JPH02233715A - Epoxy resin composition - Google Patents

Epoxy resin composition

Info

Publication number
JPH02233715A
JPH02233715A JP5288089A JP5288089A JPH02233715A JP H02233715 A JPH02233715 A JP H02233715A JP 5288089 A JP5288089 A JP 5288089A JP 5288089 A JP5288089 A JP 5288089A JP H02233715 A JPH02233715 A JP H02233715A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
silicone
formula
polyfunctional epoxy
modified
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5288089A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Yanagisawa
健一 柳沢
Masaru Ota
賢 太田
Naoki Mogi
直樹 茂木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP5288089A priority Critical patent/JPH02233715A/en
Publication of JPH02233715A publication Critical patent/JPH02233715A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To obtain the title composition consisting essentially of specific epoxy resin, phenol resin and inorganic filler, having higher heat resistance and plasticity and useful for semiconductor sealing. CONSTITUTION:The aimed composition obtained by blending (A) an epoxy resin containing 50-10wt.% (based on the total epoxy resin) random copolymer silicone-modified polyfunctional epoxy resin obtained by reacting a polyfunctional epoxy resin of random copolymer expressed by formula I (n is integer of 0-10; X is mixture of random copolymer existing at a ratio of formula II/formula III of <=1/2) organopolysiloxane with (B) a phenol resin (e.g. phenol novolak), (C) an inorganic filler (e.g. crystalline silica) and curing accelerator, mold releasing agent, etc., used as other components.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半田耐熱性、耐熱衝撃性に優れた半導体封止
用エポキシ樹脂組成物に関するものである. 〔従来の技術〕 半導体関連技術は近年の軽薄短小傾向より実装密度を向
上させる方向で進んできた.そのためにメモリーの集積
度の向上や、実装方法のスルホール実装から表面実装へ
の移行が進んでいる。従ったパッケージは従来のDrP
タイプから表面実装用として小型薄型のフラットパッケ
ージ、SOP、SOJSPLCCに変わってきており、
応力によるパフケージクランクの発生、これらのクラン
クによる耐湿性の低下等の問題がある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation that has excellent soldering heat resistance and thermal shock resistance. [Conventional technology] Semiconductor-related technology has progressed in the direction of increasing packaging density in response to the recent trend toward lighter, thinner, and smaller devices. To this end, the degree of memory integration is increasing and the mounting method is moving from through-hole mounting to surface mounting. The following package is a traditional DrP
The type has changed to small and thin flat packages for surface mounting, SOP, and SOJSPLCC.
There are problems such as the occurrence of puff cage cranks due to stress and a decrease in moisture resistance due to these cranks.

特に表面実装工程でのリードの半田付け時にパッケージ
は急激な温度変化を受け、このためにパンケージにクラ
ックが生じる問題が大きくクローズアップされている。
In particular, when soldering leads in the surface mounting process, the package is subject to rapid temperature changes, and the problem of cracks occurring in the pan cage due to this has been attracting a lot of attention.

これらの問題を解決するために半田付け時の熱衝撃を緩
和する目的で、熱可塑性オリゴマーの添加(特開昭62
−115849号公報)や各種シリコーン化合物の添加
(特開昭62−115850号公報、62−11665
4号公報、62−128162号公報)、更にはシリコ
ーン変性(特開昭62−136860号公報)などの手
法で対処しているがいずれも半田付け時にパンケージに
クランクが生じてしまい信顧性の優れた半導体封止用エ
ポキシ樹脂組成物を得るまでには至らなかった。
To solve these problems, thermoplastic oligomers were added to alleviate the thermal shock during soldering (Japanese Patent Laid-Open No. 62
-115849) and addition of various silicone compounds (JP-A-62-115850, 62-11665)
4, 62-128162) and silicone modification (Japanese Patent Application Laid-open No. 62-136860), but all of these techniques cause cranks to occur in the pan cage during soldering, which has resulted in poor reliability. However, it has not been possible to obtain an excellent epoxy resin composition for encapsulating semiconductors.

一方、耐半田ストレス性に優れた耐熱性エポキシ樹脂組
成物を得る為に樹脂系としては多官能エポキシ樹脂の使
用(特開昭61−168620号公報)等が検討されて
きたが、多官能エポキシ樹脂の使用では架橋密度が上が
り耐熱性が向上するが、特に200℃〜300℃のよう
な高温にさらされた場合においては耐半田ストレス性が
不充分であり、又硬くてもろくなるため耐熱衝撃性が極
めて不満足なものであった. これらの問題点を解決するため、本発明者らは多官能エ
ポキシ樹脂にランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹
脂、ランダム共重合シリコーン変性フェノール樹脂を配
合したエポキシ樹脂組成物、更には前記のエポキシ樹脂
組成物に添加型低応力剤を配合したエポキシ樹脂組成物
をすでに提案しており、これらにより半田耐熱性、耐熱
衝撃性の大巾な向上をはかることを見い出した。
On the other hand, in order to obtain a heat-resistant epoxy resin composition with excellent solder stress resistance, the use of a polyfunctional epoxy resin as a resin system (Japanese Patent Application Laid-open No. 168620/1983) has been considered; The use of resin increases the crosslinking density and improves heat resistance, but the solder stress resistance is insufficient especially when exposed to high temperatures such as 200°C to 300°C, and the thermal shock resistance becomes hard and brittle. The quality was extremely unsatisfactory. In order to solve these problems, the present inventors have developed an epoxy resin composition in which a polyfunctional epoxy resin is blended with a random copolymerized silicone-modified epoxy resin, a random copolymerized silicone-modified phenol resin, and furthermore, the above-mentioned epoxy resin composition. We have already proposed an epoxy resin composition containing an additive type low-stress agent, and have found that these can significantly improve soldering heat resistance and thermal shock resistance.

しかしながら、パッケージの薄型化、チップの大型化は
急速に進んでおり、半導体封止用エボヰシ樹脂組成物に
対する要求特性は益々厳しいものとなっており、今まで
以上に半田耐熱性、耐熱衝撃性に優れる樹脂が求められ
て来ている。
However, as packages are becoming thinner and chips are becoming larger rapidly, the required properties for epoxy resin compositions for semiconductor encapsulation are becoming increasingly strict, and the requirements for soldering heat resistance and thermal shock resistance are becoming greater than ever. There is a growing demand for superior resins.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

その目的とするところは、半田耐熱性、耐熱衝撃性のい
ずれもが良好な半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供
することにある. 〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは従来技術では克服できなかったバランスの
とれた優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得んと
鋭意検討を進めた結果、耐熱性良好で半田耐熱性を向上
させる効果を有する式(])で示される多官能エポキシ
樹脂と (nはOからlOの整数であり、化学構造式中における
Xは(A)が2に対して(B)が0〜lの割合で存在す
るランダム共重合物の混合物)。
The purpose is to provide an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation that has good soldering heat resistance and thermal shock resistance. [Means for Solving the Problems] The present inventors conducted intensive studies to obtain a well-balanced and excellent epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, which could not be overcome using conventional techniques. A polyfunctional epoxy resin represented by the formula (]) which has the effect of improving soldering heat resistance and (n is an integer from O to 1O, and X in the chemical structural formula is (A) is 2, while (B) (a mixture of random copolymers in which a mixture of random copolymers is present in a proportion of 0 to 1).

強靭性、低弾性を賦与する効果を有するオルガノポリシ
ロキサンとを反応させてなるランダム共重合シリコーン
変性多官能エポキシ樹脂を総エポキシ樹脂に対して50
〜100重量%配合することにより半田耐熱性、耐熱衝
撃性のいずれもが著しく向上することを見い出し本発明
を完成するに至った。
Random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin made by reacting with organopolysiloxane which has the effect of imparting toughness and low elasticity to the total epoxy resin
The present inventors have discovered that both solder heat resistance and thermal shock resistance are significantly improved by blending 100% to 100% by weight, and have completed the present invention.

本発明で用いられるランダム共重合シリコーン変性多官
能エポキシ樹脂は、半田耐熱性、耐熱衝撃性のいずれを
も向上させる効果を有する極めて重要な成分である。
The random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin used in the present invention is an extremely important component that has the effect of improving both solder heat resistance and thermal shock resistance.

これらのランダム共重合シリコーン変性多官能エポキシ
樹脂の原料として用いられるオルガノポリシロヰサンは
例えば、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、ハイドロシ
リル基等の官能基を有するものであり、オルガノポリシ
ロキサンの分子構造は直鎖状、分枝状のいずれでも良い
The organopolysiloxane used as a raw material for these random copolymerized silicone-modified multifunctional epoxy resins has functional groups such as alkoxy groups, hydroxyl groups, amino groups, and hydrosilyl groups, and the organopolysiloxane molecules The structure may be either linear or branched.

これらのオルガノポリシロキサンと反応させる式(1)
で示される構造の多官能エポキシ樹脂は1分子中に3個
以上のエポキシ基を有するもので、半田耐熱性を向上さ
せる働らきを有している.更に式中のXは(A)が2に
対して(B)がO〜lの割合で存在するランダム共重合
物が好ましこの場合、(A)を2としたときの(B)比
率が1より大きいと吸水性が上がり、半田浸漬時の熱衝
撃が大きく、半田耐熱性が悪くなる傾向がある.また2
官能以下のエポキシ樹脂では架橋密度が上がらず耐熱性
が劣り半田耐熱性の効果が得られない。またnの値は0
から10までの範囲が好ましい。この場合nの値がIO
より大きい場合、流動性が低下し、成形性が悪くなる顛
向がある。
Formula (1) to be reacted with these organopolysiloxanes
The polyfunctional epoxy resin with the structure shown has three or more epoxy groups in one molecule, and has the function of improving soldering heat resistance. Further, X in the formula is preferably a random copolymer in which (A) is present in a ratio of 2 to (B) in a ratio of 0 to 1; in this case, when (A) is 2, (B) is When it is larger than 1, water absorption increases, thermal shock during solder immersion becomes large, and soldering heat resistance tends to deteriorate. Also 2
If the epoxy resin is less than functional, the crosslinking density will not increase, the heat resistance will be poor, and the effect of soldering heat resistance will not be obtained. Also, the value of n is 0
A range from 10 to 10 is preferred. In this case, the value of n is IO
If it is larger, fluidity tends to decrease and moldability tends to deteriorate.

これらの原料を用いて得られるランダム共重合シリコー
ン変性多官能エポキシ樹脂の反応方法は特に限定される
ものではないが、例えば2ヶ以上のアミノ基を有するオ
ルガノボリソロキサンとエボキノ樹脂の一部のエポキン
基を直ti反応せしめてランダム共重合物となすとかエ
ボキノ基の1部にオルソアリルフェノールを反応させた
アルケニル基含存エポキン樹脂と2ヶ以上のハイドロシ
リル基を有するオルガノポリンロキサンとを反応させて
ランダム共重合物を得るなどの方法がある.本発明のラ
ンダム共重合ソリコーン変性多官能エポキシ樹脂は、オ
ルカリポリシロキサンと多官能エポキシ樹脂がランダム
に共重合したものであり、単にブロノク共重合したもの
に較べシリコーンドメインが均一に分散しており、成形
加工性、捺印性、耐熱性、耐熱衝撃性に優れており、且
つシリコーンドメイン部がシリコーンと耐熱性良好な多
官能エポキシ樹脂との共重合物により構成されているた
め、多官能エポキシ樹脂に、シリコーンドメインが通常
のエポキシ樹脂とシリコーンとの共重合物により構成さ
れているシリコーン変性エポキン樹脂、シリコーンドメ
インがフェノール樹脂とシリコーンとの共重合物により
構成されているシリコーン変性フェノール樹脂を配合し
た場合に較べ半田耐熱性が著しく向上する。
The reaction method of the random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin obtained using these raw materials is not particularly limited, but for example, the reaction method of the random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin obtained using these raw materials is not particularly limited. Epoquine groups are directly reacted to form a random copolymer, or an alkenyl group-containing Epoquine resin obtained by reacting orthoallylphenol to a part of the evoquino group and organoporin loxane having two or more hydrosilyl groups are used. There are methods such as reacting to obtain a random copolymer. The random copolymerized soricone-modified multifunctional epoxy resin of the present invention is a product in which olkali polysiloxane and a multifunctional epoxy resin are randomly copolymerized, and the silicone domains are more uniformly dispersed than those obtained by simple Bronok copolymerization. It has excellent moldability, imprintability, heat resistance, and thermal shock resistance, and since the silicone domain part is composed of a copolymer of silicone and a multifunctional epoxy resin with good heat resistance, it is suitable for multifunctional epoxy resins. , when a silicone-modified epoxy resin whose silicone domain is composed of a copolymer of a normal epoxy resin and silicone, and a silicone-modified phenol resin whose silicone domain is composed of a copolymer of a phenol resin and silicone are blended. Soldering heat resistance is significantly improved compared to .

シリコーン変性多官能エポキン樹脂に従来からあるエポ
キシ樹脂を混合して用いても良いが、これら混合系にお
いては、シリコーン変性多官能エポキシ樹脂を総エポキ
シ樹脂量に対して50重量%以上配合する必要がある。
A silicone-modified polyfunctional epoxy resin may be mixed with a conventional epoxy resin, but in these mixed systems, it is necessary to blend the silicone-modified polyfunctional epoxy resin in an amount of 50% or more by weight based on the total amount of epoxy resin. be.

配合量が50重量%を下回ると、半田耐熱性、耐熱衝撃
性のいずれもが低下し、不十分である。
If the blending amount is less than 50% by weight, both solder heat resistance and thermal shock resistance will decrease, making it unsatisfactory.

尚、ここでいう従来からあるエポキシ樹脂とは1分子中
に2個以上のエポキシ基有するものであればいかなのも
のでも良く、例えばビスフェノールA型エポキン樹脂、
ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラン
ク型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エボキソ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂及びこれらの変性樹脂等が挙げ
られ、これらのエポキシ樹脂は1種又は2種以上混合し
て用いることも出来る. これらのエポキシ樹脂の中ではエボキン当量が150〜
250、軟化点が60〜130゜Cであり、かつNa’
,CI一等のイオン性不純物が出来る限り少ないものが
好ましい。
The conventional epoxy resin referred to herein may be any resin having two or more epoxy groups in one molecule, such as bisphenol A type epoxy resin,
Examples include bisphenol F type epoxy resin, phenol novolank type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, and modified resins thereof, and these epoxy resins may be used singly or in combination of two or more types. You can also do it. Among these epoxy resins, Evoquine equivalent is 150~
250, a softening point of 60 to 130°C, and Na'
, CI, etc. are preferably contained as little as possible.

本発明で用いられるフェノール樹脂は硬化剤としての働
きをするものである. これらのフェノール樹脂としてはフェノールノボラック
、クレゾールノポランク及びこれらの変性樹脂等が挙げ
られ、これらは1種又は2種以上混合して用いることも
出来る. 用いられるフェノール樹脂は水酸基当量が80〜l50
、軟化点が60〜120゜Cであり、NaC1一等のイ
オン性不純物ができるだけ少ないものが好ましい. 本発明で用いられる無機充填剤としては結晶シリカ、溶
融シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、クルク、マイ力
、ガラス繊維等が挙げられるこれらは1種又は2種以上
混合して使用される。これらの中で特に結晶シリカ又は
溶融シリカが好適に用いられる. 又、これら以外の成分として必要に応してBDMA等の
第3級アミン類、イミダゾール類、1.8ジアザビシク
口(5、4、O)ウンデンセン7、トリフエニルホスフ
ィン等の有機リン化合物等の硬化促進剤、天然ワックス
類、合成ワックス類等の離型剤、ヘキサブロムベンゼン
、デカプロムビフェニルエーテル、二酸化アンチモン等
の難燃剤、カーポンブラノク、ベンガラ等の着色剤、シ
ランカップリング剤その他熱可塑性樹脂等を適宜添加配
合することが出来る. 本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を製造する場
合の一般的な方法としては、所定の組成比の原料をミキ
サー等によって十分均一に混合した後、更にロールや二
一グー等により溶融混合処理し、次いで冷却固化させ適
当な大きさに粉砕することにより、容易に行うことがで
きる。
The phenolic resin used in the present invention functions as a curing agent. Examples of these phenolic resins include phenol novolak, cresol nopolanc, and modified resins thereof, and these may be used alone or in combination of two or more. The phenol resin used has a hydroxyl equivalent of 80 to 150
It is preferable that the softening point is 60 to 120°C and that the content of ionic impurities such as NaCl is as small as possible. Examples of the inorganic filler used in the present invention include crystalline silica, fused silica, alumina, calcium carbonate, Kuruk, Myriki, and glass fiber, and these may be used singly or in combination of two or more. Among these, crystalline silica or fused silica is particularly preferably used. In addition, as necessary components other than these, curing of tertiary amines such as BDMA, imidazoles, organic phosphorus compounds such as 1.8 diazabisic (5, 4, O) undense 7, triphenylphosphine, etc. Accelerators, mold release agents such as natural waxes and synthetic waxes, flame retardants such as hexabromobenzene, decaprom biphenyl ether, and antimony dioxide, colorants such as carpon branok and red iron, silane coupling agents, and other thermoplastic resins. It can be added and blended as appropriate. A general method for manufacturing the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention is to mix raw materials with a predetermined composition ratio sufficiently uniformly using a mixer, etc., and then melt-mix using a roll, a 21-glue, etc. This can be easily carried out by processing, cooling, solidifying, and pulverizing into an appropriate size.

4. 実施例 実施例l ランダム共重合シリコーン変性多官能エポキシ樹脂(a
)              90重量部臭素化ビス
フェノールA型エポキソ樹脂lO重量部 (エポキシ当量370、軟化点65゜C、臭素含有率3
7%) フェノールノボラック樹脂     50重量部(OH
当聞105、軟化点95゜C) 溶融シリカ           490重量部三酸化
アンチモン         25重量部シランカノプ
リング剤         2重量部カルナバワックス
          3重量部カーボンブラック   
       3重量部を常温で十分に混合し、さらに
95〜100゜Cで混練し、冷却した後粉砕してタブレ
ット化して本願発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物
を得た。
4. Examples Example 1 Random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin (a
) 90 parts by weight Brominated bisphenol A type epoxo resin lO parts by weight (epoxy equivalent 370, softening point 65°C, bromine content 3)
7%) Phenol novolac resin 50 parts by weight (OH
Fused silica 490 parts by weight Antimony trioxide 25 parts by weight Silane Canopling agent 2 parts by weight Carnauba wax 3 parts by weight Carbon black
Three parts by weight were thoroughly mixed at room temperature, further kneaded at 95 to 100°C, cooled, and then crushed to form tablets to obtain the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention.

この材料をトランスファー成形i(成形条件:金型温度
175゜C、硬化時間2分)を用いて成形し、得られた
成形品を1 7 5 ’C、8時間で後硬化し耐熱衝撃
性および半田耐熱性を評価した。その結果を第1表に示
した。
This material was molded using transfer molding i (molding conditions: mold temperature 175°C, curing time 2 minutes), and the resulting molded product was post-cured at 175'C for 8 hours to improve thermal shock resistance and Solder heat resistance was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例2 実施例1において、ランダム共重合シリコーン変性多官
能エポキシ樹脂(a)90重量部を60重量部にかえ、
更にクレゾールノボラックエポキシ樹脂30重量部を配
合した以外は実施例lと同様にして半導体封止用樹脂組
成物を得た。
Example 2 In Example 1, 90 parts by weight of the random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin (a) was changed to 60 parts by weight,
A resin composition for semiconductor encapsulation was obtained in the same manner as in Example 1 except that 30 parts by weight of a cresol novolac epoxy resin was further blended.

この材料をトランスファー成形機(成形条件二金型温度
175℃、硬化時間2分)を用いて成形し、得られた成
形品を175゜C、8時間で後硬化し耐熱衝撃性および
半田耐熱性を評価した。その結果を第1表に示した. 実施例3〜4 同様にし第1表に示す組成物の半導体封止用エポキシ樹
脂組成物を得た.この半導体封止用エポキシ樹脂組成物
の評価結果も合わせ第1表に示す.比較例1〜4 同様にし第1表に示す組成物の半導体封止用エポキシ樹
脂組成物を得た.この半導体封止用エポキシ樹脂組成物
の評価結果も合わせ第1表に示す.※1)ランダム共重
合シリコーン変性多官能エポキシ樹脂(aJ式(It)
で示されるトリス(ヒドコキシアルキルフエニル)メタ
ントリグリシンル工一テル (n−2のときm=0の化合物が6、n=5のときm=
1の化合物が4の割合で混合なされているもの) とオルソアリルフェノールとのランダム共重合多官能エ
ポキシ樹脂と式([1)で示されるオルガノポリシロキ
サンとを、ランダム共重合多官能エポキシ樹脂/オルガ
ノポリシロキサンを100/20(重量比)で反応させ
たランダム共重合シリコーン変性多官能エポキシ樹脂(
エポキシ当量260、軟化点75゜C)。
This material was molded using a transfer molding machine (molding conditions 2: mold temperature 175°C, curing time 2 minutes), and the resulting molded product was post-cured at 175°C for 8 hours to achieve thermal shock resistance and soldering heat resistance. was evaluated. The results are shown in Table 1. Examples 3 to 4 Epoxy resin compositions for semiconductor encapsulation having the compositions shown in Table 1 were obtained in the same manner. The evaluation results of this epoxy resin composition for semiconductor encapsulation are also shown in Table 1. Comparative Examples 1 to 4 Epoxy resin compositions for semiconductor encapsulation having the compositions shown in Table 1 were obtained in the same manner. The evaluation results of this epoxy resin composition for semiconductor encapsulation are also shown in Table 1. *1) Random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin (aJ formula (It)
Tris(hydrocoxyalkylphenyl)methane triglycine compound (when n-2, m=0 is 6; when n=5, m=
Random copolymerized polyfunctional epoxy resin (mixed with compound 1 in a ratio of 4) and orthoallylphenol and organopolysiloxane represented by formula ([1)] are mixed into random copolymerized polyfunctional epoxy resin/ Random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin made by reacting organopolysiloxane at a ratio of 100/20 (weight ratio)
Epoxy equivalent weight 260, softening point 75°C).

※2)ランダム共重合シリコーン変性多官能エポキシ樹
脂(b) 弐(■)で示されるトリス(ヒドロキシアルキルフェニ
ル)メタントリグシジルエーテル(n=2のときm=0
の化合物が6、n=5のときm=1の化合物が4の割合
で混合なされているもの) とビスフェノールAとのランダム共重合多官能エポキシ
樹脂と式(IV)で示されるオルガノポリシロキサンと
をランダム共重合多官能エポキソ樹脂/オルガノポリシ
ロキサンを100/20(重量比)で反応させたランダ
ム共重合シリコーン変性多官能エポキシ樹脂(エポキシ
当量258、軟化点72”C). 来3)ランダム共重合シリコーン変性多官能エポキシ樹
脂(c) 式(V)で示されるトリス(ヒドロキシアルキルフェニ
ル)メタントリグシジルエーテルとオルソアリルフェノ
ールとのランダム共重合多官能エポキシ樹脂と式(II
I)で示されるオルガノポリシロキサンとをランダム共
重合多官能エポキシ樹脂/オルガノポリシロキサンを1
 0 0/20(重量比)で反応させたランダム共重合
シリコーン変性多官能エポキシ樹脂(エポキシ当量26
4、軟化点80℃). 84)ランダム共重合シリコーン変性多官能エポキシ樹
脂(d) 式(V)で示されるトリス(ヒドロキシアルキルフェニ
ル)メタントリグシジルエーテルとビスフェノールAと
のランダム共重合多官能エポキシ樹脂と式(rV)で示
されるオルガノポリシロキサンとをランダム共重合多官
能エポキシ樹脂/オルガノポリシロキサンを10072
0(重量比)で反応させたランダム共重合シリコーン変
性多官能エポキシ樹脂(エポキシ当量262、軟化点7
9’C)。
*2) Random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin (b) Tris(hydroxyalkylphenyl)methantriglycidyl ether indicated by 2 (■) (when n = 2, m = 0
A random copolymerized polyfunctional epoxy resin with bisphenol A and an organopolysiloxane represented by the formula (IV). A random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin (epoxy equivalent: 258, softening point: 72"C) made by reacting a random copolymerized polyfunctional epoxo resin/organopolysiloxane at a ratio of 100/20 (weight ratio). Polymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin (c) Random copolymerized polyfunctional epoxy resin of tris(hydroxyalkylphenyl)methantriglucidyl ether represented by formula (V) and orthoallylphenol and formula (II)
Random copolymerization of polyfunctional epoxy resin/organopolysiloxane with organopolysiloxane represented by I)
0/20 (weight ratio) random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin (epoxy equivalent: 26
4. Softening point 80℃). 84) Random copolymerization silicone-modified polyfunctional epoxy resin (d) A random copolymerization polyfunctional epoxy resin of tris(hydroxyalkylphenyl)methantriglycidyl ether represented by formula (V) and bisphenol A and formula (rV) Randomly copolymerized polyfunctional epoxy resin/organopolysiloxane with the indicated organopolysiloxane 10072
Random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin reacted at 0 (weight ratio) (epoxy equivalent: 262, softening point: 7)
9'C).

※5)ランダム共重合シリコーン変性多官能エポキシ樹
脂(e) 式(Vr)で示されるエポキシ樹脂とビスフェノールA
とのランダム共重合エポキシ樹脂と弐(■)で示される
オルガノポリシロキサンとを、ランダム共重合エポキシ
樹脂/オルガノポリシロキサンを100/20(重量比
)で反応させたランダム共重合シリコーン変性エポキシ
樹脂(エポキシ当量260、軟化点75゜C) 但しm/n+m−0.05 ※6)式(V)で示されるトリス(ヒドロキシアルキル
フェニル)メタントリグシジルエーテル※7)フェノー
ルノボラック樹脂(OH当itllO、軟化点95℃)
と式(■)で示されるオルガノポリシロキサンとを、フ
ェノールノボラック樹脂/オルガノポリシロキサンを1
00/20(重量比)で反応させたランダム共重合シリ
コーン変性フェノール樹脂(OH当1127、軟化点9
7℃) 8B)成形品(チップサイス36IIII1!)20個
(後硬化175゜C8H)を温度サイクルテスト(15
0〜−65℃)にかけ、500サイクルのテストを行い
クラックの発生した成形品の個数で判定.表中には、成
形品20個中のクランクの発生した成形品個数を示す. ※9)成形品(チップサイズ90m+++”)20個(
後硬化175’C8H)を温度ショックテスト(−19
6℃〜+150’c)にかけ、500サイクルのテスト
を行いクランクの発生した成形品の個数で判定.表中に
は、成形品20個中のクランクの発生した成形品の個数
を示す。
*5) Random copolymerized silicone-modified multifunctional epoxy resin (e) Epoxy resin represented by formula (Vr) and bisphenol A
A random copolymerized silicone-modified epoxy resin (random copolymerized epoxy resin/organopolysiloxane, which is made by reacting a random copolymerized epoxy resin with an organopolysiloxane indicated by 2 (■) in a 100/20 (weight ratio) Epoxy equivalent: 260, softening point: 75°C) However, m/n+m-0.05 *6) Tris(hydroxyalkylphenyl)methantriglucidyl ether represented by formula (V) *7) Phenol novolak resin (OH, itllO, Softening point 95℃)
and the organopolysiloxane represented by the formula (■), and the phenol novolac resin/organopolysiloxane in 1
Random copolymerized silicone-modified phenol resin reacted at 00/20 (weight ratio) (1127 per OH, softening point 9)
7℃) 8B) 20 molded products (chip size 36III1!) (post-curing 175℃8H) were subjected to a temperature cycle test (15℃).
0 to -65℃), and was subjected to 500 cycles of testing and determined by the number of molded products that developed cracks. The table shows the number of molded products with cranks out of 20 molded products. *9) Molded products (chip size 90m+++”) 20 pieces (
Post-cured 175'C8H) was subjected to temperature shock test (-19
6°C to +150'c), 500 cycles of testing were performed, and judgment was made based on the number of molded products in which cranking occurred. The table shows the number of molded products in which cranking occurred out of 20 molded products.

※10)成形品(チップサイズ36+nn+”)20個
(後硬化175゜C8H)について85゜C85%の水
蒸気下で72H処理後、260゜Cの半田浴に10秒間
浸漬し、クランクの発生した成形品の数で判定.表中に
は成形品16個中のクランクの発生した成形品個数を示
す. ※11)成形品(チップサイズ90mm”)20個(後
硬化175℃8H)について85℃85%の水蒸気下で
72H処理後、260゜Cの半田浴に10秒間浸漬し、
クランクの発生した成形品の数で判定。表中には成形品
16個中のクラックの発生した成形品個数を示す。
*10) 20 molded products (chip size 36+nn+”) (post-cured 175°C8H) were treated at 85°C under 85% steam for 72 hours, then immersed in a 260°C solder bath for 10 seconds, and moldings with cranks were removed. Judgment is based on the number of molded products. The table shows the number of molded products in which cranking occurred out of 16 molded products. *11) 20 molded products (chip size 90mm") (post-curing 175°C 8 hours) at 85°C 85 % water vapor for 72 hours, immersed in a 260°C solder bath for 10 seconds,
Determined by the number of molded products where cranking occurred. The table shows the number of molded products with cracks out of 16 molded products.

〔発明の効果] 本発明に従うと従来技術では得ることのできなかった高
度の耐熱性及び、可塑性を有するエポキシ樹脂組成物を
得ることができるので、半田付け工程による急激な温度
変化による熱ストレスを受けたときの耐クランク性、耐
熱衝撃性に非常に優れることから電子、電気部品の封土
用、被覆用絶縁用等に用いた場合、特に表面実装用パソ
ケージに搭載された高集積大型チップICにおいて信頬
性が非常に必要とする製品について好適である。
[Effects of the Invention] According to the present invention, it is possible to obtain an epoxy resin composition that has a high degree of heat resistance and plasticity that could not be obtained using conventional techniques, so it is possible to obtain an epoxy resin composition that has a high degree of heat resistance and plasticity that could not be obtained using conventional techniques. Due to its excellent crank resistance and thermal shock resistance when subjected to shock, it is used for sealing electronic and electrical components, coating insulation, etc., especially for highly integrated large chip ICs mounted on surface-mounted path cages. Suitable for products where authenticity is highly required.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)、(A)下記式( I )で示される構造の多官能
エポキシ樹脂とオルガノポリシロキサンとを反応させて
なるランダム共重合シリコーン変性多官能エポキシ樹脂
を総エポキシ樹脂量に対して50〜100重量%含むエ
ポキシ樹脂 ▲数式、化学式、表等があります▼…( I ) X;▲数式、化学式、表等があります▼…(A)、▲数
式、化学式、表等があります▼…(B) (nは0から10の整数であり、化学構造式( I )中
におけるXは(B)/(A)が1/2以下の割合で存在
するランダム共重合物の混合物)。 (B)フェノール樹脂 (C)無機充填材 を必須成分とするエポキシ樹脂組成物。
(1), (A) A random copolymerized silicone-modified polyfunctional epoxy resin obtained by reacting a polyfunctional epoxy resin having a structure represented by the following formula (I) with an organopolysiloxane in an amount of 50 to 50% based on the total amount of epoxy resin. Epoxy resin containing 100% by weight▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼…(I) ) (n is an integer from 0 to 10, and X in chemical structural formula (I) is a mixture of random copolymers in which (B)/(A) is present in a ratio of 1/2 or less). (B) A phenolic resin (C) An epoxy resin composition containing an inorganic filler as an essential component.
JP5288089A 1989-03-07 1989-03-07 Epoxy resin composition Pending JPH02233715A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5288089A JPH02233715A (en) 1989-03-07 1989-03-07 Epoxy resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5288089A JPH02233715A (en) 1989-03-07 1989-03-07 Epoxy resin composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02233715A true JPH02233715A (en) 1990-09-17

Family

ID=12927197

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5288089A Pending JPH02233715A (en) 1989-03-07 1989-03-07 Epoxy resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02233715A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100625054B1 (en) * 2000-05-04 2006-09-18 주식회사 코오롱 Thermally stable adhesive tape

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100625054B1 (en) * 2000-05-04 2006-09-18 주식회사 코오롱 Thermally stable adhesive tape

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02233715A (en) Epoxy resin composition
JP2008045025A (en) Epoxy resin composition for sealing and semiconductor apparatus
JPS5981328A (en) Epoxy resin composition for semiconductor sealing
JP3008983B2 (en) Resin composition
JPH02274719A (en) Resin composition
JPH03718A (en) Resin composition
JPH0232115A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor
JPH02208314A (en) Epoxy resin composition
JPH02208313A (en) Epoxy resin composition
JPH02155915A (en) Epoxy resin composition
JPH0324110A (en) Resin composition
JP2823634B2 (en) Resin composition
JPH02147620A (en) Epoxy resin composition
JPH01275626A (en) Epoxy resin composition for semiconductor sealing
JPH03195725A (en) Resin composition
JPH05105739A (en) Resin composition for sealing semiconductor
JPH02155914A (en) Epoxy resin composition
JPH0232116A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor
JP2703057B2 (en) Epoxy resin composition
JPH0379623A (en) Epoxy resin composition
JP2823658B2 (en) Resin composition
JP3129477B2 (en) Resin composition
JPH02219816A (en) Epoxy resin composition
JPH02274721A (en) Epoxy resin composition
JPH01268713A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor