JPH02221116A - Cvd法による酸化物超伝導体の製造方法 - Google Patents

Cvd法による酸化物超伝導体の製造方法

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JPH02221116A
JPH02221116A JP4185989A JP4185989A JPH02221116A JP H02221116 A JPH02221116 A JP H02221116A JP 4185989 A JP4185989 A JP 4185989A JP 4185989 A JP4185989 A JP 4185989A JP H02221116 A JPH02221116 A JP H02221116A
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JP
Japan
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complex
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porphyrin
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JP4185989A
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Yutaka Yamada
裕 山田
Takeshi Morimoto
剛 森本
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、CVD法による酸化物超伝導体の製造方法に
関するものである。
(従来の技術) 液体窒素温度以上のTcを有する超伝導体として、近年
YBasCujOx、 BfsSrzCa*CuzOy
およびT1tBasCa*Cu5O□等の酸化物超伝導
体が発見され、その実用化が期待されている0通常、酸
化物超伝導体は粉末の焼結により製造されるが、セラミ
ックス特有のもろさのため成形加工が困難であり、また
、超伝導体の応用分野では膜状の超伝導体も用いられる
ので、気相から超伝導体を製造する方法が種々提案され
ている。
たとえば、蒸着法やスパッタリング法などが提案されて
いるが、これらの手法は高真空状態を必要とし、それゆ
えに大量生産が困難、設備が高価等の問題があった。こ
れに対し、原料金属元素の化合物をガス状にし、気相反
応により基体上に所望の化合物を堆積させる化学的気相
蒸着法(CVD法)が提案されている。この手法は常圧
もしくは低真空状態で右こなうことができ、装置も単純
化可能である。CVD法に用いられる酸化物超伝導体製
造用金属元素を有する原料化合物としては従来金属アセ
チルアセトン化合物、金属ジピバロイルメタン化合物等
の金属β−ジケトン化合物類、ヨウ化物、臭化物等の金
属ハロゲン化物が用いられている。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、原料金属の中で超伝導体の必須構成元素
であるBa、 Sr、 Ca等のIIA族の原料化合物
として従来用いられているジピバロイルメタン錯体は、
ガス化するときに一部分解しながらガス化する、蒸気圧
が一定でない、再現性の良い金属輸送量がとれない等の
問題点を有していた。一方、金属ハロゲン化物としては
通常ヨウ化物が用いられるが、これはガス化するために
は800℃以上の高温が必要、ヨウ素が超伝導体中に残
存し特性を著しく低下させるという問題点を有していた
(課題を解決するための手段) 本発明者は前述の問題点を解決するべく種々研究した結
果、周期表HA族金属を定量的に気体状態で輸送するこ
とのできる化合物を見出した。かくして本発明は、化学
的気相蒸着法による酸化物超伝導体の製造方法において
、元素周期表II A族からなる群より選ばれた1種以
上の金属とポルフィリン誘導体との錯化合物を原料とし
、これを気化した後分解することを特徴とする製造方法
を提供するものである。
本発明のポルフィリン誘導体としては、ポルフィリン環
の側銷が、水素原子または炭素数1〜8個のアルキル基
もしくは芳香族基から選ばれた基であることが好ましい
。炭素数が9個以上になると金属錯体のガス化が困難で
あるので好ましくない。側銷は、水素原子または炭素数
1〜4個のアルキル基またはフェニル基であることがさ
らに好ましい。ポルフィリン誘導体として特に好ましい
のは、5.10.15.20−テトラフェニルポルフィ
リン、5.10.15.20−テトラメチルポルフィリ
ン、5.10.15.20−テトラt−ブチルポルフィ
リン、2,7,12.17−テトラメチルポルフィリン
、2,8.12.18−テトラメチルポルフィリン、2
.8−ジエチル−3,7ジメチルボルフイリン、2,3
,7,8,12.17−へキサメチルポルフィリン、2
,3,7,8.12.13.17.18−オクタメチル
ポルフィリン、2.7.12.17−チトラエチルー3
.8.13.18−テトラメチルポルフィリン、2.8
,12.18−テトラエチル−3,7,13,17−テ
トラメチルポルフィリン、2,3,7,8,12,13
.17.18−オクタエチルポルフィリンである。
本発明は、酸化物超伝導体を構成する金属元素のうち、
Ca、 Ba、 Sr等の周期表IIA族金属とポルフ
ィリン誘導体との錯化合物を使用してCVD法により酸
化物超伝導体を製造するものである。該錯化合物は、例
えば対応する金属の塩(ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸
塩、硫酸塩など)と、上述のようなポルフィリン誘導体
を、N、N−ジメチルホルムアミド、ベンゼン等の適当
な溶媒中で反応させることにより合成される。
本発明によれば、周期表IIA族金属を含むものであれ
ば、組成的に特に限定されずに酸化物超伝導体が製造で
きる。具体的にばY−Ba−Cu−0系、Yb −Ba
 −Cu −0系、Ho −Ba −Cu −0系、E
r −Ba −Cu −0系、La −Sr −Cu 
−0系などの希土類を含むいわゆるイツトリウム系超伝
導体、Bi −Sr −Ca −Cu −0系およびこ
の系にさらにpbを添加した系などのビスマス系超伝導
体、Tl −Ba −Ca −Cu −0系およびこの
系にさらにpbを添加した系などのタリウム系超伝導体
が挙げられる。
上述のような系において、周期表II A族金属以外の
金属成分については金属アセチルアセトン錯体、金属ジ
ピバロイルメタン錯体、金属ヘキサフルオロアセチルア
セトン錯体、金属6.6゜7.7,8,8.8−へブタ
フルオロ−2,2−ジメチル−3,5−オクタジオン錯
体等のβ−ジケトン錯体、金属シクロペンタジェニル化
合物類、金属フタロシアニン類、金属ポルフィリン錯化
合物などをCVD原料として用いることができる。
本発明において酸化物超伝導体を合成するにあたっては
、例えば上記の原料を加熱してガス化し、N*、 Ar
等の不活性のキャリアガスにより加熱炉またはプラズマ
帯域のような酸化領域に輸送し、酸素を供給しながら酸
化領域で上記化合物を分解して基体上に堆積させる。こ
の場合、基体上には酸化物の薄膜が形成される。この後
さらに、600〜1000℃の空気中または酸素雰囲気
中での加熱焼成工程を加えても良い、原料の分解堆積は
、必ずしも酸素を必要とせず、堆積した後、堆積物を酸
素雰囲気中で焼成して、これらを酸化して、酸化物超伝
導体の膜を得ても良い。
本発明に用いる基体としては、例えばMgO。
5rTiOs、 Altos、 ZrOx、 NdGa
Os、 LaGaOs、LaAl0a等の単結晶あるい
は焼結体からなるセラミックス、金、銀、銅、鉄、ステ
ンレス鋼などの金属を始め種々の材質のものを使用でき
る。基板の形状としても、板状、テープ状、線材状など
の種々の形状を採用できる。
本発明の酸化物超伝導体は、基体上に堆積させる場合は
、薄膜状で得られる。膜の厚さは、金属化合物ガスの濃
度あるいは堆積時間を変えることにより制御可能である
。また、基体状に堆積させるのではなく、気体状の原料
化合物を反応させ、酸化することにより粉末状の焼結用
酸化物超伝導体粉末を得ることもできる。
(実施例) 実施例1 5、10.15.20−テトラフェニルポルフィリンバ
リウム(n)塩(以下Ba−TPPという)のIgをガ
ラス容器に入れて300℃に加熱し、発生した蒸気を1
OTorrの減圧下アルゴン゛よりなる流量毎分150
+wl(標準状態以下同様)のキャリアガスに乗せて加
熱された供給管を通じて水冷した凝縮ゾーンに導入し固
化させた。凝縮ゾーンにはBa−TPPが輸送されて固
化していた。ガラス容器に入れたBa−TPPと輸送さ
れたBa−TPPのBa含有量を元素分析により測定し
た結果を表1に示す。
8a含有量の差がほとんどないことから輸送の際の原料
の分解はないと考えられる。また、輸送されたBa−T
PPの量と輸送時間の関係は、図1の■のような直線関
係なっており、輸送速度が一定であることがわかる。
実施例2〜12 実施例1のBa−TPP、 300℃の加熱温度に代え
て、それぞれ表1に示したような原料化合物、加熱温度
にした以外はすべて実施例1と同様にして原料化合物と
輸送された物質の金属含有量および、輸送量と輸送時間
の関係を求めた。これらの結果を表1および図1に示す
。いずれも輸送の際の分解はないと考えられ、輸送速度
も一定であった。
比較例1〜3 実施例1のBa−TPP、 300℃の加熱温度に代え
て、それぞれ表1に示したような原料化合物、加熱温度
にした以外はすべて実施例1と同様にして原料化合物と
輸送された物質(加熱開始から1時間の間に固化したも
の)の金属含有量および、輸送量と輸送時間の関係を求
めた。これらの結果を表1および図1に示す、輸送され
た物質は、原料化合物に比べて金属含有量が減少してお
り、輸送の際に原料が分解しているものと思われる。ま
た、図1に示したとおり、時間が経過するにつれて輸送
速度が低下しており、定量的な輸送が困難であることが
わかる。
実施例13 Ba−TPP、ジピバロイルメタン銅、ジピバロイルメ
タンイツトリウムをステンレス製の容器に入れ、それぞ
れ300℃、120℃、125℃に加熱してガス化し、
10Torrの減圧下それぞれアルゴンよりなる流量毎
分200m1のキャリアガスにのせて加熱された供給管
を通じて反応管に導きそこで流量毎分100m1の酸素
ガスと混合した。この混合ガスを、850℃に加熱した
MgO単結晶基板上に2時間通した。
この結果、MgO基板上にYBad:usoyからなる
均質な超伝導体膜が得られた。この膜の直流抵抗の温度
依存性を4端子法で測定したところ臨界温度(Tc)は
88にであった。
実施例14〜16 実施例13におけるBa−TPPおよびその加熱温度3
00℃をそれぞれ表2に示す化合物および加熱温度とし
た以外はすべて実施例13と同様にしてMgO単結晶基
板上にYBazCuaOy薄膜を得た。同様にして測定
したTcを表2に示す。
実施例17 5.10.15.20−テトラフェニルポルフィリンス
トロンチウム(II)塩(以下5r−TPPという)、
5、10.15.20−テトラフェニルポルフィリンカ
ルシウム(II)塩(以下Ca−TPPという)、ジピ
バロイルメタン銅、トリフェニルビスマスをステンレス
製容器に入れ、それぞれ300℃、300℃。
130℃、125℃に加熱してガス化し、1OTarr
の°減圧下それぞれアルゴンよりなる流量毎分280m
1のキャリアガスにのせて加熱された供給管を通じて反
応管に導きそこで流量毎分120m1の酸素ガスと混合
した。この混合ガスを850℃に加熱したMgO単結晶
基板上に2時間通した。
この結果、MgO基板上にBigSr*Ca1CusO
,からなる均質な超伝導体膜が得られた。この膜のTc
は108 Kであった。
実施例18〜20 実施例17における5r−TPP、 Ca−TPPおよ
びそれらの加熱温度をそれぞれ表3に示す化合物および
加熱温度とした以外はすべて実施例17と同様にして、
MgO基板上にB15Sr*CagCusOy薄膜を得
た。それらのTcを表3に示す。
(発明の効果) 本発明の周期表■A族金属ポルフィリン錯化合物は、気
化した際に分解せずかつ蒸気圧も一定であり、気化した
ものをキャリアガスにより輸送したときの輸送速度も一
定であるので、■A族金属を含む酸化物超伝導体を化学
的気相蒸着法で製造する際、定量的に制御が容易で。
作業性にも優れている。化学的気相蒸着法によれば、超
伝導体の線材あるいはテープのように長い導線を連続的
に製造することができ、大量生産が容易になり、品質が
良好で均質な線材あるいはテープを経済的に得ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
図1は、本発明の実施例1−12および比較例1〜3に
おける原料化合物の輸送時間と輸送料の関係を示す図で
ある0図において、直線1−12はそれぞれ実施例1〜
12に対応し、曲線13〜15はそれぞれ比較例1〜3
に対応する。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)化学的気相蒸着法による酸化物超伝導体の製造方
    法において元素周期表IIA族からなる群より選ばれた1
    種以上の金属とポルフィリン誘導体との錯化合物を原料
    とし、これを気化した後分解することを特徴とする製造
    方法。
  2. (2)ポルフィリン誘導体が、ポルフィリン環の側銷が
    水素原子または炭素数1〜8個のアルキル基もしくは芳
    香族基から選ばれた基からなるものである請求項1の製
    造方法。
JP4185989A 1989-02-23 1989-02-23 Cvd法による酸化物超伝導体の製造方法 Pending JPH02221116A (ja)

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