.5 mm was held as a base material in a rotary holder, and oxygen was removed. 1
0 cc (STP)/min, was introduced into the reaction vessel 31, the inside of the reaction vessel 31 was maintained at a vacuum level of 5XIO-'' Torr, AC power of 10 HIz was applied to the electrode 34, 34 to generate plasma, and treatment was performed for 15 minutes. did.

処理した基材40について実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性を調べた。結果を表2に示す
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

比較例4 第2図に示す反応容器31を用い、回転ホルダー33に
基材として幅10論、長さ20mm、厚さ0.5 mの
ポリメチルメタクリレート板40を保持し、紫外線ラン
プ35、35としテ■オーク社製VUV−040/A−
2,2U 6灯を用い、30mmの距離から紫外線を1
0分間照射したのち、酸素を10cc(STP)/mi
n、で反応容器31内に導入し、反応容器31内を5 
X 10− ”Torrの真空度に保ち、電極3434
に交流電力10Ktlzを加えてプラズマを発生させて
10分間処理した。
Comparative Example 4 Using the reaction vessel 31 shown in FIG. Toshite Oak Co., Ltd. VUV-040/A-
Using 6 2.2U lights, 1 UV ray is emitted from a distance of 30mm.
After 0 minutes of irradiation, oxygen was added at 10cc (STP)/mi.
n, into the reaction vessel 31, and inside the reaction vessel 31 at 5.
Maintain the vacuum level at X 10-” Torr and connect the electrode 3434
AC power of 10 Ktlz was applied to generate plasma, and the treatment was carried out for 10 minutes.

処理した基材40について実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性について調べた。結果を表−
2に示す。
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example 1. Display the results -
Shown in 2.

比較例5 第2図に示す反応容器31を用い、回転ホルダー33に
基材として幅10m、長さ20an、厚さ0,5Mのポ
リメチルメタクリレート板40を保持し、酸素を10c
c(STP)/min、で反応容器31内に導入し、反
応容器31内を5 X 10−”Torrの真空度に保
ち、電極に交流電力10KHzを加えてプラズマを発生
させて10分間処理したのち、紫外線ランプ35.35
として■オーク社製VIIV−040/A−2,2U 
6灯を用い、30mmの距離がら紫外線照射を10分間
行なった。
Comparative Example 5 Using the reaction vessel 31 shown in FIG. 2, a polymethyl methacrylate plate 40 with a width of 10 m, a length of 20 ann, and a thickness of 0.5 m was held as a base material in a rotary holder 33, and oxygen was
c(STP)/min into the reaction vessel 31, the inside of the reaction vessel 31 was maintained at a vacuum level of 5 x 10-'' Torr, AC power of 10 KHz was applied to the electrode to generate plasma, and treatment was performed for 10 minutes. Later, ultraviolet lamp 35.35
As ■ VIIV-040/A-2, 2U manufactured by Oak Company
Using six lamps, ultraviolet rays were irradiated for 10 minutes at a distance of 30 mm.

処理した基材40について実施例】と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性について調べた。結果を表−
2に示す。
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example. Display the results -
Shown in 2.

比較例6 第2図に示す反応容器31を用い、回転ホルダー33に
基材として幅10胴、長さ20肛、厚さ0.5朧のポリ
メチルメタクリレート板40を保持し、酸素を10cc
(STP)/min、で、メタンを10cc(STP)
/min、で反応容器31内に導入しながら、反応容器
3I内を10 X 10−2Torrの真空度に保ち、
電極34.34に交流電力1.0 K Hzを加えてプ
ラズマを発生させて30分間処理した。
Comparative Example 6 Using the reaction vessel 31 shown in FIG. 2, a polymethyl methacrylate plate 40 having a width of 10 mm, a length of 20 mm, and a thickness of 0.5 mm was held as a base material in the rotating holder 33, and 10 cc of oxygen was held as a base material.
(STP)/min, 10cc of methane (STP)
/min, while maintaining the inside of the reaction vessel 3I at a vacuum level of 10 x 10-2 Torr,
AC power of 1.0 KHz was applied to the electrodes 34, 34 to generate plasma, and the treatment was carried out for 30 minutes.

処理した基材40について実施例1と同様に親水性の経
時変化および表面の耐久性について調べた。結果を表−
2に示す。
The treated base material 40 was examined for changes in hydrophilicity over time and surface durability in the same manner as in Example 1. Display the results -
Shown in 2.

り形成された親水性薄膜の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a hydrophilic thin film formed by

3t−−反応容器、 33−  回転ホルダー、 36−−−〜交流電源、 ボート、 38−−−排気管、 シャッター 無機質膜、 電源ボックス。3t--reaction vessel, 33- Rotating holder, 36-----AC power supply, boat, 38---exhaust pipe, shutter inorganic membrane, power box.

電極、 基材、 遮蔽板、 電子ビーム源、 39−−−−ガス導入管、 改質膜、 紫外線ランプ、electrode, Base material, Shield, electron beam source, 39---Gas introduction pipe, modified membrane, ultraviolet lamp,

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基材表面に、酸素および/またはオゾンの存在下
で紫外線を照射するか、または非重合性のガスプラズマ
で処理して基材表面を改質したのち、該基材表面上に無
機酸化物薄膜を形成することを特徴とする表面処理方法
(1) After modifying the base material surface by irradiating the base material surface with ultraviolet rays in the presence of oxygen and/or ozone or by treating it with non-polymerizable gas plasma, inorganic A surface treatment method characterized by forming an oxide thin film.
(2)基材表面に、真空下、酸素および/またはオゾン
の存在下で紫外線を照射しながらプラズマ処理すること
を特徴とする表面処理方法。
(2) A surface treatment method characterized by subjecting the surface of a substrate to plasma treatment while irradiating ultraviolet rays under vacuum in the presence of oxygen and/or ozone.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0610361U (en) * 1992-07-06 1994-02-08 日新電機株式会社 Film forming equipment
JP2007302806A (en) * 2006-05-12 2007-11-22 Toppan Printing Co Ltd Surface treatment apparatus
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