JPH02250384A - 波長可変半導体レーザ光源装置 - Google Patents
波長可変半導体レーザ光源装置Info
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- JPH02250384A JPH02250384A JP7034689A JP7034689A JPH02250384A JP H02250384 A JPH02250384 A JP H02250384A JP 7034689 A JP7034689 A JP 7034689A JP 7034689 A JP7034689 A JP 7034689A JP H02250384 A JPH02250384 A JP H02250384A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 25
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 17
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/062—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
- H01S5/0625—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes in multi-section lasers
- H01S5/06255—Controlling the frequency of the radiation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分計〉
本発明は、コヒーレント光通信等に用いられる、小型で
安定な波長可変半導体レーザ光源装置に関する。
安定な波長可変半導体レーザ光源装置に関する。
〈従来の技術〉
波長可変半導体レーザ光源装置に関する研究は、コヒー
レント光通信方式におけるキーデバイスとしての要望及
び測定器用等の光源としての要望から、近年活発に行わ
れている。
レント光通信方式におけるキーデバイスとしての要望及
び測定器用等の光源としての要望から、近年活発に行わ
れている。
従来の波長可変半導体レーザ光源装置としては、外部回
折格子により波長選択を行う外部回折格子型と、波長選
択部と増幅部とがモノリシックに一体化したモノリシッ
ク型とを代表的に挙げることができる。
折格子により波長選択を行う外部回折格子型と、波長選
択部と増幅部とがモノリシックに一体化したモノリシッ
ク型とを代表的に挙げることができる。
従来の外部回折格子型波長可変半導体レーザ光源装置の
一例を第6図に示す。同図に示すように、この外部回折
格子型装置では、半導体レーザ110の片端面には無反
射コート膜111が施され、半導体レーザ110の無反
射コート膜111側にレンズ120及び回折格子130
が配設されており、無反射コート膜111を施した端面
から出た光はレンズ120でコリメートされた後、回折
格子130で反射されて半導体レーザ110へ戻るよう
に設計されている。すなわち、回折格子130と半導体
レーザ110の無反射コート膜111を施していない端
面とで共振赫を構成してレーザ発振を行う。そして、こ
の際、回折格子130の光軸に対する角度を調節するこ
とにより、波長選択を行い、レーザの発信波長を制御で
きるようになっている。
一例を第6図に示す。同図に示すように、この外部回折
格子型装置では、半導体レーザ110の片端面には無反
射コート膜111が施され、半導体レーザ110の無反
射コート膜111側にレンズ120及び回折格子130
が配設されており、無反射コート膜111を施した端面
から出た光はレンズ120でコリメートされた後、回折
格子130で反射されて半導体レーザ110へ戻るよう
に設計されている。すなわち、回折格子130と半導体
レーザ110の無反射コート膜111を施していない端
面とで共振赫を構成してレーザ発振を行う。そして、こ
の際、回折格子130の光軸に対する角度を調節するこ
とにより、波長選択を行い、レーザの発信波長を制御で
きるようになっている。
なお、この波長可変半導体レーザ光源装置では、回折格
子130で選択された波長と外部共振菜の縦モード波長
との間に競合が起って同調できない波長範囲が存在する
ことになるので、共振器長を調整するためにピエゾ素子
140を設け、回折格子130を光軸方向に並進させる
ことにより光路長の調整を行っている。
子130で選択された波長と外部共振菜の縦モード波長
との間に競合が起って同調できない波長範囲が存在する
ことになるので、共振器長を調整するためにピエゾ素子
140を設け、回折格子130を光軸方向に並進させる
ことにより光路長の調整を行っている。
一方、モノリシック型の代表例として多電極DBRレー
ザ装置の構成を第7図に示す。
ザ装置の構成を第7図に示す。
この半導体レーザ200には光増幅領域201゜位相調
整領域202及び波長選択領域203が設けられており
、光増幅領域201への電流注入によりレーザ発振を行
うと共に、波長選択領域203への電流注入により発振
波長の選択を行うようになっている。そして、上述した
ように共振器長を調整するために位相調整領域202が
設けられており、この位相調整領域202に電流を注入
することによりその領域の屈折率を変化させ、位相調整
を行っている。なお、図中、204,205,206は
それぞれ光増幅領域2012位相調整領域202及び波
長選択領域203に電流を注入にするための電極、20
7はアース側の電極、208は電極204,205,2
06を区切るための溝であり、209はクラッド層を示
す。
整領域202及び波長選択領域203が設けられており
、光増幅領域201への電流注入によりレーザ発振を行
うと共に、波長選択領域203への電流注入により発振
波長の選択を行うようになっている。そして、上述した
ように共振器長を調整するために位相調整領域202が
設けられており、この位相調整領域202に電流を注入
することによりその領域の屈折率を変化させ、位相調整
を行っている。なお、図中、204,205,206は
それぞれ光増幅領域2012位相調整領域202及び波
長選択領域203に電流を注入にするための電極、20
7はアース側の電極、208は電極204,205,2
06を区切るための溝であり、209はクラッド層を示
す。
〈発明が解決しようとする課題〉
上述したモノリシック型波長可変レーザ装置では、発振
波長を変化させる手段として、電流注入による半導体の
屈折率変化を利用しているため、波長可変域が大きくと
れず、現在では最大10 nm程度である。また、共振
器長が短いためスペクトル幅が狭くならないという問題
がある。
波長を変化させる手段として、電流注入による半導体の
屈折率変化を利用しているため、波長可変域が大きくと
れず、現在では最大10 nm程度である。また、共振
器長が短いためスペクトル幅が狭くならないという問題
がある。
一方、外部回折格子を用いた波長可変レーザ装置では、
回折格子の機械的な回転により波長選択を行うため、波
長可変域が、例えば1.5μm帯で90 nm程度と大
きくなる。また、この場合、外部の回折格子との間で共
振するので、共振器長が長く、スペクトル線幅が狭くな
り、例えば線幅10klb以下のものも報告されている
。
回折格子の機械的な回転により波長選択を行うため、波
長可変域が、例えば1.5μm帯で90 nm程度と大
きくなる。また、この場合、外部の回折格子との間で共
振するので、共振器長が長く、スペクトル線幅が狭くな
り、例えば線幅10klb以下のものも報告されている
。
したがって、広い波長可変範囲を必要とする場合や狭い
スペクトル線幅を必要とする場合には外部回折格子型波
長可変半導体レーザ光源装置が用いられる。
スペクトル線幅を必要とする場合には外部回折格子型波
長可変半導体レーザ光源装置が用いられる。
しかし、従来の外部回折格子型では、位相調整のために
上述したように回折格子130を並進させるピエゾ素子
140等を設けなければならないという問題がある。す
なわち、微動系が複雑になると共に、調整を全て機械的
に行うために安定性が悪いなどの問題がある。
上述したように回折格子130を並進させるピエゾ素子
140等を設けなければならないという問題がある。す
なわち、微動系が複雑になると共に、調整を全て機械的
に行うために安定性が悪いなどの問題がある。
さらに、外部回折格子型装置では、波長の調整が機械的
であるため、高速周波数変調が困難であるという問題も
ある。但し、通常の単体の半導体レーザで行われている
ように、活性領域へめ注入電流の変化により高速変調を
行うこともできるが、この場合には可変幅が狭く且つ周
波数変調と同時に光出力強度の変化も発生してしまうと
いう問題がある。
であるため、高速周波数変調が困難であるという問題も
ある。但し、通常の単体の半導体レーザで行われている
ように、活性領域へめ注入電流の変化により高速変調を
行うこともできるが、この場合には可変幅が狭く且つ周
波数変調と同時に光出力強度の変化も発生してしまうと
いう問題がある。
本発明はこのような事情に鑑み、外部回折格子型波長可
変半導体レーザ光源装置における広い波長可変幅と狭い
スペクトル幅とを確保すると共に、位相調整を簡素化し
、小型化、安定化を図9、さらに高速周波数変調も可能
な波長可変半導体レーザ光源装置を提供することを目的
とする。
変半導体レーザ光源装置における広い波長可変幅と狭い
スペクトル幅とを確保すると共に、位相調整を簡素化し
、小型化、安定化を図9、さらに高速周波数変調も可能
な波長可変半導体レーザ光源装置を提供することを目的
とする。
く課題を解決するための手段〉
前記目的を達成する本発明にかかる波長可変半導体レー
ザ光源装置は、波長選択性を有する反射板とレンズと半
導体レーザとによって構成された外部鏡型レーザ装置で
あって、該半導体レーザ素子が、少なくとも一つの光増
幅領域と少なくとも一つの位相調整領域とを有し且これ
ら光増幅領域及び位相調整領域のそれぞれに独立の電流
を注入できる構造であることを特徴とする。
ザ光源装置は、波長選択性を有する反射板とレンズと半
導体レーザとによって構成された外部鏡型レーザ装置で
あって、該半導体レーザ素子が、少なくとも一つの光増
幅領域と少なくとも一つの位相調整領域とを有し且これ
ら光増幅領域及び位相調整領域のそれぞれに独立の電流
を注入できる構造であることを特徴とする。
本発明は外部の波長選択性を有する反射板により波長選
択を行うと共に、半導体レーザ素子内に設けた少なくと
も一つずつの光増幅領域及び位相調整領域への注入電流
を独立に制御する機構とすることにより、小型化を図り
、広い波長可変域を確保しながら波長可変レーザ光源と
しての制御性の向上を図るものである。すなわち、外部
の波長選択性を有する反射板を、位相調整のために並進
させるピエゾ素子等が排除できることにより小型化でき
、位相調整を位相調整領域への注入電流を変化させるこ
とにより行うので機械的な調整の自由度が減るために動
作の安定化が実現される。また、活性領域とは独立した
位相調整領域への注入電流の変調により高速周波数変調
を行うことができるので、光出力強度の安定性を保持し
ながら高速周波数変調が可能となる。
択を行うと共に、半導体レーザ素子内に設けた少なくと
も一つずつの光増幅領域及び位相調整領域への注入電流
を独立に制御する機構とすることにより、小型化を図り
、広い波長可変域を確保しながら波長可変レーザ光源と
しての制御性の向上を図るものである。すなわち、外部
の波長選択性を有する反射板を、位相調整のために並進
させるピエゾ素子等が排除できることにより小型化でき
、位相調整を位相調整領域への注入電流を変化させるこ
とにより行うので機械的な調整の自由度が減るために動
作の安定化が実現される。また、活性領域とは独立した
位相調整領域への注入電流の変調により高速周波数変調
を行うことができるので、光出力強度の安定性を保持し
ながら高速周波数変調が可能となる。
本発明の代表的な構成としては、位相調整領域と光増幅
領域とがモノリシックに一体化した位相調整機能内蔵半
導体レーザと外部回折格子とを組合せたものが考えられ
る。
領域とがモノリシックに一体化した位相調整機能内蔵半
導体レーザと外部回折格子とを組合せたものが考えられ
る。
なお、本発明において、波長選択性を有する反射板とし
ては、代表的には回折格子を挙げることができるが、こ
の他、例えば音響光学効果による波長可変光フィルタを
利用した反射板等、波長選択が可能な反射板であれば使
用することができる。
ては、代表的には回折格子を挙げることができるが、こ
の他、例えば音響光学効果による波長可変光フィルタを
利用した反射板等、波長選択が可能な反射板であれば使
用することができる。
く実 施 例〉
以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
第1図には一実施例にかかる可変波長半導体レーザ光源
装置の構成を示す。同図中、10は位相調整機能付半導
体レーザ素子、20はレンズ、30は波長選択性を有す
る反射板としての回折格子である。
装置の構成を示す。同図中、10は位相調整機能付半導
体レーザ素子、20はレンズ、30は波長選択性を有す
る反射板としての回折格子である。
位相rA整種機能付半導体レーザ素子0はレンズ20側
端面に無反射コートyA11が施されており、その構成
を第2図に示す。同図に示すように、活性層12を有す
る右半分が光増幅機能を有する領域であり通常のレーザ
と同じ構成である。また、導波層13を有する左半分が
位相調整機能を有する領域であり、この領域の働きによ
り位相調整が行われる。
端面に無反射コートyA11が施されており、その構成
を第2図に示す。同図に示すように、活性層12を有す
る右半分が光増幅機能を有する領域であり通常のレーザ
と同じ構成である。また、導波層13を有する左半分が
位相調整機能を有する領域であり、この領域の働きによ
り位相調整が行われる。
なお、図中、14.15はそれぞれ活性層12及び導波
層13へ電流を注入するための電極、16はアース側の
電極、17は電極14,15を分離する溝であり、18
.19はクラッド層を示す。すなわち、電極14から活
性層12に電流を注入するとレーザ発振する。一方、導
波層13に電81i15から電流を注入すると、自由キ
ャリアプラズマ効果によ給屈折率が変化して導波層13
の実効的な光路長が変化し、トータルの共振器長が変化
することになり、この機能により電気的に共振器長調整
を行うことができる。
層13へ電流を注入するための電極、16はアース側の
電極、17は電極14,15を分離する溝であり、18
.19はクラッド層を示す。すなわち、電極14から活
性層12に電流を注入するとレーザ発振する。一方、導
波層13に電81i15から電流を注入すると、自由キ
ャリアプラズマ効果によ給屈折率が変化して導波層13
の実効的な光路長が変化し、トータルの共振器長が変化
することになり、この機能により電気的に共振器長調整
を行うことができる。
かかる位相調整機能付半導体レーザ素子10は発振する
レーザの種類等に合せて従来から知られている技術で構
成すればよく、例えば第7図に示した多電8iiDBR
レーザ装置の波長選択領域203を除去して位相調整領
域202側に無反射コート膜を施したものと同様なもの
も使用可能である。
レーザの種類等に合せて従来から知られている技術で構
成すればよく、例えば第7図に示した多電8iiDBR
レーザ装置の波長選択領域203を除去して位相調整領
域202側に無反射コート膜を施したものと同様なもの
も使用可能である。
ここで、本実施例の波長可変半導体レーザ光源装置の動
作について説明する。
作について説明する。
まず、電極14へしきい値電流以上の電流を流し、レー
ザ発振を起こしておき、回折格子30の角度調整により
、発振波長の粗調整を行う。このときの波長選択の精度
は、外部共振器の縦モードで決まり、選択できる波長は
この縦モード間隔で不連続になる。
ザ発振を起こしておき、回折格子30の角度調整により
、発振波長の粗調整を行う。このときの波長選択の精度
は、外部共振器の縦モードで決まり、選択できる波長は
この縦モード間隔で不連続になる。
この外部共振器の縦モード間隔Δλ、は(1)式で与え
られる。ここでλは中心波長、Lは実効的共振器長であ
り、例えば中心及長久を1.5μmとし実効的共振器長
りを5cmとした場合では0,23Aとなる。
られる。ここでλは中心波長、Lは実効的共振器長であ
り、例えば中心及長久を1.5μmとし実効的共振器長
りを5cmとした場合では0,23Aとなる。
Δλ、=λ2/2L ・・・(1)本実施例
では、電tS15への電流注入により共振器長りを変化
させ、縦モードを調整することによ抄発振波長のm調整
を行うことができ、任意の波長が選択可能になる。第1
図の配置での実効的共振語長りは、(2)式のように、
外部回折格子30と半導体レーザ10との距1JIL0
と、増幅領域の光路長nIL、と、位相調11領域の光
路長n2L、との和で決まる(n。
では、電tS15への電流注入により共振器長りを変化
させ、縦モードを調整することによ抄発振波長のm調整
を行うことができ、任意の波長が選択可能になる。第1
図の配置での実効的共振語長りは、(2)式のように、
外部回折格子30と半導体レーザ10との距1JIL0
と、増幅領域の光路長nIL、と、位相調11領域の光
路長n2L、との和で決まる(n。
は増幅領域の屈折率、n2は位相調整領域の屈折率であ
る)。
る)。
L −L0+ n、 L、 + n、 L2− (2
)従って、位相調整領域の導波層13へのia*注入に
よしn2が変化し、その結果りを変えることができる。
)従って、位相調整領域の導波層13へのia*注入に
よしn2が変化し、その結果りを変えることができる。
例えば、従来の多電極DBRで実現している電流注入に
よる屈折率変化は1%程度であるので、これから共振璧
長変化を求めると、L、= 500 μn1n、= 3
.2として16 μmとなり、変化の大きさは例えば全
共振器長りを5cmとした場合0.03%である。これ
より求メラれる波長変化は5人種度である。この値は外
部共振器長り。を小さ(し、位相調整領域の長さL2を
太き(すればさらに大きくなるので、この系での位相調
整領域による調整により、十分に縦モード間隔Δ札以上
の波長変化が可能である。従って、回折格子の角度調整
によって発振波長の粗調整を行い、位相調整領域への注
入電流の変化によって微調整を行うという方法によ咋、
任意の波長を得ることが出来る。
よる屈折率変化は1%程度であるので、これから共振璧
長変化を求めると、L、= 500 μn1n、= 3
.2として16 μmとなり、変化の大きさは例えば全
共振器長りを5cmとした場合0.03%である。これ
より求メラれる波長変化は5人種度である。この値は外
部共振器長り。を小さ(し、位相調整領域の長さL2を
太き(すればさらに大きくなるので、この系での位相調
整領域による調整により、十分に縦モード間隔Δ札以上
の波長変化が可能である。従って、回折格子の角度調整
によって発振波長の粗調整を行い、位相調整領域への注
入電流の変化によって微調整を行うという方法によ咋、
任意の波長を得ることが出来る。
また、本実施例では、位相調整領域による波長徴rii
整を電極15への電流注入のみで行うことができるので
、従来の系でピエゾ素子により回折格子を機械的に動か
す場合に比べて、比較にならないほどの高速変調が可能
であり、しかも、この周波数変調は、活性層への注入電
流の変調による変調法と比べると、光出力強度の変化が
小さいなどの利点を有する。
整を電極15への電流注入のみで行うことができるので
、従来の系でピエゾ素子により回折格子を機械的に動か
す場合に比べて、比較にならないほどの高速変調が可能
であり、しかも、この周波数変調は、活性層への注入電
流の変調による変調法と比べると、光出力強度の変化が
小さいなどの利点を有する。
位相調整機能付半導体レーザ素子10の構成としては種
々前えられ、例えば第3図(al〜telに示す構成を
例示できる。
々前えられ、例えば第3図(al〜telに示す構成を
例示できる。
第3図1alの半導体レーザIOAは位相調整領域の導
波層13を出力側に位置させ、光増幅域の活性層12を
無反射コート膜11側に位置させた例を示す。第3図(
blの半導体レーザIOBは光増幅領域の活性層12m
と同様な活性1112bを位相!4111領域にも設け
た例であり、この場合には位相TA整領領域2bへの注
入電流をしきい値電流以下にして屈折率の調整を行う。
波層13を出力側に位置させ、光増幅域の活性層12を
無反射コート膜11側に位置させた例を示す。第3図(
blの半導体レーザIOBは光増幅領域の活性層12m
と同様な活性1112bを位相!4111領域にも設け
た例であり、この場合には位相TA整領領域2bへの注
入電流をしきい値電流以下にして屈折率の調整を行う。
また、第3図(C1の半導体レーザIOCは光増幅領域
の活性層12の両側に位相調整領域の導波#13を設け
た例である。
の活性層12の両側に位相調整領域の導波#13を設け
た例である。
これらの構成の半導体レーザIOA〜IOCは上述の半
導体レーザ10と同様の機能を保持することは自明であ
る。
導体レーザ10と同様の機能を保持することは自明であ
る。
また、以上の例では、外部回折格子30の位置調整によ
る位相調整を省略して系の簡素化を図っていたが、半導
体レーザ10の位相調整機能とピエゾ素子等による位相
調整機能とを共存させることも可能である。その場合の
構成例を第4図に示す。同図中、40はピエゾ素子等の
微動機構装置であり、他は上記実施例と同様な符号を付
した。
る位相調整を省略して系の簡素化を図っていたが、半導
体レーザ10の位相調整機能とピエゾ素子等による位相
調整機能とを共存させることも可能である。その場合の
構成例を第4図に示す。同図中、40はピエゾ素子等の
微動機構装置であり、他は上記実施例と同様な符号を付
した。
かかる構成においては、微動機構装置40によって位相
の設定を行い、半導体レーザ10に内蔵された位相調整
機能によって高速変調を行うことなどの使い方が考えら
れる。また、微動機構装置40を介して共振器長を大き
く変えることにより縦モード間隔を変えることができる
ことから、縦モード間隔の設定を微動機構装置40によ
って行い、位相の調整は位相調整機能付半導体レーザl
Oで行うことも考えられる。
の設定を行い、半導体レーザ10に内蔵された位相調整
機能によって高速変調を行うことなどの使い方が考えら
れる。また、微動機構装置40を介して共振器長を大き
く変えることにより縦モード間隔を変えることができる
ことから、縦モード間隔の設定を微動機構装置40によ
って行い、位相の調整は位相調整機能付半導体レーザl
Oで行うことも考えられる。
さらに、第5図に示すように、出力側の端面も無反射コ
ート膜11を施す乙とによって高出力化をねらうことも
考えられ、又、逆に高反射コートを施すことによって反
射戻り光の影響を小さくすることなども考えられる。
ート膜11を施す乙とによって高出力化をねらうことも
考えられ、又、逆に高反射コートを施すことによって反
射戻り光の影響を小さくすることなども考えられる。
≦発明の効果〉
以上説明したように、本発明によれば、外部の波長選択
性を有する反射板と位相調整領域付の多電極半導体レー
ザとを組合せた構成とすることにより、モノリシック型
可変波長光源では実現できない、例えば50 nm以上
の広い波長可変幅及び例えば1001dk以下の狭いス
ペクトル線幅を保持したまま、小型で簡素且つ安定であ
抄、しかも高速周波数変調の性能が向上した波長可変半
導体レーザ光源装置を実現できる。
性を有する反射板と位相調整領域付の多電極半導体レー
ザとを組合せた構成とすることにより、モノリシック型
可変波長光源では実現できない、例えば50 nm以上
の広い波長可変幅及び例えば1001dk以下の狭いス
ペクトル線幅を保持したまま、小型で簡素且つ安定であ
抄、しかも高速周波数変調の性能が向上した波長可変半
導体レーザ光源装置を実現できる。
第1図は本発明の一実施例の波長可変半導体レーザ光源
装置の構成図、第2図はその位相調整機能付半導体レー
ザの模式図、第3図+8)〜lc)はそれぞれ他の位相
調整機能付半導体レーザを示す模式図、第4図は他の実
施例にかかる波長可変半導体レーザ光源装置を示す構成
図、第5図は他の実施例にかかる半導体レーザを示す模
式図、第6図及び第7図は従来技術にかかる波長可変半
導体レーザ装置を示す構成図である。 図 面 中、 10.10A、10B、1 ocは位相m11機能付半
導体レーザ、 11は無反射コート膜、 12.12aは活性!IJ(光増幅領域)、12bは活
性NJ(位相調整領域)、 13は導波】(位相TA整領領域、 14.15.17は電極、 16は溝、 18.19はクラッド層、 20はレンズ、 30は回折格子、 40は微動機構装置である。
装置の構成図、第2図はその位相調整機能付半導体レー
ザの模式図、第3図+8)〜lc)はそれぞれ他の位相
調整機能付半導体レーザを示す模式図、第4図は他の実
施例にかかる波長可変半導体レーザ光源装置を示す構成
図、第5図は他の実施例にかかる半導体レーザを示す模
式図、第6図及び第7図は従来技術にかかる波長可変半
導体レーザ装置を示す構成図である。 図 面 中、 10.10A、10B、1 ocは位相m11機能付半
導体レーザ、 11は無反射コート膜、 12.12aは活性!IJ(光増幅領域)、12bは活
性NJ(位相調整領域)、 13は導波】(位相TA整領領域、 14.15.17は電極、 16は溝、 18.19はクラッド層、 20はレンズ、 30は回折格子、 40は微動機構装置である。
Claims (1)
- 波長選択性を有する反射板とレンズと半導体レーザとに
よって構成された外部鏡型レーザ装置であって、該半導
体レーザ素子が、少なくとも一つの光増幅領域と少なく
とも一つの位相調整領域とを有し且これら光増幅領域及
び位相調整領域のそれぞれに独立の電流を注入できる構
造であることを特徴とする波長可変半導体レーザ光源装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7034689A JPH02250384A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 波長可変半導体レーザ光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7034689A JPH02250384A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 波長可変半導体レーザ光源装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02250384A true JPH02250384A (ja) | 1990-10-08 |
Family
ID=13428773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7034689A Pending JPH02250384A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 波長可変半導体レーザ光源装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02250384A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5272714A (en) * | 1991-12-12 | 1993-12-21 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Distributed phase shift semiconductor laser |
JP2007165890A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Korea Electronics Telecommun | 波長可変光源素子 |
WO2015019650A1 (ja) * | 2013-08-06 | 2015-02-12 | 株式会社 東芝 | 呼気診断装置 |
JP2016528733A (ja) * | 2013-07-30 | 2016-09-15 | ラッシュミア・テクノロジー・リミテッド | 光学ソース |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5561082A (en) * | 1978-10-31 | 1980-05-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Light injection synchronizer for semiconductor laser |
JPS63124590A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-28 | Hitachi Ltd | 半導体レ−ザ装置 |
-
1989
- 1989-03-24 JP JP7034689A patent/JPH02250384A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5561082A (en) * | 1978-10-31 | 1980-05-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Light injection synchronizer for semiconductor laser |
JPS63124590A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-28 | Hitachi Ltd | 半導体レ−ザ装置 |
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US5272714A (en) * | 1991-12-12 | 1993-12-21 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Distributed phase shift semiconductor laser |
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WO2015019650A1 (ja) * | 2013-08-06 | 2015-02-12 | 株式会社 東芝 | 呼気診断装置 |
JP2015052586A (ja) * | 2013-08-06 | 2015-03-19 | 株式会社東芝 | 呼気診断装置 |
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