JPH02237016A - レジスト乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、レジスト乾燥装置に関する。

（従来の技術） 半導体装置の製造においては、酸化膜や各種の導電膜が
被覆されたウェハ上にレジスト膜を形成し、露光、現像
処理を施して所望のレジストパターンを形成し、このレ
ジストパターンをマスクとして下地の膜を選択的にエッ
チングしてパターンを形成する工程や、前記レジストパ
ターンをマスクとして不純物をウェハ表面にイオン注入
する工程が行゜なわれている。

ところで、上記ウェハ上にレジストを塗布し、乾燥して
レジスト膜を形成するには、従来、第５図に示すように
チャック機構を備えたスピンヘッドＩ上にウェハ２を真
空チャックし、該ウェハ２上にレジストを滴下した後、
モータ３により回転軸４を介して前記スピンヘッド１を
回転させ、ウェハ２面内にレジストを均一に塗布する。

この時、スピンヘッドＩ周辺は塵埃の舞い上がり、浮遊
を防止するためにダウンフロー５が施されて、塗布され
たレジストを乾燥することが行なわれている。

しかしながら、上述したレジスト乾燥のためのダウンフ
ｏ−５のみでは迅速な乾燥を期待することができない。

また、ダウンフローは相当上方から吹き込まれるため、
気流が乱れ、ウェハ面内を均一に乾燥させることができ
ないという間届があった。

（発明が解決しようとする課題） 本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたも
ので、ウェハ上に塗布されたレジストを短時間かつ均一
に乾燥し得るレジスト乾燥装置を提供しようとするもの
である。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 本発明は、ウェハを回転保持するための保持部材の上方
に配置され、下面が開口された風帽と、この風帽の上部
に連結されたガス供給管と、前記風帽内に配置された拡
散体と、前記風帽の下面の開口部に設けられ、複数の穴
が穿設されたガス層流板とを具備したことを特徴とする
レジスト乾燥装置である。

（作用） 本発明によれば、ガス供給管を通して乾燥のためのガス
を風帽内に供給し、該風帽内に配置した拡散体により放
射状に分散させ、更に前記風帽下面に設けたガス層流板
の複数の穴から吹き出させることによって、前記風帽下
方に所定の距離をあけて設置した保持部材上のレジスト
が塗布されたウェハに層流状態のガスを多量に吹き付け
ることができる。その結果、ウェハ上に塗布されたレジ
ストを短時間かつ均一に乾燥できる。

（実施例） 以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する
。

第１図は、本発明に係わるレジスト乾燥装置を示す概略
図である。図中の１１は、下面が開口された半球形の風
帽である。この風帽１ｌの土壁には、ガス流通口１２が
開口されており、かつ該土壁にはガス供給管ｌ３が連結
されている。前記風帽１１内には、拡散体１４が配置さ
れている。この拡散体ｌ４は、前記供給管ｌ３が連結さ
れた前記風帽１１上壁にナットｌ５を介して固定させた
支持棒ｌＢと、この支持棒ＩＢの下端に連結された穴あ
き板ｌ７とから構成されている。前記風帽１１の下面開
口部には、複数の穴ｌ８が放射状に穿設されたガス層流
板ｌ９が設けられている。前記風帽１１の下方には、ウ
ェハを回転保持するためのチャック機構を有するスピン
ヘッド２０が配置されており、かつ該スピンヘッド２０
の下面にはモータ２ｌにより駆動される回転軸２２が連
結されている。なお、前記風帽１１は前記スピンヘッド
２０に対して水平方向に移動可能となっている。

次に、前記乾燥装置による作用を説明する。

スピンヘッド２０上にウェハ２３を真空チャックし、該
ウェハ２３上にレジストを図示しないノズルを通して滴
下した後、モータ２ｌを駆動して回転軸２２に連結され
た前記スピンヘッド２０を回転させ、予め前記ウェハ２
３面内にレジストを均一に塗布する。

レジスト塗布後に前記ノズルを水平方向に移動させ、風
帽１１を前記スピンヘッド２０の上方に移動させる。こ
うした状態でスピンヘッド２０を回転させながら、ガス
供給管ｌ３を通して乾燥のためのガス（例えば乾燥空気
）を風帽ｉｔ内に供給に供給すると、該風帽１１内に配
置した拡散体ｌ４の穴あき板ｌ７により放射状に拡散さ
れ、拡散されたガスは更に前記風帽１１下面に設けたガ
ス層流板ｌ９の放射状に穿設された複数の穴１Ｂから吹
き出される。その結果、前記ウェハ２３上に塗布された
レジスト全体に層流状態のガスを多量に吹き付けられる
ため、該レジストを短時間かつ均一に乾燥される。

なお、上記実施例では風帽を半球状としたが、第２図に
示すように円錐台形の風帽１１’　を用いてもよい。

上記実施例では、拡散体は風帽の土壁に固定された支持
棒及びこの下端に連結された穴あき板とにより構成した
が、これに限定されない。例えば、前記支持棒を回転で
きるようにしてもよい。また、第３図に示すように風帽
上壁に固定させた支持棒ＩＢと、この支持棒１Ｂに多段
に連結され、下方程径が大きい３枚の穴あき板ＩＬ〜１
７３とから拡散体ｌ４゜を構成してもよい。なお、かか
る構成では上下に隣接する穴あき板１７＋〜１７３はそ
れらの穴が互いにずれるように配置することが必要であ
る。

上記実施例では、層流板として複数の穴を放射状に穿設
した形状としたが、第４図に示すように円弧状のスリッ
ト１８’　を放射状に穿設した形状の層流板１９’　を
用いてもよい。

上記実施例では、供給するガスとして乾燥空気を用いた
が、乾燥窒素、その他乾燥したアルゴン、ヘリウム等を
用いてもよい。

［発明の効果］ 以上詳述した如く、本発明のレジスト乾燥装置によれば
ウェハなどの基板上に塗布されたレジストを短時間かつ
均一に乾燥でき、ひいては乾燥後のレジスト膜への露光
、現像処理により半導体装置の微細加工などに好適な高
精度かつ微細なレジストパターンを再現性よく形成でき
る等顕著な効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例で使用したレジスト乾燥装置
を示す概略断面図、第２図は本発明の乾燥装置に用いら
れる他の風帽を示す斜視図、第３図は本発明の乾燥装置
に用いられる他の拡散体を示す平面図、第４図は本発明
の乾燥装置に用いられる他の層流板を示す平面図、第５
図は従来のレジスト塗布、乾燥工程を説明するための概
略図である。 Ｉ１、１１’　・・・風帽、１３・・・ガス供給管、１
４、１４゜・・・拡散体、１９、１９゛　・・・層流板
、２０・・・スピンヘッド、２１・・・モータ、２３・
・・ウェハ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　ウェハを回転保持するための保持部材の上方に配置さ
   れ、下面が開口された風帽と、この風帽の上部に連結さ
   れたガス供給管と、前記風帽内に配置された拡散体と、
   前記風帽の下面の開口部に設けられ、複数の穴が穿設さ
   れたガス層流板とを具備したことを特徴とするレジスト
   乾燥装置。