JPH02240913A - ウェハへのマスクパターン転写装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、軟Ｘ＠、ＳＯＲＸ線または露光光を用いて、
マスクに形成された微細なパターンをウェハに転写する
ウェハへのマスクパターン転写装置に関するものである
。

〔従来の技術〕

従来のマスクパターン転写装置、特にＸ＠転写装置とし
ては、第５図に示すように、軟Ｘ線発生装置１のＸ線取
出窓８側に、内部にＸ線透過率が大気に比べて十分高い
気体（例えは、ヘリウムガス）を満たした雰囲気チャン
バ２を接続し、この雰囲気チャンバ２のＸ線取出窓８と
対向する一端面に形成された穴を覆うように、所要のパ
ターンを形成したマスク３を取り付け、雰囲気チャンバ
２外でマスク３と微小すきまを隔てて対向するようにウ
ェハ４を保持しかつ移動させるステージ５と、雰囲気チ
ャンバ２内でマスク３とウェハ４の位置合わせな行う観
察光学系９とを設け、大気中にウェハ４を置いて露光す
るようにしたものかある。この軟Ｘ線発生装置１では多
量の熱を発生するため、そのターゲット６および真空容
器７に冷却水を循環させることにより冷却している。

なお、この種のＸ線転写装置に関連する技術としては、
例えは特開昭５７−１６９２４２号公報が挙げられる。

〔発明が解決しようとする課電〕

前記従来技術では、軟Ｘ線発生装ｆｌｌｉｌの温度制御
について配慮されておらず、軟Ｘ＠を発生させていない
ときには冷却水により１Ａ１１１１温度が低下し軟Ｘ＠
発生時には徐々に装置温度か上昇する。それに伴い、軟
Ｘ線発生装置ＩＫ＠接する雰囲気チャンバ２の温度も変
化するため、内部に８ｔＩＩＬシた観察光学系９に熱変
形を生じて、マスク３とウェハ４の位置合わせ精度が低
下し、また雰囲気チャンバ２とステージ５とを連結して
いる架台（図示せず）に熱変形を生じて、マスク３とウ
ェハ４の間隔に誤差を生じることＫなる。

また、軟Ｘ縁を放出してマスク３に形成された微細なパ
ターンをウェハ４に転写している時には。

Ｘ線取出窓８からは軟Ｘ＠および熱線が放出され。

これらかマスク３に照射され、そのエネルギーによりマ
スク３の温度を上昇させる。一方、軟Ｘ縁を放出しない
時には、Ｘ＠取出窓８から軟Ｘ＠および熱線が放出され
ないため、マスク３の温度は下降ブる。　ｉｌＪ記マス
ク温度の変化により、マスク３のパターンが掌形する。

これらの現象は、マスク３とウェハ４の相対的な位置決
めに超高＠度か要求されるｘＩｊＭｌｌに光においては
１重大な障害となる。

なお、ｒｉＪ述のごとき問題は、従来のＳＯＲＸ＠発生
装置ｍまたは光学式の露光光源を用いたマスクパターン
転写装置においても存在していた。

本発明の目的は、１ｉｌＩＪ記従来技術の問題を解決し
。

転写ｇ＆置の゛使用中、軟Ｘ＠装置、　ＳＯＲＸ線装置
または光学式の露光光臨がＯＮ、ＯＦＦ制御され、軟Ｘ
線、ＳＯＲＸ＠または露光光のエネルギーが変化しても
、マスクや光学系が熱変形せず、マスクに形成された微
細なパターンをウェハに正蓚に転写可能なウェハへのマ
スクパターン転写ｖｊ装置を提供することＫある。

本発明の他の目的は、光学式の露光光源を用いたものに
おいて、ホトレジストに感光する短い波長の光および会
費以上に長い波長の光を遮断しつつマスクパターンを転
写可能なウェハへのマスクパターン転写装置を提供する
ことにある。

〔＠−を解決するための手段〕

前記目的は、軟Ｘ線発生装置を用いたマスクパターン転
写装置では、軟Ｘ縁を透過するマスクに向かって熱線を
放射する熱線放射装置を設けるとともに、繭記軟ｘ＃！
発生装置がＯＮの時は熱線放射装置なｏｐｐに、軟Ｘ線
発生装置がＯＦＦの時は熱線放射装置をＯＮに制御する
制御手段を設けたことにより、達成される。

また、　ｉＩｌ記目的は、ＳＯＲＸ線発生装置を用いた
マスクパターン転写装置では、前記マスクに熱線を放射
する熱線放射装置を設けるとともに、前記ＳＯＲＸ線発
生装置がＯＮの時は熱線放射装置をＯＦＦに、　ＳＯＲ
Ｘ＠発生装置がＯＦＦの時は熱線放射装置をＯＮに制御
する制御手段を設けたことにより、達成される。

さらに、前記目的は、軟Ｘ線発生装置またはＳＯＲＸ線
発生装置を用いたマスクパターン転写装置において、前
記熱線放射装置を、恒温水を循環させることによって一
定温度に保持された温度制御板に取り付けたことＫより
ヤ、さらに良好に達成される。

さらにまた、前記目的は、光学式の無光光源を用いたマ
スクパターン転写装置では、ミラー、マスクおよび投影
レンズに対して熱線を放射する熱線放射装置を設けると
ともに、前記露光光源がＯＮの時は熱線放射装置をＯＦ
Ｆに、露光光源がＯＦＦの時は熱線放射装置をＯＮＫ制
御する制御手段を設けたことにより、達成される。

そして、帥記他の目的は、前記熱線放射装置における熱
線の出口に、ホトレジストに感光する短い波長の光およ
び必要以上に長い波長の光を遮断するバンドパスフィル
タを配置したことにより、達成される。

〔作用〕

軟Ｘ線発生装置から放出される軟Ｘ線をマスクに照射し
、マスクに形成されたパターンをウエノ１に転写するマ
スクパターン転写装置に適用した本発明では、制御手段
により、軟Ｘ線発生装置をＯＮとし、マスクに軟Ｘ線を
照射している時は熱線放射装置をＯＦＦとする。そして
、軟Ｘ線発生装置をＯＦＦとした時は熱線放射装置をＯ
Ｎとし、熱線放射装置からマスクに熱線を放射する。

これにより、マスクには常に同じ大きさのエネルギーが
放射されるので、マスクの温度上昇が飽和し、マスクの
温度変化を防止することができ、したがってマスクパタ
ーンの変形を防止することができる。

その結果、マスクとウェハの位置合わせ精度が向上し、
間隔誤差も軟Ｘ線露光の障害とならない程度に小さくす
ることができる。

えた、ＳＯＲＸ線発生装置から放出されるＸ線をマスク
に照射し、マスクに形成されたパターンをウェハに転写
するマスクパターン転写装置に適用した本発明では、制
御手段により、ＳＯＲＸ　ｉｉ発生装置をＯＮとし、マ
スクにＳＯＲＸ線を照射している時は、熱線放射装置を
ＯＦＦとする。ついで、制御装置により、ＳＯＲＸ線発
生装置をＯＦＦとした時は熱線放射装置をＯＮとし、熱
線放射からマスクに熱線を放射する。

したかって、マスクには常に同じ大きさのエネルギーが
放射されるので、マスクの温度上昇が飽和し、マスクの
温度変化を防止することができ、マスクパターンの変形
を防止することができる結果、マスクとウェハの位置合
わせ精度が向上し、間隔誤差もＳＯＲＸ線露光の障害と
ならない程度に小さくすることができる。

また、本発明では軟Ｘ線発生装置またはＳＯＲＸ線発生
装置を用いるマスクパターン転写装置において、熱線放
射装置を、恒温水を循環させることによりて一定温度に
保持された温度制御板に取り付けているので、熱線放射
装置から放射される熱線のエネルギーを、制御手段によ
り軟Ｘ線発生装置から発せられる軟ｘＩｍのエネルギー
やＳＯＲＸ　線発生装置から発せられるＳＯＲＸ＠のエ
ネルギーと同一になるように、容易にｉｌｌｙＭするこ
とが可能となり、軟Ｘ線発生装置やＳＯＲＸ線発生装置
のＯＮ。

ＯＦＦ時のマスクに加わるエネルギー差を極めて小さく
することができ、マスクパターンの変形を殆どなくすこ
とが可能となる。

さらに、光学式の露光光源から発射される露光光をマス
クに照射し、マスクに形成されたパターンをウェハに転
写するマスクパターン転写装置に適用した本発明では、
制御手段により、露光光源をＯＮとし、マスクＫｍ光光
を照射している時は熱線放射装置をＯＦＦとする。つい
で、無光光源をＯＦＦとした時は熱線放射装置をＯＮと
し、熱線放射装置からマスクに熱線を照射する。

これにより、マスクには常に同じ大きさのエネルギーが
放射されるので、マスクの温度上昇が飽和し、マスクの
温度変化を防止することができ、したがってヤスクパタ
ーンの変形を防止することができる結果、マスクとウェ
ハの位置合わせ精度が向上し１間隔誤差を光学式の露光
光による露光の障害とならない程度に小さくすることが
できる。

そして、本発明では熱線放射装置における熱線の出口に
配置されたバンドパスフィルタにより、ホトレジストに
感光する短い波長の光および必要以上に長い波長の光を
遮断することができる。

〔実施例〕

以下１本発明の実施例を図面により説明する。

第１図は本発明の一実施例を示す縦断面図、第２図は熱
線放射装置部分の拡大断面図である。

その第１図に示す実施例のマスクパターン転写装置では
、軟Ｘ線取出窓ｆｉｉ１と、雰囲気チャンノ（２と、前
記軟Ｘ線発生装置１と雰囲気チャンバ２間に取り付けら
れた温度制御板１１と、これに接続された恒温水循環装
置１４と、前記雰囲気チャンバ２内に設置された観察光
学系９と、前記雰囲気チャンバ２の一端部に取り付けら
れたマスク３と、ウェハ４を載置するステージ５と、前
記温度制御板１１に取り付けられた熱線放射装置１５と
、前記軟Ｘ線発生装置１や熱線放射装置１５を制御する
制御手段（図示せず）とを備えて構成されている。

前記軟Ｘ線発生装置１は、真空容器７と、これの内部に
設置されたターゲット６とを備え、前記真空容器７にお
ける雰囲気チャンバ２側には、軟Ｘ線取出窓８が設けら
れている。前記軟Ｘ線発生装置１は、発生熱量が大きい
ので、真空容器７およびターゲット６に冷却水を循環さ
せて冷却しているが、軟Ｘ線を発生させていｈい時は、
冷却水により装置温度が低下し１．軟Ｘ線発生時には徐
々に軟Ｘ線発生装置１の温度が上昇する。

前記温度制御板１１は、前記真空容器７における軟Ｘ線
取出窓８側に、断熱材１０をはさんで取り付けられてい
る。この温度制御板１１ｉＣは、内部水路１２と、軟Ｘ
線照射用の窓１３とが設けられている。

前記温度制御板１１の内部水路１２には、前記恒温水循
環装置１４より一定温度に制御された恒温水を循環させ
、前記温度制御板１１を奢１ぼ一定の温度に保つように
している。

前記雰囲気チャンバ２の内部には、ヘリウムガス等の軟
Ｘ線透過率の高い気体が満たされている。

肋記熱線放射装置１５は、第２図に示すように。

筐体１６と、電球１７とを有している。前記筺体１６は
。

銅等の熱の良導体で形成され、内部には反射防止処理が
施され、底部には熱線透過用の窓１Ｂが設けられている
。前記電球１７には、主にタングステン電球が用いられ
ており、後述の制御手段により。

放射する熱線のエネルギーが調整されるようになってい
る。前記筺体１６と電球１７とは、前記温度制御板１１
に設けられた軟Ｘ線照射用の窓１５の周辺に複数個取り
付けられていて、マスク５に対して熱線を放射するよう
になっている。

前記制御手段は、このマスクパターン転写ｉｔの運転時
、軟ｘＩｉ！発生装置１がＯＮで軟Ｘ線を照射している
時は熱線放射装置１５をＯＦＦとし、軟Ｘ線発生装置１
がＯＦＦの時は熱線放射装置１５をＯＮとし、熱線を放
射させるように制御する。また、この制御手段は熱線放
射装置１５の１球１７からマスク６に放射される熱線の
エネルギーか、軟Ｘ線発生装置１からマスク６に照射さ
れる軟Ｘ線のエネルギーに等しくなるように調整し、さ
らに前記第１図に示す実施例のマスクパターン転写装置
では、雰囲気チャンバ２の一端に取り付けたマスク３と
これに対向させてステージ５に載置したウェハ４の位置
合わせをし、雰囲気チャンバ２の内部に満たしたヘリウ
ムガス等のＸ線透過率の高い気体を通してＸ線露光を行
い、マスク３に形成されたパターンをウェハ４に転写す
る。

軟Ｘ線発生装置１は、発生熱量が大きいので、ターゲッ
ト６および真空容器７に冷却水を循環させて冷却してい
るが、軟ｘＩＩｉＩを発生させていない時は冷却水によ
り装置温度が低下し、軟Ｘ線発生時には徐々に装置温度
が上昇する。そこで、本実施例では恒温水循環装置１４
から温度制御板１１に設けられた内部水路１２に一定温
度に制御された恒温水を循環させ、温度制御板１１を一
定温度に保持する。そして、この温度制御板１１に前記
雰囲気チャンバ２を接続し、前記温度制御板１１の中央
部に設けた軟Ｘ線照射用の窓１６を通して軟Ｘ線を雰囲
気チャンバ２内に照射する。

また、制御手段により、軟Ｘ線発生装置１のシャッタ（
図示せず）を開けてマスク３に形成されたパターンをウ
ェハ４に露光する時は熱線放射装置１５の電球１７．を
ＯＦＦにし、前記シャッタを閉じる時は熱線放射装置１
５の電球１７をＯＮにする。さらに、制御手段により、
軟Ｘ線発生装置１からマスク３に対して照射される軟ｘ
１ｍのエネルギーと、熱線放射装置１５からマスク３に
対して放射される熱線のエネルギーとが等しくなるよう
に、ＩＥ球１７に供給する電力を調整する。

その結果、マスク３に対して放射されるエネルギーは露
光中も、露光停止中も変わらないので。

マスク３の温度上昇は容易に飽和して一定となり。

マスク３の温度変化による変形を生じないので、マスク
３の位置合わせ誤差を生じることが無い。

しかも、本実施例では一定温度に保持されている温度制
御板１１に、前記熱線放射装置１５を取り付けているの
で、制御手段により、熱線放射装置１５からマスク３に
放射される熱線のエネルギーが軟Ｘ線発生装置１からマ
スク３に照射される軟Ｘ線のエネルギーと同一になるよ
うｋ、容易に調整することができる。

次に、第３図は本発明の他の実施例を示す縦断面図であ
る。

この第３図に示す実施例のマスクパターン転写装置で゛
は、ＳＯＲＸ線発生装置１９と、Ｘ線取出口に設けられ
たシャッタ２０とを備え、前記シャッタ２００近くに熱
線放射装置１５が取り付けられている外は、前記第１図
に示す実施例と同様である。熱線放射装置１５も前記第
２図に示すものと同様である。

ついで、第４図は本発明の他の実施例を示す系統図であ
る。

この第４図に示す実施例のマスクパターン転写装置では
、光学式の露光光源２１と、その露光光をマスク３の方
向に反射するミラー２３と、マスクＳのパターンをステ
ージ５に載置されたウエノＳ４に投影する投影レンズ２
２と、前記ミラー２３におけるマスク３の反対側に設置
された熱線放射装置１５と、この熱線放射装置１５の熱
線の出口に配置されたバンドパスフィルタ２４と、制御
手段（図示せず）とを備えて構成されている。

前記ミラー２３には、露光波長を反射し、庫光波長より
波長か長く、ホトレジストに感光しない波長を透過する
ものが用いられている。

前記熱線放射装置［１５は、繭記ｉ＠２図に示すものと
同様である。そして、この熱線放射装置１５はバンドパ
スフィルタ２４を通して、ミラー２３．マスク３および
投影レンズ２２に露光光源２１から照射される露光光の
エネルギーと同一のエネルギーを与えるようになってい
る。

Ｍ　Ｈｔ２バンドパスフィルタ２４は、熱線放射装ＴＩ
ｊＬ１５かも発せられる熱線の、ホトレジストに感光す
る短い波長の光と、必要以上に長い波長の光を遮断する
ようになっている。

前記制御手段は、ｌＩ光光源２１かＯＮで露光光を照射
している時は熱線放射装置１５をＯＦＦとし、高光光源
２１がＯＦＦの時は熱線放射装置１５をＯＮとしてミラ
ー２３．マスク５および投影レンズ２２に熱線を放射す
るように制御する。また、制御手段は熱線放射装置１５
からミラー２３．マスク３および投影レンズ２２に放射
された熱線のエネルギーが、露光光源２１からミラー２
３．マスク３および投影レンズ２２に照射される露光光
源のエネルギーと同一になるように調整する。

このように、本実施例では制御手段により、露光光源２
１より露光光が照射されない時には熱線放射装置１５を
動作させ、熱線のエネルギーをミラー２５、マスク３お
よび投影レンズ２２に吸収させ、露光光と同じようにミ
ラー２３．マスク３および投影レンズ２２の温度が上昇
するように、その調整をする。また、熱線放射装置１５
の熱線の出口にバンドパスフィルタ２４を設け、熱線放
射装置１５より必要以上に長い波長の光が出ないように
して、マスク３に対する熱線の透過率が、露光光と比べ
て著しく異なることがないようにしているので、ミラー
２３．マスク５および・投影レンズ２２の温度上昇がア
ンバランスになることが殆どない、したがって、ミラー
２３．マスク３および投影レンズ２２には、露光光また
は熱線により常に温度を上昇させるエネルギーが供給さ
れており、エネルギー供給が継続的に行われるので、一
定の温度上昇に飽和させることができ、その結果温度変
化を防止でき、マスク３とつ蔓ハ４の位置合わせ精度を
向上させることができる。

なお、本実施例では露光光源としてエキシマレーザ等の
、特に波長の短い光源を使用し、使用するホトレジスト
が波長の長い紫外線に感光しないものであれば、熱線放
射装置１５の電球には水銀灯を用いるのが良い。

〔発明の効果〕

以上説明した本発明の請求項１記載の発明によれば、軟
Ｘ線発生装置から放出される軟Ｘ線をマスクに照射し、
マスクに形成されたパターンをウェハに転写するマスク
パターン転写装置において。

制御手段により、軟Ｘ線発生装置をＯＮとし、マスクに
軟Ｘ線を照射している時は熱線放射装置をＯＦＦとし、
軟Ｘ線発生装置をＯＦＦとした時は熱線放射装置をＯＮ
とし、熱線放射装置からマスクに熱線を放射するように
しており、マスクには常に同じ大きさのエネルギーが放
射されるので、マスクの温度上昇が飽和し、マスクの温
度変化を防止することかでき、したがってマスクパター
ンの変形が防止することができる結果、マスクとウエノ
為の位置合わせ精度が向上し、間隔誤差も軟Ｘ＠露光の
障害とならない程度に小さくなし得る効果がある。

また、本発明の請求項２記載の発明によれは、ＳＯＲＸ
線発生装置から放出されるＸ線をマスクに照射し、マス
クに形成されたパターンをウェハに転写するマスクパタ
ーン転写装置において、制御手段により、ＳＯＲＸ線発
生装置をＯＮとし、マスクにＳＯＲＸ線を照射している
時は熱線放射装置をＯＦＦとし、ＳＯＲＸ線発生装置を
ＯＦＦとした時は熱線放射装置をＯＮとし、熱線放射装
置からマスクに熱線を放射するようにしており、マスク
には常に同じ大きさのエネルギーが放射されるので、マ
スクや温度上昇が飽和し、マスクの温度変化を防止する
ことができ、マスクパターンの変形を防止することがで
きる結果、マスクとウエノ・の位置合わせ精度が向上し
、間隔誤差もＳＯＲＸ線露光の障害とならない程度に小
さくなし得る効果がある。

さらに１本発明の請求項３記載の発明によれば軟Ｘ線発
生装置またはＳＯＲＸ＠発生装置を用いるマスクパター
ン転写装置において、熱線放射装置を、恒温水を循環さ
せることによって一定温度に保持された温度制御板に取
り付けているので、熱線放射装置から放射される熱線の
エネルギーを。

制御手段により軟Ｘ線発生装置から発せられる軟Ｘ線の
エネルギーやＳＯＲＸ線発生装置から発せられるＳＯＲ
Ｘ線のエネルギーと同一になるように、容易に調整する
ことが可能となり、軟Ｘ線発生装置やＳＯＲＸ線発生装
置のＯＮ、０１１時のマスクに加わるエネルギー差を極
めて小さくすることができ。

寸スクパターンの変形の殆どなくすことができるという
効果がある。

さらにまた、本発明の請求項４記載の発明によれば、光
学式の露光光源から発射される露光光をマスクに照射し
、マスクに形成されたパターンをウェハに転写するマス
クパターン転写装置において、制御手段により、露光光
源をＯＮとし、マスクに露光光を照射している時は熱線
放射装置をＯＦＦとし、露光光源をＯＦＦとした時は熱
線放射装置をＯＮとし、熱線放射装置からマスクに熱線
を放射するようにしており、マスクには常に同じ大きさ
のエネルギーが放射されるので、マスクの温度上昇が飽
和し、マスクの温度変化を防止することができ、したが
ってマスクパターンの変形を防止することができる結果
、マスクとウェハの位置合わせ精度が向上し、間隔誤差
を光学式の露光光による露光の障害とならない程度に小
さくなし得る効果がある。

そして、本発明の請求項５記載の発明によれば。

光学式の露光光源から発射される露光光をマスクに照射
し、マスクに形成されたパターンをウエノ島に転写する
マスクパターン転写装置において、熱線放射装置におけ
る熱線の出口に配置されたバンドフィルタにより、ホト
レジストに感光する短い波長の光および必要以上に長い
波長の光を遮断し得る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す縦断面図、第２図は熱
線放射装置部分の拡大断面図、第６図は本発明の他の実
施例を示す縦断面図、第４図は本発明の他の実施例を示
す系統図、第５図は従来技術における軟Ｘ線によるマス
クパターン転写装置を示す縦断面図である。 １・・・・・・・・・・・・軟Ｘ線発生装置２・・・・
・・・・・・・・雰囲気チャンバ３・・・・・・・・・
・・・マスク　　　　４・・・・・・・・・・・・ウェ
ハ５・・・・・・・・・・・・ステージ　　　９・・・
・・・・・・・・・観察光学系１１・・・・・・・・・
温度制御板　　１２・・・・・・・・・内部水路１４・
・・・・・・・・恒温水循環装置１５・・・・・・・・
・熱線放射装置 １６・・・・・・・・・熱線放射装置の筐体１７・・・
・・・・・・同電球 １９・・・・・・・・・ＳＯＲＸ線発生装置２１・・・
・・・・・・露光光源　　　２２・・・・・・・・・投
影レンズ２３・・・・・・・・・ミラー ２４・・・…・・・）（ンドバスフィルタ３・マスク １２・Ｐ１節水１番

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、軟Ｘ線発生装置から放出された軟Ｘ線を、窓を通じ
   てマスクに照射し、このマスクに形成されたパターンを
   ウェハに転写するマスクパターン転写装置において、前
   記マスクに向かって熱線を放射する熱線放射装置を設け
   るとともに、前記軟Ｘ線発生装置がＯＮの時は熱線放射
   装置をＯＦＦに、軟Ｘ線発生装置がＯＦＦの時は熱線放
   射装置をＯＮに制御する制御手段を設けたことを特徴と
   するウェハへのマスクパターン転写装置。 ２、ＳＯＲＸ線発生装置から放出されＳＯＲＸ線を窓を
   通じてマスクに照射し、このマスクに形成されたパター
   ンをウェハに転写するマスクパターン転写装置において
   、前記マスクに熱線を放射する熱線放射装置を設けると
   ともに、前記ＳＯＲＸ線発生装置がＯＮの時は熱線放射
   装置をＯＦＦに、ＳＯＲＸ線発生装置がＯＦＦの時は熱
   線放射装置をＯＮに制御する制御手段を設けたことを特
   徴とするウェハへのマスクパターン転写装置。 ３、前記熱線放射装置を、恒温水を循環させることによ
   って一定温度に保持された温度制御板に取り付けたこと
   を特徴とする請求項１または２記載のウェハへのマスク
   パターン転写装置。 ４、光学式の露光光源と、ミラーおよび投影レンズとを
   備え、前記露光光源から発射された露光光をミラーでマ
   スクに向かって反射させ、その露光光をマスクに透過し
   、このマスクに形成されたパターンを前記投影レンズに
   よりウェハに転写するマスクパターン転写装置において
   、前記ミラー、マスクおよび投影レンズに対して熱線を
   放射する熱線放射装置を設けるとともに、前記露光光源
   がＯＮの時は熱線放射装置をＯＦＦに、露光光源がＯＦ
   Ｆの時は熱線放射装置をＯＮに制御する制御手段を設け
   たことを特徴とするウェハへのマスクパターン転写装置
   。 ５、前記熱線放射装置における熱線の出口に、ホトレジ
   ストに感光する短い波長の光および必要以上に長い波長
   の光を遮断するバンドパスフィルタを配置したことを特
   徴とする請求項４記載のウェハへのマスクパターン転写
   装置。