JPH0221996A - ヒドラジン含有水の処理方法 - Google Patents
ヒドラジン含有水の処理方法Info
- Publication number
- JPH0221996A JPH0221996A JP17191488A JP17191488A JPH0221996A JP H0221996 A JPH0221996 A JP H0221996A JP 17191488 A JP17191488 A JP 17191488A JP 17191488 A JP17191488 A JP 17191488A JP H0221996 A JPH0221996 A JP H0221996A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrazine
- oxidizing agent
- oxidation catalyst
- water
- manganese dioxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 78
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 47
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 36
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 36
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 abstract description 9
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 8
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 8
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 abstract 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 abstract 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 11
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 6
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGOSAMIUUGUNNE-UHFFFAOYSA-N Cl[O-].[Th+4].Cl[O-].Cl[O-].Cl[O-] Chemical compound Cl[O-].[Th+4].Cl[O-].Cl[O-].Cl[O-] PGOSAMIUUGUNNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 230000005465 channeling Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- NOVHEGOWZNFVGT-UHFFFAOYSA-N hydrazine Chemical compound NN.NN NOVHEGOWZNFVGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002829 nitrogen Chemical class 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はヒドラジン含有水、たとえば火力発電所等の高
圧ボイラから排出される起動排水等のヒドラジン含有水
に酸化剤を添加してヒドラジンを酸化分解する方法の改
良に関するものである。
圧ボイラから排出される起動排水等のヒドラジン含有水
に酸化剤を添加してヒドラジンを酸化分解する方法の改
良に関するものである。
〈従来の技術〉
近年になって原子力発電所のベースロード化に伴い、通
常火力発電所は週末停止等のボイラの運転停止が多発す
る傾向にあり、これによりボイラ起動時にヒドラジンを
比較的多量に含む排水が排出されるようになって来た。
常火力発電所は週末停止等のボイラの運転停止が多発す
る傾向にあり、これによりボイラ起動時にヒドラジンを
比較的多量に含む排水が排出されるようになって来た。
すなわちボイラの体缶時に、水管あるいは各機器の腐蝕
を防止するためにヒドラジンを５００ないし１．ＯＯＯ
ｐｐｍ添加した水でボイラ水系を水封し、ボイラ起動時
に当該ヒドラジン含有水をブローするからである。
を防止するためにヒドラジンを５００ないし１．ＯＯＯ
ｐｐｍ添加した水でボイラ水系を水封し、ボイラ起動時
に当該ヒドラジン含有水をブローするからである。
このようにしてブローされるヒドラジン含有水は高いＣ
ＯＤ値を有するため、これをそのまま放流することはで
きず、従来から各種の方法で当該ヒドラジンを酸化分解
処理することが行われている。
ＯＤ値を有するため、これをそのまま放流することはで
きず、従来から各種の方法で当該ヒドラジンを酸化分解
処理することが行われている。
従来の処理方法としてヒドラジン含有水にオゾンや次亜
塩素酸ナトリウム溶液等の酸化剤を添加してヒドラジン
を窒素と水に酸化分解する方法があるが、酸化剤のみを
用いてヒドラジンを酸化分解する場合は、酸化当量以上
の酸化剤を必要とするので、不経済である。
塩素酸ナトリウム溶液等の酸化剤を添加してヒドラジン
を窒素と水に酸化分解する方法があるが、酸化剤のみを
用いてヒドラジンを酸化分解する場合は、酸化当量以上
の酸化剤を必要とするので、不経済である。
したがって酸化剤の使用量を減少させるために、従来か
ら二酸化マンガン粒やマンガン砂を触媒として用いる処
理方法が提案（特開昭５８−８５８３号公報）されてい
る。
ら二酸化マンガン粒やマンガン砂を触媒として用いる処
理方法が提案（特開昭５８−８５８３号公報）されてい
る。
この方法はヒドラジン含有水に次亜塩素酸ナトリウム溶
液を添加するとともに空気を呼び込み、これを二酸化マ
ンガン粉床を形成した反応槽に上昇流で通水するもので
あるが、空気を呼び込むためブロワ−が必要となること
、および気液混合水が二酸化マンガン粉床を通過するこ
とによる反応槽からの二酸化マンガン粒の流出防止のた
め、ストレーナ−等で二酸化マンガン粉床を固定する必
要がある等反応槽の内部構造が複雑になるという欠点を
有している。
液を添加するとともに空気を呼び込み、これを二酸化マ
ンガン粉床を形成した反応槽に上昇流で通水するもので
あるが、空気を呼び込むためブロワ−が必要となること
、および気液混合水が二酸化マンガン粉床を通過するこ
とによる反応槽からの二酸化マンガン粒の流出防止のた
め、ストレーナ−等で二酸化マンガン粉床を固定する必
要がある等反応槽の内部構造が複雑になるという欠点を
有している。
さらに二酸化マンガン粉床が気液混合水で攪拌されるた
め、二酸化マンガンが破砕し、処理水に二酸化マンガン
の微粒子が漏出しやすいという欠点もあり、また二酸化
マンガン粒を触媒として用い、酸化剤として次亜塩素酸
ナトリウムの他に空気を用いてもなお次亜塩素酸ナトリ
ウムの使用量は満足する程減少しないという問題点もあ
る。
め、二酸化マンガンが破砕し、処理水に二酸化マンガン
の微粒子が漏出しやすいという欠点もあり、また二酸化
マンガン粒を触媒として用い、酸化剤として次亜塩素酸
ナトリウムの他に空気を用いてもなお次亜塩素酸ナトリ
ウムの使用量は満足する程減少しないという問題点もあ
る。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明は酸化触媒を用いる従来のヒドラジン含有水の処
理方法における上述した欠点を解決し、構造が簡単な反
応槽を用い、ブロワ−を必要としないで、さらに処理水
に二酸化マンガンの微粒子を漏出させず、かつ酸化剤の
使用量をさらに減少させることのできるヒドラジン含有
水の処理方法を提供することを目的とするものである。
理方法における上述した欠点を解決し、構造が簡単な反
応槽を用い、ブロワ−を必要としないで、さらに処理水
に二酸化マンガンの微粒子を漏出させず、かつ酸化剤の
使用量をさらに減少させることのできるヒドラジン含有
水の処理方法を提供することを目的とするものである。
く問題点を解決するための手段〉
かかる目的を実現するためになされた本発明よりなるヒ
ドラジン含有水の処理方法は、ヒドラジン含有水に酸化
剤を添加してヒドラジンを酸化分解するにあたり、合成
樹脂よりなる基材の表面に電解二酸化マンガンをコーテ
ィングした酸化触媒の充填層に、酸化剤を添加したヒド
ラジン含有水を上昇流で通水することを特徴とするもの
である。
ドラジン含有水の処理方法は、ヒドラジン含有水に酸化
剤を添加してヒドラジンを酸化分解するにあたり、合成
樹脂よりなる基材の表面に電解二酸化マンガンをコーテ
ィングした酸化触媒の充填層に、酸化剤を添加したヒド
ラジン含有水を上昇流で通水することを特徴とするもの
である。
〈作用〉
本発明に用いる酸化触媒は、従来から用いられている二
酸化マンガン粒子と異なり、直径０．２〜２、Ｏｆｆ程
度の合成樹脂よりなる球状の基材の表面に電解二酸化マ
ンガンの微粒子を、１〜５０μの厚みとなるようにコー
ティングしたもので、たとえばポリエチレン等の熱可塑
性合成樹脂の粒子を加熱してその表面を熔融させ、当該
熔融表面に電解二酸化マンガン微粒子を熱融着させるこ
とで製造することができる。
酸化マンガン粒子と異なり、直径０．２〜２、Ｏｆｆ程
度の合成樹脂よりなる球状の基材の表面に電解二酸化マ
ンガンの微粒子を、１〜５０μの厚みとなるようにコー
ティングしたもので、たとえばポリエチレン等の熱可塑
性合成樹脂の粒子を加熱してその表面を熔融させ、当該
熔融表面に電解二酸化マンガン微粒子を熱融着させるこ
とで製造することができる。
なお上述の方法で得られるものは、基材である合成樹脂
の表面にかなり強固に電解二酸化マンガン微粒子が熱融
着されるので、当該微粒子が基材から容易に離脱するこ
とがない。
の表面にかなり強固に電解二酸化マンガン微粒子が熱融
着されるので、当該微粒子が基材から容易に離脱するこ
とがない。
また電解二酸化マンガンは非常に優れた結晶構造を有し
ているので触媒性能がよく、さらに基材が合成樹脂より
なるものであるから従来の二酸化マンガン粒やマンガン
砂より軽く、かつ流動性があり、かかる理由により本発
明に用いる酸化触媒はヒドラジン含有水の処理に適して
いる。
ているので触媒性能がよく、さらに基材が合成樹脂より
なるものであるから従来の二酸化マンガン粒やマンガン
砂より軽く、かつ流動性があり、かかる理由により本発
明に用いる酸化触媒はヒドラジン含有水の処理に適して
いる。
第１図は本発明に用いる酸化触媒のヒドラジンを酸化分
解する場合の触媒性能を示したもので、ヒドラジンを７
００■／ｌ含むヒドラジン含有水の一定量に、次亜塩素
酸すＩ−ＩＪウム溶液を添加した場合の次亜塩素酸す１
〜リウムの添加量と残留ヒドラジンを示したものであり
、グラフＡは酸化触媒を用いないもの、グラフＢは従来
から用いられているマンガン砂を共存させたもの、グラ
フＣは前記マンガン砂と同容量の本発明に用いる酸化触
媒を共存させたものである。
解する場合の触媒性能を示したもので、ヒドラジンを７
００■／ｌ含むヒドラジン含有水の一定量に、次亜塩素
酸すＩ−ＩＪウム溶液を添加した場合の次亜塩素酸す１
〜リウムの添加量と残留ヒドラジンを示したものであり
、グラフＡは酸化触媒を用いないもの、グラフＢは従来
から用いられているマンガン砂を共存させたもの、グラ
フＣは前記マンガン砂と同容量の本発明に用いる酸化触
媒を共存させたものである。
第１図に示したごとく、本発明に用いる酸化触媒は従来
の酸化触媒と比較して、ヒドラジン酸化における触媒性
能が著しく優れており、したがって補助的酸化剤である
空気を必要としない。ヒドラジンは次亜塩素酸ナトリウ
ム等の酸化剤と反応すると、窒素と水とに酸化分解され
、被処理水中のヒドラジン量が多い場合は、比較的多量
の窒素を発生する。
の酸化触媒と比較して、ヒドラジン酸化における触媒性
能が著しく優れており、したがって補助的酸化剤である
空気を必要としない。ヒドラジンは次亜塩素酸ナトリウ
ム等の酸化剤と反応すると、窒素と水とに酸化分解され
、被処理水中のヒドラジン量が多い場合は、比較的多量
の窒素を発生する。
たとえばヒドラジン含有水に酸化剤を添加した後、これ
を酸化触媒の層に下降流で通水すると、当該層の内部で
発生した窒素が層の内部に閉じ込まれ、水流がチャンネ
リング現象を起こして接触反応を阻害する原因となる。
を酸化触媒の層に下降流で通水すると、当該層の内部で
発生した窒素が層の内部に閉じ込まれ、水流がチャンネ
リング現象を起こして接触反応を阻害する原因となる。
したがって発生する窒素を酸化触媒の層から排除しなが
ら反応させるために、酸化触媒層に対してヒドラジン含
有水を上昇流で通水することが望ましい。
ら反応させるために、酸化触媒層に対してヒドラジン含
有水を上昇流で通水することが望ましい。
さらにこの場合酸化触媒の層を固定せずに上昇流による
流動状態とした方が発生した窒素を容易に反応槽の上方
から排除できる。
流動状態とした方が発生した窒素を容易に反応槽の上方
から排除できる。
第２図は本発明の実施態様の一例のフローを示す説明図
で、上方が開放した反応槽１の下方に砂利、砕石、珪石
等の支持層２を形成し、当該支持層２内にディストリビ
ュータ３を内設する。
で、上方が開放した反応槽１の下方に砂利、砕石、珪石
等の支持層２を形成し、当該支持層２内にディストリビ
ュータ３を内設する。
また支持層２の上部に合成樹脂よりなる基材の表面に電
解二酸化マンガンをコーティングした酸化触媒４の充填
層を形成し、反応槽１の上方に処理水流出管５を設ける
とともに、前記ディストリビュータ３に流入管６を連通
ずる。また当該流入管６に酸化剤注入管７の一端を接続
し、酸化剤注入管７の他端に注入ポンプ８を介して次亜
塩素酸すトリウム熔液槽９を接続する。
解二酸化マンガンをコーティングした酸化触媒４の充填
層を形成し、反応槽１の上方に処理水流出管５を設ける
とともに、前記ディストリビュータ３に流入管６を連通
ずる。また当該流入管６に酸化剤注入管７の一端を接続
し、酸化剤注入管７の他端に注入ポンプ８を介して次亜
塩素酸すトリウム熔液槽９を接続する。
当該フローでヒドラジン含有水を処理する場合、流入管
６からヒドラジン含有水を流入するとともに、注入ポン
プ８を駆動して次亜塩素酸ナトリウム溶液を酸化剤注入
管７から注入する。酸化剤が添加されたヒドラジン含有
水はディストリビュータ３を介して反応槽１内に流出し
、次いで酸化触媒４の層を上昇流で通過する。
６からヒドラジン含有水を流入するとともに、注入ポン
プ８を駆動して次亜塩素酸ナトリウム溶液を酸化剤注入
管７から注入する。酸化剤が添加されたヒドラジン含有
水はディストリビュータ３を介して反応槽１内に流出し
、次いで酸化触媒４の層を上昇流で通過する。
酸化触媒４は被処理水の上昇流により膨張流動しながら
被処理水と接触するが、この時酸化触媒４によるヒドラ
ジンの接触酸化が起こり、窒素が発生する。
被処理水と接触するが、この時酸化触媒４によるヒドラ
ジンの接触酸化が起こり、窒素が発生する。
ただしこの窒素は酸化触媒４が流動状態となっているの
で、容易に当該流動層から離脱し、反応槽１の上方から
大気中に拡散される。またヒドラジンが酸化分解された
処理水は処理水流出管５より流出する。
で、容易に当該流動層から離脱し、反応槽１の上方から
大気中に拡散される。またヒドラジンが酸化分解された
処理水は処理水流出管５より流出する。
本発明に用いる酸化触媒は前述したごとく、その触媒性
能が優れているので、従来のマンガン砂等の酸化接触よ
り酸化剤の使用量が少なくてよく、また空気等の補助的
な酸化剤を用いる必要がない。
能が優れているので、従来のマンガン砂等の酸化接触よ
り酸化剤の使用量が少なくてよく、また空気等の補助的
な酸化剤を用いる必要がない。
また反応槽１における酸化触媒の充填層高は５００〜１
，０００ｍｍ以下で充分であり、接触させる時の流速と
してはＬＶ５〜４０ ｍ ／ Ｈとするとよい。
，０００ｍｍ以下で充分であり、接触させる時の流速と
してはＬＶ５〜４０ ｍ ／ Ｈとするとよい。
本発明に用いることができる酸化剤としてはオゾン、過
酸化水素、塩素ガス、次亜塩素酸ナトリウム溶液等が用
いられ、酸化剤として次亜塩素酸ナトリウム溶液を用い
る場合は、被処理水のヒドラジンに対してその酸化理論
値あるいはそれ以下の酸化剤の添加で充分にヒドラジン
を酸化分解することができる。
酸化水素、塩素ガス、次亜塩素酸ナトリウム溶液等が用
いられ、酸化剤として次亜塩素酸ナトリウム溶液を用い
る場合は、被処理水のヒドラジンに対してその酸化理論
値あるいはそれ以下の酸化剤の添加で充分にヒドラジン
を酸化分解することができる。
〈効果〉
以上説明したごとく本発明はヒドラジンの酸化に空気を
用いることがないのでストレーナ−等で酸化触媒層を固
定する必要がなく、反応槽の内部構造が簡単となり、か
つブロワ−を設置する必要がないので装置の建設費を大
幅に削除することができる。また空気を用いないので酸
化触媒の層が必要以上に攪拌されることがなく、したが
って二酸化マンガンの微粒子が処理水に漏出することが
ない。
用いることがないのでストレーナ−等で酸化触媒層を固
定する必要がなく、反応槽の内部構造が簡単となり、か
つブロワ−を設置する必要がないので装置の建設費を大
幅に削除することができる。また空気を用いないので酸
化触媒の層が必要以上に攪拌されることがなく、したが
って二酸化マンガンの微粒子が処理水に漏出することが
ない。
また本発明に用いる酸化触媒は従来の酸化触媒より触媒
性能が優れているので、酸化剤の使用量モ少なくてすみ
、ランニングコストを大幅に削減することができ、さら
に従来の酸化触媒より軽く流動性がよいので、発生する
窒素を容易に反応槽から排除することができ、反応効率
も優れている。
性能が優れているので、酸化剤の使用量モ少なくてすみ
、ランニングコストを大幅に削減することができ、さら
に従来の酸化触媒より軽く流動性がよいので、発生する
窒素を容易に反応槽から排除することができ、反応効率
も優れている。
第１図は本発明に用いる酸化触媒と、従来から用いられ
ているマンガン砂のヒドラジンに対する触媒性能を示す
グラフであり、縦軸に残留ヒドラジン、横軸に次亜塩素
酸ナトリウムの添加量を示す。また第２図は本発明の実
施態様の一例のフローを示す説明図である。 １・・・反応槽 ２・・・支持層３・・・デ
ィストリビュータ ４・・・酸化触媒 ５・・・処理水流出管６・
・・流入管 ７・・・酸化剤注入管８・・・
注入ポンプ ９・・・次亜塩素酸ナトリウム溶液槽
ているマンガン砂のヒドラジンに対する触媒性能を示す
グラフであり、縦軸に残留ヒドラジン、横軸に次亜塩素
酸ナトリウムの添加量を示す。また第２図は本発明の実
施態様の一例のフローを示す説明図である。 １・・・反応槽 ２・・・支持層３・・・デ
ィストリビュータ ４・・・酸化触媒 ５・・・処理水流出管６・
・・流入管 ７・・・酸化剤注入管８・・・
注入ポンプ ９・・・次亜塩素酸ナトリウム溶液槽
Claims (1)
- ヒドラジン含有水に酸化剤を添加してヒドラジンを酸化
分解するにあたり、合成樹脂よりなる基材の表面に電解
二酸化マンガンをコーティングした酸化触媒の充填層に
、酸化剤を添加したヒドラジン含有水を上昇流で通水す
ることを特徴とするヒドラジン含有水の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17191488A JPH0221996A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | ヒドラジン含有水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17191488A JPH0221996A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | ヒドラジン含有水の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0221996A true JPH0221996A (ja) | 1990-01-24 |
Family
ID=15932176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17191488A Pending JPH0221996A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | ヒドラジン含有水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0221996A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5525862A (en) * | 1991-02-20 | 1996-06-11 | Sony Corporation | Electro-optical device |
| JP2006303777A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Pioneer Electronic Corp | スピーカ装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5010297A (ja) * | 1973-06-01 | 1975-02-01 | ||
| JPS5011992A (ja) * | 1973-06-01 | 1975-02-06 | ||
| JPS5130387A (ja) * | 1974-09-07 | 1976-03-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | |
| JPS588583A (ja) * | 1981-07-07 | 1983-01-18 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | ヒドラジン含有水の処理方法及び装置 |
| JPS58183928A (ja) * | 1982-04-19 | 1983-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | オゾン含有ガス中のオゾン除去方法 |
-
1988
- 1988-07-12 JP JP17191488A patent/JPH0221996A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5010297A (ja) * | 1973-06-01 | 1975-02-01 | ||
| JPS5011992A (ja) * | 1973-06-01 | 1975-02-06 | ||
| JPS5130387A (ja) * | 1974-09-07 | 1976-03-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | |
| JPS588583A (ja) * | 1981-07-07 | 1983-01-18 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | ヒドラジン含有水の処理方法及び装置 |
| JPS58183928A (ja) * | 1982-04-19 | 1983-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | オゾン含有ガス中のオゾン除去方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5525862A (en) * | 1991-02-20 | 1996-06-11 | Sony Corporation | Electro-optical device |
| JP2006303777A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Pioneer Electronic Corp | スピーカ装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU683533B2 (en) | Unit for treating water by ozonation, and corresponding ozonised water production apparatus | |
| CN206512041U (zh) | 一种两级梯度臭氧催化流化床深度处理生化尾水的装置 | |
| GB2127711A (en) | Degassing of water using inert gas | |
| JPS62183835A (ja) | 硫化水素含有ガスの脱硫方法および装置 | |
| CN107789967A (zh) | 一种烧结烟气低温脱硝装置及其实现方法 | |
| CN205527942U (zh) | 内循环臭氧催化装置 | |
| JPH0221996A (ja) | ヒドラジン含有水の処理方法 | |
| CN107433122A (zh) | 一种废气处理系统及方法 | |
| JPH11197690A (ja) | 有機性固形物含有廃水の嫌気性生物処理方法及び装置 | |
| JPS644835B2 (ja) | ||
| CN207478288U (zh) | 一种废气处理系统 | |
| AU5369800A (en) | Equipment for the treatment of liquids | |
| JPH02267288A (ja) | エッチング液再生装置 | |
| Vukov ÍC et al. | Pressure drop, bed expansion and liquid holdup in a three phase spouted bed contactor | |
| JPS61141987A (ja) | ヒドラジン含有水の処理方法 | |
| JP3522020B2 (ja) | 加圧型下方注入式オゾン接触槽とその制御方法 | |
| JPS5938833B2 (ja) | 高濃度廃水の生物的処理装置 | |
| JPH0150479B2 (ja) | ||
| JP3523743B2 (ja) | 加圧型下方注入式オゾン接触槽とその制御方法 | |
| JPH09276882A (ja) | 加圧型下方注入式オゾン接触槽とその制御方法 | |
| JPS5926193A (ja) | 汚水処理装置 | |
| KR970061789A (ko) | 미생물 담체를 이용한 유동형 폐수 처리 장치 및 방법 | |
| JP2002079037A (ja) | 気液接触塔の洗浄方法 | |
| JPH0724478A (ja) | 気泡塔式反応槽 | |
| JPH0336593B2 (ja) |