JPH02229172A - Ｎ―（フェニル）―テトラヒドロインダゾール誘導体及び該誘導体を含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業」二の利用分野］ 本発明は、一般式Ｉａ及びＩｂ・ ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ｂ［
式中、 Ｒｌはハロゲン原子を表し、 Ｒ２は０１〜Ｃ６−アルコキシカルボニル＝０２〜Ｃ，
−アルケニル基又は０１〜Ｃ３−アルキル基を表し、該
基は１又は２位で０１〜Ｃ６−アルコキシカルボニル基
又は５又は６員環の飽和もしくは１箇所で不飽和の複素
環によって置換されており、この場合この複素環は酸素
原子又は硫黄原子を含有しかつ１〜４個のＣ，−Ｃ４−
アルキル基によって置換されていてもよく、かつＲ３は
Ｃ２〜Ｃ７−アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６−アルケニル基、
Ｃ３〜Ｃｅ−アルキニル基、Ｃｌ〜Ｃ８−アルコキシカ
ルボニル−Ｃ３〜Ｃ５−アルケニル基又はＣ１〜Ｃ３−
アルキル基を表し、該基は１又は２位でＣ，〜Ｃ６−ア
ルコキシ力ルボニル基又は５又は６員環の飽和もしくは
１箇所で不飽和の複素環によって置換されており、この
場合この複素環は酸素原子又は硫黄原子を含有しかつ１
〜４個の０１〜Ｃ４−アルキル基によって置換されてい
てもよい］で示されるＮ−（フェニル）一テトラヒド口
インダゾール誘導体｛こ関する。

更に本発明は、１）θ記式Ｉａ及び１ｂの化合物の製造
法、該化合物を除草剤として使用すること並びにこれら
の化合物１２Ｌ及びｌｂを含有する、好ましくない植物
生長を防除する混合物に関する。

Ｎ−（フェニル）−テトラヒド口インダゾールの除草作
用は公知である。例えば、欧州特許公開第１０５７２１
号明細書には、式１′　：Ｆ式中、置換基は特に以下の
ものを表すＹは塩素原子又は臭素原子、 Ｚは塩素原子又はメチル及び Ｒは０１〜Ｃ４−アルキル基、Ｃ３〜Ｃ，−アルケニル
基、０，〜Ｃ４−アルキニル基、Ｃ１〜ＣＩ］アルコキ
シカルホニルメチル、０３〜ｃｏ−シクロアルコキシカ
ルボニルメチル又は０１〜Ｃ４ハロゲノアルコキシカル
ボニルメヂルを表す］で示される誘導体が記載されてい
る。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の課題は、少ない施用量で好ましくない植物に対
して一層良好な作用を有しかつ栽培植物に対して相容性
（選択性）である化合物を提供することであった。

［課題を解決するための手段］ 前記課題は、冒頭に定義したＮ−　（フェニル）テトラ
ヒド口インダゾール誘導体Ｉａ及びＩｂにより解決され
た。更に、該化合物の製造方法並びにその好ましくない
植物生長を選択的に防除するために使用するだめの用途
が見出された。

本発明によるＮ−（フェニル）テ１・ラヒドロインダゾ
ール誘導体Ｉａ及び１ｂは種々の方法で製造することが
できる。

該化合物は、例えば相応して置換されたＮ（３＝ヒドロ
キシフェニル）テトラヒド口インダゾールＩｌａ及びｎ
ｂを自体公知の方法で２００℃、有利には２５〜１５０
℃の温度で不活性溶剤中で塩基の存在下に相応ずる化合
物Ｉｌｌ　ａ又はｍｂでエーテル化することにより得ら
れる。

ｂ 上記式Ｉ１Ｉａ及びｍｂ中、Ｎｕは通常の求核性離脱基
例えばハロゲン原子、例えば塩素原子、臭素原子及びヨ
ウ素原子並びにスルホニルオギン基例えばメヂルスルホ
ニルオキン、トリプルオノレスルポニ一ノレオキノ、フ
エニノレスルホニルオキン及び］・リルスルホニルオキ
ンを表す。ｒ］一利には、Ｎｕは塩素原子、臭素原了及
び１・リルスルポニルオキシを表す。

該反応のためには、特に非プロトン性溶剤例えばアセ１
・ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ１・、ジメ
チルスルポギシド、テトラヒト口フラン及び相応する混
合物か適当である。

打利には、該反応はアセトン、アセ１・二１・リル、ジ
メヂルポルムアミド又は相応する混合物中で実施する。

通常仙川ざれる塩基の例は、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム、ナトリウ
ムメチラート及び水素化ナトリウｌえてあり、この場合
該反応は炭酸カリウム又は水素化ナトリウノ、の存在ド
に実施ずるのが有利である。

Ｎ−（３−ヒド「ｌキンフェニル）テオラヒｌ・〔Ｊイ
ンダゾール誘導体ＩＩ　ａの製造方法は文献から公知で
ある（欧州特許公開第１０５７２１号明細書）。該製逓
方法は、以十の反応式に基つき相応ずるニトロフェノー
ル誘導体ＩＶ　ａから出発して４工程で実施する。

同様にして、Ｎ−（３−ヒＩＳ口キノフＪニル）テオラ
ヒド（１インダゾール誘導体１１　１）は、相応ずるニ
ト［ノフェノール誘導体ＩＶ　ｂから出発して６工程で
得られる、その際中間］二程として、以下の反応式に示
すように、Ｒ３か０１〜Ｃ４アルキル基（　Ａｌｋ）を
有する化合物１　ｂが形成される。

７０Ａ１ｋ ’−．Ｒｌ エ；：゛ ＸＯＨ 基Ｔ｛　’が塩素化条件下（第５　．ＴＩ’：稈）で不
安定である化合物１ｂを製迅するには、ｌｌ’ａとＤＩ
　ａとの反応の記載した条件に類似してアルコールＩｌ
　ｂを化合物ＩＩＩ　ａでゴーテル化するのが好ましい
。Ｒ３かこれらの条件に対して安定である化合物Ｉｂは
、ｉ’＋ｒｒ記反応式に類似して製造することができる
。

個々の反応二［程は自体公知でありかっ一般に常用の方
法に基づき実施することができる。

第１工程（エーテル化）のだぬには、一般にかっ特に既
に述べたＩＩ　ａもしくはＩＩｋ）と１１Ｉａもしくは
Ｉｌｌ　ｂとの反応と同じ条件か当て嵌まる。

有利には、ごの反応はアセ１・ン、アセｌ・ニトル及び
／又はンメチルホルノ、アミド中で塩基としての水素化
ナ１・リウム又は炭酸ナ１・リウムのび在下に２５〜１
５０℃の温度で実施する。

ニトロフゴニルエーテルｖｂの相応するアニリン誘導体
Ｖｌｂへの還元は、一般に常用の方法に基づき、例えば
無機還元剤例えばラネーニッケル、鉄、錫（Ｉｔ）塩の
存在下に非ブロ１・ン性又はプロトン性極性溶剤中で又
は水素の存在−トに貴金属触媒例えば白金及びパラジウ
ムに接触させて非プロトン性極性溶剤中で実施する。

次いで、ｊｌ’ｊ離したアニリン誘導体Ｉｌ　ｂを不活
性溶剤中で自体公知方法に基づき（−５　０℃）〜５０
℃の温度でニトリソトでンアゾ化し、弓続きその場で還
元する。

ｖＸｂ ＶＩｂ ジアゾ化めために無機二トリット例えば亜硝酸及びアル
カリ金属曲硝酸塩を使用する限り、有利には水相内で鉱
酸を添加して−１０〜５℃の温度で作業し、一方ノアゾ
化は通常の有機二１・リッ］・例えばアミルニトリッで
のジアゾ化は有利には非プロトン性極性溶剤中で−　１
０〜２５°Ｃの温度で実施４′る。

ンアゾ化とは無関係に、川応するフエニルヒドラジンヘ
Ｖｌｌ　Ｌｌへの還ノしはその場で実施することができ
る。そのためには得られた反応混合物に−２０゜Ｃ〜２
５゜Ｃで無機還元剤例えばｌ　（　ＩＩ）塩、アルカリ
金属亜硫酸塩、アルカリ金属亜硫酸水素塩及び二酸化硫
黄を塊状又は溶液で加える。

引続き、そうして得られたフＪニルヒトラジン誘導体■
１１）を不活性溶剤中で２００℃までの温度、（Ｊ゛利
には２５〜１５０゜Ｃで塩基の存在下又は４在トにシク
〔１ヘキザン誘導体■て閉環ずる。

ＶｌｌｂｖＩＩＩＴＸｂ 式ＩＩＩ中の基Ｘは求核性離脱基を表す。この場合には
例えばハ〔ｌゲン原子例えば塩素原了及び臭素原子、ア
ルコキシノ，ζ例えばメトギノ、工１・キン、プロピル
オキン及びイソプじ！ピル才キノ並びにスルホネ−１・
例えばトンレー１・が該当する。

該反応はその都度Ｘが表すものに基づきＪ１プロトン性
極性溶剤又はブロトノ性無極性溶剤中で塩基の存在下又
は不在下に実施する。

Ｘがハロゲン原子を表す限り、有利には塩．２ｌ（の存
在士に非ブ［７トン性又はブ「ｌｌ・ン性フｌＩ（極性
溶剤中で作業する。

この場合、塩基としては特に第三アミン例えばトリエチ
ルアミン、ジイソプ口ビルエヂルアミン、Ｎ．Ｎ−ジメ
ヂルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルーｐ−アミノピリジン
、ピリジン、イソキノリン、Ｎ−メヂルピ口リジン、Ｎ
，Ｎ，Ｎ′Ｉ２ Ｎ′−テトラメチルエヂレンジアミン、■，５ジアザビ
ンクロｉ，３．０）ノン−５−エン（Ｄ丁３Ｎ）及び１
，８−ジアザビンク口（５，ｄ，０）−−ウンデセ−７
−エン（　１）　Ｂ　Ｕ　）が好適である。

適当な溶剤は、例えばトルエン、キシレン、クロロポル
１＼及びテトラヒド口フラン並びに相応ずる混合物であ
る。

有利には、トルエン又はクロ〔ノホルム中で塩基として
のトリエヂルアミン、ピリジン又はＤＢＵの存在−トに
作業する。

Ｘがアル：Ｊラート又はスルホネートを表す限り、プロ
トン性極性溶剤例えば特に氷酢酸がイｊ−利である。該
反応はこの場合には塩基を添加せずに実施する。

こうして得られたインダゾール誘導体ＩＸ　ｂのＮ−（
フＪ−ニル）−テトラヒド口インダゾール誘導体１ｂ（
Ｒ’・アルキル）の塩素化は自体公知方法で一般に常用
の塩素化試薬を用いて実ＩＸｂ　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｉｂこの反応は
、２００℃まで、打利には５０〜１８０℃の温度で不ｌ
１１性溶剤の存在下に並びに塩基の存在下又は革在■ζ
に進行ずる。

適当な塩素化剤は、例えば才キノクロリト例えばオキン
玉塩化燐、塩化チオニル、ホスケン又はトリクロルメチ
ルクＣ２口ポルミエート並びに塩化物例えば工塩化燐、
五塩化燐又は四ｎ．・，化硫黄である。オギン三塩化燐
を使用するのが有利である。

適当な溶剤は、例えばトルエン、キシレン、クロロホル
ム及び塩化メチレン、特にトルエン及びク［ノロポルム
である。

塩基としては、前記の第三アミンが該当する特に有利で
あるのは、溶剤を添加しないオギ施する。

ン三塩化燐との反応並びに溶剤としてのトルエン又はク
１ノロホルノ＼中でのトリク「冫ルメヂルク［１口ポル
ミエ−１・との反応である。

ｒえ１がＣ１〜Ｃ４−アノレギノレコ，（（八ｌｋ）を
表す、前記の本発明によるＮ−　（フェニル）−テトラ
ヒＦ口インダゾール誘導休［ｂから、Ｒ３が前記条件ド
で不安定なノ１（である誘導休１　ｂが、般的常法でエ
ーテル分解及び引続いてのエーテル化により入手される
。

Ｉｂ　（Ｒ３　＝　Ａｌｋ） １ｌｂ エーテル分解のためには、Ｎ−（アルコキンフエニル）
−テ｝・ラヒトロインダゾール誘う休］　ｂ　（　Ｒ’
　＝ＡＩｋ）を自体公知方法で不活ク１゛溶剤中で０−
１５０℃の温度でルユイス酸と反応さＵる。

この場合特に適当なルコイス酸は、例えば三弗化硼素及
びそのエテラート、正塩化アルミニウム、二塩化燐及び
三臭素化硼素である。

溶剤としては、エーテル例えばテ１・ラヒドロフラン、
ハロゲン化炭化水素例えばク［１ロポルム並びに炭化水
素例えばトルエン及び相応ずる混合物がイ１利である。

引き続いてのＮ−　（３−ヒドロキンフェニル）−テ１
・ラヒドロインダゾールｎｂと求核性試薬ｎｂとの反応
は、ｎａ及びＩＩＩ　ａの反応に関して述べた条件に類
似して実施１る。

化合物Ｉａ及びｌｂの特定の用途に関しては、置換基と
して以下のものが該当する Ｒｌ，ハロゲン原子例えば弗素、塩素及び臭素、特に塩
素 Ｒ２　アルコギンカルポニルアルケニル基例えば２−（
メｌ・キシカルポニル）プロビル−２エニル、２−（工
１−キンカルボニル）プロペ２−エニル、２−（プロビ
ルオギノカルボニル）ブロペ−２−．：Ｔ−ニル、２−
（　ｉ−プロビルオキンカルボニル）ブ（ノベ−２−ユ
、ニル、２（メトギンオキンカルホニル）ブテ−２−エ
ニル、２−　（エトキンオキンカルホニル）ブテ２−エ
ニル、２−　（プロビルオギンヵルポニル）ブテ−２−
エニル、２−（　ｉ−プロビルオキソカルボニル）ブテ
−　２−エニル アルキルノ．ｒ，例えばメチル、エヂル、プロビル及び
１−メチルエチル、有利にはメヂル及びエヂル、該基は
１位又は２位で以下の基の１つによって置換されている
： アルコキンカルボニル基例えばメ１・キシヵルボニル、
Ｊ．１・キシ力ルボニル、ブ［ｌピルオキシカルボニル
、１−メヂルエトキンヵルボニル、ブチルエ１・キンカ
ルボニル、プチルオキシヵルボニル、Ｉ−メチルプロピ
ルオキソヵルポニル２　メチルプロピルオキシカルボニ
ル及び１１−ジメチルエトキシカルボニル 又は酸素原子又は硫黄原子を含有する、５又は６月環の
飽和又は１箇所で不飽和の複素環式基、例えばテトラヒ
Ｆ口フラニル、テトラヒドロチＪ．ニル、２，３−ジヒ
ドロフラニル、２５−ジヒドロフラニル、２　３−ンヒ
］；’ｏヂエニル、２．５−ジヒド［１ヂエニル、テ］
・ラヒドロピラニル、テＩ・ラヒトロヂオピラニル、２
　Ｈ３．４−ノヒドロビラニル、２１−１−５　　６ン
ヒ１・ロピラニル、２Ｉ−■−３　７１−ジヒド〔１チ
オピラニル及び２１−１−５．６−ジヒドロヂオビラニ
ル、有利にはテ１・ラヒドロフラニル、テトラヒド口チ
ェニル、テトラヒＦ口ピラニル、テトラヒド口チオピラ
ニル、２１−１−３　　１−ジヒドロピラニル、２Ｈ−
５．６−ジヒ１・ロピラニル、２１１−３．４−ジヒド
ロチオピラニル及び２Ｈ−５．６−−ジヒドロチオピラ
ニル、この場合これらの環は基Ｒ２で挙げたアルキル基
の４個以下、有利には１〜４個のメチル基に，Ｌっで置
換されていてもよく、置換された環の場合には、総ての
可能な立体配置が存在することができる： Ｒ３　，アルキル基例えばエチル、プロビル、Ｉ−メヂ
ルエチル、ブヂル、１−メヂルプ口ピル、２−メヂルプ
ロビル及び］．　　］−　ジメヂルエチル、ペンチル、
１−メヂルブヂル、２−メヂルゾヂル、３　メヂルブチ
ル、１．２−ンメヂルプロピル、１，Ｉ−ジメヂルプ口
ピル、２２−ノメヂルブロビル、ｌ−エヂルブロピルｎ
−ヘキンル、１−メヂル−ペンヂル、２メチルペンヂル
、３　メヂルペンヂル、４−メヂルペンヂル、１．２−
ジメヂルブヂル、１３−ジメヂルブヂル、２，３−ノメ
チルブチル１，１−ジメチルブヂル、２，２−ジメヂル
ブヂル、３　３−ンメチルブチル、Ｉ，Ｉ，２トリメヂ
ルブロピル、ｌ　　２，２−トリメヂルブ〔ノビル、Ｉ
−エチルブチル、２−エチルブチル及び１−エチル−２
−メヂルブ口ビル、並びに異性体へブチル基 アルケニル基例えば１　ブロペニル、２−ブロペニル、
１−メヂルエテニル、１−ブテニル２−ブテニル、３−
ブテニル、Ｉ−メヂル■−ブロペニル、Ｉ−メヂル−２
−プ［Ｊベニル２−メヂル−　１−プ「１ペニル、２−
メチル２−プＵｌペニル、ｌ−ペンアニル、２　ベンテ
ニル、３−ペンテニル、４　ペンテニル、Ｉメヂル−１
−ブテニル、２−メチル−ブテニル３−メヂル−１−ブ
デニル、１　メチル−２ブテニル、２−メヂル−２−ブ
テニル、３メチル−２−ブテニル、Ｉ−メチル−３−ブ
テニル、２−メヂル−３−ブテニル、３−メチル３−ブ
テニル、１，１−ジメチル−２−ブ［Ｊペニル、１．　
　ｌ−ノメチル−１　プＶ：］ペニル、１　２　ジメヂ
ル−２−プ［Ｊペニル、ＩＪ−ヂル−ブ〔Ｊペニル、１
−Ｊ．チル−２−フ［ノペニル１−ヘキセニル、２−ヘ
キセニル、３−ヘキセニル、４−へキセニル、５−ヘギ
セニル、Ｉメチル−１−ペンテニル、２−メチル　１ベ
ンテニル、３−メヂル−　１　ペンテニル、４メヂル　
Ｉ−ペンテニル、１−メチル−２ペンテニル、２−メヂ
ルー２−ペンテニル、３メヂル−２−ペンテニル、４−
メチル−２ペンテニル、Ｉ−メヂル−３−ペンテニル、
２メヂル−３−ペンテニル、３−メヂル−３ペンテニノ
レ、４−メヂル　３−ペンヲーニ−ノレ、メヂル　４−
ペノテニル、２−メヂル−４ペンテニル、３−メヂル−
４−ペンテニル、４メヂル−４−ペンデニル、１，■−
ジメヂル２−ブテニル、Ｉ　　ｍ−ンメチル−３−ブテ
ール、１．２−ジメヂル−１−ブテニル、］２−ンメチ
ル−２−ブテニル、１．２−ジメヂル−＝３−ブテニル
、１　３−ンメヂル−　１−ブテニル、■，３−ジメチ
ル−２−ブテニル、Ｉ３−ジメチル−３−ブテニル、２
　２−ジメチル−３−ブテニル、２．３　ジメヂル−　
１ブテニル、２，３−ノメヂル　２−ゾテニル、２．３
−ジメチル−３−ブテニル、３　３−ジメチル−　１　
ブフ゛ニル、ｌ−ｒ．チル　１−ツヴニル、Ｉ−エヂル
−２−ツテニル、１−エチル３−ブテニル、２−エチル
−１−ブテニル、２−エヂル−２−ブテニル、２−エヂ
ル−３ブテニル、１．１２−１リメヂル−２−ブ〔ｌペ
ニル、１−エヂル　１−メヂル−２−プロベニル、１−
エヂル−２−メヂル−］−プロベニル及びｌ−エヂル−
２−メグ・ル−２−プロペニル アルギニル基例えば１−プ［７ピニル、２−ブ「ｌピニ
ル、１−ブヂニル、２−ブヂニル、３ブチニル、１−メ
ヂル−２−プロビニル、Ｉペンヂニル、２−ペンヂニル
、３−ペンチニル４−ペンヂニ一ノレ、１−メチル−３
−ブヂニノレ２−メヂル−３−ブヂニル、１　−メヂル
−２ブヂニル、３−メヂル−１−ブヂニル、１１−ジメ
ヂル−２−プロビニル、１−エヂル２−プロビニル、１
−ヘギンニル、２−ヘギノニル、３−ヘキソニル、４−
ヘキノニル、５ヘギンニル、ｌ−メチル−２−ベンヂニ
ル、１メヂル−３−ペンチニル、Ｉ−メチル−４ペンヂ
ニル、２−メヂル　３−ペンヂニル、２メヂル−４−ペ
ンチニル、３−メチル−１ペンヂニル、３−メチル−４
−ペンヂニル、１メヂル　Ｉ　ペンチニル、４−メヂル
−　２ペンヂニル、Ｉ，１−ノメチル−２−ブヂニル１
．１−ンメヂル−３−ブチニル、１２ンメヂル−３−ブ
チニル、２，２−ジメヂル３−ブヂニル、３　３−ンメ
チル　■−ブチニル、１−エチル−２−ブヂニル、１−
エチル３−ブヂニル、２−エヂル−３−ブヂニル及び１
−エヂル−１＝メチル−２−ブｔ１ピニル・又は基Ｒ　
２は一般的に及び特に前記のものを表す。

特に活性の化合物■４及びＩｂの特殊な例は、以十の表
△，　＋３及びＣに列記する。

表Ａ ＣＨ＝　ＣＩ−１ ＣＯ２ａ］２ＣＨ３ ＣＨ＝　ＣＩ｛ Ｃ０２ＣＨ（Ｃ■Ｔ３）２ 引，ＣＯ２ａ−１３ ＣＨ２Ｃｏ２ＣＩ−１２ＣＦＩ３ ＣＩ Ｂｒ ＣＨ２Ｃ０２ＣＨ（ａ−Ｉ３）２ ＣＩ Ｈ ＣＨ３ Ｒ′ ＣＯ２ＣＨ３ ＣＨ−　ＣＨ−　Ｃｏ２Ｃ｝ｌ３ ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）−Ｃｏ２ＣＨ３ ＣＨ−Ｃ（ＣＨ３）−Ｃｏ２ＣＨ２ＣＨ３丈』 ＣＨ３ ＣＩ Ｈ ＣＦ′Ｉ３ Ｈ Ｂｒ ＣＩ ＣＩ Ｂｒ Ｏ ＣＨ３ Ｈ ＣＨ３ Ｈ ＣＨ３ Ｈ ＣＨ３ ■｛ ＣＯ２ＣＨ３ −３１＝ 引一〇（ＣＨ３）−Ｃｏ２ＣＨ（ＣＨ３）２２ａ 心 ク Ω Ω Ｆ ＣＨ３ Ｈ Ｃ１１３ Ｃｉ工３ Ｈ ＣＯ　２ＣＩ．．Ｉ２ＣＨ　３ ＣＯ２Ｃ■−■（Ｃ■１３　）２ ＣＩ−１＝　ＣＨ−Ｃｏ　２ＣＨ３ ＣＴ｛−ＣＩＪ−Ｉ−Ｃｏ２ＣＨ２ＣＩ｛３ＣＩ｛−Ｃ
Ｉ−Ｉ−Ｃ０２ＣＩ｛（ＣＩ｛３）２ＣＨ２ＣＯ２ａ１
３ ＣＩ｛，　Ｃｏ２ＣＩ−１２ＣＩ−Ｉ３ＣＨ２Ｃ０２Ｃ
Ｈ（ＣＨ３）２ ＣＨ＝Ｃ（ＣＩ｛３）一Ｃｏ２ＣＨ３ ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）−Ｃｏ２ＣＩ｛２ＣＨ３Ｑ Ω Ｑ Ω Ω ＣＨ３ Ω Ｑ Ｏ Ω 表Ｂ Ｒ３ ｃ′Ｉ｛３ ＣＨ２ＣＨ３ （　ＣＨ２）　２０Ｈ３ ＣＨ（田．）２ （ＣＨ２）３ＣＨ３ ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３ ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２ 〃 ＣＨ２ＣＨ−ＣＨ２ Ｃ｝１　２ＣＨ−ＣＨＣＨ３ Ｆ Ｆ Ｆ ＣＨ３ Ｈ ＣＨ３ ｛ノ Ｆ ＣＨ３ 一３６ー ＣＨ２Ｃ＝ＣＩ−Ｉ ＣＨ２Ｃ：ＣＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ２　ＣＨ３ （ａ−１２）２Ｃ■１３ 口｛（ＣＩ｛３）２ （　Ｃｌ−｛２）　３ＣＨ３ ＣＩ｛（ＣＩ−｛３）ａ｛２ＣＩ−１３ＣＩ｛，ＣＩ−
１　（　ＣＮ｛３）　２ＣＨ２ＣＨ−ＣＨ， ＣＨ２ＣＨ＝Ｃ｝ＩＣＨ３ ＣＩ｛２Ｃ劃Ｍ ＣＩ−１，ＣヨＣＣＩ−Ｉ３ 表Ｃ ＣＨ−Ｃ（ＣＨ３）Ｃｏ。ＣＨ３ Ｃ′Ｐｐ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯ２ＣＨ２ＣＨ３ＣＩ ＣＨ３ Ｈ ＣＨ３ Ｈ ＣＩ］一ＣＨ ＣＨ＝ＣＩ−１ Ｃ｝Ｉ２ＣＯ２ＣＨ３ ｑ Ｂｒ ＣＩ｛３ Ｈ ＣＨ３ Ｂｒ Ｂｒ ＣＩ Ｂｒ Ｂｒ ＣＨ３ Ｈ ＣＩ ４４一 ＣＯ２ＣＨ３ ＣＯ２ＣＨ２ＣＨ３ ＣＯ２ＣＩ−１（　ＣＩ−１３）　２ ＣＦ■３ Ｃ｝１３ １■ ？Ｈ＝　ＣＨ−　ＣＯ。（”Ｉ｛３ ＣＩ｛＝ＣＨ−Ｃ○２ＣＨ２ＣＨ３ ＣＨ−ＣＨ−　ＣＯ２ＣＨ　（　ＣＨ３）　２ＣＨ２Ｃ
Ｏ■ＣＨ３ ＣＩ−Ｉ２Ｃ０２ＣＨ２ＣＨ３ ＣＨ２Ｃｏ２ＣＨ（　ＣＨ３）　２ ＣＩ−１−Ｃ　（　ＣＩ−ｉ３）Ｃｏ２ＣＩ−１３ＣＨ
−　Ｃ　（　Ｃｌ−１３）ＣＯ２ＣＨ２ＣＨ３ＣＨ−Ｃ
　（　ＣＩｌ３）Ｃｏ２ＣＨ　（　Ｃｌ３）　２ワ Ω Ω Ｃ Ω Ω Ｃ ０｛３ Ｈ Ｃｆ｛３ Ｉ″Ｊ Ｃｌ■３ Ｈ Ｃ■１３ Ｈ ＣＩ｛３ Ｈ ＣＨ３ Ｈ ＣＨ３ Ｈ ＣＨ３ Ｃ Ｑ Ω Ω ＝４８＝ ＣＨ３ Ｈ ＣＨ３ Ｈ ＣＨ３ ｝ｌ ＣＨ３ Ｈ Ω Ω Ω Ｃ Ｃ■Ｉ３ Ｎ−フエニルテトラヒド口インダゾール誘導体■ａ及び
■１）又はそれを含有する除草剤は、例えば直接的に噴
霧可能な溶液、粉末、懸濁液、更にまた高濃度の水性、
油性又はその他の懸濁液又は分散液、エマルジョン、油
性分散液、ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で
噴霧、ミスト法、ダスト法、散布法又は注入法によって
適用することができる。適用形式は、完全に使用目的に
基いて決定される；いずれの場合にも、本発明の有効物
質の可能な限りの微細分が保証されるべきである。

化合物Ｉａ及び１１〕は、通常直接飛散可能の溶液、乳
濁液、ペースト又は油分散液を製造するために、中位乃
至高位の沸点の鉱油留分例えば燈油又はディーゼル油、
更にフールター油等、並びに植物性又は動物性産出源の
油、脂肪族、環状及び芳香族炭化水素例エハトルオール
、キシロール、バラフィン、テトラヒドロナフタリン、
アルキル置換ナフタリン又はその誘導体、例えばノクノ
ール、エタノール、フロパノール、フリノール、シクロ
ヘキザノール、シクロヘキサノン、クロルベンゾール、
イソフォロン等、又は強極性溶剤例えばＮＮ−ジメチル
フメルムアミド、ジメチルスルフメギシド、Ｎ−メチル
ピロリ１・ン又は水が使用される。

水件使用形は乳濁ｒＬ濃縮物、分散蔽ベース１・、湿潤
可能の粉末、又は水分散性顆粒より水の添加により製造
されることができる。乳濁液、ペースト又は油分散液を
製造するためには、物質はそのまま又は油又は溶剤中に
溶解して、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤により水
中に均質に混合されることができる。しかも有効物質、
湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤及び場合により溶剤
又は油よりなる濃縮物を製造することもでき、これは水
にて希釈するのに適する。

表面活性物質としては芳香族スルホン酸のアルカリ、ア
ルカリ土類、アンモニウムの各塩、例えハリグニンスル
フォン＆、−３−フクリンスルフメン酸、フェノールス
ルフォン酸、及びジブチルナフタリンスルフォン酸のア
ルカリ塩、アルカリ土類５ｌ 塩、アンモニウム塩、並びに脂肪酸、アルキルスルフォ
ナート、アルキルアリールスルフォナート、アルキルス
ルファート、ラウリルエーテルスルファート、脂肪アル
コールスルファートのアルカリ塩及びアルカリ土類塩、
アンモニウム塩、硫酸化へキサデ力ソール、ヘプタデカ
ノール、オクタデカ／−ｋの塩、脂肪アルコールグリコ
ールエーテルの塩、スルフォン化ナフタリン及びその誘
導体とフォルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタリン
或はナフタリンスルフォン酸とフェノール及ヒフォルム
アルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシエチレンーオク
チルフェノールエーテル、エトキシル化イソオクチルフ
ェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、ア
ルキルフェノールボリグリコールエーテル、トリブチル
フェニルポリクリコールエーテル、アルキルアリールホ
リエーテルアルコール、イソトリデシルアルコール、脂
肪アルコールエチレンオキシドー縮合物、エトキシル化
ヒマシ油、ポリオキシェチレンアルキルエーテル、又は
ポリオキシプロピレン、ラウリルアルコールボリグリコ
ールエーテルアセクート、ソルビ，トエステル、リグニ
ン、亜硫酸廃蔽又はメチル繊維累が挙げられる。

粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と固状担体物質
とを混合又は一緒に磨砕することにより製造することが
できる。

粒状体例えば被ａ−、透浸一及び均質粒状体は、有効物
質を固状担体物質に結合することにより製造することが
できる。固状担体物質は例えば鉱物土例えばシリカゲル
、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリン、アククレ
、石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、粘
土、白雲石、珪藻土・硫酸カルシウム、硫酸マグネシウ
ム、酸化マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば硫酸
アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、
尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及びク
ルミ殻粉、繊維累粉末及び他の固状担体物質である。

使用形は有効物質０．１乃至９５重量％殊に０．　５乃
至９０重量％を含有する。

製剤例は以下の通りである。

１．９０車量部の化合物１００１をＮ−メチルα−ビロ
ＩＪドンｌＯ車量？１１と混合する時は、極めて小さい
滴の形にて使用するのに適する溶液が得られる。

■，２０車量部の化合ｆｌｙ１１．００４を、キシロー
ルｓｏｉｈ量部、エチレンオキシド８乃至１０モルをオ
レイン酸−Ｎ−モノエタノールアミド１モルに附加した
附加生成物１０重量部、ドデシルベンゾールスルフォン
酸のカルシウム塩５重量部及ヒエチレンオキシド４０モ
ルをヒマシ泪１１モルに附加した附加生成物５重量部よ
りなる混合物中に溶解する。この溶液を水１０００００
重量部に注入しかつ細分布することにより有効成分００
２重量％を含有する水性分散散が得られろ。

１．２０重量部の化合物１．．００６を、／クロヘキサ
ノン４０重Ｍ部、イソブタノール３０車量部、エチレン
オキシド７モルをインオクチルフエノル１モルに附加し
た附加生成物２０重量部及びエチレンオキシド４０モル
をヒマシ油１モルに附加した附加坐成物１０重量部より
なる混合物中に溶解する。この溶液を水１０００００　
Ｍ量部に注入しかつ絹分布することにより水性分散散が
得られる。

■．２０重量部の有効物質１００１を、シクロヘキザノ
ール２５Ｍ量部、沸点２１０乃至２８０℃の鉱油留分６
５重量部及びエチレンオキシド４０モルをヒマシ油］モ
ルに附加した附加生成物１０重量部よりなる混合物中に
溶解する。この溶液を水１．０００００重量部に注入し
かつ細分布することにより有効成分０，０２重量％を含
有する水性分散液が得られる。

■．２０重量部の有効物質］００２を、ジイソブチルー
ナフクリンーα−スルフォン酸のナトリウム塩３重量部
、亜硫酸一廃液よりのりグニンスルフォン酸のナ１・リ
ウム塩ｌ７車量部及び粉末状珪酸ゲル６０重量部と充分
に混和し、かつノ・ンマーミル中において磨砕する。こ
の混合物を水２００００重蛍部に細分布することにより
有効成分０．　１重量％を含有する噴霧液が得られる。

ＬＢｉ量部の有効物質１．００５を、細粒状カオリン９
７畢蛍ＦＢＩ）と密に混和する。かくして有効物質３Ｎ
重％を含有する噴霧剤が得られろ。

■．３０重重部の有効物質１００３を、粉末状珪酸ゲル
９２重量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹きつけられた
パラフィン油８重量部よりなる混合物と密に混和する。

かくして良好な接着性を有する有効物質の製剤が得られ
る。

■．２０重量部の有効物質１００４を、トデシルベンゾ
ールスルフオン酸のカルシウム塩２重量部、脂肪アルコ
ールボリグリコールエーテル８重量部、フェノールー尿
素一フォルムアルデヒドー縮合物のナトリウム塩２東量
部及びパラフィン系鉱油６８刀工量部と密に混和する。

安定な油状分敗液が得られる。

５６一 本発明による薬剤の適用は、発芽前処理法及び発芽後処
理法で行う。該％Ｊ効物質が特定の栽培植物に対して川
容１ｌＬか低い場合には、除，＋．ｌ，剤を噴霧装置を
用いて、イ」一効物質は敏感な裁培植物にはできるだ１
プ当たらず、一方その−１・て生長したｌ！ｒましくな
い植物の葉に又は躇山した１壌に達するように噴霧する
技術（ボス｝・−ダイレクト、レイーバイ法）を適用す
ることかてき゛る有効物質の使用量は、その都度の防除
［−１的、季節、目的植物及び［］的植物の生長段階に
Ｊ１（づき有効物質約０　．０　０　］　−　３　．０
　ｋｇ／ｈａ、イ』゛利には０　．０　１　−　０　．
５　ｋｇ／ｈａてある。

適川法の多槌性に基づき、本発明による化合物ないしは
該化合物を含イ］ずる薬剤はなお多数の栽培植物におい
て好ましくない植物を防除するために使用することがで
きろ。例えば以下の栽培植物が該当する タマネギ（　Ａｌｌｉｕｍ　ｃｅｐａ　）パイナノプル
（　Ａｎａｎａｓ　ｃｏｍｏｓｕｓ　）ナンキンマメ（
　Ａｒａｃｈｉｓ　ｈｙｐｏｇａｃａ　）アスパラカス
（　Ａｓｐａｒａｇｕｓ　ｏｆｆｉｃｉｎａｌｉｓ　）
オートムギ（　Ａｖｅｎａ　ｓａｔｉｖａ　）フダンソ
ウ（　Ｂｅｔａ　ｖｕｌｇａｒｉｓ　ｓｐｐ．　ａｌｔ
ｉｓｓｉｍａ　）サトウジシ−ｗ　（　Ｂｅｔａ　ｖｕ
ｌｇａｒｉｓ　ｓｐｐ．　ｒａｐａ　）アカテンサイ（
　Ｂｅｔａ　ｖｕｌｇａｒｉｓ　ｓｐｐ．ｅｓｃｕｌｅ
ｎｔａブラシーカ　ナバス（変種ナバス）　（　Ｂｒａ
ｓｓｉｃａｎａｐｕｓ　ｖａｒ．　ｎａｐｕｓ　）ブラ
シーカ　ナパス（変種ナボブラシーカ）（　Ｂｒａｓｓ
ｉｃａ　ｎａｐｕｓ　ｖａｒ．ｎａｐｏｂｒａｓｓｉｃ
ａ　） ブラシーカ　ナパス（変種ラバ）　（　Ｂｒａｓｓｉｃ
ａｎａｐｕｓ　ｖａｒ．　ｒａｐａ　） ブラシーカ　ナパス（変種シルベストリス）（　Ｂｒａ
ｓｓｉｃａ　ｒａｐａ　ｖａｒ．ｓｉｌｖｃｓｔｒｉｓ
　） トウソバキ（　Ｃａｍｅｌｌｉａ　ｓｉｎｃｎｓｉｓ　
）ベニバナ（　Ｃａｒｔｈａｍｕｓ　ｔｉｎｃｔｏｒｉ
ｕｓ　）キャリーヤイリノイネンンス（　Ｃａｒｙａ　
ｉｌｌｉｎｏｎｃｎｓｉｓ　） マルブシュカン（　Ｃｉｔｒｕｓ　Ｉｉｍｏｎ　）グレ
ープフルーソ（　Ｃｉｔｒｕｓ　ｍａｘｉｍａ　）ダイ
ダイ（　Ｃｉｔｒｕｓ　ｒｅｉｉｃｕｌａｔａ　）ナソ
ミカン（　Ｃｉｔｒｕｓ　ｓｉｎｅｎｓｉｓ　）コーヒ
ーノキＣ　Ｃｏｆｆｅａ　ａｒａｂｉｃａ　（　Ｃｏｆ
ｆｅａｃａｎｅｐｈｏｒａ，　Ｃｏｆｆｅａ　ｌｉｂｅ
ｒｉｃａ　）　：］７　ミメＯ　ｙ　（　Ｃｕｃｕｍｉ
ｓ　ｍｅｌｏ　）キュウリ（　Ｃｕｃｕｍｉｓ　ｓａｔ
ｉｖｕｓ　）ギョウギシバ（　Ｃｙｎｏｄｏｎ　ｄａｃ
ｔｙｌｏｎ　）ニンジン（　Ｄａｕｃｕｓ　ｃａｒｏｔ
ａ　）アブラヤミ（　Ｅｌａｅｉｓ　ｇｕｉｎｅｅｎｉ
ｓ　）イチゴ（　Ｆｒａｇａｒｉａ　ｖｅｓｃａ　）大
豆（　Ｇｌｙｃｉｎｅ　ｍａｘ　） 木棉Ｃ，　Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ　ｈｉｒｓｕｔｕｍ　（
　Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ　ａｒｌ〕ｏｒｅｕｍＧｏｓｓｙ
ｐｉｕｍ　ｈｅｒｂａｃｃｕｍ　Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍｖ
ｉｔｉｆｏｌｉｕｍ　）　〕 ヒマワリ（　Ｉｌｃｌｉａｎｔｈｕｓ　ａｎｎｕｕｓ　
）キクイモ（　Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ　ｉｕｂｅｒｏｓ
ｕｓ　）ゴムノキ（　Ｈｅｖｅａ　ｂｒａｓｉｌｉｅｎ
ｓｉｓ　）大麦（　Ｈｏｒｄｅｕｍ　ｖｕｌｇａｒｅ　
）カラハナソウ（　Ｈｕｍｕｌｕｓ　Ｉｕｐｕｌｕｓ　
）アメリカイモ（　Ｉｐｏｍｏｅａ　ｂａｔａｔａｓ　
）オニグルミ（　Ｊｕｇｌａｎｓ　ｒｅｇｉａ　）ニガ
ナ（　Ｌａｃｔｕｃａ　ｓａｌｉｖａ　）レンズマメ（
　Ｌｅｎｓ　ｃｕｌｉｎａｒｉｓ　）アＶ　（　Ｉ，ｉ
ｎｕｍ　ｕｓｉｆａｔｉｓｓｉｍｕｍ　）ト　マ　ト　
（　　Ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｏｎ　　　Ｉｙｃｏｐｅｒ
ｓｉｃｕｍ　　）リンゴ属（　Ｍａｌｕｓ　ｓｐｐ・） キャソサバ（　Ｍａｎｉｈｏｔ　ｅｓｃｕｌｅｎｔａ　
）ムラサキウマゴヤン（　Ｍｅｄｉｃａｇｏ　ｓａｌｉ
ｖａ　）ハノカ（Ｍｅｎｔｈａ　ｐｉｐｅｒｉｔａ　）
バショウ属（　Ｍｕｓａ　ｓｐｐ・） タバコ（：　Ｎｉｃｏｔｉａｎａ　ｔａｂａｃｕｍ　（
　Ｎ．　ｒｕｓｔｉｃａ　）　〕オリーブ（　Ｏｌｅａ
　ｅｕｒｏｐａｅａ　）イネ（　Ｏｒｙｚａ　ｓａｌｉ
ｖａ　）キビ（　Ｐａｎｉｃｕｍ　ｍｉｌｉａｃｅｕｍ
　）アズキ（　Ｐｈａｓｃｏｌｕｓ　Ｉｕｎａｔｕｓ　
）ササゲ（　Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ　ｍｕｎｇｏ　）ゴガ
ソササゲ（　Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ　ｖｕｌｇａｒｉｓ　
）パセリ（　Ｐｅｎｎｉｓｃｔｕｍ　ｇｌａｕｃｕｍ　
）ペトロセリウム　クリスバム（変種チュベロサム）（
　Ｐｅｔｒｏｓｅｌｉｎｕｍ　ｃｒｉｓｐｕｍ　ｓｐｐ
．　ｔｕｂｅｒｏｓｕｍ　）トウヒ（　Ｐｉｃｅａ　ａ
ｂｉｅｓ　）モミ（　Ａｂｉｅｓ　ａｌｂａ　） マツ属（　Ｐｉｎｕｓ　ｓｐｐ−　） シロエンドウ（　Ｐｉｓｕｍ　ｓａｔｉｖｕｍ　）サク
ラ（　Ｐｒｕｎｕｓ　ａｖｉｕｍ　）アンズ（　Ｐｒｕ
ｎｕｓ　ｄｏｍｅｓｔｉｃａ　）プルヌス　ダルシス（
　Ｐｒｕｎｕｓ　ｄｕｌｃｉｓ　）モモ（　Ｐｒｕｎｕ
ｓ　Ｐｅｒｓｉｃａ　）ナシ（　Ｐｙｒｕｓ　ｃｏｍｍ
ｕｎｉｓ　）サグリ（　Ｒｉｂｅｓ　ｓｙｌｖｅｓｔｒ
ｃ　）サンザシ（　Ｒｉｂｅｓ　ｕｖａ−ｃｒｉｓｐａ
　）トウゴ７　（　Ｒｉｃｉｎｕｓ　ｃｏｍｍｕｎｉｓ
　）サトウキビ（　Ｓａｃｃｈａｒｕｍ　ｏｆｆｉｃｉ
ｎａｒｕｍ　）ライムギ（　Ｓｅｃａｌｅ　ｃｅｒｅａ
ｌｅ　）ゴマ（　Ｓｅｓａｍｕｍ　ｉｎｄｉｃｕｍ　）
ジャガイモ（　Ｓｏｌａｎｕｍ　ｔｕｌ＋ｅｒｏｓｕｍ
　）モロコン（　Ｓｏｒｇｈｕｍ　ｂｉｃｏｌｏｒ　（
　ｓ．　ｖｕｌｇａｒｅ　）　〕モロコシガヤ（　Ｓｏ
ｒｇｈｕｍ　ｄｏｃｈｎａ　）ポウレンソウ（　Ｓｐｉ
ｒ＋ａｃｉａ　ｏｌｅｒａｃｅａ　）カカオノキ（　Ｔ
ｈｅｏｂｒｏｍａ　ｃａｃａｏ　）ムラサキソユクサ（
　Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ　ｐｒａｔｅｎｓｅ　）小麦（　
Ｔｒｉｔｉｃｕｍ　ａｅｓｔｉｖｕｍ　）トリティカム
・ドウラム（　Ｔｒｉｔｉｃｕｍ　ｄｕｒｕｍ　）イワ
ソソジ（　Ｖａｃｃｉｎｉｕｍ　ｃａｒｙｍｂｏｓｕｍ
　）コケモモ（　Ｖａｃｃｉｎｉｕｍ　ｖｉｔｉｓ−ｉ
ｄａｅａ　）ソラマメ（　Ｖｉｃｉａ　ｆａｂａ　）ビ
グナ　シネンシス（変種ウングイキュラータ）（　Ｖｉ
ｇｎａ　ｓｉｎｅｎｓｉｓ　（　Ｖ．　ｕｎｇｕｉｃｕ
ｌａｔａ　）　〕ブドウ（　Ｖｉｔｉｓ　ｖｉｎｉｌ’
ｅｒａ　）トウモロコシ（　Ｚｅａ　ｍａｙｓ　）本発
明による式Ｉａ及びｌｂのＮ−フェニルテトラヒド口イ
ンダゾールは、作用スペクトルを拡大するためにかつ相
乗効果を達成するために、別の除苧１’１″又は生長調
整性打効物質群の多数の代表的物質と混合しかつ一緒に
散布することができる。混合成分としては、例えばジア
ノン、ｍｌ■−３，Ｉ−ヘンゾアジン誘導体、ヘンゾチ
アジアジノン、２，６　ノニ｝・［ｌアニリン、Ｎ−フ
エニルカルバメー｝へ、チ才一ルカルバメート、ハロゲ
ンカルホン酸、ｌ−リアジン、アミド、尿素、ジフェニ
ルエーテル、｝・リアジノン、ウラシル、ペンゾフラン
誘導体、ギノリンカルボン酸誘導体、ノクロへギセノン
、フＪニルオキン−又はヘテロアリールオキンフェノキ
ンプロピオン酸、その塩、エステル及びアミ｝・及びそ
の他の有効物質が該当する。

更に、式Ｉａ及び１ｂのンク［１ヘギセノン誘導体もし
くは該誘導体を含有する除！”１Ｌ剤はｑｊ独でまたは
別の除草剤と相み合イつ且たものを更にまた別の植物保
護剤、例えば害虫又は植物病原性真菌類もしくはバクテ
リアを防除するだめの薬剤と混合して散布するのが有利
である場合もある。更に、芥分及び微メｉＸ元素不足を
補充するために使用される無機塩との混合可能性も重要
である。また、非植物毒性の浦及び７１１１濃縮物を添
加づ′ることもできる。

［合成実施例］ 以下の合成実施例に示す方法を、式Ｉａ及びＩｂの別の
化合物を製造するために出発化合物を適当に変更して利
用しノー。青られた化合物は以｝の表に物理的データと
一緒に記載する。これらのデータが記載されていない化
合物は相応する物質から類似した方法に猜づき製造する
ことかできるものである。これらは製造しかつ調査した
化合物に対して近似した構造的特徴により同様の作用を
イｆずるものと予測することかできる。

実施例１ ３　ク【１ル ル−５−（５ ［４−クロル ソヒドｏ　−　２　１−１ フルオ ピラン ３−イルーメヂル才キン）一フェニル］−４５　６　７
−テトラヒ１・〔ノインダゾールの製迄 ノメチルホルム）′ミト５０屑ρ中の３−クロル２−（
４−クロル−２−フルオル−５−ヒ１・ロキンフェニル
）−７１　５　６　７−テｉ・ラヒトロインダゾール’
４．５！ｒ（１５ミリモル）、炭酸カリウム２．５ｆ／
（１８ｚＩ２）及びヨウ素化ナ１・リウム０．５ｙ（３
ミリモル）の混合物に２５℃で３−クロルメチル−５　
６−ジヒトｌ：７−２　Ｈビラン２．］＆（１６ミリモ
ル）を加えかつ１２時間撹拌した。該反応混合物に水１
００ａＱを加えかつ析出した沈澱物を手離した。水で洗
浄しか一ノ乾燥した後に、１一記標題化合物｛融点９０
〜９２゜Ｃ］　（イヒ合物Ｎｏ．Ｉ．００２）５ｙ（８
４％）が得られた。

実施例２ ３−ク［ノルー２−［４−ク［ノルー２−フル才ルー５
−（ヘキザヒト〔フヂオピラン−３−イルメヂル才キノ
）−フエニルＪ−／１　５　６７−テトラヒ［・ロイン
ダゾール゛ の製造 ま）２−ク［Ｊル−４−フルオル−５−ニトロフェノー
ル４７．９７（２５０ミリモル）、炭酸カリウ１、３イ
　６ｙ（　２　５　ｏミリモル）、ヨウ素化カリウム１
７及び３−ゾＵムメヂルテトラヒド口ヂオピラン５　８
．５＆（３　０　０ミリモル）をアセＩ・ニトリル５０
０ｐｔＱ中て還流下に加熱した２５°Ｃに冷却（７た後
に濾別し、濾液から溶剤を除去しかつその残留分を塩化
メヂレン中に回収し、水で洗浄し、乾燥しかつ濃縮した
。２クロル−４−フルオル−５−二］〜［ノ−　（テ１
・ラヒ｝・〔ｌヂ才ピラン−３　イル−メチルオギノ〕
ヘンゼン（融点１００〜１０３８Ｃ）２２ｌ／（２９％
）が得られた。

ｂ）メタノール＋００屑ρ及び水酌酸２８ｉＩｌの鉄粉
末１４．３ｙ（２６０ミリモル）の混合物に沸Ｉｌｉ１
π１］，度で上記二トじｌ化合物２６ｈ（８５ミリモル
）からなる懸副液を加えかつ更に還流士に２時間放置し
た。２５゜Ｃに冷却しノー後に、反応混合物を水に注入
し、酌酸」一チルエステルで抽出しかつ濃縮した。錆製
ｌ，た後に、４−クｖ１ル−２　フルオル　５　（テｌ
・フヒ１・［ノチオピラン−３−イル−メヂルオキン）
アニリン［融点６６〜６８℃）Ｉ　５．５７（６６％）
が得られノこ。

Ｃ）水酢酸５０１Ｒρ中の４−ク〔ｌル−２−フルオル
−５−（テ１・ラヒ）・〔ｌヂオビラン−３　イノレ　
メヂノレオキノ）アニ一リン１３．８ｉ（（５０ミリモ
ル）の溶液に、１０％の塩酸１００ｕ夕を加えかっ引続
き−５〜０℃で１５分間以内で水２０ｄ中の亜硝酸ナｈ
　’）　ウム３　．　５　９　（　５　０　ミ’）　モ
ル）を加えた。

この温度で１時間撹拌した後に、そうして得られた溶液
を−１０〜−−５０℃で濃塩酸３ｏＴｌｏ中の塩化錫（
Ｉ］）三水和物２８．２＠（１２５ミリモル）に滴加し
、更に０℃で２時間撹拌した。氷冷トに、濃１゛１フ性
ソーダ溶液でアルカリ｛’Ｌに調整し、塩化メチレンで
抽出し、有機相を乾燥し、濃縮しかつ石Ａ１＋　：ｒ−
−テルと−・緒に撹拌した４−ク〔１ル−２−フルオル
−５−（テトラヒド口ヂオピラン　３−イル−メチルオ
キン）フＪ二−ノレヒ［・ラジノ（副；点８３〜８７゜
Ｃ）１２ｙ（８２％）か得られた。

ｄ）そうして１ｊ４られなフエニルヒドラジン７．３ｙ
（２５ミリモル）を氷酢酸１００ｘ（！中のノクロへキ
ザノン−２−カルポン酸エステル４．３＆（２５ミリモ
ル）に加えかつ還流ドに５時間加熱した。２５℃に冷却
した後に、濃縮し、少１１１の水／右ハ１１エーテルを
添加することに３１ユり析出させかつその残留物を乾燥
した。２−［４クロル−２−フルオル−５−　（テ１・
ラヒｌｊ　ｌ：Ｊヂオピラン−３−イル−メヂルオギン
）−フＪニル］−１．２．４．５．６．７　　ヘギザヒ
１〜ロ−３１１−インダザゾール　３　オン（融点９６
〜１００℃）９＠（９０％）かｔｌＩられだ。

ｅ）！・ルエン５００ｌ中のクＵＪル蟻酸！・リクＵＪ
ルメヂルエステル３０及ρの溶液に、Ｉ．記のインダゾ
ール−３−オン８．７ｙ（２２ミリモル）を加えかつ徐
々に加熱した、３　２５℃に冷却した後に、窒素で浄化
し、濃縮しかつ常法で精製した。浦状物として上記轢題
化合物（化合物Ｎｏ１．００５）２ｙ（２２％）か得ら
れノー、，「適用実施例」 式Ｉａ及び１ｂのＮ　（フＪ二−ル）アトラヒド〔ｌイ
ンダゾール誘導体の試験植物に対する除７，゛ｆ作用は
、温室実験にて立証することができる試験植物を栽培す
るために、栽培−１として腐植土約　３　０％をイ１す
るυ！−ム砂を入れた五積３００（．ｗ′のブラスヂッ
ク製植木鉢を利用した，，試験植物の種を種類毎に分（
』てまいた。

発芽後処理のためには、種を直接よき、同し容器内で生
長した植物を選択するか、又はまず菌として別に植え付
ＩＪかっ処理の数１」前に実験芥器に移植した。

次いで、試験植物をその都度の生長形に基づき３〜１５
ｃｉの生長高さて分散剤としての水中７こ懸副又は乳化
さｌた６効物質で微細分ノズルにより噴霧することによ
り処理した。発芽後処理法のための施用ｉ１は、有効物
質０　．　０　３　ｋｇ／ｈａであった。

実験容器を温室内に放置し、その際高温を好む種類のた
めには暑い範囲（２０〜３５℃）をかつ適度の気候を好
む種類のためには１０〜２０℃を採用した。実験期間は
２〜４週間であー、た。この時間中に植物のＩｌｌ話を
しかつその個々の処理にス・１する反応を評価した。

評価は０〜１００のスケールで行った。この際、１００
は発眉しないか又は少なくとも地上郎分の）゛，金な枯
死を表しかっＯは無害又は止，ｉｌｉなｌｌ長を表゛４
ｏ 温室実験で使川した植物は、以１〜の品種から構成され
ていた、 イチビ アオピュ ア力ザ ンユンギク ヤエムグラ イモ属 ホトケノザ アオイ イヌホオズキ （　Ａｂｕｔｉｌｏｎ　　ｔｈｅｏｐｈｒａｓｌｉ　　
）（　Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ　　ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕ
ｓ　　）（　Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ　ａｌｂｕｍ　）
（　Ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｕｍ　ｃｏｒｉｎａｒｉｕ
ｍ　）（　Ｇａｌｉｕｍ　ａｐａｒｉｎｅ　　）（　　
工ｐｏｍｏｅａ　　ｓｐｐ．　）（　Ｌａｍｉｕｍ　ａ
ｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｃ　　）（　Ｍａｌｖａ　　ｎｅ
ｇｌｅｃｔａ　　）（　Ｓｏｌａｎｕｍ　ｎｉｇｒｕｍ
　）（　Ｓｌ．ｅｌｌａｒｉａ　ｍｅｄｉａ　　）発芽
後処理法において有効物質０　．　０　３　ｋｇ／ｈａ
で、実施例１，００５，１，Ｏ［１３，Ｉ．００　１及
び１　．０　０　２は好寸しくない広葉類植物を極めて
良好に駆除した。

表２ ２．００１ ２．　０　０　２ ２．　０　０　３ ２．００４ ２．　０　０　５ ２．　０　０　６ ２．００７ ２．　Ｏ　０　８ ＣＨ２ＣＨ−Ｃ（ＣＩ−Ｌ３）ＣＱ２Ｃ鴇ｃＨＩ５＋＝
Ｃ（Ｃｌ｛ＪＣＱ２ＣＩｑＨ３ＣＨ２ＣＨ３ ＣＨ２ｃ｝１−ＣＨ２ ＣＨ２Ｃ＝ＣＨ ＣＨ（ＣＨ３）２ ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ＝印 （　ｃＨ２）４ＣＨ（　ＣＨ３）２ 融点：８２−８５ 融点＝７５−７６ 融点：６３−６５ 融点：７４−７６ 融点：９９−１００ ＩＲ：　２９３６，　１５９４．　１４９２．　１０６
０融点：６５−６７ Ｉ１｛：　２９３６，　１５９５．　１４９４．　１０
６３２．　０１０ ＣＩ （ＣＨ２）５ＣＩ｛３ 融点＝４５−４７ 工 工 工

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 I ａ及び I ｂ： ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼ I ａ I ｂ ［式中、 Ｒ＾１はハロゲン原子を表し、 Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルコキシカルボニル−Ｃ＿
   ２〜Ｃ＿５−アルケニル基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルキ
   ル基を表し、該基は１又は２位でＣ＿１〜Ｃ＿６−アル
   コキシカルボニル基又は５又は６員環の飽和もしくは１
   箇所で不飽和の複素環によって置換されており、この場
   合この複素環は酸素原子又は硫黄原子を含有しかつ１〜
   ４個のＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基によって置換されて
   いてもよく、かつ Ｒ＾３はＣ＿２〜Ｃ＿７−アルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６
   −アルケニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル基、Ｃ＿
   １〜Ｃ＿６−アルコキシカルボニル−Ｃ＿３〜Ｃ＿５−
   アルケニル基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基を表し、
   該基は１又は２位でＣ＿１〜Ｃ＿６−アルコキシカルボ
   ニル基又は５又は６員環の飽和もしくは１箇所で不飽和
   の複素環によって置換されており、この場合この複素環
   は酸素原子又は硫黄原子を含有しかつ１〜４個のＣ＿１
   〜Ｃ＿４−アルキル基によって置換されていてもよい］
   で示されるＮ−（フェニル）−テトラヒドロインタゾー
   ル誘導体。 ２、請求項１記載の式 I ａ及び／又は I ｂのＮ−（フ
   ェニル）−テトラヒドロインタゾール誘導体及び不活性
   添加物を含有する除草剤。