JPH02250041A - Demultiplexing device and beam deflecting device - Google Patents

Demultiplexing device and beam deflecting device

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JPH02250041A
JPH02250041A JP7234789A JP7234789A JPH02250041A JP H02250041 A JPH02250041 A JP H02250041A JP 7234789 A JP7234789 A JP 7234789A JP 7234789 A JP7234789 A JP 7234789A JP H02250041 A JPH02250041 A JP H02250041A
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light beam
optic material
phase grating
frequency
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Tetsuo Kobayashi
哲郎 小林
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Osaka University NUC
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Abstract

PURPOSE:To efficiently enable diffraction demultiplexing operation by crossing the traveling direction of a light beam to be demultiplexed by demultiplexing in an electrooptic material and the traveling direction of progressive wave phase gratings, and providing at least three cycles of phase gratings in section crossing the phase gratings. CONSTITUTION:A couple of electrodes 3 and 4 which extend in one direction are formed on the electrooptic material body 2 which varies in refractive index with an applied electric field and when a high-frequency voltage is applied between those electrodes, the progressive wave phase gratings are formed in the electrooptic material body 2. When an incident light beam is made to travel crossing an electric wave forming this phase gratings, the number of the phase gratings present in the section of the light beam increases substantially and the diffraction efficiency increases. Therefore, many subordinate beams which are frequency-modulated can be separated spatially. Consequently, the electrooptic material element is applied to the demultiplexer device for generating the frequency-modulated subordinate beams, so that the subordinate beams which are modulated at a higher frequency than an acoustooptical element can be generated.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電気光学材料素子を用い1本の光ビームから
周波数変調された複数のサブビームを発生させる分波装
置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a demultiplexing device that generates a plurality of frequency-modulated sub-beams from a single light beam using an electro-optic material element.

さらに、本発明は、周波数変調された複数の光ビームを
合成することにより偏向ビームを発生させるビーム偏向
装置に関するものである。
Furthermore, the present invention relates to a beam deflection device that generates a deflected beam by combining a plurality of frequency-modulated light beams.

(従来の技術) 従来位相格子による回折を利用した光制御素子として、
進行超音波を利用する音響光学偏向器や音響光学変調器
が既知である。例えば、音響光学偏向器をラマンナス領
域で用いると入射光ビームは回折され、1本の光ビーム
から周波数変調された複数の光ビームが発生する。用い
る超音波の周波数をfmとすると、n次回折光の光周波
数は入射光ビームに対してn X f Aだけ周波数偏
移するので、入射光の光周波数をν。とするとn次回折
光の光周波数シフは次式で与えられる。
(Prior art) As a light control element using diffraction by a conventional phase grating,
Acousto-optic deflectors and acousto-optic modulators that utilize traveling ultrasound waves are known. For example, when an acousto-optic deflector is used in the Ramannus region, an incident light beam is diffracted, producing multiple frequency-modulated light beams from a single light beam. When the frequency of the ultrasonic wave to be used is fm, the optical frequency of the n-th order diffracted light is frequency-shifted by nXfA with respect to the incident light beam, so the optical frequency of the incident light is ν. Then, the optical frequency shift of the n-th order diffracted light is given by the following equation.

νn −ν0 ±n fm        ・・・・・
・(1)ただし、nは正の整数 従って、この音響光学素子を用いれば、入射光に対して
±nfmたけ周波数偏移し空間的に分離された複数の光
ビームを発生させることができる。
νn −ν0 ±n fm ・・・・・・
(1) However, n is a positive integer. Therefore, by using this acousto-optic element, it is possible to generate a plurality of spatially separated light beams with a frequency shift of ±nfm relative to the incident light.

しかしながら、音響波の伝送損失は周波数が高くなれば
なる程大きくなるため高周波変調を行なうには限界があ
り、現在の技術では使用する音響波の周波数は数100
MH2が限界である。従って、より高い周波数で周波数
変調できるビーム発生装置の開発が重要な課題である。
However, the transmission loss of acoustic waves increases as the frequency increases, so there is a limit to high frequency modulation, and with current technology, the frequency of acoustic waves used is several hundred.
MH2 is the limit. Therefore, the development of a beam generator capable of frequency modulation at higher frequencies is an important issue.

一方、より高い周波数で光制御できる装置として電気光
学変調器が既知である。この電気光学変調器は、印加電
界によって屈折率が変化するリチウムタンタレート(L
iTaOl)やリチウムニオベー) (LINbOs)
で出来た電気光学素子に直線偏光を垂直に入射させ、印
加電界の強さに応じて振幅変調するように構成されてい
る。
On the other hand, electro-optic modulators are known as devices that can control light at higher frequencies. This electro-optic modulator uses lithium tantalate (L) whose refractive index changes depending on the applied electric field.
iTaOl) and lithium niobe) (LINbOs)
Linearly polarized light is made perpendicularly incident on an electro-optical element made of the same material, and the amplitude is modulated according to the strength of the applied electric field.

(発明が解決しようとする課題) 本発明者は、電気光学材料素子の高周波特性を鑑み、電
気光学材料素子を光偏向器に利用することを検討した。
(Problems to be Solved by the Invention) The present inventor considered the use of an electro-optic material element in an optical deflector in view of the high frequency characteristics of the electro-optic material element.

すなわち、高周波電界を印加することにより電気光学材
料素子に進行電気波を発生させて位相回折格子を形成し
、この位相格子により周波数変調された複数の光ビーム
を発生させる電気光学分波装置について検討した。しか
しながら、この電気光学分波装置には、以下に述べる問
題点があることが判明した。
In other words, we will study an electro-optic demultiplexing device that generates traveling electric waves in an electro-optic material element by applying a high-frequency electric field to form a phase diffraction grating, and generates multiple frequency-modulated light beams by this phase grating. did. However, it has been found that this electro-optic demultiplexing device has the following problems.

(1)位相格子により入射ビームを回折させるためには
、入射ビームの断面内に多周期に相当する位相格子を存
在させる必要がある。この場合、超音波は音速が遅く波
長が短いため(100MT(zで、数10μll1)、
ビーム断面内に多数の位相格子が形成される。しかしな
がら、電磁波は、その伝播速度が速いため、位相格子の
周期が長く(IGH2で数cmから数10 cmのオー
ダ)、光ビーム断面内に多数の位相格子を形成すること
は極めて困難であり、実用的に不可能であった。また、
十分な回折効率で多数の周波数変調光を得るには大きな
駆動電力が必要である。これらの理由により、電気光学
材料素子を用いた分波装置は現実に実用化されていない
(1) In order to diffract an incident beam by a phase grating, it is necessary to have phase gratings corresponding to multiple periods in the cross section of the incident beam. In this case, since the ultrasonic wave has a slow sound speed and a short wavelength (100MT (z, several tens of μll1),
A number of phase gratings are formed within the beam cross section. However, since the propagation speed of electromagnetic waves is fast, the period of the phase grating is long (on the order of several cm to several tens of cm for IGH2), and it is extremely difficult to form a large number of phase gratings within the cross section of the optical beam. It was practically impossible. Also,
A large driving power is required to obtain a large number of frequency-modulated lights with sufficient diffraction efficiency. For these reasons, a demultiplexing device using an electro-optic material element has not been put into practical use.

従って、本発明は上述した課題を解決し、入射光ビーム
の断面内に多数の位相格子を形成でき、高効率で回折分
波できる電気光学分波装置を提供するものである。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems and provides an electro-optic demultiplexing device that can form a large number of phase gratings within the cross section of an incident light beam and can perform diffraction demultiplexing with high efficiency.

さらに、本発明は、このような分波装置によって発生し
た複数のサブビームをフーリエ合成することによって高
解像度の偏向ビームを発生させるビーム偏向装置を提供
するものである。
Furthermore, the present invention provides a beam deflection device that generates a high-resolution deflected beam by performing Fourier synthesis on a plurality of sub-beams generated by such a demultiplexing device.

(課題を解決するための手段) 本発明による分波装置は、印加電界に応じて屈折率が変
化する電気光学材料体及びこの電気光学材料体をはさん
で一方向に沿って延在する1対の電極を有する電気光学
素子と、前記1対の電極の一端に接続され前記1対の電
極に高周波電圧を印加する高周波電源とを具え、前記電
気光学材料体の内部に、前記電極の延在方向に沿って屈
折分布を形成して進行波位相格子を形成し、前記電気光
学材料内における分波されるべき光ビームの進行方向と
進行波位相格子の進行方向とを斜交させ、前記光ビーム
の位相格子と交差する断面内に少なくとも3周期の位相
格子が含まれるように構成したことを特徴とするもので
ある。
(Means for Solving the Problems) A demultiplexing device according to the present invention includes an electro-optic material body whose refractive index changes depending on an applied electric field, and an electro-optic material body that extends in one direction across the electro-optic material body. an electro-optical element having a pair of electrodes; and a high-frequency power source connected to one end of the pair of electrodes and applying a high-frequency voltage to the pair of electrodes; forming a traveling wave phase grating by forming a refraction distribution along the direction in which the light beam is split, and making the traveling direction of the light beam to be demultiplexed in the electro-optic material obliquely intersect the traveling direction of the traveling wave phase grating; The present invention is characterized in that a cross section intersecting the phase grating of the light beam includes at least three periods of phase gratings.

さらに、本発明によるビーム偏向装置は、光ビームを周
波数変調され空間的に分離された複数のサブビームに分
離する分波装置と、分離されたサブビームをフーリエ分
解するためのフーリエ変換レンズと、各サブビームの位
相を同相にするための位相補償器と、同相にされたサブ
ビームをフーリエ合成するためのフーリエ変換レンズと
を具えることを特徴とするものである。
Furthermore, the beam deflection device according to the present invention includes a demultiplexer that separates a light beam into a plurality of frequency-modulated and spatially separated sub-beams, a Fourier transform lens for Fourier decomposition of the separated sub-beams, and a Fourier transform lens for Fourier decomposition of the separated sub-beams, and a This system is characterized by comprising a phase compensator for making the phases of the sub-beams in-phase, and a Fourier transform lens for Fourier-synthesizing the sub-beams made in-phase.

(作 用) 印加電界によって屈折率が変化する電気光学材料体に一
方に延在する1対の電極を形成し、これら電極間に高周
波電圧を印加すると電気光学材料体の内部に進行波位相
格子が形成される。この位相格子を形成する電気波と斜
交するように入射光ビームを進行させると、光ビームの
断面内に存在する位相格子の数が実質的に増大し、回折
効率が増大する。この結果、周波数変調された多数のサ
ブビームを空間的に分離されることができる。これによ
り、電気光学材料素子を、周波数変調されたサブビーム
を発生させるための分波装置に適用することができ、従
って、音響光学素子に比べてより高い周波数で変調させ
たサブビームを発生させることができる。
(Function) A pair of electrodes extending to one side is formed on an electro-optic material body whose refractive index changes depending on an applied electric field, and when a high-frequency voltage is applied between these electrodes, a traveling wave phase grating is created inside the electro-optic material body. is formed. Promoting the incident light beam obliquely to the electrical waves forming the phase grating substantially increases the number of phase gratings present in the cross section of the light beam, increasing the diffraction efficiency. As a result, a large number of frequency-modulated sub-beams can be spatially separated. This allows the electro-optic material element to be applied to a demultiplexing device for generating frequency-modulated sub-beams, and therefore enables generation of sub-beams modulated at a higher frequency than an acousto-optic element. can.

さらに、周波数変調された多数のサブビームを位相補償
器により同相とし、同相のサブビームをフーリエ合成す
ると、干渉によって鋭い指向性を有する合成光ビームを
発生する。この合成光ビームは周期的に発生し一定方向
に沿って移動するから、良好な効率でパワー集中された
偏向ビームとなる。この結果、帰線消去の不要なビーム
偏向装置を実現することができる。
Further, when a large number of frequency-modulated sub-beams are brought into phase by a phase compensator and the in-phase sub-beams are Fourier-combined, a combined light beam having sharp directivity is generated by interference. Since this combined light beam is generated periodically and moves along a fixed direction, it becomes a deflected beam in which the power is concentrated with good efficiency. As a result, a beam deflection device that does not require blanking can be realized.

(実施例) 第1図は本発明による分波装置の一例の構成を示すもの
であり、第1図aは電気光学材料素子の構成を示す線図
的断面図、第1図すは全体構成を示す線図、及び第1図
Cは光ビームと進行位相格子との交差状態を示す平面図
である。電気光学材料素子lはリチウムタンタレートや
リチウムニオベートのような電気光学材料体2を有し、
この電気光学材料体にコヒーレントな光ビームを入射さ
せる。電気光学材料体2の電気光学軸が延在する矢印a
方向と直交する方向の両側に第1及び第2の電極3及び
4を形成して電気光学材料素子を構成する。これら電極
3及び4はストリップ線路で構成することができる。電
極3及び4の一端に同軸ケーブルを介して周波数fmの
高周波電圧を発生させる高周波電源5を接続し、電極の
他端は同軸ケーブル6の抵抗Rを介して短絡し無反射終
端を形成する。電気光学材料体2は印加電界に応じて屈
折率が変化するので、高周波電源5がら発生する高周波
電圧により電気光学材料体2内に電極3及び4の延在方
向に沿って進行する進行高周波電界が形成され、この電
界によって周期的な屈折率分布が形成され、従って電気
光学材料体2内に矢印す方向に進行する進行波位相格子
が形成されることになる。この進行波位相格子は、高周
波電界と同一の速度v1で電気光学材料体内を矢印す方
向に進行する。
(Example) Fig. 1 shows the structure of an example of a demultiplexing device according to the present invention, Fig. 1a is a diagrammatic sectional view showing the structure of an electro-optic material element, and Fig. and FIG. 1C is a plan view showing the intersecting state of the light beam and the traveling phase grating. The electro-optic material element 1 has an electro-optic material body 2 such as lithium tantalate or lithium niobate,
A coherent light beam is made incident on this electro-optic material body. Arrow a along which the electro-optic axis of the electro-optic material body 2 extends
First and second electrodes 3 and 4 are formed on both sides in a direction perpendicular to the direction, thereby configuring an electro-optic material element. These electrodes 3 and 4 can be constructed from strip lines. A high frequency power source 5 that generates a high frequency voltage of frequency fm is connected to one end of the electrodes 3 and 4 via a coaxial cable, and the other end of the electrode is short-circuited via a resistor R of the coaxial cable 6 to form a non-reflective termination. Since the refractive index of the electro-optic material body 2 changes depending on the applied electric field, a traveling high-frequency electric field propagates within the electro-optic material body 2 along the extending direction of the electrodes 3 and 4 due to the high-frequency voltage generated by the high-frequency power source 5. is formed, and this electric field forms a periodic refractive index distribution, thereby forming a traveling wave phase grating that travels in the direction of the arrow in the electro-optic material body 2. This traveling wave phase grating travels in the direction of the arrow within the electro-optic material at the same speed v1 as the high frequency electric field.

第1図すに示すように、半導体レーザ7から放射された
光ビーム(矢印C方向に偏光している)をシリトリカル
レンズを含むコリメータ8によって偏平な平行ビームと
してから電気光学材料素子1に入射させる0本発明では
、入射光ビームが位相格子の進行方向と斜交するように
光ビームを電気光学材料素子1に入射させる。入射した
光ビームは、電気光学材料体2内を進行する位相格子に
よって回折され、0次、1次−−−−n次の回折光が空
間的に分離されたサブビームとして出射する。
As shown in FIG. 1, a light beam (polarized in the direction of arrow C) emitted from a semiconductor laser 7 is converted into a flat parallel beam by a collimator 8 including a silitorical lens, and then enters an electro-optic material element 1. In the present invention, a light beam is made incident on the electro-optic material element 1 such that the incident light beam is oblique to the traveling direction of the phase grating. The incident light beam is diffracted by the phase grating traveling within the electro-optic material body 2, and 0th-order, 1st-order, etc. n-order diffracted lights are emitted as spatially separated sub-beams.

このn次すブビームの光周波数シフは入射光の光周波数
をν。とすると次式で与えられる。
The optical frequency shift of this n-th sub-beam changes the optical frequency of the incident light to ν. Then, it is given by the following formula.

、lI=  ν。±nfs ここで、fmは位相格子の周波数、すなわち高周波電源
5の周波数である。これらサブビームをフーリエ変換レ
ンズ8により平行光束とする。この結果、電気光学材料
素子によって2n+1本の周波数変調された空間分離さ
れたサブビームが形成されることになる。第1図Cに示
すように、本発明では入射光ビームと位相格子の進行方
向とが斜交するように電極3及び4を形成する。この場
合、入射光ビームの進行方向と位相格子の進行方向とを
斜交させれば、光ビームと位相格子とのなす角度をψと
すると、光ビームと位相格子波との実効交差長はほぼ1
/cosψ倍だけ増加し、この結果ビーム断面内に含ま
れる位相格子もほぼ1/cosψ倍だけ増加することに
なる。この結果ビーム断面内に含まれる位相格子も実質
的に1/cosψ倍だけ増加することになる。この結果
、光ビーム断面内に多周期骨の位相格子が含まれること
により、入射光ビームは充分良好な回折効率で回折され
、周波数変調された多数のサブビームを発生させること
ができる。尚、電気光学材料素子の入射面における反射
を防止するため、無反射コーティングを施すことが望ま
しい。
, lI = ν. ±nfs Here, fm is the frequency of the phase grating, that is, the frequency of the high frequency power source 5. These sub-beams are converted into parallel beams by a Fourier transform lens 8. As a result, 2n+1 frequency-modulated spatially separated sub-beams are formed by the electro-optic material element. As shown in FIG. 1C, in the present invention, the electrodes 3 and 4 are formed so that the incident light beam and the traveling direction of the phase grating cross obliquely. In this case, if the traveling direction of the incident light beam and the traveling direction of the phase grating are obliquely crossed, and the angle between the light beam and the phase grating is ψ, the effective intersection length between the light beam and the phase grating wave is approximately 1
/cosψ times, and as a result, the phase grating included in the beam cross section also increases by approximately 1/cosψ times. As a result, the phase grating included in the beam cross section also increases substantially by a factor of 1/cosψ. As a result, since the multi-periodic bone phase grating is included in the light beam cross section, the incident light beam can be diffracted with sufficiently good diffraction efficiency and a large number of frequency-modulated sub-beams can be generated. Note that in order to prevent reflections on the incident surface of the electro-optic material element, it is desirable to apply a non-reflective coating.

第2図は本発明による電気光学材料素子の変形例の構成
を示す平面図である。本例では、長方体の電気光学材料
体2を用い、その長手軸線2と斜交するように電極3及
び4(図面上電極3だけを示す)を形成する。そして、
電気光学材料体2の長手軸線!と直交する端面2aに垂
直に光ビームを入射させる。このように構成すれば、電
気光学材料素子へ垂直に入射させても、光ビームと位相
格子波とを斜交させることができ、入射面における反射
損失を除去することができる。尚、入射光ビームと位相
格子波とのなす角度は、光ビームの位相格子波との交差
断面内に少なくとも3周期に相当する位相格子が存在す
れば、良好に分波することができる。
FIG. 2 is a plan view showing the configuration of a modified example of the electro-optic material element according to the present invention. In this example, a rectangular electro-optic material body 2 is used, and electrodes 3 and 4 (only electrode 3 is shown in the drawing) are formed obliquely to the longitudinal axis 2 of the body. and,
Longitudinal axis of electro-optic material body 2! A light beam is made perpendicularly incident on the end face 2a, which is orthogonal to the end face 2a. With this configuration, even if the light beam is incident perpendicularly to the electro-optic material element, the light beam and the phase grating wave can be obliquely crossed, and reflection loss at the incident surface can be eliminated. Note that the angle formed between the incident light beam and the phase grating wave can be effectively demultiplexed if there are phase gratings corresponding to at least three periods in the cross section of the light beam and the phase grating wave.

第3図は別の変形例の構成を示す平面である。FIG. 3 is a plan view showing the configuration of another modification.

本例では、長方体の電気光学材料体2を用い、その長手
軸線2に対して大きな入射角を以て光ビームを入射させ
ると共に、電極3も長手軸線lに対して斜交するように
形成する。このように構成すれば、電気光学材料素子2
内において光ビームの断面が偏平になるので、断面が小
径の光ビームを入射させても位相格子波と入射光ビーム
との交差長を極めて大きくすることができる。
In this example, a rectangular electro-optic material body 2 is used, the light beam is made incident at a large angle of incidence with respect to the longitudinal axis 2, and the electrodes 3 are also formed obliquely to the longitudinal axis l. . With this configuration, the electro-optic material element 2
Since the cross-section of the light beam becomes flat inside, even if a light beam with a small cross-section is incident, the intersection length between the phase grating wave and the incident light beam can be made extremely large.

第4図は電気光学材料素子が共振器を構成する場合の解
析モデルを示す模式図である。前述した実施例では、電
極3及び4の終端を短絡して無反射終端としたが、電極
の終端を開放して反射終端とすることにより共振器を構
成することもできる。
FIG. 4 is a schematic diagram showing an analytical model when an electro-optic material element constitutes a resonator. In the embodiment described above, the terminal ends of the electrodes 3 and 4 are short-circuited to provide a non-reflective terminal, but a resonator can also be constructed by opening the terminal ends of the electrodes to provide a reflective terminal.

共振器を構成すれば、電気光学材料素子内において電界
は定在波となり、定在波位相格子によって回折が生ずる
。この場合、進行方向が互いに反対となる2個の定在波
が形成されるため、回折光は進行方向が反対向きの進行
波位相格子による回折光が合成されたものとなる。進行
方向が反対の位相格子により同一方向に回折された光は
、その周波数偏移量の符号が逆転したものとなるから、
位相格子の進行方向に垂直に光ビームを伝播させると回
折によって空間分離されたサブビームはいずれも複数の
周波数成分を有しており、周波数分離されたサブビーム
を発生させることができない。
When a resonator is constructed, the electric field becomes a standing wave within the electro-optic material element, and diffraction occurs due to the standing wave phase grating. In this case, since two standing waves whose traveling directions are opposite to each other are formed, the diffracted light is a combination of the diffracted lights by the traveling wave phase gratings whose traveling directions are opposite. Light diffracted in the same direction by phase gratings traveling in opposite directions has the opposite sign of its frequency shift, so
When a light beam is propagated perpendicular to the traveling direction of the phase grating, each of the sub-beams spatially separated by diffraction has a plurality of frequency components, and it is not possible to generate frequency-separated sub-beams.

一方、定在波の進行方向に斜交するように光ビームを入
射させると、入射光ビームと定在波を構成する2個の進
行波(電源接続部から反射終端に向かう進行波と反射終
端から電源接続部側に向かう進行波)との交差角は互い
に補角の関係になり、互いに相違する。一方、入射光ビ
ームに誘起される位相変化は、相互作用長及び交差角度
に依存するので、光ビームが斜めに入射する場合2個の
進行波が入射光ビームの光波に与える位相変化量に差異
が生ずる。第4図において、光ビームが、電気光学材料
中をZ軸方向に進行するものとし、定在波の進行波は速
度■、でZ軸と角度θ及びπ−θで進行するものとする
。位相格子の進行方向をX′軸方向とすると相互作用空
間における電気光学材料の入射偏波に対する屈折率分布
の変化n(X′)は次式で与えられる。
On the other hand, when a light beam is incident obliquely to the direction of propagation of the standing wave, two traveling waves make up the incident light beam and the standing wave (the traveling wave from the power supply connection to the reflection terminal and the reflection terminal The intersecting angles with respect to the traveling waves (traveling waves traveling from the source to the power source connection side) are complementary angles to each other and are different from each other. On the other hand, the phase change induced in the incident light beam depends on the interaction length and crossing angle, so when the light beam is incident obliquely, there is a difference in the amount of phase change that the two traveling waves give to the light wave of the incident light beam. occurs. In FIG. 4, it is assumed that a light beam travels through the electro-optic material in the Z-axis direction, and that the traveling wave of the standing wave travels at a speed of 2 and at angles θ and π-θ with the Z-axis. Assuming that the traveling direction of the phase grating is the X'-axis direction, the change n(X') in the refractive index distribution of the electro-optic material in the interaction space with respect to the incident polarized wave is given by the following equation.

n(x’ )=n、+Δn5in(2K f m(t 
−x’/V、)) ここで、noは入射波に対する電気光学材料の屈折率、 X′は定在波の進行方向の距離、 ■、は進行波の速度 l は相互作用長 fmは光周波電界の周波数 Δnは印加電界による最大屈折率と 最小屈折率との差 t は時間 △ は定在波の1周期長である。
n(x')=n,+Δn5in(2K f m(t
-x'/V, )) Here, no is the refractive index of the electro-optic material with respect to the incident wave, X' is the distance in the traveling direction of the standing wave, The frequency Δn of the frequency electric field is the difference t between the maximum refractive index and the minimum refractive index due to the applied electric field, and the time Δ is the length of one period of the standing wave.

X=一定の線上を相互作用長lで入射光ビームが伝播す
ると、光波の受ける光学長変化Δn1(x、  t)は
光の進行と位相格子の時間空間的変動を考慮して計算さ
れ、次式が成立する。
When an incident light beam propagates on a line where The formula holds true.

Δnj!(x、t) = (Δr+jりsin (z f van (1/ Vo
−cos θ/■、〕/〔πf tml! (1/ V
e  cos θ/V、)Xsin  (2πfm (
t −1/V、−cos /Vo)Xsinθ+φ) 
        −−−(3)ここで、■。は電気光学
材料中の光束 φ はX=Oにおける所期位相 上式において、cos θ=V、/V。が速度整合に相
当する。また、 r 、1 (1/ Vo  cosθ/V11)=1に
おいて光学長変化は長さ!を通過する間に1周期分平均
化されて零となる。定在波位相格子は、光ビームとの交
差角がθとπ−θの2個の進行波位相格子が合成された
ものと考えることができ、次式が成立する。
Δnj! (x, t) = (Δr+jri sin (z f van (1/ Vo
−cos θ/■, ]/[πf tml! (1/V
e cos θ/V, )Xsin (2πfm (
t-1/V, -cos/Vo)Xsinθ+φ)
--- (3) Here, ■. is the luminous flux φ in the electro-optic material, where cos θ=V, /V in the desired phase equation at X=O. corresponds to speed matching. Also, when r, 1 (1/ Vo cos θ/V11) = 1, the optical length change is length! While passing through, it is averaged for one period and becomes zero. The standing wave phase grating can be considered to be a combination of two traveling wave phase gratings whose intersection angles with the light beam are θ and π−θ, and the following equation holds true.

n(x’)=no+Δ、 sin (2zfmt)co
s(2πf@x’/Vm) =’A C(n0+Δn5in (2πfmI(t−x
’ V+a )))+(n0+Δn5in (2πfj
t−x’ Vm ))) )従って、(4)式より、 f ml (1/ Vo+cos θ/V、 ) = 
1 −−−(5)(5)式が成立するように!及びθを
選択すれば、定在波を構成する2個の進行波の一方の進
行波だけによって光波が回折されることになり、回折光
は周波数変調されたサブビーム毎に空間的に分離される
ことになる。
n(x')=no+Δ, sin (2zfmt)co
s(2πf@x'/Vm) ='A C(n0+Δn5in (2πfmI(t-x
'V+a)))+(n0+Δn5in (2πfj
t-x' Vm )))) Therefore, from equation (4), f ml (1/Vo+cos θ/V, ) =
1 ---(5) Make sure that formula (5) holds true! If and θ are selected, the light wave will be diffracted by only one of the two traveling waves that make up the standing wave, and the diffracted light will be spatially separated into frequency-modulated sub-beams. It turns out.

このように定在波を形成すれば、共振定在波によって位
相格子が形成されるので小さな駆動電力で振幅の大きな
位相格子を形成できる育苗な効果を達成できる。この場
合、電気光学材料とじてり、T、O,を用いると設計例
として以下の値となる。
If a standing wave is formed in this manner, a phase grating is formed by the resonant standing wave, so that a seedling-raising effect can be achieved in which a phase grating with a large amplitude can be formed with a small driving power. In this case, if the electro-optic material is closed, T and O are used, the following values will be obtained as a design example.

■。= n・ (C:真空中の光速、n @ : 600nmにおける
屈折率)(ε、s:c軸偏光のマイクロ波の比誘電率)
ここで、l −1,0cm、  f 5=10 GHz
とすると、θ=82.8”または97.26となる。
■. = n. (C: speed of light in vacuum, n@: refractive index at 600 nm) (ε, s: relative dielectric constant of c-axis polarized microwave)
Here, l −1,0 cm, f 5 = 10 GHz
Then, θ=82.8” or 97.26.

また、j! =4.0 cm、  f 5=10 G1
1zとすると、θ=35.8@または144.2 @と
なる。
Also, j! =4.0 cm, f5=10 G1
When 1z, θ=35.8@ or 144.2@.

第5図は定在波励起型分波装置の変形例の構成を示す線
図である。分波されるべき光ビームと進行波位相格子と
を斜交させても波長短縮に限界がある。このため、本例
では周期電極を用いて電気光学材料素子内に強制的に周
期的な位相格子を形成し、電界が滑らかに変化させて位
相格子を形成し、この位相格子に光ビームを斜交させて
周波数変調されたサブビームを発生させる。第5図aに
示すように、長手軸線lを有する長方体の電気光学材料
素子10を用い、この素子10の下面に接地されている
プレート状の第1電極11を取り付け、上面に長手軸2
と直交する方向に延在する第1電極群12及び第2電極
群13を長手軸線2方向に沿ってピッチ△で周期的に形
成する。第1電極群12と第2電極群13とを交互に配
列し、第1電極群12及び第2電極群13を高周波電源
14に接続する。尚、第1電極群12と第2電極群13
には互いに位相がπだけずれた電圧を印加すlる。そし
て、電極群12及び13の配列方向lに対して角度θを
以て光ビームを入射させる。高周波電源12から電極群
に高周波電圧を印加すると、電気光学材料素子10の厚
さ方向に周期的に変化する電界が生じ、その内部に滑ら
かに変化する屈折率分布を生じ、長手軸線lに沿って位
相格子が形成°されることになる。この場合、光ビーム
断面内での印加電圧の強度は正弦波定在波と同等であり
、これによって生ずる屈折率変化も正弦波と 同等のものと考えることができる。従って・屈折率変化
式は次式が成立する。
FIG. 5 is a diagram showing the configuration of a modification of the standing wave excitation type demultiplexing device. Even if the optical beam to be demultiplexed and the traveling wave phase grating are obliquely crossed, there is a limit to the wavelength reduction. Therefore, in this example, a periodic phase grating is forcibly formed in the electro-optic material element using periodic electrodes, the electric field changes smoothly to form a phase grating, and a light beam is directed obliquely onto this phase grating. to generate frequency-modulated sub-beams. As shown in FIG. 5a, a rectangular electro-optic material element 10 having a longitudinal axis l is used, a grounded plate-shaped first electrode 11 is attached to the lower surface of the element 10, and the longitudinal axis is attached to the upper surface. 2
A first electrode group 12 and a second electrode group 13 extending in a direction perpendicular to the first electrode group 12 and the second electrode group 13 are periodically formed at a pitch Δ along the two longitudinal axis directions. The first electrode group 12 and the second electrode group 13 are arranged alternately, and the first electrode group 12 and the second electrode group 13 are connected to a high frequency power source 14. Note that the first electrode group 12 and the second electrode group 13
Voltages whose phases are shifted by π from each other are applied to . Then, the light beam is made incident at an angle θ with respect to the arrangement direction l of the electrode groups 12 and 13. When a high-frequency voltage is applied to the electrode group from the high-frequency power source 12, an electric field that periodically changes in the thickness direction of the electro-optic material element 10 is generated, and a smoothly changing refractive index distribution is generated inside the electro-optic material element 10. A phase grating is then formed. In this case, the intensity of the applied voltage within the cross section of the light beam is equivalent to a sine wave standing wave, and the refractive index change caused thereby can also be considered to be equivalent to a sine wave. Therefore, the following formula holds true for the refractive index change formula.

n(x” ) =fi0+Δn5in(2πf+at)
cos(2gx ’ /△)一方、V、  =fmIへ
と考えることができるから、(6)式は(4)式と同等
の式と考えられる。従って、(7)式を満足するように
光ビームの入射角θ及び相互作用長2を選択すれば、一
方の定在波によってだけ回折される場合と等価であり、
空間的に分離され周波数変調されたサブビームを発生す
ることができる。
n(x”) = fi0+Δn5in(2πf+at)
cos(2gx'/Δ) On the other hand, since it can be considered that V, = fmI, equation (6) can be considered to be equivalent to equation (4). Therefore, if the incident angle θ and the interaction length 2 of the light beam are selected so as to satisfy equation (7), it is equivalent to the case where the light beam is diffracted by only one standing wave,
Spatially separated and frequency modulated sub-beams can be generated.

f (fm /V0壬cos θ/△)=1・旧・・(
7)このように構成すれば、電極周期(定在波周期でも
ある) を小さくすることにより、等価的に位相格子の
進行速度V、′を遅くすることができ、ビーム径の細い
光ビームを用いても十分に空間分離されたサブビームを
発生することができる。尚、第6図に示すように、電気
光学材料体の一平面上にピッチ△で電極群12及び13
を交互に形成し、横方向に沿って屈折率分布した位相格
子を形成することもできる。この場合の交差角θは、以
下のように定められる。
f (fm /V0 cos θ/△)=1・old・(
7) With this configuration, by reducing the electrode period (also the standing wave period), the traveling speed V,' of the phase grating can be equivalently slowed down, and the light beam with a narrow beam diameter can be reduced. It is possible to generate sub-beams with sufficient spatial separation. As shown in FIG. 6, electrode groups 12 and 13 are arranged at a pitch of Δ on one plane of the electro-optic material body.
It is also possible to form a phase grating with a refractive index distribution along the lateral direction by forming them alternately. The intersection angle θ in this case is determined as follows.

(1)△””2mL fm =10GH2、fm2mm
とするとθ=14.2°又は165.8°となる。
(1) △""2mL fm = 10GH2, fm2mm
Then, θ=14.2° or 165.8°.

(2)△=2mm、 fm =1.0 GHz 、  
l=4mmとすると、 θ=60.2°又は109.8°となる第7図は本発明
によるビーム偏向装置の一例の構成を示す線図である。
(2) △ = 2mm, fm = 1.0 GHz,
When l=4 mm, θ=60.2° or 109.8°. FIG. 7 is a diagram showing the configuration of an example of the beam deflection device according to the present invention.

同一周波数の2個の光ビームを干渉させると干渉縞がで
きる。この場合、2個の光ビームの光周波数がfmだけ
相違すると、発生する干渉縞は移動周期1 /fmで周
期的に移動する。従って、光周波数の異なる複数のビー
ムを干渉させることにより周期fmで偏向される偏向ビ
ームを発生させることができる。この場合多数の光ビー
ムが等間隔で並んだ点から同一位相で出射すると、アレ
イテンテナと同様に鋭い指向性を有するビームが空間的
に周期性をもって形成されることになる。第6図におい
て、周波数ν。の光ビーム20を本発明による分波装置
21に入射させる。入射した光ビームは、分波装置21
によって回折され、上述したように光周波数ν・1−ν
。±nfmのサブビームか空間的に分離されて発生する
。これらサブビームをフーリエ変換レンズ22によりフ
ーリエ分解し、平行光ビームとして位相補償器23に入
射させる。フーリエ分解されたサブビームは光学的に半
波長ずれているサブビームが存在するため位相補償器2
3によって全てのサブビームを同相にする。この位相補
償器23は種々の型式の位相補償器を用いることができ
、例えば電界によって位相補償を行なうものや、厚さを
変えて位相補償を行なう位相補償器を用いることができ
る。
Interference fringes are created when two light beams of the same frequency interfere. In this case, when the optical frequencies of the two light beams differ by fm, the generated interference fringes move periodically with a movement period of 1/fm. Therefore, by interfering a plurality of beams with different optical frequencies, it is possible to generate a deflected beam that is deflected with a period fm. In this case, when a large number of light beams are emitted with the same phase from points lined up at equal intervals, beams with sharp directivity are formed with spatial periodicity, similar to an array tent antenna. In FIG. 6, the frequency ν. The optical beam 20 is incident on a demultiplexing device 21 according to the present invention. The incident light beam is passed through the demultiplexer 21
As mentioned above, the optical frequency ν・1−ν
. ±nfm sub-beams are generated spatially separated. These sub-beams are subjected to Fourier decomposition by the Fourier transform lens 22 and are made incident on the phase compensator 23 as parallel light beams. Since there are sub-beams that are optically shifted by half a wavelength in the Fourier-decomposed sub-beams, the phase compensator 2
3 makes all sub-beams in phase. Various types of phase compensators can be used as the phase compensator 23, and for example, a phase compensator that performs phase compensation using an electric field or a phase compensator that performs phase compensation by changing the thickness can be used.

この結果、位相補償器23から中心周波数がν。で±n
fmだけ周波数偏移した同相の多数のサブビームが発生
することになる。これらサブビームをフーリエ変換レン
ズ24に入射させフーリエ合成する。この結果、周波数
偏移し同相の多数のサブビーム同士が干渉し合い干渉縞
が発生する(図面を簡略するため図面上3個の干渉縞だ
けを示す)。
As a result, the center frequency from the phase compensator 23 is ν. In±n
A number of in-phase sub-beams with a frequency shift of fm will be generated. These sub-beams are made incident on the Fourier transform lens 24 and subjected to Fourier synthesis. As a result, a large number of frequency-shifted and in-phase sub-beams interfere with each other to generate interference fringes (only three interference fringes are shown in the drawing to simplify the drawing).

この干渉縞は図面の上方から下方向に向けて周期的に移
動するから、空間的に1周期程度の幅に相当スルウィン
ド25を設けると、ウィンド25の外部に向けて一方に
偏向された合成光ビームが周期f。
Since these interference fringes move periodically from the top to the bottom of the drawing, if a through window 25 is provided with a spatial width of about one period, the interference pattern will be deflected in one direction toward the outside of the window 25. The light beam has a period f.

で周期的に発生することになる。この合成偏光ビームは
、サブビームの指向性が有限なためビーム偏向範囲も有
限であるから、形成される干渉縞もウィンドの中心から
上方及び下方に離れるに従って弱くなる。従って、ウィ
ンド25を経て出射する偏光ビームは効率よく光パワー
が集中される。この結果、帰線消去が不要なビーム偏向
装置を実現することができる。この場合、発生する偏向
ビームの解像度は、合成される変調サブビームの数に依
存するから、変調ビーム発生装置として本発明による分
波装置を用いることができる。
will occur periodically. Since this combined polarized beam has a finite directivity of the sub-beams and a finite beam deflection range, the interference fringes formed also become weaker as they move upward and downward from the center of the window. Therefore, the optical power of the polarized beam exiting through the window 25 is efficiently concentrated. As a result, a beam deflection device that does not require blanking can be realized. In this case, since the resolution of the generated deflected beam depends on the number of modulated sub-beams to be combined, the demultiplexer according to the present invention can be used as the modulated beam generator.

(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば分波されるべき光
ビームと進行波位相格子とを斜交させる構成としている
から、光ビーム断面内に存在する位相格子数を実質的に
増大することができ、この結果回折効率が増大し多数の
周波数偏移したサブビームを発生させることができる。
(Effects of the Invention) As explained above, according to the present invention, since the light beam to be demultiplexed and the traveling wave phase grating are configured to obliquely intersect, the number of phase gratings existing in the cross section of the light beam can be substantially reduced. can be increased, resulting in increased diffraction efficiency and generation of multiple frequency-shifted sub-beams.

また、電気光学材料素子が共振器を構成し、−方の進行
波位相格子によってだけビーム回折を行なえば、低い駆
動電力で効率よく回折させることができる。
Further, if the electro-optic material element constitutes a resonator and beam diffraction is performed only by the negative traveling wave phase grating, efficient diffraction can be achieved with low driving power.

さらに、本発明では、周波数変調された多数のサブビー
ムを位相補償して多数の同相のサブビームを合成して干
渉縞を形成しているから、鋭い指向性を有する合成ビー
ムを発生させることができ、コノ合成ビームは周期的に
偏向されるので、帰線消力が不要なビーム偏向装置を実
現することができる。
Furthermore, in the present invention, since interference fringes are formed by compensating the phase of a large number of frequency-modulated sub-beams and combining a large number of in-phase sub-beams, a combined beam with sharp directivity can be generated. Since the cono composite beam is periodically deflected, it is possible to realize a beam deflection device that does not require blanking.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図a−cは本発明による分波装置の一例の構成を示
す線図、 第2図及び第3図は分波装置の変形例の構成を示す線図
、 第4図は定在波励起型分波装置の解析用の模式第5図a
及びbは定在波励起型分波装置の一例の構成を示す斜視
図及び断面図、 第6図は定在波励起型分波装置の変形例の構成を示す斜
視図、 第7図は本発明によるビーム偏向装置の一例の構成を示
す線図である。 1・・・電気光学材料素子 2・・・電気光学材料体3
.4・・・電極     5・・・高周波電源21・・
・分波装置 22、24・・・フーリエ変換レンズ 23・・・位相補償器    25・・・ウィンド第2
図 特許出願人 大 阪 大 学 長
Figures 1 a to c are diagrams showing the configuration of an example of the demultiplexing device according to the present invention, Figures 2 and 3 are diagrams showing the configuration of a modified example of the demultiplexing device, and Figure 4 is a diagram showing the configuration of a modified example of the demultiplexing device. Schematic diagram for analysis of excitation type demultiplexer Fig. 5a
and b are a perspective view and a sectional view showing the configuration of an example of a standing wave excitation type demultiplexing device, FIG. 6 is a perspective view showing the configuration of a modified example of the standing wave excitation type demultiplexing device, and FIG. 7 is a main 1 is a diagram showing the configuration of an example of a beam deflection device according to the invention; FIG. 1... Electro-optic material element 2... Electro-optic material body 3
.. 4... Electrode 5... High frequency power supply 21...
- Demultiplexing devices 22, 24...Fourier transform lens 23...Phase compensator 25...Wind No. 2
Figure patent applicant Osaka University President

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、印加電界に応じて屈折率が変化する電気光学材料体
及びこの電気光学材料体をはさんで一方向に沿って延在
する1対の電極を有する電気光学材料素子と、前記1対
の電極の一端に接続され前記1対の電極に高周波電圧を
印加する高周波電源とを具え、前記電気光学材料体の内
部に、前記電極の延在方向に沿って屈折分布を形成して
進行波位相格子を形成し、前記電気光学材料内における
分波されるべき光ビームの進行方向と進行波位相格子の
進行方向とを斜交させ、前記光ビームの位相格子と交差
する断面内に少なくとも3周期の位相格子が含まれるよ
うに構成したことを特徴とする分波装置。 2、前記1対の電極の他端を短絡して電気光学材料体の
終端を無反射終端としたことを特徴とする請求項1に記
載の分波装置。 3、前記電気光学材料体の終端を反射終端として共振器
を構成し、前記高周波電源の電源周波数をf_mとし、
進行波位相格子が前記光ビームに作用する相互作用長を
lとし、電気光学材料体中の入射光ビームの光速をV_
0とし、光ビームと進行波位相格子との交差角をθとし
、位相格子を形成する電気波の速度をV_mとした場合
に下記の式を満足するように交差角θ及び相互作用長l
を選択したことを特徴とする請求項1に記載の分波装置 f_ml(1/V_0■cosθ/V_m)=14、前
記1対の電極の一方の電極を一方向に延在するプレート
状電極とし、他方の電極を所定のピッチ■で交互に周期
的に配列した第1の電極群と第2の電極群とで構成し、
第1電極群と第2電極群とに相互に位相がπだけずれた
周波数f_mの高周波電圧をそれぞれ印加して電気光学
材料体に位相格子を形成し、進行波位相格子が光ビーム
に作用する相互作用長をlとし、印加電圧の周波数をf
_mとし、光ビームの電気光学材料体中での光速をV_
0とし、光ビームと位相格子と交差角をθとし、電極間
ピッチを■とした場合に下記の式が成立するように交差
角θ及び相互作用長lを選択したことを特徴とする請求
項1に記載の分波装置。 l(f_m/V_0■cosθ/■)=1 5、前記1対の電極を、一方向に沿ってピッチ■で交互
に周期的に配列された第1電極群と第2電極群とで構成
し、第1電極群と第2電極群との間に前記高周波電源を
接続して電気光学材料体中に位相格子を形成したことを
特徴とする請求項4に記載の分波装置。 6、光ビームを周波数変調され空間的に分離された複数
のサブビームに分離する分波装置と、分離されたサブビ
ームをフーリエ分解するためのフーリエ変換レンズと、
各サブビームの位相を同相にするための位相補償器と、
同相にされたサブビームをフーリエ合成するためのフー
リエ変換レンズとを具えることを特徴とするビーム偏向
装置。
[Claims] 1. An electro-optic material element having an electro-optic material body whose refractive index changes depending on an applied electric field and a pair of electrodes extending in one direction across the electro-optic material body. and a high frequency power supply connected to one end of the pair of electrodes and applying a high frequency voltage to the pair of electrodes, the electro-optic material body has a refractive distribution along the extending direction of the electrodes. forming a traveling wave phase grating, the traveling direction of the light beam to be demultiplexed in the electro-optic material and the traveling direction of the traveling wave phase grating are obliquely intersected, and the traveling direction of the traveling wave phase grating intersects with the phase grating of the light beam. A demultiplexing device characterized in that it is configured such that a phase grating with at least three periods is included in a cross section. 2. The demultiplexing device according to claim 1, wherein the other ends of the pair of electrodes are short-circuited so that the end of the electro-optic material body is a non-reflection end. 3. A resonator is configured with the end of the electro-optic material body as a reflective end, and the power frequency of the high-frequency power source is f_m;
The interaction length of the traveling wave phase grating acting on the light beam is l, and the speed of light of the incident light beam in the electro-optic material body is V_
0, the intersection angle between the light beam and the traveling wave phase grating is θ, and the velocity of the electric wave forming the phase grating is V_m.The intersection angle θ and the interaction length l are set so that the following equation is satisfied.
The demultiplexing device according to claim 1, characterized in that f_ml(1/V_0■cosθ/V_m)=14, and one electrode of the pair of electrodes is a plate-shaped electrode extending in one direction. , the other electrode is composed of a first electrode group and a second electrode group arranged periodically and alternately at a predetermined pitch,
A phase grating is formed on the electro-optic material body by applying high frequency voltages of a frequency f_m whose phases are mutually shifted by π to the first electrode group and the second electrode group, and the traveling wave phase grating acts on the light beam. Let the interaction length be l, and the frequency of the applied voltage be f
_m, and the speed of light in the electro-optic material body of the light beam is V_
0, the intersection angle between the light beam and the phase grating is θ, and the inter-electrode pitch is ■, the intersection angle θ and the interaction length l are selected so that the following equation holds: 1. The demultiplexing device according to 1. l(f_m/V_0■cosθ/■)=1 5. The pair of electrodes is composed of a first electrode group and a second electrode group that are arranged periodically along one direction at a pitch of ■. 5. The demultiplexing device according to claim 4, wherein the high frequency power source is connected between the first electrode group and the second electrode group to form a phase grating in the electro-optic material body. 6. A demultiplexing device that separates a light beam into a plurality of frequency-modulated and spatially separated sub-beams, and a Fourier transform lens that performs Fourier decomposition of the separated sub-beams;
a phase compensator for making the phases of each sub-beam in phase;
A beam deflection device comprising: a Fourier transform lens for performing Fourier synthesis of in-phase sub-beams.
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