JP2853145B2

JP2853145B2 - アルミニウム系金属切削屑の溶解装置

Info

Publication number: JP2853145B2
Application number: JP4988589A
Authority: JP
Inventors: 国雄大久保; 二美武村上; 康郎殿内
Original assignee: Shinko Electric Co Ltd
Current assignee: Shinko Electric Co Ltd
Priority date: 1989-03-03
Filing date: 1989-03-03
Publication date: 1999-02-03
Anticipated expiration: 2014-02-03
Also published as: JPH02232323A

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、アルミニウムまたはアルミニウム合金の切
削屑（通称ダライ粉）を再溶解して溶湯とするために使
用する溶解装置において、渦発生室内の溶湯レベルを上
昇させるための溶湯通路と誘導コイルを有する溶解装置
に関する。

より具体的には、施盤などの工作機械で切削され細長
く肉厚が薄く、一般に縮れた状態にされ単位重量当たり
の表面積が極めて大きく、しかも酸化し易いため溶解効
率の低いアルミニウムまたはアルミニウム合金の切粉
（JIS H 2119では“削りくず”）とよばれる切削屑を高
い溶解効率で溶解し高品質の溶湯とするために渦発生室
を設け、その渦中にアルミニウム系切削屑を投入するよ
うにした反射炉において、前記渦発生室（以下渦室と呼
ぶ）内の溶湯レベルを上昇させるために誘導コイルを備
えたアルミニウム系金属切削屑の溶解装置に関する。

［従来の技術］アルミニウムまたはアルミニウム合金の切削屑（通称
ダライ粉）を再溶解して溶湯とするには、低周波誘導溶
解炉、反射型溶解炉および誘導コイルを使用した反射炉
などが使用されている。

アルミニウムは軽金属の代表として知られているよう
に、その比重は約2.7ときわめて低い。

また、アルミニウムを含め一般の金属材料はある程度
の粘性と靱性を有するため、それらの切削屑は、短く切
断された状態とはならず、渦巻状または縮れて細長く、
薄いリボン状で供給される。

アルミニウムは、低比重であるのに加え融点が約660
℃と低温で、しかも酸素との結合力が強いため容易に酸
化する。

アルミニウム系金属の切削屑は常温でも表面は酸化膜
で覆われ、また表面に付着した切削油その他の異物を分
離するため通常は脱脂、乾燥などの予備処理が施されて
いるので表面はかなりの厚さの酸化膜で覆われていて、
このようなアルミ系金属の切削屑を溶解するには、切削
屑をなるべく短時間内に既に形成されている溶湯中に押
し込んで空気中の酸素との接触を極力避けつつ溶湯にす
る必要がある。

また、アルミニウム系金属の切削屑は高温の溶解炉内
に装入されると急速に酸化が進行して燃えてしまい溶解
歩留まりが大幅に低下する。

一方、幾分厚い切削屑は内部が溶融しても外部の酸化
膜の皮が存在しているため、溶融している内部の流失が
妨げられている間に酸化が進行し、溶湯として回収され
る量は極めて少量という結果になり易い。

このように、アルミ系金属の切削屑を溶解するには、
溶解炉の種類によっては極めて困難な状態に遭遇するこ
とになるが、バーナーで直接炎を吹き付け溶解する反射
炉が最も広く使用されている反射炉につき説明する。

（１）通常の反射炉通常の密閉型反射炉ではバーナーで溶解すると切削屑
が急速に昇温して燃焼したり、表面が酸化物で厚く覆わ
れている場合には内部は溶解しても表面は溶解せずに残
り、酸化による溶解損失が多くなる、このため切削屑を
投入するときにはバーナーを停止して、既に溶湯になっ
ている元湯に切削屑を投入し、フォークリフトなどで混
合するといったバッチ方式を反復する。

（２）オープンウェル型反射炉オープンウェル部を有する反射炉ではオープンウェル
部に切削屑を投入し、上部から押込み板を使用して嵩ば
った切削屑をオープンウェル部内の溶湯に押込んで溶解
させるが、溶解歩留りが低い上に押込み板の損耗が早い
という欠点があった。

これらの欠点を改善するため、本願の出願人は既に、
オープンウェル型反射炉の溶解室（昇温室とも呼ばれ
る）内にウェル部に向かって上昇する勾配を有する電磁
樋を付設した反射溶解炉を開発し特許出願（特願昭54−
121025,特開昭56−44580.特公昭57−31067）し特許第11
39548号として登録されている。

この反射炉は第５図（Ａ）と（Ｂ）に示すように溶解
室の下方の炉底を、水平な底部51と、この水平部51から
オープンウェル部58に向かって上昇する勾配部52と、こ
の傾斜炉底の先端の水平な溶湯流路53を設け、上記の炉
底の水平部と勾配部と先端の水平流路部の下方に、それ
ぞれ商用周波数の３相交流によって直線方向の移動磁界
を発生する誘導コイル55,55′,55″を配置し、溶湯に対
し重力に抗して勾配部を上昇させ得るだけの推力を与え
るものである。

形状が水を流す樋に似ていることから、炉底と３つに
区分された電磁コイル全体を電磁樋50と称し、昇温室内
の溶湯は勾配部11′を遡って上向きに流れ水平部の先端
からオープンウェル58内に流入する。この先端部の溶湯
流路内の溶湯に第５図（Ｃ）に示されているアルミニウ
ム切削屑ホッパー59から切削屑を投入すれば切削屑は溶
湯流内に巻き込まれて効率的に溶解するとともに、溶湯
全体も撹拌される。

上記の電磁樋の炉底の水平部の誘導コイル55は溶湯レ
ベルが低いときでも溶湯に推力を付与することが可能
で、中間の勾配部の誘導コイル55′は溶湯に推力を与え
重力に抗して勾配部を上昇させ、先端の水平部コイル5
5″は切粉巻込みのために溶湯流を加速させる長所を有
する。

オープンウェル型反射炉に電磁樋を設けた先行技術と
してのこの構成は、本願の特許請求の範囲と後述する実
施例で詳説する溶湯通路と誘導コイルのように渦室と併
用する方式でないため切粉巻込みの効果で遜色があり、
渦室に対する配置関係、オープンウェル部に対する溶湯
流路の方向、勾配の方向、アルミ切削屑を渦室の上方で
溶解させる点など構成上でも全く相違するものである。

（３）溶湯ポンプを使用した反射炉溶解装置従来技術での切粉巻込み効果が不十分であるという問
題点に対処するため、反射炉の溶解室内に渦発生室（渦
室）を設けた溶解炉が提案され一部で使用されている。

この装置の概要は、第６図（Ａ），（Ｂ）に示される
ように、反射炉60の装入口61の切粉コンベア62の下側に
渦室63を配置し、この渦室63の下端に溶湯吸込口64を設
け炉体の装入口61と反対側65に溶湯ポンプ66を配置し、
この溶湯ポンプ66と溶湯吸込口64との間をほぼ水平に延
在するトンネル状の溶湯通路67で連結してある。

この反射炉内に元湯を装入し溶湯ポンプ66を作動させ
ると、渦室63内の溶湯は吸引され吸込口64を急速に通過
し上部に渦を発生させる。

そこで切粉コンベア62から切削屑を渦の部分に投入す
れば、切粉は渦に捲き込まれ溶湯中で急速に溶解され溶
湯ポンプ66の吐出し口から昇温室に送られ、再び渦室63
に流動し循環する。

このようにしてアルミ切粉の溶解の際の酸化損失の問
題はある程度解決される。

［発明が解決しようとする課題］前述の溶湯ポンプと渦室を備えた反射炉によりアルミ
ニウム系金属の切削屑の酸化による損耗を防止して、急
速に溶解するという問題はある程度達成される。

しかしながら、溶湯ポンプの使用を前提とする前記の
反射炉では、実際操業に際し次のように大別して２つの
問題が発生する。

（１）溶湯ポンプを使用する必要上、渦室63の下端の溶
湯吸い込み口64と溶湯ポンプ66の吸込口との間は、ほぼ
水平に配置され流体密にされたトンネル状の溶湯通路、
つまり溶湯トンネルで連結しなければならない。

溶湯ポンプは、溶湯温度が高いこと（700℃以上）
と、構造上ポンプ挿入部の溶湯深さが大きいこと（250m
m以上）が必要条件で、使用前に先ずこの条件を満たす
必要があり、またポンプ使用前には充分予熱を行なう必
要がある。

何等かの原因により、炉の運転が急に停止した場合
に、炉内の溶湯は炉の最下部にある溶湯トンネル内に滞
留する、この部分では切削屑を溶解したため温度が低下
した溶湯は、凝固し易い欠点がある。

溶湯が溶湯トンネル内で一旦凝固してしまうと何等か
の手段で溶融させるか、機械的に取り除くかしなけれ
ば、次の溶解を再開することができないため、多大の空
転時間による時間の浪費と除去のための工数を要しコス
ト高となる。

（２）溶湯ポンプはその構造上、作動部分である羽根な
どがドロス等の異物を含むアルミ溶湯と直接接触する。

溶湯ポンプの作動部分である羽根その他の部分は窒化
けい素（SiN）や炭化けい素（SiC）などかなり耐食性や
耐摩耗性の高いセラミックス材で制作されてはいるが、
アルミ溶湯自体が腐食性を有し、このような溶湯と接触
してかなりの速度で回転するので、腐食やエロージョン
により損耗するのは不可避であり、これらの部材は高価
で部材自体のコスト、休動による損失、部材交換の工数
などのコスト上昇を招来する。

［課題を解決するための手段］（１）炉室直下から炉の後壁に向かって上昇する溶湯通
路の設置前記の先行技術では用語として電磁樋を使用し
たが、本発明では混同を避けるため、溶湯通路と誘導コ
イルとから構成するように変更した。

溶湯ポンプを使用することに起因する上記の課題を解
決するため、本発明では溶湯ポンプの代りに溶湯通路と
誘導コイルを採用して渦室と併用することを前提とし、
この前提に対応して下記に示す関連部材の構造、配置、
他部材との寸法関係などを合理的に設定し、溶湯ポンプ
を採用した前記の反射炉の問題点を解消して溶湯ポンプ
によっては達成されない機能と効果を実現するようにし
た。

（２）炉体全体の構造以下の説明では、反射炉の切削屑装入口から反対側に
至る方向を炉の長手方向と呼び、この長手方向の片側、
第１図（Ａ）と第３図では下側に、溶湯通路と誘導コイ
ル、渦室、および切削屑を溶解して温度が低下した溶湯
の通路を配置し平面図でこの長手方向の反対側、第１図
（Ａ）と第３図では上側をバーナーＢにより溶湯を加熱
し昇温する溶解室（昇温室とも言う）を配置し、溶湯の
通路と溶解室との間を炉の天井までには達しない中間壁
16で仕切る。

溶湯の通路は、第１図（Ｂ）に示されているように、
渦室のノズル24よりやや前方の部分から渦室の下方をわ
ずかに越える部分までの水平な底部11、この底部11に連
結して装入口側から反対側に上向に傾斜する長い勾配部
11′と、さらに先方の短く水平な先端部11″の３部で構
成されている。

これは渦発生室内の溶湯のレベルを有効な範囲で上昇
させるためであり、次に述べる渦室の構造と密接な関係
がある。

また、炉壁の内周、特に渦室の隅の部分と、この渦室
の反対側の溶湯通路の終端部に相当する炉壁の隅の部分
は、断面で半径が大きな円周となるよう充分大きなＲを
付けて築造する。

（３）渦発生室（以下渦室と略称する）渦室としては、アルミニウム系金属の切削屑の酸化に
よる損耗を防止するため、渦室内にある溶湯中に切削屑
を急速に捲き込むようにし切削屑が大気中の酸素と接触
して酸化する量を極力低減し、溶湯中に溶け込むのに十
分な捲き込み作用を有する渦を発生させる構造とする。

このためには、平面図で見て渦室を画定する耐火材料
の壁13aを突堤状に突出させ、その先端が渦室の底に設
けられた吸込口の軸心の位置、またはそれよりも炉の装
入口側の炉壁に近接させ渦室に流入する溶湯が炉壁の内
周に沿って流れるようにした。

また、渦室全体の内径D₁、渦室底部の吸い込みノズル
の入り口の内径D₃、渦室の吸い込みノズルの吐出し口の
内径D₂のなどの寸法比を、渦発生に好適な範囲を設定し
た。

（４）溶湯通路上に蓋を設ける溶湯通路上に溶湯の上を覆う蓋11aを設ける。これに
より溶湯通路と誘導コイルとにより溶湯に与えられる推
力はすべて溶湯の進行方向に集中され、溶解室内の溶湯
液面を溶湯通路内の溶湯液面よりも高くし渦室での渦の
発生を助長する。

（５）溶湯通路の上部にも誘導コイル41を配置して誘導
コイル推力を増大させる。

［作用］溶湯ポンプの代りに溶湯通路と誘導コイルとを採用し
たことにより、溶湯通路を溶湯の流動方向に上向きに傾
斜させることが出来、溶湯レベルがその傾斜面の下部に
あり深さが浅い場合でも、溶湯を上向きに搬送し溶湯レ
ベルを傾斜面に沿って上昇させるとともに溶湯に撹拌反
作用を与えることができる。

溶湯通路と誘導コイルとの推力を利用し、溶解室内の
溶湯のレベルを溶湯通路の溶湯のレベルより高くし、オ
ープンウェル形反射炉の場合にはオープンウェル部の溶
湯のレベルをさらに溶解室内の溶湯のレベルよりも高く
することができ、これにより渦室内の溶湯のレベルを高
くして渦の発生を増大させ得る。

一方、渦室の入り口に突堤状の案内部13aが溶湯を炉
の内壁に沿ってオープンウェル部から渦室の外周に流入
させる。

渦室全体の内径、渦室底部の吸い込みノズルの入り口
の内径、渦室の吸い込みノズルの吐出し口の内径などの
寸法比を、渦発生に好適な範囲を設定したことにより、
前記の案内部との協同作用によりアルミニウム切削屑を
捲き込むのに有効な捲き込み形の渦が発生する。

溶湯通路の上にも蓋または誘導コイル15cを設置すれ
ばその推力を溶湯の進行方向に増大させ得る。

［実施例］以下添付の図面を参照して本発明の好適実施例につい
て説明する。

第１図（Ａ）と（Ｂ）は、本発明をオープンウェル型
反射炉に適用した実施例を示す平断面図と側断面図で、
図中の符号10は炉体全体を示し11,11′,11″は、それぞ
れ、溶湯通路の底部、勾配部および先端部を示し、12,1
3および14は、溶解室（昇温室）、渦室およびオープン
ウェル部を示す。

前記溶湯通路の底部、勾配部および先端部の下方にコ
イルの記号で示された符号15、15′および15″は溶湯通
路のそれぞれ部分に配置された誘導コイルで、16は溶湯
通路11、11′、11″と溶解室12との間を仕切る中間隔壁
で炉底19から上に向かって立ち上がり炉の天井17には達
しないが、オープンウェル部の前壁21よりはやや高くさ
れている。

中間隔壁16は炉の後壁20との間に隙間22が設けられ、
溶湯が溶湯通路の上流側から溶解室12に流入する通路に
なっている。

側面図である第１図（Ｂ）から明らかなように、溶湯
通路と誘導コイルによって推力を与えられた溶湯はこの
勾配部11′に沿って上昇し、先端部11″で加速されて溶
解室12内に流入する。

オープンウェル部14と溶解室12との内部の溶湯面の上
部は中間隔壁16と垂直方向に上下動する隔壁18の下端縁
により仕切られる。

渦室13は、オープンウェル部14を囲む炉壁の片側［第
１図（Ａ）の下側］の上端と炉底のほぼ中間の位置から
伸びて、第１図（Ｂ）に示されるように風呂釜のように
築造され、中間隔壁16の延長部に相当する部分は渦室13
を囲む壁の一部を構成し、その一部13′は切り欠かれ
て、前壁21との間に溶湯がオープンウェル部14から流入
するオリフィスＳを構成する。

切り欠きの先端13′は平面図で渦室の底に明けられた
吸い込みノズル24の軸心を通り前壁21に平行な線上，ま
たは更にその位置よりも前壁21に接近した位置まで伸び
て、流入する溶湯が前壁21に沿い流動するように案内す
る。

図面中の符号Ｂは、重油などを燃料とするバーナーで
溶解室12内の溶湯の温度を上昇させる。

この溶解炉の作動は、まず必要量の元湯を炉内に装入
し誘導コイルを励磁し始動させる。

溶湯は水平な底部11で推力が与えられ、勾配部11′で
上向きの推力を与えられ斜面に沿って上昇した後、先端
部11″で水平方向に加速されて通路22から溶解室12内に
流入する。

第１図（Ｂ）の右側に示した符号中，L₀は渦室13の下
方のオープンウェル部の炉の底面、L₁は溶湯に推力を与
えるために必要な溶湯液面であり、操業を開始し連続す
るには炉内に最少限このレベルまでの溶湯が保持されて
いなければならない。

符号L₂は溶湯通路の勾配部11′の先方端、つまり勾配
部11′よりも下流側の水平な先端部11″の底面で、溶湯
はL₁とL₂間を２つの電磁コイルにより持ち上げられ加速
される。

L₃は炉体の構造によって決まる溶湯の最高レベルで、
溶湯は誘導コイルの推力により最大このレベルまで加速
される。

符号L_nは、L₂とL₃間の通常操業レベルであり、従っ
て、L_n−L₂は通常操業状体においてオープンウェル部14
内の溶湯と溶湯通路の上端との間に生じ得るレベル差を
示し、このレベル差の範囲内でオープンウェル部14内の
溶湯のレベル、つまり、これと上部で連通している渦室
13内の溶湯のレベルを上昇させ渦の発生を助長させ得
る。

次に第１図（Ｃ）と（Ｄ）を参照して、渦室13の形状
と内部寸法の関係について述べる。

渦室13の切り欠きの先端13′については既に述べたの
で説明を省略する。

渦室13の全体の内径をD₁，吸い込みノズルの出口の内
径をD₂、吸い込みノズルの入り口の径をD₃とし、また、
オリフィスの切り欠き幅をＧとすると、渦室13内の溶湯
に捲き込み型の渦が発生するためには、これらの寸法の
間に次の関係が成立するの望ましい。

D₁／D₂ :2〜３Ｇ：D₁/2〜D₁/4 D₃／D₂ :1.5〜1.0 第２図は、オープンウェル部のない通常の密閉型反射
炉に本発明を適用した場合の平面図であり説明を省略す
る。

第３図は、第１図（Ａ）の電磁樋の上に蓋を設けた場
合の実施例である。

第４図は、溶湯通路11′上に昇降可能な蓋41と上部溶
湯通路11′″が配置され、溶湯通路内の溶湯に対し上、
下から推力を加えることにより推力を溶湯の進行方向の
みに指向し溶解室12内の溶湯のレベル、つまり渦室内の
溶湯のレベルを蓋41と上部溶湯通路11′″が配置されて
いない場合よりも一層高くすることができるので通常の
密閉型反射炉に適用した場合に、特に有効である。

［効果］本発明はオープンウェル部を有する反射炉に適用する
場合には、オープンウェル部の一方の隅に、また通常の
反射炉では溶解室内の装入口側の一方の隅に渦室を設
け、渦室の内径、渦室の底に設ける溶湯吐出しノズルの
径などを適切に選定して、渦室の下から溶解室までの間
を、溶湯流の上流側から、水平な底部、傾斜した勾配部
および水平な先端部の３つの部分に区画された溶湯通路
で連絡し、溶湯通路のそれぞれの区画の下側、または上
下両側に誘導コイルを設けた溶湯通路の推力により溶湯
を圧送することにより、渦室内の溶湯のレベルを上昇さ
せ渦の発生を増大させ、その中にアルミの切削屑を投入
して急速に溶解させるのを可能にする。

しかも、溶湯を勾配部を有する溶湯通路を通過させ搬
送していることにより、炉が停止しても溶湯が通路内に
停滞して凝固するような事故の発生が解消されるので、
アルミニウム切削屑の溶解における従来の課題が解決さ
れる。

【図面の簡単な説明】第１図（Ａ）と（Ｂ）は、本発明の好適実施例を示す平
面図と側面図、第１図（Ｃ）と（Ｄ）は、本発明の渦発
生室と吐出しノズルなどの好適な寸法関係を示す平面図
と側面図、第２図は本発明を密閉型反射炉に適用した実
施例を示す平面図、第３図は、溶湯供給路上に蓋を配置した実施例を示す正
面図、第４図は、誘導コイルを溶湯通路の上下に配置し
た実施例の正面図、第５図の（Ａ）と（Ｂ）は、従来技
術の反射炉の側面図と平面図で第５図の（Ｃ）は、第５
図の（Ａ）のＣ−Ｃ断面であり、第６図の（Ａ）と
（Ｂ）は、渦室と電磁ポンプを組み合わせて使用した従
来技術の反射炉の側面図と平面図である。図面中の符号 10:反射炉の炉体、11:溶湯通路の底部、11′：溶湯通路
の勾配部、11″：溶湯通路の先端部、12:溶解室、13:渦
発生室、13′：切欠き先端、13″：渦発生室底壁、14:
オープンウェル部,15,15′,15″：誘導コイル、16:中間
隔壁、17:炉の天井、18:隔壁、19:炉底、20:炉の後壁、
21:炉の前壁、22:通路、24:吐出し口ノズル。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開昭56−44580（ＪＰ，Ａ) 実開昭64−22997（ＪＰ，Ｕ) 実公昭58−48550（ＪＰ，Ｙ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C22B 1/00 - 61/00 F27B 3/00 - 3/28

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】アルミニウム系金属切削屑の溶解装置とし
て、バーナー（Ｂ）で加熱される溶解室（12）と、この溶解室（12）とは、垂直方向に上下動する隔壁（1
8）の下端（18d）で区分され、その内部の溶湯が前記溶
解室（12）内の溶湯と連通するオープンウェル部（14）
と、このオープンウェル部（14）の一方の隅に設けられ、耐
火材料製の中間隔壁（16）の先端の切り欠き（13′）
と、前壁（21）との間の隙間（Ｓ）から溶湯が流入され
る渦発生室（13）と、この渦発生室（13）の底壁（1
3″）に明けられたノズル（24）と、この渦発生室（13）から流下する溶湯を、前記渦発生室
（13）の長手方向反対側まで搬送するため、前記の渦発
生室（13）に底部に水平に延在し溶湯に推力を与える底
部（11）と、この底部（11）に連続して溶湯の進行方向
に上向きに傾斜し、溶湯に推力を与える勾配部（11′）
と、この勾配部（11′）の下流側に連続して水平にされ
た先端部（11″）との３個の区画から成る溶湯通路と、これら３個の溶湯通路の、それぞれの下部に配置される
誘導コイル（15、15′、15″）とを有する溶解装置（1
0）とを備え、この際の溶湯の液面位は、前記の誘導コイルが送り出す
単位時間当たりの溶湯量と、前記ノズル（24）を通過す
る単位時間当たりの溶湯量とが、釣り合うまで前記オー
プンウェル部（14）と渦発生室の溶湯の液面位が上昇
し、渦発生室内の溶湯の液面位が溶湯通路内の液面位と
同一になった時点を最小値として操業を開始し、渦発生
室内の溶湯の液面位が渦発生室の上限界液面（L₃）に達
した時点を最高値として、通常の操業では前記誘導コイ
ルが送り出す単位時間当たりの溶湯量を、前記の最小値
と最大値の中間（L_n）の所定の位置に設定するようにな
っていることを特徴とするアルミニウム系金属切削屑の
溶解装置。
【請求項２】アルミニウム系金属切削屑の溶解装置とし
て、バーナー（Ｂ）で加熱される溶解室（12）と、この溶解室（12）から離れた隅部に設けられ耐火材料製
の中間隔壁（16）の先端の切り欠き（13′）と前壁（2
1）との間の隙間（Ｓ）から溶湯が流入される渦発生室
（13）と、この渦発生室（13）の底壁（13″）に明けられたノズル
（24）と、この渦発生室（13）から流出する溶湯を、渦発生室の長
手方向の反対側の通路（22）まで搬送するために、前記
の渦発生室（13）に近接して水平に延在し溶湯に推力を
与える底部（11）と、この底部（11）に連続し溶湯の進
行方向に上向きに傾斜し溶湯に推力を与える勾配部（1
5′）と、この勾配部（15′）の下流側に連続して水平
に配置されて水平方向に加速する先端部（15″）との３
個の区画から成る溶湯通路と、これら３個の溶湯通路の前記３個の区画の、それぞれの
下部に配置される誘導コイル（15、15′、15″）とを有
する溶解装置（10′）を備え、この際の溶湯の液面位は、前記の誘導コイルが送り出す
単位時間当たりの溶湯量と、前記のノズルを通過する単
位時間当たりの溶湯量とが、釣り合うまで前記渦発生室
の溶湯の液面位が上昇し、前記渦発生室（13）内の溶湯
の液面位が溶湯通路内の液面位と同一になった時点を最
小値として操業を開始して、渦発生室内の溶湯の液面位
が渦発生室の最高液面（L₃）に達した時点を最高値とし
て、通常の操業では前記誘導コイルが送り出す単位時間
当たりの溶湯量を、前記の最小値と最大値の中間（L_n）
の所定の位置に設定するようになっていることを特徴と
するアルミニウム系金属切削屑の溶解装置。
【請求項３】請求項１または２に記載のアルミニウム系
金属切削屑を補給し溶解する溶解装置において、前記渦
発生室（13）の底部に設けられた溶湯吐出しノズルの吐
出し端の径が、前記渦発生室（13）の内径の1/2より小
さく、吐出しノズルの入口部の径よりは小さくされ、前
記溶湯導入口としての切欠き部分の幅（Ｓ）が渦発生室
の内径の1/2以下にされていることを特徴とするアルミ
ニウム系金属切削屑の溶解装置。
【請求項４】請求項１〜３の何れか一つの項に記載の溶
解装置において、溶解室（12）および残りの炉壁の隅角
部が、大きな円弧状（Ｒ）に築造されていることを特徴
するアルミニウム系金属切削屑の溶解装置。
【請求項５】請求項１〜４の何れか一つの項に記載の溶
解装置において、前記の溶湯通路（11）上の溶湯表面が
上下に昇降可能な蓋で覆われていることを特徴とするア
ルミニウム系金属切削屑の溶解装置。
【請求項６】請求項１〜５までの何れか一つの項に記載
の溶解装置において、前記誘導コイルが前記溶湯通路の
上部にも設置されていることを特徴とするアルミニウム
系金属切削屑の溶解装置。