JPH02232323A - アルミニウム系金属切削屑の溶解装置 - Google Patents

アルミニウム系金属切削屑の溶解装置

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JPH02232323A
JPH02232323A JP1049885A JP4988589A JPH02232323A JP H02232323 A JPH02232323 A JP H02232323A JP 1049885 A JP1049885 A JP 1049885A JP 4988589 A JP4988589 A JP 4988589A JP H02232323 A JPH02232323 A JP H02232323A
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gutter
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大久保 国雄
Fumitake Murakami
村上 二美武
Yasuro Tonouchi
殿内 康郎
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業一Fの利用分野] 本発明は,アルミニウムまたはアルミニウム&金の切削
屑(通称グライ扮)を再溶解して溶渇とするために使用
する溶解装置において,渦発生室内のlδ湯レベルを上
昇させるための電磁樋を有する溶解装置に関する. より具体的には、旋盤などの工作機械で切削され細長く
肉厚が薄《,一般に縮れた状態にされ単{I′L屯1当
たりの表面積が極めて大き<,シかも酸化し易いため溶
解効率の低いアルミニウムまたはアルミニウム合金の切
扮(JIS H 2119では”削りくず゛)とよばれ
る切削屑を高い溶解効率で溶解し高品質の溶渇とするた
めに渦発生室を設け、その渦中にアルミニウム系切削屑
を投入するようにした反q1炉において、前記渦発生室
(以下満室と呼ぶ)内の溶渇レベルを上稈させるために
電M1樋を備久たアルミニウム切削屑溶解装置に関する
.[従宋の技術] アルミニウムまたはアルミニウム合金の切削屑(通称ダ
ライ扮)を再忍解して溶湯とするには、低周波誘導溶解
か2反射型溶解炉およびRFa樋を使用した反射炉など
が使用されている.アルミニウムは軽金属の代表として
知られているように、その比重は約2.7ときわめて低
い。
また、アルミニウムを含め一般の金属材料はある程度の
粘性と靭性を有するため、それらの切削屑は、短く切断
された状態とはならず、渦巻状または縮れて細長く、薄
いリボン状で供給される。
アルミニウムは,低比道であるのに加え融点が約660
°Cと低1で、しかも酸素との結合力が強いため容易に
酸化する. アルミニウム系金属の切削屑は常温でも表面は酸化股で
覆われ、また表面に付着した切削油その他の異物を分離
するため通常は脱脂、乾燥などの予備処理が施されてい
るので表面はかなりのjヲさの酸化S9で覆われでいで
、このようなアルミ系金属の切削屑を溶解するには、切
削屑をなるべ《短時間内に既に形成されている溶渇中に
押し込んで空気中の酸素との接触を極力避けつつ滴渇に
する必要がある. また2 アルミニウム系金属の切削屑は高t品の,δ解
炉内に装入されると急速に酸化が進行して燃えてしまい
溶解歩留まりが大幅に低下する.一方、幾分厚い切削屑
は内部が溶融しても外部の酸化膜の皮が存在しているt
:め,溶融しでいる内部の流失が妨げられている間に酸
化が進行し、溶湯として回収される量は極めて少議とい
う結果になり鴇い4 このように、アルミ系金属の切削屑を溶解するには、溶
解炉の種類によっては極めて困難な状態に遭遇すること
になるが,バーナーで直接炎を吹;\付け消解ずる反射
炉が最も広く使用され゛Cいる反q−1炉につき説明す
る、, (1)通常の反射炉 通常の密閉型反Q1炉ではバーナーで溶解すると切削屑
が急速に昇温しで燃焼したり,表面が酸化物で厚く層わ
れている場合には内部は渚解しても表面は溶解せずに残
り,酸化による溶解ftN失が多くなる,このため切削
屑を投入するときにはバーナーを停止して、既に溶湯に
なっている元漫に切削屑を投入し、フォークリフトなど
で混合するといったバッチ方式を反復する.(2) オ
ーブンウエル型反射炉 オーブンウエル部を有する反射炉ではオープンウェル部
に切削屑を投入し、干.部から押込み板を使用して嵩ば
った切削屑を才−ブンウエル部内の溶湯に押込んで溶解
させるが、溶解歩留りが低い」二に押込み板の損耗が早
いという欠点があった。
これらの欠点を改善するため、本願の出願人は既に、オ
ープンウェル型反射炉の溶解室( Vf−温室とも呼ば
れる)内にウェル部に向かって」一Wずる勾配を有する
電磁樋を付設した反射溶解炉を開発し特許出願(特願昭
54−121025.特開昭56−44580.特公昭
57−31067) L特許第1139548号として
登録されている. この反射炉は第5図fAl と(旧に示すように溶解室
の下方の炉底を,水平な底部51と,この水平部51か
らオープンウェル部58に向かって上昇する勾配部52
と、この傾斜炉底の先端の水平な溶渇流路53を設け,
上記の炉底の水平部と勾配部と先端の水平流路部の下方
に、それぞれ商用周波数の3相交流によって直線方向の
移動磁界を発生する誘導コイル55. 55゜,55”
を配置し、??1渇に対し重力に抗して勾配部を上界さ
せ{1るだけの推力を与えるものである.形状が水を流
す樋に似ていることから、炉底ど3つに区分されt:電
磁コイル全体を’tm樋50と称し,譬4温室内の溶湯
は勾配部11’を遡ってl二向きに流れ水平部の先端か
らオーブンウエル58内に流入する。この先端部の泗渦
流路内の溶}■に第5図(旧に示されているアルミニウ
ム切削屑ホッパ−59から切削屑を投入すれば切削屑は
溶湯流内に巻き込まれて効率的に溶解するとともに、溶
湯全体も撹拌される. 上記の電磁樋の炉底の水平部の誘導コイル55は溶湯レ
ベルが低いときでも溶湯に推力を付与することが可能で
、中間の勾配部の誘導コイル55“は溶濶に推力を与え
重力に抗して勾配部を15↑させ、先端の水平部コイル
55”は切粉巻込みのために溶湯流を加速させる長所を
有する.才一ブンウェル型反射炉に電磁樋を設けた先行
技術としてのこの構成は、本願の特許請求の範囲と後述
する実施例で詳説する電磁樋のように渦室と併用する方
式でないため切粉巻込みの効果で遜色があり、渦室に対
する配置関係、オープンウェル部に対する溶湯流路の方
向、勾配の方向,アルミ切削屑を渦室の上方で溶解させ
る点など構成上でも全く相違するものである.(3)溶
湯ボンブを使用した反射炉溶解装置従米技術での切粉巻
込み効果が不十分であるという問題点に対処するため、
反射炉の溶解室内に渦発生室(渦室)を設けた溶解炉が
提案され一部で使用されている. この装置の概要は、第6図fAl . fB)に示され
るように、反り・t炉60の装入口6lの切粉コンベア
62の下側に渦室63を配置し、この渦室63の下端に
溶渇吸込[」64を設け炉体の装入口6lと反対側65
にfiJ’t易ボンブ66を配置し,この溶冫易ボンブ
66とi′8’tEp吸込口64との間をほぼ水平に延
在するトンネル状の溶湯通路67で連結してある。
この反肘炉内に元湯を装入し溶湯ポンブ66を作動させ
ると.渦室63内の溶泪は吸引され吸込[J64を急速
に通過し上部に渦を発生させる.そこで切扮コンベア6
2から切削屑を渦の部分に投入すれば、切扮は渦に捲き
込まれ溶湯中で急速に溶解され溶湯ボンブ66の吐出し
口から昇?品室に送られ、再び渦室63に流動し循環す
る.このようにしてアルミ切扮の溶解の際の酸化損失の
問題はある程度解決される。
[発明が解決しようとする課題1 前述の溶湯ボンブと渦室な備えた反射炉によりアルミニ
ウム系金属の切削屑の酸化による損耗を防止して,急速
に溶解するという問題はある程度達成される. しかしなから、溶渇ポンブの使用を前提とする前記の反
射炉では、実際操業に際し次のように大別して2つの問
題が発生する. +11溶湯ボンブを使用する必要上、渦室63の下端の
溶渇吸い込み口64と溶湯ボンブ66の吸込口との間は
,ほぼ水平に配置され流体密にされたトンネル状の溶湯
通路,つまり溶湯トンネルで連結しなければならない. 消湯ボンブは、溶湯温度が高いこと(700℃以上)と
、構造上ボ′ンブ挿入部の溶(a深さが大きいこと( 
250mm以上)か必要条件で、使用前に先ずこの条件
を満たす必要があり、またボンブ使用前には充分予舶を
行なう必要がある.何等かの原因により、炉の運転が急
に停止した場合に、炉内の瀉湯は炉の最下部にある溶湯
トンネル内に滞留する、この部分では切削屑を溶解した
ため温度が低下した溶湯は、凝固し易い欠点がある. 溶湯が溶渇トンネル内で一旦凝固してしまうと何等かの
手段で溶融させるか、機械的に取り除くかしなければ、
次の溶解を再開することができないため、多大の空転時
間による時間の浪費と除去のための工数を要しコスト高
となる.{2}溶渇ボンブはその構造上,作動部分であ
る羽根などがドロス等の異物を含むアルミ溶渇と直接接
触する. 溶湯ボンブの作動部分である羽根その他の部分は窒化け
いT:(SiN)や炭化けい素(SiC)などかなり耐
食性や耐摩耗性の高いセラミックス材で製作されてはい
るが,アルミ溶湯自体が腐六Kを有し,このような溶湯
と接触してかなりの速度で回転するので、腐食やエロー
ジョンにより損耗するのは不可避であり、これらの部材
は高価で部材自体のコスト,休動による損失、部材交換
の工数などのコスト上昇を招来する.[課題を解決する
ための千段1 fll炉室直下から炉の後壁に向かって上昇する電磁樋
の設置 溶湯ボンブな使用する.ことに起因する上記の課題を解
決tるため、本発明ではffl湯ポンプの代りに電磁樋
(電6R撓拌機の1種)を採用して渦室と併用すること
を前提とし,この前提に対応して下記に示す関連部材の
構造,配置、他部材との1法関係などを合理的に設定し
、消渇ボンブを採用した前記の反射炉の問題点を解消し
て/g ’t8ボンブによっては達成されない機能と効
果を実現するようにした. (2)炉体全体の構造 以下の説明では,反射炉の切削屑装入口から反対側に至
る方向を炉の長手方向と呼び、この長手方向の片側2第
1図 (A)と第3図では下側に,電磁樋、満室,およ
び切削屑を溶解して温度が低下した溶渇の通路を配置し
平面図でこの長手力向の反対側,第l゛図 (Alと第
3図では上側をバーナーにより溶湯を加熱し昇温する溶
解室(昇温室とも言う)を配置し、溶湯の通路と溶解室
との間を炉の天井までには達しない中間壁で仕切る. 溶湯の通路は,第l図 iBlに示されているように、
渦室の真下からやや前方までの水平な底部,この底部に
連結して装入口側から反対側に上向に傾斜する長い勾配
部と,さらに先方の短《水平な先端部の3部で横成され
ている.これは渦発生室内の溶渇のレベルを有効な範囲
で上昇させるためであり、次に述べる渦室の横這と密接
な関係がある. また、炉壁の内周、特に満室の積の部分と,この渦室の
反対側の溶湯通路の終端部に相当する炉壁の隅の部分は
,断面で半径が大きな円周となるよう充分大きな1くを
付けて築造する.(3)渦発iL室(以下渦室と略称す
る)渦室としでは、アルミニウム系金属の切削屑の酸化
による損耗を防止するため、渦室内にある溶湯中に切削
屑を急速に捲き込むようにし切削屑が大気中の酸素と接
触して酸化する黴を極力低減し、溶渇中に溶け込むのに
十分な捲き込み作用を有する渦を発生させる構造とする
.このためには,平面藺で見て渦室を画制する耐火材1
」の壁を突堤状に突出させ、その先端が渦室の底に設け
られた吸込口の軸心の位置、またはそれよりも炉の装入
口側の炉壁に近接させ渦室に流入する溶湯が炉壁の内周
に沿って流れるようにした。
また,渦室全体の内径、満室底部の吸い込みノズルの入
り口の内径、満室の吸い込みノズルの吐出し口の内径の
などの寸法比を、渦発生に好通な範囲を設定した. (4)溶湯通路上に蓋を設ける 電fi!樋が設置されている溶湯通路上に溶湯の上を覆
う器を設ける.これにより電磁樋により溶湯に与えられ
る推力はすべて}@湯の進行方向に集中され、溶解室内
の溶湯浦面を溶湯通路内の溶(!ij液面よりも高くし
渦室での渦の発生を助長する. (5)溶湯通路の上部にも誘導コイルを配置して電磁樋
としての推力を増大させる. [作用] 溶湯ボンブの代りに電磁樋を採用したことにより、溶渇
通路な溶湯の流動方向に上向きに傾斜させることが出来
,溶湯レベルがその傾斜面の下部にあり深さが浅い場合
でも,ia湯を上向きに搬送し滴湯レベルを傾斜面に沿
って上昇させるとともに溶湯に攪拌反作用を与えること
ができる.電磁樋の推力を利用し、溶解室内の溶渇のレ
ベルを溶湯通路の溶渇のレベルより高くし、オープンウ
ェル形反射炉の場合には才一ブンウエル部の溶渇のレベ
ルをさらに溶解室内の溶湯のレベルよりも高くすること
ができ、これにより渦室内の溶湯のレベルを高くして渦
の発生を増大させ得る.ノJ−、渦室の入り口に突堤状
の案内部が溶湯を炉の内壁に沿って才−プンウエル部か
ら渦室の外周にiAE人さゼる4 渦室全体の内径,渦室底部の吸い込みノズルの大り口の
内径,渦室の吸い込みノズルの吐出し口の内{Yなどの
寸法比を、渦発生に好適な範囲を設定したことにより、
前記の案内部との協同作用によりアルミニウム切削屑を
捲き込むのに有効な捲き込み形の渦が発生する. 溶?ロ通路の上にも蓋または誘導コイルを設置すればそ
の推力を溶湯の進行方向に増大させ得る.[実施例] 以ト添付の図面を参照して本発明の好適実施例について
説明する6 第1図 (Alと(0)は、本発明をオープンウェル聖
反射炉に適用した実施例を示す平断面図と側断面図で、
図中の符号10は炉体全体を示し11. ll’.ti
”は、それぞれ、電hB樋の底郎、勾配部および先端部
を示し、I.2.13およびl4は、溶解室(昇温室)
、渦室およびオープンウェル部を示す.前記電磁樋の底
部,勾配部および先端部の下方にコイルの記号で示され
た符号15. 15゜およびl5゛は電MI樋のそれぞ
れ部分に配置された誘導フイルで、l6は溶湯通路Uと
溶解室l3との間を仕切る中間隔壁で炉底■9から上に
向かって立ち上がり炉の天井17には達しないが,オー
ブンウfル部の前壁2lよりはやや高くされている。
中間隔壁l6は炉の後壁20との間に隙間22が設けら
れ、溶渇が電磁樋の溶渇通路から溶解室l2に流入する
通路になっている. 側面図である第1図(旧から明らかなように、電磁樋に
よって推力を与えられた溶,湯はこの勾配部11゛に沿
ってヒ昇し、先端部11’で加速されて溶解室l2内に
流入する. 才−ブンウェル部I4と溶解室l2どの内部の溶渇面の
上部は中間隔壁l6とドアにより仕切られる.渦室l3
は、才−ブンウエル部l4を囲む炉壁の片測[第l図f
Alの下側]の上端と炉底のほぼ中間の位置から伸びて
、第1図(B)に示されるように風呂釜のように築造さ
れ、中間隔壁16の延長邪に相゛11ずる部分は渦室l
3を囲む壁の一部を横成し、その一部l3“は切り欠か
れて、iii壁2lとの間に溶湯がオーブンウJ.ル部
l4から流入するオリフイスを構成する。
切り火きの先端l3“は平而図で渦室の底に明けられた
吸い込みノズルの軸心を通り前壁2lに平行な線1.ま
たは川にその位置よりも前壁2lに接近した位置まで伸
びて、流入する溶渇がiiI壁2lに沿い流動するよう
に案内する。
図面中の符号13は、市浦などを燃料とするバーナーで
溶解室l2内の溶湯の温度を上昇させる.この溶解炉の
作動は、まず必要社の元湯を炉内に装入し誘導コイルを
励磁し始動させる。
’t’a 謁は水平な底部11に推力が与えられ、勾配
部II’で上向きの推力を与えられ斜面に沿って上51
% Lた後、先端部11″ で水平方向に加速されて通
路22から溶解室l2内に流入する.第l図fB)の右
側に示した符号中,L0は渦室l3の丁方のオーブンウ
エル部の炉の底面、L,は溶湯に准力を与えるために必
要な溶泪液面であり、操業を開始し連続するには炉内に
最小限このレベルまでの溶湯が保持されていなければな
らない。
符号L2は溶湯通路の勾配部目゜の先万端,つまり勾配
部11゜よりも下流側の水平な先端部11’“の底面で
、溶湯はL,と L2間を2つの電磁コイルにより持ち
上げられ加速される。
L,は炉体の横這によって決まる溶湯の最高レベルで、
t容湯は誘導コイルの推力により最大このレベルまで加
速される. 符合1,。は、L2とL,間の通常操業レベルであり、
従って、L.,− L.は通常操業状体においてオーブ
ンウエル部l4内の溶湯と電磁樋の上端との間に生じ得
るレベル差を示し、このレベル差の範囲内で才一ブンウ
ェル部l4内の浩湯のレベル、つまり、これと上部で連
通している渦室13内の溶湯のレベルを上昇させ渦の発
生を助長させ得る.次に第1図 1cIと(D)を参照
して、渦室13の形状と内部寸法の関係について述べる
. 渦室13の切り欠きの先ggl3’については既に述べ
たので説明を省略する。
渦室l3の全体の内径をDI.吸い込みノズルの出l1
の内径をD2,吸い込みノズルの入り口の径をI) 3
とし、また、オリフィスの切り欠き幅を6とすると.渦
室l3内の溶湯に捲き込み型の渦が発’4=するために
は,これらの寸法の間に次の関係が成立するの望ましい
. D./I).+2〜3 G   : D l/2〜D,/4 D J / D z + 1.5〜 1.0第2図は、
オーブンウエル部のない通常の密閉苧反a=t炉に本発
明を適用した場合の平面図であり説明を省略する。
第3図は、第l図 tA)の電bi!樋の上に蓋を設目
た場合の実施例である。
第4図は,′ク遁6ノ1樋II’上に昇降可能な蓋4l
と上部i l4I樋1 1 ’ ”が配置され、溶1通
路内の泗湯に対し上,下から推力を加えることにより推
力を溶.易の進行方向のみに指向し溶解室l2内の溶湯
のレベル,つまり渦室内の溶湯のレベルな蓋41と上部
電&1樋1 1 ゜”が配置されていない場合よりも一
層高くすることができるので通常の密閉型反射炉に通用
した場合に、特に有効である. [効果] 本発明は、才一ブンウエル部を有する反射炉に適用する
場合には、オーブンウエル部の一方の隅に,また通常の
反射炉では溶解室内の装入口側の一方の隅に渦室を設け
、渦室の内径、渦室の底に設ける溶湯吐出しノズルの径
などを適切に選定して、渦室の下から溶解室までの間を
,溶湯流の上流側から、水平な底部、傾斜した勾配部お
よび水平な先端部の3つの部分に区画された}δ湯通路
で連絡し,溶渇通路のそれぞれの区画の下側、または上
下両側に誘導コイルを設けた電磁樋の推力により溶湯を
圧送することにより,渦室内の溶湯のレベルを上昇させ
渦の発生を増大させ、その中にアルミの切削屑を投入し
て急速に溶解させるのを可能にする. しかも,溶湯を勾配部を有する溶湯通路を通過させ搬送
していることにより,炉が停止しても溶湯が通路内に停
滞して凝固するような事故の発生が解消されるので、ア
ルミニウム切削屑の溶解に」jける従来の課題が解決さ
れる.
【図面の簡単な説明】
第l図 fAlと(旧は、本発明の好適実施例を示す平
面図と側面図、第1図 +C)とfil)は、本発明の
渦発生室と吐出しノズルなどの好適な寸法関係を示すモ
面図と側面図、第2図は本発明を密閉型反射炉に適用し
た実施例を示す平面図、第3図は,溶陽供給路上に蓋を
配置した実施例を示す正面図、第4図は、誘導コイルを
溶渇通路の十ドに配置した実施例の正面図、第5図の 
(Alと(旧は、電磁樋を使用した従来技術の反射炉の
側面図と平面図で第5図のfclは、第5図の(Alの
C−C断面であり、第6図の (Alと(Blは、渦室
と電lt11ボンブな組み合わせて使用した従来技術の
反Q−t炉の側面図と平面図である. 図面中の符号 IO  反射炉の炉体、it:i8湯通路の底部、ll
′: ’tH ln通路の勾配部、11”:溶湯通路の
先端部、l2・溶解室、13.渦発生室、13゛:切欠
き先端、1 3 ” :渦発生室底壁、14:才−ブン
ウエル部,15.15’,15”・誘導コイル、l6:
中間隔壁、l7  炉の天井、l8:扉、19:炉底、
20  炉の後壁、2l・炉の前壁、 22,通路、24二吐出しロノズル。 代理人 弁理士 後 藤 武 夫 代理人 弁理士 斎 藤 春 弥 代理人 弁理士 藤 本   礒 第 1 図 反射炉の炉体 溶湯通路の底部 溶湯通路の勾配部 溶湯通路の先端部 溶解室 渦発生室 切欠き先端 渦発生室底壁 オーブンウエル部 5”;誘導コイル 中間隔壁 炉底 炉の後壁 炉の前壁 吐出し口 (B) 1、 −1.39= 第 図 粥 図 粥 図 弟 第 図 b4 bと

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、アルミニウム系金属の切削屑を補給し溶解する反射
    炉型溶解装置であって、 オープンウェル部と、 溶解室と、 前記オープンウェル部の一方の隅に設けられ、耐火材料
    製の底壁と一部がオープンウェル部からの溶湯導入口と
    して切り欠かれた側壁によって囲まれ、前記オープンウ
    ェル部から区分されて底部に溶湯を吐出すための吐出し
    ノズルを有し該ノズルからの溶湯吐出しにより溶湯上面
    に渦を発生させる渦発生室と、 この渦発生室から流下する溶湯を溶解室の渦発生室の長
    手方向反対側まで搬送するため、前記の渦発生室に近接
    して水平に延在する底部と、この底部に連続して溶湯の
    進行方向に上向に傾斜する勾配部と、この勾配部の下流
    側に連続して水平に配置されている先端部との3個の区
    画から成る溶湯通路と、この溶湯通路の前記3個の区画
    のそれぞれの下部に配置される誘導コイルと、から成る
    電磁樋とを有し、 この電磁樋によって溶湯に与えられる推力により、渦発
    生室内の溶湯の液面位を前記電磁樋の先端部の溶湯の液
    面位より上昇させるようになっていることを特徴とする
    電磁樋を使用したアルミニウム系金属切削屑の溶解装置
    。 2、アルミニウム系金属切削屑を補給し溶解する溶解装
    置であって、 溶解室と、 前記溶解室の一方の隅に設けられ、底壁と一部が前記溶
    解室からの溶湯導入口として切り欠かれた側壁によって
    囲まれ、前記溶解室から区分され底部に溶湯を吐出すた
    めのノズルを有し、該ノズルからの溶湯吐出しにより溶
    湯上面に渦を発生させる渦発生室と、 この渦発生室から流下する溶湯を、前記溶解室の渦発生
    室の長手方向反対側まで搬送するため、前記の渦発生室
    に近接し水平に延在する底部と、この底部に連続して溶
    湯の進行方向に上向に傾斜する勾配部と、この勾配部の
    下流側に連続して水平に配置されている先端部との3個
    の区画から成る溶湯通路と、この溶湯通路の3個の区画
    のそれぞれの下部に配置される誘導コイルと、から成る
    電磁樋とを有し、 この電磁樋によって溶湯に与えられる推力により渦発生
    室内の溶湯の液面位を前記電磁樋の先端部の溶湯の液面
    位より上昇させるようになっていることを特徴とする電
    磁樋を使用したアルミニウム系金属切削屑の溶解装置。 3、請求項1または2に記載のアルミニウム系金属切削
    屑の溶解装置において、前記発生室の底部に設けられた
    容器吐出しノズルの吐出し端の径が前記渦発生室の内径
    の1/2より小さく、吐出しノズルの入口部の径よりは
    小さくされ、前記溶湯導入口としての切欠き部分の幅が
    渦発生室の内径の1/2以下にされていることを特徴と
    する電磁樋を使用したアルミニウム系金属切削屑の溶解
    装置。 4、請求項1〜3の何れか一つの項に記載の溶解装置に
    おいて、溶解室および/またはオープンウェル部の炉壁
    の隅角部が平面図で大きな円弧状に築造されていること
    を特徴とする電磁樋を使用したアルミニウム系金属切削
    屑の溶解装置。 5、請求項1〜4の何れか一つの項に記載の溶解装置に
    おいて、前記の電磁樋の溶湯通路内の溶湯表面が上下に
    昇降可能な蓋で覆われていることを特徴とする電磁樋を
    使用したことを特徴とするアルミニウム系金属切削屑の
    溶解装置。 6、請求項1〜5の何れか一項に記載の溶解装置におい
    て、前記誘導コイルが前記溶湯通路の上部にも設置され
    ていることを特徴とする電磁樋を使用したアルミニウム
    系金属切削屑の溶解装置。
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