JPH02197765A - 極低温冷凍機の衝撃吸収装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、冷媒ガスのガス圧によりディスプレーサ（置
換器）をシリンダ内で往復動させて、そのシリンダ内膨
張室での冷媒ガスの膨張により寒冷を肖る極低温冷凍機
において、ディスプレーサかシリンダの端部に衝突する
際の衝撃をバンパによって吸収する衝撃吸収装置に関し
、特に、そのバンバの構造の改良に関する。

（従来の技術） 従来より、高圧の冷媒ガスをシリンダ内で膨張させて寒
冷を発生させる膨張機を有する極低温冷凍機として、例
えば特開昭５８−２１４７５８号公報等に開示されてい
るように、冷媒ガスとしてのヘリウムガスを圧縮する圧
縮機と、その圧縮されたガスを膨張させる膨張機とを高
圧配管及び低圧配管によって閉回路に接続してなり、上
記膨張機における切換バルブにより上記高圧及び低圧配
管を膨張機のシリンダ内に交互に連通させるとともに、
この切換バルブの切換動作に応じてシリンダ内でスラッ
クピストンを往復動させ、このピストンによりディスプ
レーサ（置換器）を往復駆動してヘリウムガスを膨張さ
せることにより、寒冷を発生させるようにしたいわゆる
改良ソルベーサイクルのヘリウム冷凍機が知られている
。また、この他、スラックピストンを使用せず、ディス
プレーサを直接ガス圧によって駆動するようにしたＧ−
Ｍサイクル（ギフオード中マクマホンサイクル）のもの
もよく知られている。

（発明が解決しようとする課題） ところで、このようなガス圧駆動式の冷凍機においては
、膨張機におけるディスプレーサを冷媒ガス圧によって
シリンダ内で往復動させるため、そのディスプレーサが
ストロークエンドでシリンダ端部に衝突して、振動が発
生するという問題がある。

そこで、本発明の目的は、シリンダ及びディスプレーサ
の端部間に特定（ＩＸｗｉ造のバンパを配設し、このバ
ンバによりストロークエンドに達したディスプレーサと
シリンダ端部との衝突による衝撃を吸収緩和するように
することにある。

（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するために、本発明の解決手段は、シリ
ンダの端部及びディスプレーサの端部に永久磁石又はそ
の永久磁石によって電磁誘導電流を発生する導電体を対
向して配設し、この永久磁石同士又は永久磁石と導電体
との間で作用する磁気反発力によりディスプレーサのシ
リンダ端部への衝突を緩和するようにしたものである。

すなわち、具体的には、請求項（１）記載の発明では、
第１図に示すように、シリンダ（２）と、該シリンダ（
２）内に往復動可能に嵌装され、シリンダ（２）内下部
に膨張室（１０）、　＜１１）を区画形成するディスプ
レーサ（８）とを備え、圧縮機から供給された冷媒ガス
をシリンダ（２）内の膨張室（１０）、　（１１）に給
排して、そのガス圧によりディスプレーサ（８）を往復
動させるとともに、膨張室（１０）、　　（１１）での
冷媒ガスの膨張によりシリンダ（２）の下部に極低温レ
ベルの寒冷を発生させるようにした極低温冷凍機におい
て、上記シリンダ（２）の端部に永久磁石（１９）、　
（２１）を配設する。

一方、上記ディスプレーサ（８）の上記シリンダ（２）
の端部と対向する端部には永久磁石（２０）、　　（２
２）をディスプレーサ（８）のシリンダ（２）端部への
接近によりシリンダ（２）の永久磁石（１９）、　　（
２１）との間で同極の反発力が作用するように、すなわ
ちシリンダ（２）側の磁石（１９）、　（２１）とディ
スプレーサ（８）側の磁石（２０）、　　（２２）との
対向部が互いに同極となるように配設する。

また、請求項（２１記載の発明では、第２図に示す如く
、上記した極低温冷凍機において、そのシリンダ（２）
の端部に永久磁石（２７）、　　（２９）を配設し、一
方、ディスプレーサ（８）の上記シリンダ（２）の端部
と対向する端部には、シリンダ（２）の永久磁石（２７
）、　（２ｇ）への接近により該シリンダ（２）の永久
磁石（２７）、　　（２９）との間で誘導反発力を発生
させるように誘導電流を誘起する導電体（２８）、　　
（３０）を配設する。

さらに、請求項（３）記載の発明では、上記とは逆に、
ディスプレーサ（８）の端部に永久磁石を配設し、シリ
ンダ（２）の端部には導電体を配設する。

（作用） 上記の構成により、請求項（１）記載の発明では、極低
温冷凍機の作動時、ディスプレーサ（８）がシリンダ（
２）内で往復移動するのに伴い、該ディスプレーサ（８
）の端部に配置された永久磁石（２０）。

（２２）とシリンダ（２）端部に配置された永久磁石（
１９）、　　（２１）とが接近する。この両磁石（２０
）、　（１９）（又は（２２）、　　（２１））の対向
磁極は同じであるので、ディスプレーサ（８）のシリン
ダ（２）端部への接近に伴い両磁石（２０）、　（１９
）　（又は（２２）、　（２１，））間で同極の反発力
が作用し、この反発力によりディスプレーサ（８）の動
きが制動されて、ディスプレーサ（８）のシリンダ（２
）への衝突の際の衝撃が吸収緩和される。

また、請求項（２Ｊ又は（３）記載の発明では、上記と
同様にしてディスプレーサ（８）がシリンダ（２）の端
部に接近するのに伴い、シリンダ（２）又はディスプレ
ーサ（８）の端部に配置された永久磁石（２７）。

（２９）がディスプレーサ（８）又はシリンダ（２）端
部に配置された導電体（２ｇ＞、　（３０）に接近する
。この接近により導電体（２８）、　　（３０）には誘
導電流が発生してその電流により磁場が発生し、この磁
場と永久磁石（２７）、　　（２！］）の磁場との間で
反発力が作用し、この反発力によりディスプレーサ（８
）の動きが制動されて、ディスプレーサ（８）のシリン
ダ（２）への衝突の際の衝撃が吸収緩和される。

（実施例） 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は本発明をガス圧駆動のＧ−Ｍサイクルを持つヘ
リウム冷凍機に適用した実施例の構成を概略的に示し、
この冷凍機は冷媒ガスとしてのヘリウムガスを圧縮する
図外の圧縮機と、該圧縮機により圧縮された高圧ヘリウ
ムガスをサイモン膨張させる膨張機（１）とからなる。

この膨張機（＋）は、下端が閉塞されたシリンダ（２〉
と、該シリンダ（２）の上端開口部を気密状に閉塞する
バルブステム（３）と、シリンダ（２）の上端に連設さ
れ、バルブステム（３）との間にバルブ室（４）を形成
するバルブハウジング（５）とを備えている。

上記バルブハウジング（５）には圧縮機の吐出側に高圧
配管（図示せず）を介して連通ずる高圧ガス入口（６）
と、圧縮機の吸入側に低圧配管（図示せず）を介して連
通ずる低圧ガス出口（７）が設けられ、上記高圧ガス入
口（８）はバルブハウジング（５）内のバルブ室（４）
に常時連通されている。

また、上記シリンダ（２）は上側の大径部（２ａ）と下
側の小径部（２ｂ）とからなる２段構造の密閉円筒状に
形成され、このシリンダ（２）内にはディスプレーサ（
８）が往復動可能に嵌装されている。該ディスプレーサ
（８）は、シリンダ（２）の大径部（２ａ）内を気密可
能に摺動する密閉円筒状の大径部（８ａ）と、該大径部
（８ａ）下端に一体に連設され、シリンダ（２）の小径
部（２ｂ）内を気密可能に摺動する密閉円筒状の小径部
（８ｂ）とからなり、このディスプレーサ（８）により
シリンダ（２）内の空間が、ディスプレーサ（８）上端
及びバルブステム（３）で囲まれる中間室（９）と、デ
ィスプレーサ（８）の大径部（８ａ）下端及びシリンダ
（２）の大径部（２ａ）下端で囲まれる第１段膨張室（
ｌＯ）と、ディスプレーサ（８）の小径部（８ｂ）下端
及びシリンダ（２）の小径部（２ｂ）下端で囲まれる第
２段膨張室（ＩＩ〉とに区画されている。

また、上記バルブステム（３）の底面には四部（１２）
が形成されている一方、ディスプレーサ（８）の上端に
は上記凹部（１２）に気密状態で往復動可能に嵌装され
たピストン部（８Ｃ）が一体に突設され、上記凹部（１
２）内にピストン部（８Ｃ）によって駆動空間（１３）
が区画形成されている。

また、図示しないが、上記ディスプレーサ（８）の大径
部（８ａ）は上記中間室（９）及び第１段膨張室（１０
）にそれぞれ連通し、この大径部（８ａ）内には蓄冷型
熱交換器からなる第１段蓄冷器が収容されている。また
、ディスプレーサ（８）の小径部（８ｂ）は第１及び第
２段膨張室（１０）、　　（１１）にそれぞれ連通して
おり、この小径部（８ｂ）内には同様の第２段蓄冷器が
収容されている。

さらに、上記バルブステム（３）には上記中間室（９）
及びバルブ室（４）間を連通ずる第１ガス通路（１４）
と、一端がバルブ室（４）に開口し、他端が上記低圧ガ
ス出口（７）に連通ずる低圧ガス通路（１５）と、一端
がバルブ室（４）に開口し、他端が」二足駆動空間（１
３）に連通ずる第２ガス通路（１８）とが形成され、こ
れらガス通路（１４）、０５）、　　（１ｇ）のバルブ
ハウジング（５）上面への開口部は集合されている。

また、上記バルブハウジング（５）内には上記バルブス
テム（３）の上面に気密状に密着して回転するバルブデ
ィスク（１６）と、該バルブディスク（ｊ６）を回転駆
動するバルブモータ（１７）とが収容され、上記バルブ
ディスク（１６）の下面には図示しないが上記バルブス
テム（３）におけるガス通路（１４）、　（１５）の開
目端を開閉するポートが形成されている１、そして、バ
ルブディスク（１６）の回転に伴い、そのボートを介し
て第１ガス通路（１４）をバルブハウジング（５）内の
バルブ室（４）（高圧側）又は低圧ガス通路（１５）　
（低圧側）に交互に連通させて高低圧側への連通を切り
換え、第１ガス通路（１４）をバルブ室（４）（高圧側
）に連通させ、゛かつ駆動空間（１３）に常時連通する
第２ガス通路（１８）を低圧ガス通路（１５）　（低圧
側）に連通させたときには、バルブ室（４）内の高圧ヘ
リウムガスを中間室（９）を介１．　”Ｃシリンダ（２
）内の膨張室（１０）、　（１１）に導入充填し、駆動
空間（１３）を低圧側に連通させてそのガス圧の差によ
りディスプレーサ（８）を上昇させる。一方、その後、
第１ガス通路（１４）を低圧ガス通路（１５）（低圧側
）に連通させ、かつ第２ガス通路（１８）をバルブ室り
４）（高圧側）に連通させたときには、上記膨張室（１
０）、　（１１）に充填されているヘリウムガスを膨張
させながら中間室（９）を介して低圧ガス出口（７）に
排出して、駆動空間（１３）の中間室（９）との圧力差
によりディスプレーサ（８）′を下降させ、このディス
プレーサ（８）の昇降移動サイクルに伴うヘリウムガス
の膨張により、シリンダ（２）の大径部（２ａ）及び小
径部（２ｂ）の下端にそれぞれ極低温レベルの寒冷を発
生させるように構成されている。

さらに、本発明の特徴として、上記シリンダ（２）の上
端部を構成するバルブステム（３）の底面には四部（１
２）以外の部分にリング状の永久磁石からなるシリンダ
上側磁石（１９）がその下端面を例λば両磁極として取
り付けられている。一方、ディスプレーサ（８）の大径
部（８ａ）において上記ピストン部（８ｃ）以外の上端
面には、上記シリンダ上側磁石（１９）と対向する部分
にリング状の永久磁石からなるディスプレーサ上側磁石
（２０）がその上端面を上記シリンダ上側磁石（１９）
の対向部の磁極と同じ陽磁甑として取り付けられており
、ディスプレーサ（８）が上方に向かう吸気行程のスト
ロークエンドでシリンダ（２）の上端部へ接近したとき
に、シリンダ上側磁石（１９）とディスプレーサ上側磁
石（２０）との間で同極の反発力が作用するようになさ
れている。

また、シリンダ（２）の下端部としての大径部（２ａ）
内底面にはり′ング状の永久磁石からなるシリンダ下側
磁石（２１）がその上端面を例えば両磁極として取り付
けられている。一方、ディスプレーサ（８）の大径部（
８ａ）下端面には、上記シリンダ下側磁石（２１）と対
向する部分にリング状の永久磁石からなるディスプレー
サ下側磁石（２２）がその下端面をシリンダ下側磁石（
２１）の対向部の磁極と同じ両磁極として取り付けられ
ており、ディスプレーサ（８）が下方に向かう排気行程
のストロークエンドで大径部（８ａ）がシリンダ（２）
の大径部（２ａ）内底面へ接近したときに、シリンダ下
側磁石（２１）とディスプレーサ下側磁石（２２）との
間で同極の反発力が作用するようになされている。

したがって、上記実施例においては、冷凍機の運転時、
バルブモータ（１７）によるバルブディスク（１Ｇ）の
切換作動によりシリンダ（２）内の膨張室（１０）、　
　（１１）に対するヘリウムガスの給排が切り換えられ
、このガスの給排に伴ってシリンダ（２）内でディスプ
レーサ（８）が往復動する。すなわち、バルブハウジン
グ（５）内のバルブ室（４）（高圧側）とバルブステム
（３）の第１ガス通路（１４）とが連通し、かつ第２ガ
ス通路（１８）が低圧ガス通路（１５）（低圧側）と連
通ずるようにバルブディスク（１Ｇ）が切り換えられた
ときには、圧縮機から吐出されてバルブ室（４）内に蓄
えられている常温の高圧ヘリウムガスが第１ガス通路（
１４）を介して中間室（９）に導入され、さらに、この
中間室（９）からディスプレーサ（８）内の各蓄冷器を
通って順次膨張室（１０）、　（１１）に充填され、上
記蓄冷器を通る間に熱交換によって極低温まで冷却され
る。また、この高圧ヘリウムガスの導入によって中間室
（９）の圧力が低圧側に連通している駆動空間（１３〉
よりも高くなり、この差圧よりディスプレーサ（８）が
上昇する。このディスプレーサ（８）の上昇移動により
その下方の膨張室（１０）、　（１１）にさらに高圧ガ
スが充填される（吸気行程）。この後、上記バルブディ
スク（１６）の切換えにより第１ガス通路（１４）は閉
じられるが、その状態でもディスプレーサ（８）は慣性
力によって上昇し、これに伴い、上記中間室（９）内の
ヘリウムガスが両膨張室（１０）、　　（１１）に移動
する。

そして、ディスプレーサ（８）が上昇端位置に達した後
、上記第１ガス通路（１４）が低圧ガス通路（１５）（
低圧側）と連通ずるようにバルブディスク（１Ｂ）が切
り換えられる。この切換えに伴い、上記膨張室（１０）
、　（１１）が低圧側に連通ずるが、駆動空間（１３）
は低圧側に連通したままであるので、ディスプレーサ（
８）が移動することなく、膨張室（１０）。

（１１）内のヘリウムガスがサイモン膨張し、このガス
膨張によって寒冷が発生する（膨張行程）。その後、駆
動空間（１３）が高圧側に連通し、ディスプレーサ（８
）が下降し、膨張空間内のガスが中間室＜９）を経て低
圧ガス出口（７）へと排出される（排気行程）。以上に
より動作の１サイクルが終了し、以後は上記と同様な動
作が繰り返される。

この場合、ディスプレーサ（８）が上昇して上記吸気行
程のストロークエンドに達すると、そのディスプレーサ
（８）の大径部（８ａ）上端に取り付けられたディスプ
レーサ上側磁石（２０）がバルブステム（３）底面に取
り付けられたシリンダ上側磁石（１９）に接近する。上
記ディスプレーサ上側磁石（２０）の上面とシリンダ上
側磁石（１９）の下面とは同じ磁極であるので、上記デ
ィスプレーサ（８）の上昇ストロークエンドでは両磁石
（１９）、　（２０）間で反発力が生じ、この磁石（１
９）、　（２０）間の反発力によってディスプレーサ（
８）の上昇移動が制動され、この制動力によりディスプ
レーサ（８）がシリンダ＜２）上端部（バルブステム（
３）底面）へ衝突する際の衝撃を吸収緩和することがで
きる。

また、逆に、ディスプレーサ（８）が下降して排気行程
のストロークエンドに達するときには、ディスプレーサ
（８）の大径部（８ａ）下端におけるディスプレーサ下
側磁石（２２）がシリンダ（２）の大径部（２ａ）内底
面に取り付けられたシリンダ下側磁石（２１）に接近す
るが、上記ディスプレーサ下側磁石（２２）の下面とシ
リンダ下側磁石（２１）の上面とは同じ磁極であるので
、ディスプレーサ（８）の下降ストロークエンドでは両
磁石（２＋、）、　（２２）間で反発力が生じ、この反
発力によってディスプレーサ（８）の下降移動が制動さ
れ、この制動力によりディスプレーサ（８）がシリンダ
〈２〉の大径部（２ａ）内底面へ衝突する際の衝撃を吸
収緩和することができる。

よって、これら上下磁石（１９）、　（２０）　（又は
（２１）。

（２２））同土間の同極の反発作用によりディスプレー
サ（８）のシリンダ（２）へ衝突の際の衝撃を吸収緩和
することができる。

第２図は本発明の他の実施例を示し、改良ソルベーサイ
クルを持つヘリウム冷凍機を対象とし、かつ磁石により
誘起された誘導磁場により反発力を得るようにしたもの
である。尚、第１図と同じ部分については同じ符号を付
してその詳細な説明は省略する。

すなわち、この実施例では、バルブステム（３′）の底
面にはシリンダ（２）内に下方に突出する突出部（３ａ
’）が形成され、この突出部（３ａ’）の周りに、外周
面がシリンダ（２）内周に気密状に摺接する有底円筒状
のスラックピストン（２３）が気密状態で往復動可能に
外嵌合されており、このピストン（２３）によってシリ
ンダ（２）向上部の空間が上側の駆動空間（１３）と下
側の中間室（９）とに区画されている。

また、上記スラックピストン（２３）の底部中心には係
合孔（２３ａ）が、下側隅角部には第２ガス通路（１８
）がそれぞれ貫通形成され、上記係合孔（２３ａ）には
ディスプレーサ（８）上面に突設した所定長さの係合ロ
ッド（２５）が遊嵌合状態で挿通され、その係合ロッド
（２５）の上端にはフランジ状の係合部（２６）が形成
されており、膨張室（１０）、　（１１）に対するヘリ
ウムガスの給排により、シリンダ（２）内でスラックピ
ストン（２３〉を往復動させるとともに、そのスラック
ピストン（２３）に対し所定ストロークの遅れをもって
ディスプレーサ（８）を往復動させるようになされてい
る。

そして、上記ディスプレーサ（８）の係合部（２６）上
面には円板状の永久磁石からなる上側磁石（２７）が取
り付けられている。一方、バルブステム（３′）の突出
部（３ａ’）底面には上記ディスプレーサ（８）の係合
部（２Ｂ）を嵌合可能な凹部（１２’　）が形成され、
該凹部（１２’　）内奥面には上記ディスプレーサ（８
）側の上側磁石（２７）の接近により誘導電流を誘起す
る導電体としての上側誘導コイル（２８）が取り付けら
れており、ディスプレーサ（８）が吸気行程で上昇スト
ロークエンドに達してシリンダ（２）の上端部へ接近し
たときに、上側誘導コイル（２８）とディスプレーサ（
８）の上側磁石（２７）との間で誘導反発力を作用させ
るようになされている。

また、ディスプレーサ（８）の大径部（８ａ）下面には
リング状の永久磁石からなる下側磁石（２９）が取り付
けられている一方、シリンダ（２）の大径部（２ａ）内
底面には上記ディスプレーサ（８）側の下側磁石（２９
）の接近により誘導電流を誘起する導電体としての下側
３導コイル（３０）が取り付けられており、ディスプレ
ーサ（８）が排気行程で下降ストロークエンドに達して
シリンダ（２）の下端部へ接近したときに、下側誘導コ
イル（３０）とディスプレーサ（８）の下側磁石（２９
）との間で誘導反発ツＪを作用させるようになされてい
る。尚、（３１）は駆動空間（１３）に連通ずるサージ
ボリュームである。

したがって、この実施例では、ディスプレーサ（８）が
シリンダ（２）の上端部（又は下端部）に接近するのに
伴い、ディスプレーサ（８）側の上側磁石（２７）　（
又は下側磁石（２９））がシリンダ（２）側の」二側電
磁誘導コイル（２８）　（又は下側電磁誘導コイル（３
０））に接近し、この接近により電磁誘導コイル（２８
）（又は（３０））には誘導電流が発生してその電流に
より磁場が発生し、この磁場と磁石（２７）（又は（２
９））の磁場との反発により両者間で反発力が作用する
。その結果、この反発力によりディスプレーサ（８）の
動きが制動されることとなり、ディスプレーサ（８）の
シリンダ（２）への衝突の際の衝撃を吸収緩和すること
ができる。

また、誘導コイル（２８）、　（３０）に外部抵抗等を
接続すると、その抵抗の可変調整により磁石（２７）。

（２９）との反発力を変えることができ、ディスプレー
サ（８）の衝撃吸収力を外部から容易に変更調整するこ
ともできる。

尚、この実施例とは逆に、シリンダ（２）側に永久磁石
を、ディスプレーサ（８）側に誘導コイルをそれぞれ取
り付けてもよく、上記実施例と同様の作用効果を奏する
ことができる。

また、本発明は、ヘリウムガス以外のガスを冷媒ガスと
する極低温冷凍機に対しても適用することができるのは
いうまでもない。

（発明の効果） 以上の如く、請求項（１）記載の発明によると、極低温
冷凍機におけるシリンダの端部及び該端部に対向するデ
ィスプレーサの端部にそれぞれ永久磁石を同極が対向す
るように配設したことにより、両磁石間の同極の反発力
によりディスプレーサのストロークエンドでの移動を制
動することができる。

また、請求項＋２）及び（３）記載の発明によれば、極
低温冷凍機におけるシリンダの端部又は該シリンダ端部
に対向するディスプレーサの端部の一方に永久磁石を、
また他方に上記永久磁石によって誘導電流を発生する導
電体をそれぞれ配設したことにより、ディスプレーサの
ストロークエンドでの磁石の導電体への接近に伴って発
生した誘導電流により磁石と導電体とを反発させて、そ
の反発力によりディスプレーサのストロークエンドでの
移動を制動することができる。よって、これらの発明に
よると、簡単な構造でディスプレーサのシリンダ端部へ
の衝突に伴う衝撃を吸収緩和することができ、極低温冷
凍機の信頼性の向上や運転騒音の低減を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を概略的に示す断面図、第２
図は同地の実施例を示す断面図である。 （１，’）・・・膨張機、（２）・・・シリンダ、（８
）・・・ディスプレーサ、（Ｉｆ］）、　　（ＩＩ）・
・・膨張室、（１９）・・・シリンダ上側磁石、（２０
）・・・ディスプレーサ上側磁石、（２１）・・・シリ
ンダ下側磁石、（２２）・・・ディスプレーサ下側磁石
、（２３）・・・スラックピストン、（２７）・・・上
側磁石、（２８）・・・上側誘導コイル、（２９）・・
・下側磁石、（３０）・・・下側誘導コイル。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）シリンダ（２）と、該シリンダ（２）内に往復動
   可能に嵌装され、シリンダ（２）内下部に膨張室（１０
   ）、（１１）を区画形成するディスプレーサ（８）とを
   備え、圧縮機から供給された冷媒ガスをシリンダ（２）
   内の膨張室（１０）、（１１）に給排して、そのガス圧
   によりディスプレーサ（８）を往復動させるとともに、
   膨張室（１０）、（１１）での冷媒ガスの膨張によりシ
   リンダ（２）の下部に極低温レベルの寒冷を発生させる
   ようにした極低温冷凍機において、上記シリンダ（２）
   の端部には永久磁石（１９）、（２１）が配設されてい
   る一方、上記ディスプレーサ（８）の上記シリンダ（２
   ）端部と対向する端部には永久磁石（２０）、（２２）
   がディスプレーサ（８）のシリンダ（２）端部への接近
   によりシリンダ（２）の永久磁石（１９）、（２１）と
   の間で同極の反発力が作用するように配設されているこ
   とを特徴とする極低温冷凍機の衝撃吸収装置。
2. （２）シリンダ（２）と、該シリンダ（２）内に往復動
   可能に嵌装され、シリンダ（２）内下部に膨張室（１０
   ）、（１１）を区画形成するディスプレーサ（８）とを
   備え、圧縮機から供給された冷媒ガスをシリンダ（２）
   内の膨張室（１０）、（１１）に給排して、そのガス圧
   によりディスプレーサ（８）を往復動させるとともに、
   膨張室（１０）、（１１）での冷媒ガスの膨張によりシ
   リンダ（２）の下部に極低温レベルの寒冷を発生させる
   ようにした極低温冷凍機において、上記ディスプレーサ
   （８）の端部には永久磁石（２７）、（２９）が配設さ
   れている一方、シリンダ（２）の上記ディスプレーサ（
   ８）端部と対向する端部には、ディスプレーサ（８）の
   永久磁石（２７）、（２９）の接近により該ディスプレ
   ーサ（８）の永久磁石（２７）、（２９）との間で誘導
   反発力を発生させるように誘導電流を誘起する導電体（
   ２８）、（３０）が配設されていることを特徴とする極
   低温冷凍機の衝撃吸収装置。
3. （３）シリンダ（２）と、該シリンダ（２）内に往復動
   可能に嵌装され、シリンダ（２）内下部に膨張室（１０
   ）、（１１）を区画形成するディスプレーサ（８）とを
   備え、圧縮機から供給された冷媒ガスをシリンダ（２）
   内の膨張室（１０）、（１１）に給排して、そのガス圧
   によりディスプレーサ（８）を往復動させるとともに、
   膨張室（１０）、（１１）での冷媒ガスの膨張によりシ
   リンダ（２）の下部に極低温レベルの寒冷を発生させる
   ようにした極低温冷凍機において、上記シリンダ（２）
   の端部には永久磁石が配設されている一方、ディスプレ
   ーサ（８）の上記シリンダ（２）の永久磁石と対向する
   端部には、シリンダ（２）の永久磁石への接近により該
   シリンダ（２）の永久磁石との間で誘導反発力を発生さ
   せるように誘導電流を誘起する導電体が配設されている
   ことを特徴とする極低温冷凍機の衝撃吸収装置。