JPH02236300A - 複合メッキ方法 - Google Patents
複合メッキ方法Info
- Publication number
- JPH02236300A JPH02236300A JP5635889A JP5635889A JPH02236300A JP H02236300 A JPH02236300 A JP H02236300A JP 5635889 A JP5635889 A JP 5635889A JP 5635889 A JP5635889 A JP 5635889A JP H02236300 A JPH02236300 A JP H02236300A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- boron nitride
- surfactant
- plating
- inorganic particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims abstract description 8
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 15
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 abstract description 6
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- -1 amine salt Chemical class 0.000 abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 abstract 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 10
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 2
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical compound C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 125000005619 boric acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical class OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000004442 gravimetric analysis Methods 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical class C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229940083254 peripheral vasodilators imidazoline derivative Drugs 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 229940117986 sulfobetaine Drugs 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は窒化ホウ素とその他の無機粒子が均一に分散し
たＣｏ被覆母材及び該被覆母材をメッキする方法に関す
る。
たＣｏ被覆母材及び該被覆母材をメッキする方法に関す
る。
複合メッキ方法は従来の金属メッキ被覆に分散無機粒子
を均一に含有させることにより、耐摩耗性、自己潤滑性
、耐食性等の新しい機能を付加させることのできる点で
注目されている。
を均一に含有させることにより、耐摩耗性、自己潤滑性
、耐食性等の新しい機能を付加させることのできる点で
注目されている。
分散無機粒子を複数同時に複合させる方法は、今後、特
殊環境下での材料の製造に不可欠になると考えられる。
殊環境下での材料の製造に不可欠になると考えられる。
特に、高温環境下では、耐摩耗性、摩耗係数の点からマ
トリックス金属としてコバルトが、複合無機粒子として
窒化ホウ素を含む系が望まれている。
トリックス金属としてコバルトが、複合無機粒子として
窒化ホウ素を含む系が望まれている。
従来、単一の無機粉末粒子を金属マＩ− ＩＪックスに
分散複合させる例は特公昭５０−２１２９９号、特公昭
５ ８−２ ４ ５ １ ６号、特開昭５３−１４２３
３０号等の各公報に数多く見られるが、複数の無機粉末
粒子を同時に複合させた例はほとんどない。これは、無
機粒子の種類により、メッキ浴中における表面電気物性
が異なるため、粒子が選択的に金属マトリックスに複合
されるためである。
分散複合させる例は特公昭５０−２１２９９号、特公昭
５ ８−２ ４ ５ １ ６号、特開昭５３−１４２３
３０号等の各公報に数多く見られるが、複数の無機粉末
粒子を同時に複合させた例はほとんどない。これは、無
機粒子の種類により、メッキ浴中における表面電気物性
が異なるため、粒子が選択的に金属マトリックスに複合
されるためである。
本発明は上記技術水準に鑑み、マ｝ ＩＪックス金属中
に複数の無機粒子を均一に分散した複合メッキ及びその
メッキ方法を提供しようとするものである。
に複数の無機粒子を均一に分散した複合メッキ及びその
メッキ方法を提供しようとするものである。
本発明はマ｝ ｔＪックス金属中に分散させる無機粒子
表面電気物性を特定の界面活性剤により調節することに
より複数の無機粒子がマトリックス金属中に均一に分散
した複合メッキを得ることができることを確認し、本発
明はこの知見によって完成されたものである。
表面電気物性を特定の界面活性剤により調節することに
より複数の無機粒子がマトリックス金属中に均一に分散
した複合メッキを得ることができることを確認し、本発
明はこの知見によって完成されたものである。
すなわち、本発明は
（１） Ｃｏ被覆母材中に、窒化ホウ素とその他の少
なくとも一種以上の無機粒子とが均一分散状に含有して
なることを特徴とする複合メッキ（２） Ｃｏ電気メ
ッキ浴中に、窒化ホウ素とその他の少なくとも一種以上
の無機粒子とを分散させ、カチオン系またはメツキ浴中
でカチオン性を示す界面活性材を０．０１〜５重量％添
加してメッキすることを特徴とする複合メッキ方法 である。
なくとも一種以上の無機粒子とが均一分散状に含有して
なることを特徴とする複合メッキ（２） Ｃｏ電気メ
ッキ浴中に、窒化ホウ素とその他の少なくとも一種以上
の無機粒子とを分散させ、カチオン系またはメツキ浴中
でカチオン性を示す界面活性材を０．０１〜５重量％添
加してメッキすることを特徴とする複合メッキ方法 である。
すなわち、本発明は窒化ホウ素を含む２種以上の無機粒
子をコバルト電気メッキ浴中に分散させ、下記界面活性
剤を０．０１〜５重量％、好ましくは０．１〜１重量％
添加し、十分分散させた後、電気メッキを行い、コバル
トメッキ被覆中に無機粒子を均一に分散させることを可
能にしたものである。
子をコバルト電気メッキ浴中に分散させ、下記界面活性
剤を０．０１〜５重量％、好ましくは０．１〜１重量％
添加し、十分分散させた後、電気メッキを行い、コバル
トメッキ被覆中に無機粒子を均一に分散させることを可
能にしたものである。
界面活性剤の種類としては、まずカチオン系界面活性剤
として（ｉ）脂肪族アミン塩とその第４級アンモニウム
塩、例えば炭素数６〜２０の１級アミン、２級アミン、
３級アミン、ジアミン、トリアミン、ポリアミンおよび
それらの酢酸塩、オレイン酸塩、塩酸塩などが挙げられ
る。また（ ｉｉ ）ビリジニウム塩などの芳香族第４
級アンモニウム塩、（ｉｉｉ）イミダゾリニウム塩など
の複素環第４級アンモニウム塩も効果がある。
として（ｉ）脂肪族アミン塩とその第４級アンモニウム
塩、例えば炭素数６〜２０の１級アミン、２級アミン、
３級アミン、ジアミン、トリアミン、ポリアミンおよび
それらの酢酸塩、オレイン酸塩、塩酸塩などが挙げられ
る。また（ ｉｉ ）ビリジニウム塩などの芳香族第４
級アンモニウム塩、（ｉｉｉ）イミダゾリニウム塩など
の複素環第４級アンモニウム塩も効果がある。
一方、メッキ浴中でカチオン性、即ち正の帯電を示す界
面活性剤としては（ｉｖ）カルボキシベタイン、スルホ
ベタイン等のアルキルベタイン、（■）アミンオキサイ
ド、（ｖｉ）イミダゾリン誘導体などの両性界面活性剤
が挙げられる。
面活性剤としては（ｉｖ）カルボキシベタイン、スルホ
ベタイン等のアルキルベタイン、（■）アミンオキサイ
ド、（ｖｉ）イミダゾリン誘導体などの両性界面活性剤
が挙げられる。
さらに（ｖｊ）脂肪族アミンを含むポリアルキルオキサ
イド付加物、（ ｖｎｉ ）エチレンシアミン、テトラ
エチレンジアミン、ボリエチレンイミン等の複数個の活
性水素を有する多価アミンのアルキレンオキサイド付加
物も効果があることがわかった。ここでアルキレンオキ
サイドとしては、エチレンオキサイド、ブロビレンオキ
サイドなとが挙げられる。
イド付加物、（ ｖｎｉ ）エチレンシアミン、テトラ
エチレンジアミン、ボリエチレンイミン等の複数個の活
性水素を有する多価アミンのアルキレンオキサイド付加
物も効果があることがわかった。ここでアルキレンオキ
サイドとしては、エチレンオキサイド、ブロビレンオキ
サイドなとが挙げられる。
上記界面活性剤は複数種混合して使用しても効果がある
。
。
複数種の無機粒子としては窒化ホウ素とアルミナ、窒化
ホウ素と酸化クロム、窒化ホウ素と炭化ケイ素なとが挙
げられるが、窒化ホウ素以外の無機粒子は２種以上であ
っても問題はない。
ホウ素と酸化クロム、窒化ホウ素と炭化ケイ素なとが挙
げられるが、窒化ホウ素以外の無機粒子は２種以上であ
っても問題はない。
本発明における無機粒子の金属マ｝ ＩＪックスへの取
り込み機構としては■メッキ浴の機械的な攪拌によるメ
ッキ面への粒子の輸送、■メッキ面への粒子の吸着、■
析出金属による粒子の巻き込みが考えられる。現実には
■が大きな影響を及ぼすことは間違いないが■が粒子の
金属マトリックスへの複合化を左右していることは疑い
のない事実である。本発明では界面活性剤が無機粒子表
面に吸着することにより、粒子表面が正に帯電するため
コバルトイオンの陰極への泳動とともに粒子の金属マト
リックスへの移動、複合化が可能となるわけである。そ
の際、複数種の無機粒子を同程度の表面電位にするよう
な界面活性剤を選ぶことが重要なポイントである。
り込み機構としては■メッキ浴の機械的な攪拌によるメ
ッキ面への粒子の輸送、■メッキ面への粒子の吸着、■
析出金属による粒子の巻き込みが考えられる。現実には
■が大きな影響を及ぼすことは間違いないが■が粒子の
金属マトリックスへの複合化を左右していることは疑い
のない事実である。本発明では界面活性剤が無機粒子表
面に吸着することにより、粒子表面が正に帯電するため
コバルトイオンの陰極への泳動とともに粒子の金属マト
リックスへの移動、複合化が可能となるわけである。そ
の際、複数種の無機粒子を同程度の表面電位にするよう
な界面活性剤を選ぶことが重要なポイントである。
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本
発明はこの実施例に限定されるものではない。
発明はこの実施例に限定されるものではない。
本発明の実施例を以下に示す条件下で実施した。すなわ
ち、メッキ液を硫酸コバルト５００ｇ／１２、塩化ナト
リウム１７ｇ／Ｉ！，ホウ酸６０ｇ／Ｉｔの標準組成に
調製し、攪拌可能なメッキ浴に粒子及び界面活性剤を仕
込み、液ｐＨ４〜５、液温度４０℃、電流密度３＾／ｄ
ｍ’の条件下で電気メッキを行った。使用した無機粒子
の性状を第１表に示す。電気メッキ後の粒子の金属マト
リックスへの共析量は重量分析及び電子顕微鏡を使用し
て求めた。
ち、メッキ液を硫酸コバルト５００ｇ／１２、塩化ナト
リウム１７ｇ／Ｉ！，ホウ酸６０ｇ／Ｉｔの標準組成に
調製し、攪拌可能なメッキ浴に粒子及び界面活性剤を仕
込み、液ｐＨ４〜５、液温度４０℃、電流密度３＾／ｄ
ｍ’の条件下で電気メッキを行った。使用した無機粒子
の性状を第１表に示す。電気メッキ後の粒子の金属マト
リックスへの共析量は重量分析及び電子顕微鏡を使用し
て求めた。
〔例１〜１９）
窒化ホウ素及びアルミナを対象にして、界面活性剤を０
．５ｗｔ％添加して実施した。（第２表参照） 〔例２１〜２５〕 実施例−１において、界面活性剤添加景を０．０１〜５
．０ｗｔ％に変化させて実施した。
．５ｗｔ％添加して実施した。（第２表参照） 〔例２１〜２５〕 実施例−１において、界面活性剤添加景を０．０１〜５
．０ｗｔ％に変化させて実施した。
〔例２６〜３０〕
窒化ホウ素及び炭化ケイ素を対象にして界面活性剤を０
．５ｗｔ％添加して実施した。
．５ｗｔ％添加して実施した。
〔例３２〜３６〕
窒化ホウ素及び酸化クロムを対象にして界面活性剤を０
．５ｗｔ％添加して実施した。（以上、第３表参照） なお、例２０．３１及び３７は界面活性剤を添加しない
時のブランクデータであり、窒化ホウ素の複合が悪いこ
とがわかる。
．５ｗｔ％添加して実施した。（以上、第３表参照） なお、例２０．３１及び３７は界面活性剤を添加しない
時のブランクデータであり、窒化ホウ素の複合が悪いこ
とがわかる。
各例からも明らかなように、本発明で使用した界面活性
剤はいずれも、量の多少はあるが、窒化ホウ素と他の粒
子（アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム）はコバルト金
属マトリックス中に十分共析していることがわかった。
剤はいずれも、量の多少はあるが、窒化ホウ素と他の粒
子（アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム）はコバルト金
属マトリックス中に十分共析していることがわかった。
本発明により、コバルト金属被覆中に窒化ホウ素を含む
２種以上の無機粒子を共析、複合させることにより従来
では得られなかった耐摩耗性と自己潤滑性の機能を同時
に付与することが可能となった。
２種以上の無機粒子を共析、複合させることにより従来
では得られなかった耐摩耗性と自己潤滑性の機能を同時
に付与することが可能となった。
Claims (4)
- （１） Ｃｏ被覆母材中に、窒化ホウ素とその他の少な
くとも一種以上の無機粒子とが均一分散状に含有してな
ることを特徴とする複合メッキ。 - （２） 無機粒子がアルミナ、酸化クロム及び炭化ケイ
素よりなる群から選ばれた一種以上のものである請求項
（１）記載の複合メッキ。 - （３） Ｃｏ電気メッキ浴中に、窒化ホウ素とその他の
少なくとも一種以上の無機粒子とを分散させ、カチオン
系またはメッキ浴中でカチオン性を示す界面活性材を０
．０１〜５重量％添加してメッキすることを特徴とする
複合メッキ方法。 - （４） 無機粒子がアルミナ、酸化クロム及び炭化ケイ
素よりなる群から選ばれた一種以上のものである請求項
（３）記載の複合メッキ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1056358A JP2622283B2 (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | 複合メッキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1056358A JP2622283B2 (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | 複合メッキ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02236300A true JPH02236300A (ja) | 1990-09-19 |
| JP2622283B2 JP2622283B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=13025022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1056358A Expired - Lifetime JP2622283B2 (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | 複合メッキ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2622283B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54159343A (en) * | 1978-06-06 | 1979-12-17 | Akzo Nv | Coprecipitation |
-
1989
- 1989-03-10 JP JP1056358A patent/JP2622283B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54159343A (en) * | 1978-06-06 | 1979-12-17 | Akzo Nv | Coprecipitation |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2622283B2 (ja) | 1997-06-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0925388B1 (en) | Electroplating of nickel-phosphorus alloys coatings | |
| CA1063966A (en) | Electroplating method | |
| US3642589A (en) | Gold alloy electroplating baths | |
| KR19990045291A (ko) | 팔라듐 합금 전기도금용 조성물 및 이를 사용하는 전기도금법 | |
| CA1251761A (en) | Electrodeposition of amorphous alloys | |
| WO1988006638A1 (en) | Composites of metal with carbon fluoride and method of preparation | |
| Shrestha et al. | Composite plating of Ni/SiC using a cationic surfactant with an azobenzene group | |
| WO2016007320A1 (en) | Composite electroless nickel plating | |
| JPH02236300A (ja) | 複合メッキ方法 | |
| JP2607681B2 (ja) | 複合メッキ方法 | |
| JPH0711476A (ja) | パラジウムめっき液 | |
| EP0005890B1 (en) | Process for depositing composite coatings containing inorganic particles from an electroplating bath | |
| Periene et al. | Codeposition of mixtures of dispersed particles with nickel-phosphorus electrodeposits | |
| CN101429653A (zh) | 用于形成功能梯度复合镀层的制备方法及其镀液 | |
| JPS59193300A (ja) | 電気メツキ分散析出用浴 | |
| US3463708A (en) | Electrolytic bath for magnetic deposition | |
| EP3543378A1 (en) | Deposition of wear resistant nickel-tungsten plating systems | |
| JPS61127900A (ja) | 複合めつき方法 | |
| US3073762A (en) | Electrodeposition of cobalt phosphorus alloys | |
| CN101348907A (zh) | 一种功能梯度复合镀层的制备方法及其镀液 | |
| Rudnik et al. | Studies on the Codeposition of SiC Nanopowder with Nickel, Cobalt, and Co‐Ni Alloys | |
| JP6945761B1 (ja) | コンポジットめっき液用添加剤 | |
| Schwartz et al. | Direct & pulse current electrodeposition of iron group thin film alloys containing vanadium | |
| Bieliński et al. | Electrolytic Ni-Pb-P alloys | |
| Yin et al. | Electrodeposition of Ni-Fe-TiO2 composite coating on a rotating disk electrode in the presence of thallium ion |