JPH0222152Y2 - - Google Patents
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- JPH0222152Y2 JPH0222152Y2 JP4747284U JP4747284U JPH0222152Y2 JP H0222152 Y2 JPH0222152 Y2 JP H0222152Y2 JP 4747284 U JP4747284 U JP 4747284U JP 4747284 U JP4747284 U JP 4747284U JP H0222152 Y2 JPH0222152 Y2 JP H0222152Y2
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- torch
- welding
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Landscapes
- Arc Welding In General (AREA)
- Arc Welding Control (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は狭開先用MIG溶接トーチに関するも
のである。
のである。
第1図、第2図に従来の狭開先用MIG溶接ト
ーチを示す。
ーチを示す。
図において、aは狭開先用MIG溶接トーチで
あり、bはそのワイヤ導入口、cは冷却水入口、
dは冷却水出口、eはシールドガス入口、fは冷
却水通路、gは冷却水導入管、hはシールドガス
通路、iはセラミツクスキヤツプ、jはボルト、
kは溶接ワイヤ、lはアーク、mは溶接不良部、
nはワイヤリール、oはワイヤ送りローラ、pは
母材、qは溶接開先、rは溶融金属、sは溶接金
属を示す。
あり、bはそのワイヤ導入口、cは冷却水入口、
dは冷却水出口、eはシールドガス入口、fは冷
却水通路、gは冷却水導入管、hはシールドガス
通路、iはセラミツクスキヤツプ、jはボルト、
kは溶接ワイヤ、lはアーク、mは溶接不良部、
nはワイヤリール、oはワイヤ送りローラ、pは
母材、qは溶接開先、rは溶融金属、sは溶接金
属を示す。
図に示すように、従来の狭開先用MIG溶接用
トーチ(以下、単にトーチと云う)aは図の如く
ブロツク状でその中心に溶接用ワイヤ導入口bが
貫通して設けられ、また、トーチaにはその先端
部側に絶縁用のセラミツクスキヤツプiがボルト
jにより固定されて設けられている。セラミツク
スキヤツプiには前記溶接用ワイヤkを外部に導
出できるように前記トーチaに連通して溶接用ワ
イヤ導入口b′が設けられ、また、前記冷却水通路
fはトーチaの基端側近傍からセラミツクスキヤ
ツプi近傍端部にかけてトーチa内部に形成され
ており、この冷却水通路f内に冷却水導入管gは
配設されている。また、前記シールドガス通路h
はトーチaからセラミツクスキヤツプiにかけて
その内部を貫通して形成されており、ここにシー
ルドガスを通してセラミツクスキヤツプiの先端
より吹き出させることによりアークlと溶融金属
rとを外気から保護する。
トーチ(以下、単にトーチと云う)aは図の如く
ブロツク状でその中心に溶接用ワイヤ導入口bが
貫通して設けられ、また、トーチaにはその先端
部側に絶縁用のセラミツクスキヤツプiがボルト
jにより固定されて設けられている。セラミツク
スキヤツプiには前記溶接用ワイヤkを外部に導
出できるように前記トーチaに連通して溶接用ワ
イヤ導入口b′が設けられ、また、前記冷却水通路
fはトーチaの基端側近傍からセラミツクスキヤ
ツプi近傍端部にかけてトーチa内部に形成され
ており、この冷却水通路f内に冷却水導入管gは
配設されている。また、前記シールドガス通路h
はトーチaからセラミツクスキヤツプiにかけて
その内部を貫通して形成されており、ここにシー
ルドガスを通してセラミツクスキヤツプiの先端
より吹き出させることによりアークlと溶融金属
rとを外気から保護する。
このような構成において、冷却水は冷却水入口
cよりトーチa内に入り、冷却水導入管gを通つ
てトーチaの先端に送られ、冷却水通路fを通
り、冷却水出口dより出てゆき、トーチaの冷却
を行う。一方、シールドガスはシールドガス入口
eより入り、シールドガス通路hを通りトーチa
先端から溶接開先q内に供給される。
cよりトーチa内に入り、冷却水導入管gを通つ
てトーチaの先端に送られ、冷却水通路fを通
り、冷却水出口dより出てゆき、トーチaの冷却
を行う。一方、シールドガスはシールドガス入口
eより入り、シールドガス通路hを通りトーチa
先端から溶接開先q内に供給される。
このトーチaを用いて狭開先MIG溶接を行う
場合、第2図に示すように、母材p内の溶接開先
q内にトーチaを入れ、ワイヤ導入口bより溶接
ワイヤkを供給してその先端をセラミツクスキヤ
ツプiの外方に突出させ、このワイヤと母材pと
の間に電流を供給してこれらの間にアークlを発
生させ、そのアーク熱により溶接ワイヤkと母材
pとを溶融させ、溶融金属rを作る。そして、こ
の溶融金属rが冷えて固まり、溶接金属sとなる
ことにより、溶接ができる。
場合、第2図に示すように、母材p内の溶接開先
q内にトーチaを入れ、ワイヤ導入口bより溶接
ワイヤkを供給してその先端をセラミツクスキヤ
ツプiの外方に突出させ、このワイヤと母材pと
の間に電流を供給してこれらの間にアークlを発
生させ、そのアーク熱により溶接ワイヤkと母材
pとを溶融させ、溶融金属rを作る。そして、こ
の溶融金属rが冷えて固まり、溶接金属sとなる
ことにより、溶接ができる。
この時溶接ワイヤkは、ワイヤリールnからワ
イヤ送りローラoによりトーチaのワイヤ導入口
bに送られ、トーチa内を通つて溶接開先q内に
連続して供給される。
イヤ送りローラoによりトーチaのワイヤ導入口
bに送られ、トーチa内を通つて溶接開先q内に
連続して供給される。
ところで、このような従来の狭開先MIG溶接
においては、溶接電流が小さい場合や、溶接ワイ
ヤk先端が溶接開先qの中心位置にない場合など
では、第2図に示すように、開先コーナー部に溶
込不良部mがしばしば発生する。この溶込不良部
mは、アークlの向きを少し開先コーナー部へ向
ければ発生しなくなるが、溶接開先mが狭いのと
トーチaの幅が溶接開先q幅に近いため、トーチ
aを開先q内でオシレートすることは非常に困難
であり、従つて溶込不良部mの無い溶接を行うに
は、非常に高い溶接オペレーターの熟練を要し
た。
においては、溶接電流が小さい場合や、溶接ワイ
ヤk先端が溶接開先qの中心位置にない場合など
では、第2図に示すように、開先コーナー部に溶
込不良部mがしばしば発生する。この溶込不良部
mは、アークlの向きを少し開先コーナー部へ向
ければ発生しなくなるが、溶接開先mが狭いのと
トーチaの幅が溶接開先q幅に近いため、トーチ
aを開先q内でオシレートすることは非常に困難
であり、従つて溶込不良部mの無い溶接を行うに
は、非常に高い溶接オペレーターの熟練を要し
た。
本考案は上記の事情に鑑みて成されたものであ
り、トーチと、このトーチの先端部に取り付けら
れたキヤツプと、交番磁界を発生する電磁石とを
具備し、前記トーチは、常磁性体材料およびこの
常磁性体材料の両側に位置する強磁性体材料を組
み合わせて形成されシールドガス通路、冷却水通
路および前記常磁性体材料を貫通する溶接ワイヤ
を挿通する溶接ワイヤ挿通孔を有し、前記キヤツ
プは、常磁性体材料およびこの常磁性体材料の両
側に位置する強磁性体材料を組み合わせて形成さ
れ前記トーチのシールドガス通路に連通するシー
ルドガス通路、前記トーチの冷却水通路に連通す
る冷却水通路および前記溶接ワイヤに給電を行う
コンタクトを有し、前記電磁石は強磁性体からな
るアームを介して前記トーチの各強磁性体材料に
接続するものとすることにより、狭開先内でのト
ーチ先端でのアークの方向を自由に変えることが
できるようにし、これによつて溶接不良の発生を
抑制できるとともに熟練を要さず、誰でも良好な
溶接を行うことのできるようにした狭開先用
MIG溶接トーチを提供することを目的とする。
り、トーチと、このトーチの先端部に取り付けら
れたキヤツプと、交番磁界を発生する電磁石とを
具備し、前記トーチは、常磁性体材料およびこの
常磁性体材料の両側に位置する強磁性体材料を組
み合わせて形成されシールドガス通路、冷却水通
路および前記常磁性体材料を貫通する溶接ワイヤ
を挿通する溶接ワイヤ挿通孔を有し、前記キヤツ
プは、常磁性体材料およびこの常磁性体材料の両
側に位置する強磁性体材料を組み合わせて形成さ
れ前記トーチのシールドガス通路に連通するシー
ルドガス通路、前記トーチの冷却水通路に連通す
る冷却水通路および前記溶接ワイヤに給電を行う
コンタクトを有し、前記電磁石は強磁性体からな
るアームを介して前記トーチの各強磁性体材料に
接続するものとすることにより、狭開先内でのト
ーチ先端でのアークの方向を自由に変えることが
できるようにし、これによつて溶接不良の発生を
抑制できるとともに熟練を要さず、誰でも良好な
溶接を行うことのできるようにした狭開先用
MIG溶接トーチを提供することを目的とする。
具体的には狭開先用MIG溶接トーチにおいて
下記に示す機能を持たせることにより溶接中にア
ークの磁気オシレートを行い、かつ溶接中のシー
ルドを向上させ、狭開先MIG溶接を高品質に行
えるようにする。
下記に示す機能を持たせることにより溶接中にア
ークの磁気オシレートを行い、かつ溶接中のシー
ルドを向上させ、狭開先MIG溶接を高品質に行
えるようにする。
すなわち、トーチの中央部に常磁性体材料(例
えば銅合金等)を、両側に強磁性体材料(例えば
軟鋼)を使用し、かつその強磁性体材料に交番磁
界をかけることにより、トーチ先端にその交番磁
界を導びき、それにより溶接アークのオシレート
を行い溶接不良が生じないようにする。また、ト
ーチ先端に水冷可能なシールドキヤツプを取り付
け、シールドキヤツプ内でシールドガスの流れを
層流に整えることによりシールド効果を上げると
共に、シールドキヤツプ内に溶接ワイヤのコンタ
クトチツプを取り付け、シールドキヤツプの水冷
により溶接中のコンタクトチツプの温度上昇を抑
えることによりコンタクトチツプの耐久性を向上
させ、さらに、シールドキヤツプの中央部に常磁
性体材料を、その両側に強磁性体材料を使用する
ことにより、トーチからの交番磁界をシールドキ
ヤツプ先端に導びき、これにより溶接アークのオ
シレートを行うことができるようにする。
えば銅合金等)を、両側に強磁性体材料(例えば
軟鋼)を使用し、かつその強磁性体材料に交番磁
界をかけることにより、トーチ先端にその交番磁
界を導びき、それにより溶接アークのオシレート
を行い溶接不良が生じないようにする。また、ト
ーチ先端に水冷可能なシールドキヤツプを取り付
け、シールドキヤツプ内でシールドガスの流れを
層流に整えることによりシールド効果を上げると
共に、シールドキヤツプ内に溶接ワイヤのコンタ
クトチツプを取り付け、シールドキヤツプの水冷
により溶接中のコンタクトチツプの温度上昇を抑
えることによりコンタクトチツプの耐久性を向上
させ、さらに、シールドキヤツプの中央部に常磁
性体材料を、その両側に強磁性体材料を使用する
ことにより、トーチからの交番磁界をシールドキ
ヤツプ先端に導びき、これにより溶接アークのオ
シレートを行うことができるようにする。
以下、本考案の一実施例について第3図、第4
図を参照しながら説明する。第3図aおよびbは
本考案による装置の構成を示す正面図及び底面
図、また、第4図は開先溶接状態を示す本装置の
側面図であり、図中、1はブロツク状の狭開先用
MIG溶接トーチ(以下、トーチと称する)であ
る。2aはこのトーチ1に設けられた冷却水入
口、2bは冷却水出口、2cは冷却水通路であ
る。2dは冷却水導入管、3aはワイヤ導入口、
3bは溶接ワイヤ、4aはシールドガス入口、4
bはシールドガス通路、5aは電磁石、5bはこ
の電磁石5aの鉄心となるアームで、このアーム
5bには電磁石5aが設けられている。6aはト
ーチ常磁性体、6bはトーチ強磁性体、7aはシ
ール材、7bはボルト、7cはコンタクトチツ
プ、7dはシールドキヤツプ、7eはキヤツプ冷
却水口、7fはキヤツプ強磁性体材料、7gシー
ルドガス整流口、7hはキヤツプ常磁性体材料、
8はアーク、9aは母材、9bは溶接狭開先、9
cは溶融金属、9dは溶接金属である。トーチ1
は図の如くブロツク状でその中心に溶接用ワイヤ
導入口3aが貫通して設けられ、また、トーチ1
にはその先端部側にシールドキヤツプ7dがボル
ト7bにより固定されて設けられている。シール
ドキヤツプ7dには前記溶接用ワイヤ3bに交流
電力を供給し、且つ外部に導出できるようにコン
タクトチツプ7cが設けられ、このコンタクトを
介してワイヤに電流を供給する。また、前記冷却
水通路2cはトーチ1からシールドキヤツプ7d
にかけてその内部に形成されており、この冷却水
通路2cよりキヤツプ冷却水7eにかけてこの管
内に冷却水導入管2dは配設されている。また、
前記シールドガス通路4bはトーチ1からシール
ドキヤツプ7dにかけてその内部を貫通して形成
されており、またシールドキヤツプ7dにはシー
ルドガス整流口7gが貫通して設けられていて、
シールドガス通路4bにシールドガスを通してシ
ールドキヤツプ7dの先端より吹き出させること
によりアーク8と溶融金属9cとを外気から保護
する。
図を参照しながら説明する。第3図aおよびbは
本考案による装置の構成を示す正面図及び底面
図、また、第4図は開先溶接状態を示す本装置の
側面図であり、図中、1はブロツク状の狭開先用
MIG溶接トーチ(以下、トーチと称する)であ
る。2aはこのトーチ1に設けられた冷却水入
口、2bは冷却水出口、2cは冷却水通路であ
る。2dは冷却水導入管、3aはワイヤ導入口、
3bは溶接ワイヤ、4aはシールドガス入口、4
bはシールドガス通路、5aは電磁石、5bはこ
の電磁石5aの鉄心となるアームで、このアーム
5bには電磁石5aが設けられている。6aはト
ーチ常磁性体、6bはトーチ強磁性体、7aはシ
ール材、7bはボルト、7cはコンタクトチツ
プ、7dはシールドキヤツプ、7eはキヤツプ冷
却水口、7fはキヤツプ強磁性体材料、7gシー
ルドガス整流口、7hはキヤツプ常磁性体材料、
8はアーク、9aは母材、9bは溶接狭開先、9
cは溶融金属、9dは溶接金属である。トーチ1
は図の如くブロツク状でその中心に溶接用ワイヤ
導入口3aが貫通して設けられ、また、トーチ1
にはその先端部側にシールドキヤツプ7dがボル
ト7bにより固定されて設けられている。シール
ドキヤツプ7dには前記溶接用ワイヤ3bに交流
電力を供給し、且つ外部に導出できるようにコン
タクトチツプ7cが設けられ、このコンタクトを
介してワイヤに電流を供給する。また、前記冷却
水通路2cはトーチ1からシールドキヤツプ7d
にかけてその内部に形成されており、この冷却水
通路2cよりキヤツプ冷却水7eにかけてこの管
内に冷却水導入管2dは配設されている。また、
前記シールドガス通路4bはトーチ1からシール
ドキヤツプ7dにかけてその内部を貫通して形成
されており、またシールドキヤツプ7dにはシー
ルドガス整流口7gが貫通して設けられていて、
シールドガス通路4bにシールドガスを通してシ
ールドキヤツプ7dの先端より吹き出させること
によりアーク8と溶融金属9cとを外気から保護
する。
トーチ1およびシールドキヤツプ7dは、中央
部が常磁性体材料6aおよび7hで作られてお
り、またそれぞれその両側が強磁性体材料6bお
よび7fでできている。上記溶接ワイヤ3bはワ
イヤリール(図示せず)に巻回されて設けられ、
このワイヤリールよりワイヤ送りローラ(図示せ
ず)にてトーチ1の上部のワイヤ導入口3aに送
られ、トーチ1内中央の貫通を通つてシールドキ
ヤツプ7d内に送られ、このシールドキヤツプ7
d内に設けられた筒状のコンタクトチツプ7cを
通り、溶接開先9b内に供給される。冷却水は、
トーチ1の正面に設けられた冷却水入口2aより
トーチ1内に入り冷却水導入管2d内を通つてシ
ールドキヤツプ7dのキヤツプ冷却水口7eに送
られ、その後、トーチ1の冷却水通路2cを通つ
て冷却水出口2bから排出される。また、シール
ドガスは、トーチ1の正面のシールドガス入口4
aよりトーチ1内に導入され、トーチ1内のシー
ルドガス通路4bを通り、これに連通するように
形成されているシールドキヤツプ7d内のシール
ドガス整流口7g内で層流になつた後、シールド
キヤツプ7dより溶接開先9b内に吹き出され、
外気を遮断する。電磁石5aはトーチ1の正面の
強磁性体材料6a部分に設けられ、この電磁石5
aに適当な交流を流すことにより交番磁界を発生
させ、強磁性体材料でできたアーム5bを通して
トーチ1の強磁性体材料6bに導びかれ、さらに
シールドキヤツプ7bの強磁性体材料7dに導び
かれる構成となつている。
部が常磁性体材料6aおよび7hで作られてお
り、またそれぞれその両側が強磁性体材料6bお
よび7fでできている。上記溶接ワイヤ3bはワ
イヤリール(図示せず)に巻回されて設けられ、
このワイヤリールよりワイヤ送りローラ(図示せ
ず)にてトーチ1の上部のワイヤ導入口3aに送
られ、トーチ1内中央の貫通を通つてシールドキ
ヤツプ7d内に送られ、このシールドキヤツプ7
d内に設けられた筒状のコンタクトチツプ7cを
通り、溶接開先9b内に供給される。冷却水は、
トーチ1の正面に設けられた冷却水入口2aより
トーチ1内に入り冷却水導入管2d内を通つてシ
ールドキヤツプ7dのキヤツプ冷却水口7eに送
られ、その後、トーチ1の冷却水通路2cを通つ
て冷却水出口2bから排出される。また、シール
ドガスは、トーチ1の正面のシールドガス入口4
aよりトーチ1内に導入され、トーチ1内のシー
ルドガス通路4bを通り、これに連通するように
形成されているシールドキヤツプ7d内のシール
ドガス整流口7g内で層流になつた後、シールド
キヤツプ7dより溶接開先9b内に吹き出され、
外気を遮断する。電磁石5aはトーチ1の正面の
強磁性体材料6a部分に設けられ、この電磁石5
aに適当な交流を流すことにより交番磁界を発生
させ、強磁性体材料でできたアーム5bを通して
トーチ1の強磁性体材料6bに導びかれ、さらに
シールドキヤツプ7bの強磁性体材料7dに導び
かれる構成となつている。
上記構造を持つトーチ1を用いて交番磁界をか
けながら溶接を行うと、アーク8まわりの空間に
溶接線方向に配した強磁性体材料6b,7fを通
して該溶接線方向の磁場が発生するため、アーク
8は電流方向と磁場方向に対して垂直方向すなわ
ち溶接開先9b幅方向に力を受け、交番磁界の周
波数に応じてオシレートする。
けながら溶接を行うと、アーク8まわりの空間に
溶接線方向に配した強磁性体材料6b,7fを通
して該溶接線方向の磁場が発生するため、アーク
8は電流方向と磁場方向に対して垂直方向すなわ
ち溶接開先9b幅方向に力を受け、交番磁界の周
波数に応じてオシレートする。
そのため、溶接ワイヤ位置が開先中心からずれ
ていても開先コーナー部を溶かすことができ、溶
込不良の発生を完全に抑えることができる。ま
た、シールドキヤツプを水冷するので、これによ
りシールドキヤツプの強磁性体材料の温度を磁気
変態点以下に保つことができるため、溶接中でも
常に安定した磁界をアーク発生空間に導びくこと
ができる。従つて、良好なオシレートが可能とな
る。また、シールドキヤツプをトーチ先端に取り
付けることによりシールドガスをキヤツプ内で整
流し層流としてアーク発生空間(開先内)に供給
することができるため、アークをオシレートして
もシールド性能は低下せず十分な溶接が可能とな
る。更にまた、シールドキヤツプを水冷としてい
るため、絶縁テープの使用および絶縁セラミツク
スコーテイングの使用が可能となつたばかりでな
く、シールドキヤツプ内のコンタクトチツプの温
度上昇を抑えることができ、コンタクトチツプの
耐久性が向上し、これにより装置の信頼性を向上
させることができる。
ていても開先コーナー部を溶かすことができ、溶
込不良の発生を完全に抑えることができる。ま
た、シールドキヤツプを水冷するので、これによ
りシールドキヤツプの強磁性体材料の温度を磁気
変態点以下に保つことができるため、溶接中でも
常に安定した磁界をアーク発生空間に導びくこと
ができる。従つて、良好なオシレートが可能とな
る。また、シールドキヤツプをトーチ先端に取り
付けることによりシールドガスをキヤツプ内で整
流し層流としてアーク発生空間(開先内)に供給
することができるため、アークをオシレートして
もシールド性能は低下せず十分な溶接が可能とな
る。更にまた、シールドキヤツプを水冷としてい
るため、絶縁テープの使用および絶縁セラミツク
スコーテイングの使用が可能となつたばかりでな
く、シールドキヤツプ内のコンタクトチツプの温
度上昇を抑えることができ、コンタクトチツプの
耐久性が向上し、これにより装置の信頼性を向上
させることができる。
以上、詳述したように本考案は、トーチと、こ
のトーチの先端部に取り付けられたキヤツプと、
交番磁界を発生する電磁石とを具備し、前記トー
チは、常磁性体材料およびこの常磁性体材料の両
側に位置する強磁性体材料を組み合わせて形成さ
れシールドガス通路、冷却水通路および前記常磁
性体材料を貫通する溶接ワイヤを挿通する溶接ワ
イヤ挿通孔を有し、前記キヤツプは、常磁性体材
料およびこの常磁性体材料の両側に位置する強磁
性体材料を組み合わせて形成され前記トーチのシ
ールドガス通路に連通するシールドガス通路、前
記トーチの冷却水通路に連通する冷却水通路およ
び前記溶接ワイヤに給電を行うコンタクトを有
し、前記電磁石は強磁性体からなるアームを介し
て前記トーチの各強磁性体材料に接続するものと
したことにより、狭開先内でのトーチ先端でのア
ークの方向を自由に変えることができるようにな
り、これによつて溶接不良の発生が抑制できると
ともに溶接部には層流化したシールドガスを吹き
付けてシールドするようにしたので熟練を要せ
ず、誰でも良好な溶接を行うことのできるように
なるなどの特徴を有する狭開先用MIG溶接トー
チを提供することができる。
のトーチの先端部に取り付けられたキヤツプと、
交番磁界を発生する電磁石とを具備し、前記トー
チは、常磁性体材料およびこの常磁性体材料の両
側に位置する強磁性体材料を組み合わせて形成さ
れシールドガス通路、冷却水通路および前記常磁
性体材料を貫通する溶接ワイヤを挿通する溶接ワ
イヤ挿通孔を有し、前記キヤツプは、常磁性体材
料およびこの常磁性体材料の両側に位置する強磁
性体材料を組み合わせて形成され前記トーチのシ
ールドガス通路に連通するシールドガス通路、前
記トーチの冷却水通路に連通する冷却水通路およ
び前記溶接ワイヤに給電を行うコンタクトを有
し、前記電磁石は強磁性体からなるアームを介し
て前記トーチの各強磁性体材料に接続するものと
したことにより、狭開先内でのトーチ先端でのア
ークの方向を自由に変えることができるようにな
り、これによつて溶接不良の発生が抑制できると
ともに溶接部には層流化したシールドガスを吹き
付けてシールドするようにしたので熟練を要せ
ず、誰でも良好な溶接を行うことのできるように
なるなどの特徴を有する狭開先用MIG溶接トー
チを提供することができる。
第1図、第2図は従来装置の構成を説明するた
めの正面図及び側面図、第3図aおよびbは本考
案装置の構成を示す一部断面正面図および底面
図、第4図は本装置の溶接状態を説明するための
側面図である。 1……ブロツク状の狭開先用MIG溶接トーチ、
2a……冷却水入口、2b……冷却水出口、2c
……冷却水通路、2d……冷却水導入管、3a…
…ワイヤ導入口、3b……溶接ワイヤ、4a……
シールドガス入口、4b……シールドガス通路、
5a……電磁石、5b……アーム、6a……トー
チ常磁性体、6b……トーチ強磁性体、7a……
シール材、7b……ボルト、7c……コンタクト
チツプ、7d……シールドキヤツプ、7e……キ
ヤツプ冷却水口、7f……キヤツプ強磁性体材
料、7g……シールドガス整流口、7h……キヤ
ツプ常磁性体材料、8……アーク、9a……母
材、9b……溶接狭開先、9d……溶接金属。
めの正面図及び側面図、第3図aおよびbは本考
案装置の構成を示す一部断面正面図および底面
図、第4図は本装置の溶接状態を説明するための
側面図である。 1……ブロツク状の狭開先用MIG溶接トーチ、
2a……冷却水入口、2b……冷却水出口、2c
……冷却水通路、2d……冷却水導入管、3a…
…ワイヤ導入口、3b……溶接ワイヤ、4a……
シールドガス入口、4b……シールドガス通路、
5a……電磁石、5b……アーム、6a……トー
チ常磁性体、6b……トーチ強磁性体、7a……
シール材、7b……ボルト、7c……コンタクト
チツプ、7d……シールドキヤツプ、7e……キ
ヤツプ冷却水口、7f……キヤツプ強磁性体材
料、7g……シールドガス整流口、7h……キヤ
ツプ常磁性体材料、8……アーク、9a……母
材、9b……溶接狭開先、9d……溶接金属。
Claims (1)
- トーチと、このトーチの先端部に取り付けられ
たキヤツプと、交番磁界を発生する電磁石とを具
備し、前記トーチは、常磁性体材料およびこの常
磁性体材料の両側に位置する強磁性体材料を組み
合わせて形成されシールドガス通路、冷却水通路
および前記常磁性体材料を貫通する溶接ワイヤを
挿通する溶接ワイヤ挿通孔を有し、前記キヤツプ
は、常磁性体材料およびこの常磁性体材料の両側
に位置する強磁性体材料を組み合わせて形成され
前記トーチのシールドガス通路に連通するシール
ドガス通路、前記トーチの冷却水通路に連通する
冷却水通路および前記溶接ワイヤに給電を行うコ
ンタクトを有し、前記電磁石は強磁性体材料から
なるアームを介して前記トーチの各強磁性体材料
に接続されてなる狭開先用MIG溶接トーチ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4747284U JPS60160988U (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | 狭開先用mig溶接ト−チ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4747284U JPS60160988U (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | 狭開先用mig溶接ト−チ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60160988U JPS60160988U (ja) | 1985-10-25 |
JPH0222152Y2 true JPH0222152Y2 (ja) | 1990-06-14 |
Family
ID=30868107
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4747284U Granted JPS60160988U (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | 狭開先用mig溶接ト−チ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60160988U (ja) |
-
1984
- 1984-03-31 JP JP4747284U patent/JPS60160988U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60160988U (ja) | 1985-10-25 |
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