JPH02188547A - 光学活性なベンゼン誘導体およびその製法 - Google Patents
光学活性なベンゼン誘導体およびその製法Info
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Landscapes
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、有機電子材料たとえば液晶化合物の中間体と
して有用な光学活性なベンゼン誘導体およびその製法に
関する。
して有用な光学活性なベンゼン誘導体およびその製法に
関する。
〈従来の技術〉
ジャーナル・オブ・ザ・アメリカンケミカルソサイアテ
488巻、1724頁(J、 Arn。
488巻、1724頁(J、 Arn。
Cbem、 Soc、 88(8) 、 1724 (
1966) (Eng)、 )には下記式 で示される化合物およびその製造法が記載されている。
1966) (Eng)、 )には下記式 で示される化合物およびその製造法が記載されている。
しかしながら、上記化合物の有用性に関する記載は一切
無い。
無い。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明は、液晶化合物の中間体として有用な光学活性な
ベンゼン誘導体およびその工業的有利な製法を提供する
。
ベンゼン誘導体およびその工業的有利な製法を提供する
。
〈課題を解決するための手段〉
本発明は、一般式(1)
nは1〜6の整数であり、*印は不斉炭素原子であるこ
とを示す。) で示される光学活性なベンゼン誘導体およびその製法で
ある。
とを示す。) で示される光学活性なベンゼン誘導体およびその製法で
ある。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の光学活性なベンゼン誘導体のうち、上記の一般
式(りIζおいてXがCH3CO−である化合物(以下
、光学活性なアセトフェノン誘導体という)は、以下の
4工程を経て製造することができる。
式(りIζおいてXがCH3CO−である化合物(以下
、光学活性なアセトフェノン誘導体という)は、以下の
4工程を経て製造することができる。
第1工程は、一般式(j
(式中、Rはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素
数1〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を
示し、XはHOOC−HO−CHsCO−またはCHs
COO−を示す。
数1〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を
示し、XはHOOC−HO−CHsCO−またはCHs
COO−を示す。
(式中、nは1〜5の整数である。)
で示されるアルコール類を一般式(ロ)R’−COOH
(2) (式中、RIは低級アルキル基である。)1示されるカ
ルボン酸またはその誘導体と反応させて一般式一 (式中、R′は低級アルキル基を示し、nは1〜5の整
数である。) で示されるベンゼン誘導体を得る工程である。
(2) (式中、RIは低級アルキル基である。)1示されるカ
ルボン酸またはその誘導体と反応させて一般式一 (式中、R′は低級アルキル基を示し、nは1〜5の整
数である。) で示されるベンゼン誘導体を得る工程である。
このアシル化反応において、一般式&11)で示される
カルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸および
吉草酸があげられ、その誘導体としては、これらの酸に
対応する酸無水物あるいは酸クロリドもしくは酸プロミ
ド等があげられる。
カルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸および
吉草酸があげられ、その誘導体としては、これらの酸に
対応する酸無水物あるいは酸クロリドもしくは酸プロミ
ド等があげられる。
このアシル化反応は、通常のエステル化の条件が適用さ
れ、溶媒の存在または非存在下に触媒を用いて反応させ
ることにより行われる。
れ、溶媒の存在または非存在下に触媒を用いて反応させ
ることにより行われる。
アシル化剤としては、一般式(2)で示されるカルボン
酸よりもその誘導体である酸無水物あるいは酸クロリド
もしくは酸プロミド等が、反応性の観点から好ま1.
<使用される。
酸よりもその誘導体である酸無水物あるいは酸クロリド
もしくは酸プロミド等が、反応性の観点から好ま1.
<使用される。
この反応において、溶媒を使用する場合、その溶媒とし
てはたとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ピリジン、ジメチルホルムアミ
ド、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エー
テル、ケトン、ハロゲン化炭化水素、有機アミン、非プ
ロトン性極性溶媒等の反応に不活性な溶媒の単独または
混合物があげられる。その使用量については特に制限な
く使用することができる。
てはたとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ピリジン、ジメチルホルムアミ
ド、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エー
テル、ケトン、ハロゲン化炭化水素、有機アミン、非プ
ロトン性極性溶媒等の反応に不活性な溶媒の単独または
混合物があげられる。その使用量については特に制限な
く使用することができる。
反応に用いる低級アルキルカルボン酸類は原料であるア
ルコール類に対して1当量倍以上必要であり、上限につ
いては特に制限されないが、好ましくは4当量倍以下で
ある。
ルコール類に対して1当量倍以上必要であり、上限につ
いては特に制限されないが、好ましくは4当量倍以下で
ある。
触媒としては、たとえばジメチルア菟ノビリジン、トリ
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ピリジン、ピ
コリン、イミダゾール、炭酸ナトリウム、ナトリウムメ
チラート、炭酸水素カリウム等の有機あるいは無機塩基
物質があげられる。その使用量は特に制限されないが、
通常アルコール類(II)に対して1〜6当量倍である
。
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ピリジン、ピ
コリン、イミダゾール、炭酸ナトリウム、ナトリウムメ
チラート、炭酸水素カリウム等の有機あるいは無機塩基
物質があげられる。その使用量は特に制限されないが、
通常アルコール類(II)に対して1〜6当量倍である
。
溶媒として有機アミンを使用する場合は、該アミンが触
媒として作用することもある。
媒として作用することもある。
又、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸等の
酸類を触媒として用いることもできる。
酸類を触媒として用いることもできる。
触媒の使用量はアシル化剤の種類と使用する触媒の組合
わせ等によっても異なり、必ずしも特定できないが、た
とえばアシル化剤として酸ハライドを使用する場合には
、当該酸ハライドに対して1当量倍以上使用される。
わせ等によっても異なり、必ずしも特定できないが、た
とえばアシル化剤として酸ハライドを使用する場合には
、当該酸ハライドに対して1当量倍以上使用される。
反応温度は通常−80℃〜100℃であるが、好ましく
は一20℃〜90°Cである。
は一20℃〜90°Cである。
反応時間は特に制限されず、原料のアルコール類(旬が
消失した時点を反応の終点とすることができる。
消失した時点を反応の終点とすることができる。
反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、濃
縮、再結晶等の操作によりベンゼン誘導体−を収率よく
得ることができ、これは必要によりカラムクロマトグラ
フィーなどで精製することもできるが、次工程へは通常
、未精製のままで使用する。
縮、再結晶等の操作によりベンゼン誘導体−を収率よく
得ることができ、これは必要によりカラムクロマトグラ
フィーなどで精製することもできるが、次工程へは通常
、未精製のままで使用する。
第2工程は、上記で得られたベンゼン誘導体(財)を溶
媒中でアセチル化して一般式(Vl(式中 R7は低級
アルキル基を示し、nは1〜5の整数である。) で示されるエステル類を得る工程である。
媒中でアセチル化して一般式(Vl(式中 R7は低級
アルキル基を示し、nは1〜5の整数である。) で示されるエステル類を得る工程である。
このアセチル化は通常のフリーデルクラフト反応が適用
される。アセチル化に使用される酢酸およびその誘導体
としては、酢酸、アセチルクロリドおよびアセチルプロ
ミド等があげられ、これらのアセチル化剤の使用量は、
ベンゼン誘導体(5)に対して1倍モル以上必要であり
、上限は特に制限されないが、好ましくは8倍モル以下
である。
される。アセチル化に使用される酢酸およびその誘導体
としては、酢酸、アセチルクロリドおよびアセチルプロ
ミド等があげられ、これらのアセチル化剤の使用量は、
ベンゼン誘導体(5)に対して1倍モル以上必要であり
、上限は特に制限されないが、好ましくは8倍モル以下
である。
アセチル化に使用される触媒は、通常のフリーデルクラ
フト反応に用いられる触媒が使用され、かかる触媒とし
ては、塩化アルミ、臭化アルミ、塩化亜鉛、臭化亜鉛、
四塩化チタン、ポリリン酸、三フッ化ホウ素等が例示さ
れる。これらの使用量は、ベンゼン誘導体(111に対
して0.8〜8倍モル使用される。溶媒としてはジクロ
ルエタン等の反応に不活性なハロゲン化炭化水素などが
挙げられる。溶muは特に制限されない。
フト反応に用いられる触媒が使用され、かかる触媒とし
ては、塩化アルミ、臭化アルミ、塩化亜鉛、臭化亜鉛、
四塩化チタン、ポリリン酸、三フッ化ホウ素等が例示さ
れる。これらの使用量は、ベンゼン誘導体(111に対
して0.8〜8倍モル使用される。溶媒としてはジクロ
ルエタン等の反応に不活性なハロゲン化炭化水素などが
挙げられる。溶muは特に制限されない。
反応温度は通常−80〜160℃、好ましくは一10〜
100’Cである。
100’Cである。
反応時間は特に制限されない。
このようにして得られた反応混合物から、分液、濃縮、
蒸留、結晶化等の操作により、エステル11(V)が収
率よく得られ、これは必要により更にカラムクロマトグ
ラフィー等で精製することもできるが、次工程へは通常
、未精製のままで使用する。
蒸留、結晶化等の操作により、エステル11(V)が収
率よく得られ、これは必要により更にカラムクロマトグ
ラフィー等で精製することもできるが、次工程へは通常
、未精製のままで使用する。
第8工程は、上記で得られたエステル類(V)に、該エ
ステル類の鏡像体のどちらか一方のみを加水分解する能
力を有するエステラーゼを用いて(式中、nは前記と同
じ意味であり、木口は不斉炭素原子であることを示す
) で示される光学活性なアルコール類を得ろ工程である。
ステル類の鏡像体のどちらか一方のみを加水分解する能
力を有するエステラーゼを用いて(式中、nは前記と同
じ意味であり、木口は不斉炭素原子であることを示す
) で示される光学活性なアルコール類を得ろ工程である。
尚、本発明におけるエステラーゼとはリパーゼを食む広
義のエステラーゼを意味する。
義のエステラーゼを意味する。
この反応で用いら汽るエステラーゼを生産する微生物と
しては、エステルff(V)を不斉加水分解する能力を
有するエステラーゼを生産する微生物であればよく、特
に限定されるものではない。
しては、エステルff(V)を不斉加水分解する能力を
有するエステラーゼを生産する微生物であればよく、特
に限定されるものではない。
このような微生物の具体例としては、たとえばエンテロ
バクタ−属、アルスロバクタ−属、ブレビバクテリウム
属、シュードモノ金属、アルカリ土類金属、芝クロコツ
カス属、りgモバクテリウム属、【クロバクテリウム属
、コリネバクテリウム属、バシルス属、ラクトパシルス
属、トリコデルマ属、キャンディダ属、号ツカト ロミセス属、ロドトルラ属、クリプ尊コツカス属、トル
ロブレス属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギル
ス属、リゾプス属、ムコール属、オーレオバレディウム
属、アクチノムコール属、ノカルデイア属、ストレプト
ミセス属、ハンゼヌラ属、アクロモバクタ−属に属する
微たとえば、滅−した液体培地〔かび類、酵母頻用には
麦芽エキス・酵母エキス培地(水11にペプトン5F、
グルコース10)、麦芽エキスSP、酵母エキス8?を
溶解し、pH6,5とする)、細菌用には加糖ブイヨン
培地(水lオ化グルコース10?、ペプトン5N、肉エ
キス5t、N&Cl8Pを溶解し、pH7,2とする)
〕に微生物を接種し、通常20〜40℃で1〜8日間往
復振盪培養をするξとによゆ行なわれ、また必要に応じ
て固体培養を行なってもよい。
バクタ−属、アルスロバクタ−属、ブレビバクテリウム
属、シュードモノ金属、アルカリ土類金属、芝クロコツ
カス属、りgモバクテリウム属、【クロバクテリウム属
、コリネバクテリウム属、バシルス属、ラクトパシルス
属、トリコデルマ属、キャンディダ属、号ツカト ロミセス属、ロドトルラ属、クリプ尊コツカス属、トル
ロブレス属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギル
ス属、リゾプス属、ムコール属、オーレオバレディウム
属、アクチノムコール属、ノカルデイア属、ストレプト
ミセス属、ハンゼヌラ属、アクロモバクタ−属に属する
微たとえば、滅−した液体培地〔かび類、酵母頻用には
麦芽エキス・酵母エキス培地(水11にペプトン5F、
グルコース10)、麦芽エキスSP、酵母エキス8?を
溶解し、pH6,5とする)、細菌用には加糖ブイヨン
培地(水lオ化グルコース10?、ペプトン5N、肉エ
キス5t、N&Cl8Pを溶解し、pH7,2とする)
〕に微生物を接種し、通常20〜40℃で1〜8日間往
復振盪培養をするξとによゆ行なわれ、また必要に応じ
て固体培養を行なってもよい。
また、これらの微生物起源−のエステラーゼのなかには
市販されているものがあり、容易に入手することができ
る。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下
のものが挙げられる。
市販されているものがあり、容易に入手することができ
る。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下
のものが挙げられる。
シュードモナス属のリパーゼ〔リパーゼP(大野製薬製
) ) 、アスペルギルス属のリパーゼ〔リパーゼAP
(大野製薬製)〕、ムコール属のリパーゼ〔リパーゼM
−AP(大野製薬製)〕、キャンディダ・シリンドラッ
セのリパーゼ〔リパーゼMY(6糖産業製〕〕、アルカ
リ土類金属のリパーゼ〔リパーゼPL(6糖産業製)〕
、〕アクロモバクターのリパーゼ〔リパーゼAL(6糖
産業製)〕、〕アルスロバクターのリパーゼ〔リパーゼ
合同BSL(合同油精製)〕、クロモバクテリウム属の
リパーゼ(東洋醸造l)、リゾプス・デレマーのリパー
ゼ〔タリパーゼ(田辺製薬!!り)、リゾプス属のリパ
ーゼ〔リパーゼサイケン(大阪細菌研究所)〕。
) ) 、アスペルギルス属のリパーゼ〔リパーゼAP
(大野製薬製)〕、ムコール属のリパーゼ〔リパーゼM
−AP(大野製薬製)〕、キャンディダ・シリンドラッ
セのリパーゼ〔リパーゼMY(6糖産業製〕〕、アルカ
リ土類金属のリパーゼ〔リパーゼPL(6糖産業製)〕
、〕アクロモバクターのリパーゼ〔リパーゼAL(6糖
産業製)〕、〕アルスロバクターのリパーゼ〔リパーゼ
合同BSL(合同油精製)〕、クロモバクテリウム属の
リパーゼ(東洋醸造l)、リゾプス・デレマーのリパー
ゼ〔タリパーゼ(田辺製薬!!り)、リゾプス属のリパ
ーゼ〔リパーゼサイケン(大阪細菌研究所)〕。
また、動物・植物エステラーゼを用いることもでき、こ
れらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを挙
げるξとができる。
れらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを挙
げるξとができる。
ステアプシン、パンクレアチン、ブタ肝臓エステラーゼ
、Wheat Germエステラーゼ。
、Wheat Germエステラーゼ。
この反応で用いられるエステラーゼとしては動物、植物
、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態と
しては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培養液
、培養物、菌体、培養1液及びそれらを処理した物など
種々の形態で必要に応じて用いることが′Qき、酵素と
微生物を組合わせて用いることもできる。あるいはまた
、樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌体として用
いることもできる。
、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態と
しては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培養液
、培養物、菌体、培養1液及びそれらを処理した物など
種々の形態で必要に応じて用いることが′Qき、酵素と
微生物を組合わせて用いることもできる。あるいはまた
、樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌体として用
いることもできる。
不斉加水分解反応は、原料エステル類(■と上記酵素も
しくは微生物の混合物を、通常緩衝液中で激しく攪拌す
ること暑ζよって行われる。
しくは微生物の混合物を、通常緩衝液中で激しく攪拌す
ること暑ζよって行われる。
緩衝液としては、通常用いられるリン酸ナトリウム、リ
ン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリウ
ム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が用
いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではpH8〜11.好アルカリ性でな
い微生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエポ ステラーゼではpH5〜8だ好ましい。濃度は通常0.
05〜2M、好ましくは0.05〜0.6Mの範囲であ
る。
ン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリウ
ム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が用
いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではpH8〜11.好アルカリ性でな
い微生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエポ ステラーゼではpH5〜8だ好ましい。濃度は通常0.
05〜2M、好ましくは0.05〜0.6Mの範囲であ
る。
反応温度は通常lO〜60″Cであり、反応時間は一般
的化は10〜70時間であるが、これに限定されること
はない。
的化は10〜70時間であるが、これに限定されること
はない。
なお、この不斉加水分解反応でリパーゼとしてシュード
モナス属あるいはアルスロバクタ−属に属するリパーゼ
を用いる場合には比較的高い光学純度で光学活性なアル
コ−、ル類(ロ)を得ることができる。
モナス属あるいはアルスロバクタ−属に属するリパーゼ
を用いる場合には比較的高い光学純度で光学活性なアル
コ−、ル類(ロ)を得ることができる。
また、不斉加水分解の際、緩衝液に加えてトルエン、ク
ロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジクロルメタン
等の反応化不活性な有機溶媒を使用するξともでき、こ
れらを使用すること化よって不斉加水分解を有利に行う
ことができる。
ロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジクロルメタン
等の反応化不活性な有機溶媒を使用するξともでき、こ
れらを使用すること化よって不斉加水分解を有利に行う
ことができる。
かかる不斉加水分解反応により、原料エステル類(支)
の光学活性体のいずれか一方のみが加水分解されて、一
般式(ロ)で示される光学活性なアルコール類が生成し
、一方、原料エステル類(V)のうちの他方の光学活性
体である光学活性なエステル類は加水分解残としてその
まま残存することになる。
の光学活性体のいずれか一方のみが加水分解されて、一
般式(ロ)で示される光学活性なアルコール類が生成し
、一方、原料エステル類(V)のうちの他方の光学活性
体である光学活性なエステル類は加水分解残としてその
まま残存することになる。
このような不斉加水分解反応終了後、反応液をたとえば
メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエーテル
等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶媒を留去した
のち1!1縮残渣をカラムクロマトグラフィーで処理す
る等の方法により不斉加水分解生成物である光学活性な
アルコール類(7)と不斉加水分解残である光学活性な
エステル類〔原料エステル類(V)中の光学活性体のう
ち加水分解されなかったもの〕を分離することができる
。
メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエーテル
等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶媒を留去した
のち1!1縮残渣をカラムクロマトグラフィーで処理す
る等の方法により不斉加水分解生成物である光学活性な
アルコール類(7)と不斉加水分解残である光学活性な
エステル類〔原料エステル類(V)中の光学活性体のう
ち加水分解されなかったもの〕を分離することができる
。
ここで得られた光学活性なエステル類は必要に応じて更
に加水分解し、先に得た光学活性なアルコール類(ロ)
とは対掌体の光学活性なアルコール類(ロ)とすること
ができる。
に加水分解し、先に得た光学活性なアルコール類(ロ)
とは対掌体の光学活性なアルコール類(ロ)とすること
ができる。
第4工程は、上記で得られた光学活性なアルコール類(
ロ)を、一般式(匍 R−Y(■) (式中、Rはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素
数1〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を
示し、Yはハロゲン原子または一08O2R”’を示す
。ここでR″′は低級アルキル基または置換されていて
もよいフェニル基を示す。) で示されるアルキル化剤と反応させる工程である。
ロ)を、一般式(匍 R−Y(■) (式中、Rはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素
数1〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を
示し、Yはハロゲン原子または一08O2R”’を示す
。ここでR″′は低級アルキル基または置換されていて
もよいフェニル基を示す。) で示されるアルキル化剤と反応させる工程である。
この反応は、通常塩基性物質の存在下に行われ、塩基性
物質としては、たとえば水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのごときアルカリ金属水素化物、リチウム、ナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウムエチラー
ト、ナトリウムメチラート等のアルカリ金属アルコラー
ド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金
属、ブチルリチウム等の有機金属などが例示される。
物質としては、たとえば水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのごときアルカリ金属水素化物、リチウム、ナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウムエチラー
ト、ナトリウムメチラート等のアルカリ金属アルコラー
ド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金
属、ブチルリチウム等の有機金属などが例示される。
かかる塩基性物質は光学活性なアルコール類(7)に対
して1当量倍以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは8当量倍以下である。
して1当量倍以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは8当量倍以下である。
この反応で使用されるアルキル、止剤(匍とは、以下に
例示されるようなハロゲン原子で置換されていてもよい
炭素数1〜2oのアルキル基またはアルコキシアルキル
基を有するクロリド、プロミド、アイオダイド等のハロ
ゲン化物あるいはスルホン酸エステル類(メタンスルホ
ン酸エステル、エタンスルホン酸エステル、ベンゼンス
ルホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステル等)で
ある1、 前記のハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜
20のアルキル基またはアルコキシアルキル基としては
次のものがあげられる。
例示されるようなハロゲン原子で置換されていてもよい
炭素数1〜2oのアルキル基またはアルコキシアルキル
基を有するクロリド、プロミド、アイオダイド等のハロ
ゲン化物あるいはスルホン酸エステル類(メタンスルホ
ン酸エステル、エタンスルホン酸エステル、ベンゼンス
ルホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステル等)で
ある1、 前記のハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜
20のアルキル基またはアルコキシアルキル基としては
次のものがあげられる。
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、づノナデシル
、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデ
シル、エイコシル、メトキシメチル、メトキシエチル、
メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチル
、メトキシヘキシル、メトキシへブチル、メトキシオク
チル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチ
ル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキシへ
ブチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エトキシ
デシル、プロポキシメチル、プロ4eキシエチル、プロ
ポキシプロビル、プロポキシブチル、プロポキシペンチ
ル、プロポキシヘキシル、プロポキシヘプチル、プロポ
キシオクチル、プロポキシノニル、プロポキシデシル、
ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシプロピル、
ブトキシブチル、ブトキシペンチル、ブトキシヘキシル
、ブトキシヘプチル、ブトキシオクチル、ブトキシノニ
ル、ブトキシデシル、ベンチルオキシメチル、ペンチル
オキシエチル、ペンチルオキシプロピル、ペンチルオキ
シブチル、ペンチルオキシペンチル、ペンチルオキシヘ
キシル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキシデシ
ル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル、ヘ
キシルオキシプロピル、ヘキシルオキオ シブチル、ヘキシルへキシペンチル、ヘキシルオキシヘ
キシル、ヘキシルオキシオクチル、ヘキシルオキシノニ
ル、ヘキシルオキシデシル、ヘプチルオキシメチル、ヘ
プチルオキシエチル、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチ
ルオキシブチル、ヘプチルオキシペンチル、オクチルオ
キシメチル、オクチルオキシエチル、オクチルオキシプ
ロピル、デシルオキシメチル、デシルオキシエチル、デ
シルオキシプロビル、1−メチルエチル、1−メチルプ
ロピル、1−メチルブチル、1−メチルペンチル、1−
メチルヘキシル、1−メチルヘプチル、1−メチルオク
チル、2−メチルエチル、2−メチルブチル、2.8−
ジメチルブチル、2.8.8−トリメチルブチル、2−
メチルペンチル、8−メチルペンチル、2.8−ジメチ
ルペンチル、2,4−ジメチルペンチル、2.8,8.
4−テトラメチルペンチル、2−メチルヘキシル、8−
メチルヘキシル、4−メチルヘキシル、2.6−ジメチ
ルへキシル、2−メチルヘプチル、2−メチルオクチル
、2−トリハロメチルペンチル、2−トリハロメチルヘ
キシル、2−トリハロメチルヘプチル、2−ハロエチル
、2−ハロプロピル、8−ハロブロビル、8−ハロー2
−メチルプロピル、2,8−ジハロプロピル、2−ハロ
ブチル、8−ハロブチル、4−ハロブチル、2mB
’;ハロブチル、2.4−ジハロブチル、8.4−ジハ
ロブチル、2−ハロー8−メチルブチル、2−ハロー8
,8−ジメチルブチル、2−ハロペンチル、8−ハロペ
ンチル、4−ハロペンチル、5−ハロペンチル、2,4
−ジハロペンチル、2,5−ジハロペンチル、2−ハロ
ー8−メチルペ・ブチル、2−ハロー4−メチルペンチ
ル、2−ハロー8−モノハロメチル−4−メチルペンチ
ル、2−ハロヘキシル、8−ハロヘキシル、4−ハロヘ
キシル、5−ハロヘキシル、6−ハロヘキシル、2−ハ
ロオクチル、2−ハロオクチル(但し、上記の例示中ハ
ロとは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表わすが、実
用上はフッ素または塩素が好ましい。)等。
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、づノナデシル
、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデ
シル、エイコシル、メトキシメチル、メトキシエチル、
メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチル
、メトキシヘキシル、メトキシへブチル、メトキシオク
チル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチ
ル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキシへ
ブチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エトキシ
デシル、プロポキシメチル、プロ4eキシエチル、プロ
ポキシプロビル、プロポキシブチル、プロポキシペンチ
ル、プロポキシヘキシル、プロポキシヘプチル、プロポ
キシオクチル、プロポキシノニル、プロポキシデシル、
ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシプロピル、
ブトキシブチル、ブトキシペンチル、ブトキシヘキシル
、ブトキシヘプチル、ブトキシオクチル、ブトキシノニ
ル、ブトキシデシル、ベンチルオキシメチル、ペンチル
オキシエチル、ペンチルオキシプロピル、ペンチルオキ
シブチル、ペンチルオキシペンチル、ペンチルオキシヘ
キシル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキシデシ
ル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル、ヘ
キシルオキシプロピル、ヘキシルオキオ シブチル、ヘキシルへキシペンチル、ヘキシルオキシヘ
キシル、ヘキシルオキシオクチル、ヘキシルオキシノニ
ル、ヘキシルオキシデシル、ヘプチルオキシメチル、ヘ
プチルオキシエチル、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチ
ルオキシブチル、ヘプチルオキシペンチル、オクチルオ
キシメチル、オクチルオキシエチル、オクチルオキシプ
ロピル、デシルオキシメチル、デシルオキシエチル、デ
シルオキシプロビル、1−メチルエチル、1−メチルプ
ロピル、1−メチルブチル、1−メチルペンチル、1−
メチルヘキシル、1−メチルヘプチル、1−メチルオク
チル、2−メチルエチル、2−メチルブチル、2.8−
ジメチルブチル、2.8.8−トリメチルブチル、2−
メチルペンチル、8−メチルペンチル、2.8−ジメチ
ルペンチル、2,4−ジメチルペンチル、2.8,8.
4−テトラメチルペンチル、2−メチルヘキシル、8−
メチルヘキシル、4−メチルヘキシル、2.6−ジメチ
ルへキシル、2−メチルヘプチル、2−メチルオクチル
、2−トリハロメチルペンチル、2−トリハロメチルヘ
キシル、2−トリハロメチルヘプチル、2−ハロエチル
、2−ハロプロピル、8−ハロブロビル、8−ハロー2
−メチルプロピル、2,8−ジハロプロピル、2−ハロ
ブチル、8−ハロブチル、4−ハロブチル、2mB
’;ハロブチル、2.4−ジハロブチル、8.4−ジハ
ロブチル、2−ハロー8−メチルブチル、2−ハロー8
,8−ジメチルブチル、2−ハロペンチル、8−ハロペ
ンチル、4−ハロペンチル、5−ハロペンチル、2,4
−ジハロペンチル、2,5−ジハロペンチル、2−ハロ
ー8−メチルペ・ブチル、2−ハロー4−メチルペンチ
ル、2−ハロー8−モノハロメチル−4−メチルペンチ
ル、2−ハロヘキシル、8−ハロヘキシル、4−ハロヘ
キシル、5−ハロヘキシル、6−ハロヘキシル、2−ハ
ロオクチル、2−ハロオクチル(但し、上記の例示中ハ
ロとは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表わすが、実
用上はフッ素または塩素が好ましい。)等。
なお、一般式(■)うとおいて置換基Rが臭素もしくは
沃素原子を含むアルキル基またはアルコキシアルキル基
の場合には、一般的にアルキル化剤としては反応収率の
面からスルホン酸エステル類が好ましく用いられる。
沃素原子を含むアルキル基またはアルコキシアルキル基
の場合には、一般的にアルキル化剤としては反応収率の
面からスルホン酸エステル類が好ましく用いられる。
但し、′J1換基Rがフッ素もしくは塩素原子を含むア
ルキル基またはアルコキシアルキル基である場合には、
アルキル化剤がプロミドまたはアイオダイドであっても
反応性の差により問題なく使用することができる。
ルキル基またはアルコキシアルキル基である場合には、
アルキル化剤がプロミドまたはアイオダイドであっても
反応性の差により問題なく使用することができる。
また、一般式(■)において、置換基Rが不斉炭素原子
を含む光学活性基である場合、該光学活性基を有するハ
ロゲン化物(クロリド、プロミドまたはアイオダイド)
あるいはスルホン酸エステル類は相当する光学活性アル
コールから誘導され、葭光学活性アルコールのうちある
ものは、対応するケトンの不斉金属触媒または微生物も
しくは酵素による不斉還元によゆ容易に得られる。また
あるものは、天然に存在するか、または分割により得ら
れる次のような光学活性アミノ酸および光学活性オキシ
酸から誘導できる。
を含む光学活性基である場合、該光学活性基を有するハ
ロゲン化物(クロリド、プロミドまたはアイオダイド)
あるいはスルホン酸エステル類は相当する光学活性アル
コールから誘導され、葭光学活性アルコールのうちある
ものは、対応するケトンの不斉金属触媒または微生物も
しくは酵素による不斉還元によゆ容易に得られる。また
あるものは、天然に存在するか、または分割により得ら
れる次のような光学活性アミノ酸および光学活性オキシ
酸から誘導できる。
バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、
スレオニン、アロスレオニン、ホモセリン、アロイソロ
イシン、 tert−ロイシン、2−アミノ酪酸、ノ
ルバリン、ノルロイシン、オルニチン、リジン、ヒドロ
キシリジン、フェニルグリシン、アスパラギン酸、グル
タ蔵ン酸、マンデル酸、トロパ酸、8−ヒドロキシ酪酸
、リンゴ酸、酒石酸、イソプロピルリンゴ酸等。
スレオニン、アロスレオニン、ホモセリン、アロイソロ
イシン、 tert−ロイシン、2−アミノ酪酸、ノ
ルバリン、ノルロイシン、オルニチン、リジン、ヒドロ
キシリジン、フェニルグリシン、アスパラギン酸、グル
タ蔵ン酸、マンデル酸、トロパ酸、8−ヒドロキシ酪酸
、リンゴ酸、酒石酸、イソプロピルリンゴ酸等。
アルキル化剤(■)の使用量は、光学活性なアルコール
Wi(ロ)に対して1当量倍以上任意!あるが、通常は
1〜10当景倍の範囲である。
Wi(ロ)に対して1当量倍以上任意!あるが、通常は
1〜10当景倍の範囲である。
反応溶媒としては、たとえばテトラヒドロフラン、エチ
ルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン
、ベンゼン、クロロホルム、クロルベンゼン、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルム
アミド、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、
エーテル、ハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒
の単独または混合物が使用され、その使用量については
特に制限されない。
ルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン
、ベンゼン、クロロホルム、クロルベンゼン、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルム
アミド、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、
エーテル、ハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒
の単独または混合物が使用され、その使用量については
特に制限されない。
また、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリル
アミド、N−メチルピロリドン等の極性溶媒を使用する
こともできる。
アミド、N−メチルピロリドン等の極性溶媒を使用する
こともできる。
反応は、通常−50°C〜120°C1好ましくは一8
0℃〜100℃で行う。
0℃〜100℃で行う。
反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、濃
縮及び精製等の操作により光学活性なアセトフェノン誘
導体(一般式(1)においてXがCHaCO−である)
を得ることができる。
縮及び精製等の操作により光学活性なアセトフェノン誘
導体(一般式(1)においてXがCHaCO−である)
を得ることができる。
いることもできる。
この場合、酸化銀は光学活性なアルコール類(ロ)に対
して1当量倍以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは一5当量倍以下である。
して1当量倍以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは一5当量倍以下である。
反応溶媒としては、上記アルキル化剤を溶媒として用い
ることもでき、その他、たとえばテトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンアセトン、メチルエチルケ
トン、ベンゼン、トルエン、ヘキサン等のエーテル、ケ
トン、炭化水素系溶媒等の反応に不活性な溶媒の単独ま
たは混合物を使用してもよい。
ることもでき、その他、たとえばテトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンアセトン、メチルエチルケ
トン、ベンゼン、トルエン、ヘキサン等のエーテル、ケ
トン、炭化水素系溶媒等の反応に不活性な溶媒の単独ま
たは混合物を使用してもよい。
反応は、通常0〜150°C1好ましくは、20〜10
0℃で行う。
0℃で行う。
反応時間は通常1時間〜7日間である。
反応終了後、濾過により銀塩をとりのぞいたのち、通常
の分離手段、たとえば、抽出、分液、濃縮、カラムクロ
マトグラフィー、蒸留等の繰合には、前記の塩基性物質
に代えて酸化銀を用ることができる。
の分離手段、たとえば、抽出、分液、濃縮、カラムクロ
マトグラフィー、蒸留等の繰合には、前記の塩基性物質
に代えて酸化銀を用ることができる。
次に、一般式(1)において、XがHOOC−CH8C
OO−およびHO−である光学活性なベンゼン誘導体の
製法について述べる。
OO−およびHO−である光学活性なベンゼン誘導体の
製法について述べる。
第1に、XがHOOC−である光学活性なベンゼン誘導
体は、前記の光学活性なアセトフェノができる。
体は、前記の光学活性なアセトフェノができる。
この反応で用いられる酸化剤としては、通常アセチル基
を酸化してカルボン酸とするものであれば特に制限なく
用いることができ、かかる酸化剤としては、たとえば重
クロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム、過マンガン
酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム、次亜塩素酸カリ
ウム、次亜塩素酸ナトリウム、次亜臭素酸カリウム、次
亜臭素酸ナトリウム等が例示される。
を酸化してカルボン酸とするものであれば特に制限なく
用いることができ、かかる酸化剤としては、たとえば重
クロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム、過マンガン
酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム、次亜塩素酸カリ
ウム、次亜塩素酸ナトリウム、次亜臭素酸カリウム、次
亜臭素酸ナトリウム等が例示される。
酸化剤の使用量は光学活性なアセトフェノン誘導体に対
して1当量倍以上必要であり、上限については特番こ制
限されないが、好ましくは)O当量倍以下である。
して1当量倍以上必要であり、上限については特番こ制
限されないが、好ましくは)O当量倍以下である。
この反応で使用される溶媒としては、通常酸化反応に不
活性な溶媒が使用され、たとえば水、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、N−メチルピロリドン等が例示される
。
活性な溶媒が使用され、たとえば水、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、N−メチルピロリドン等が例示される
。
反応温度は、通常−20〜180°C1好ましくは一1
0〜100″Cである。
0〜100″Cである。
反応終了後、通常の分離手段、濾過、酸析、抽出、分散
、濃縮等の操作により光学活性なベンゼン誘導体(一般
式(1)においてXがHOOC−である)を収率よく得
ることができ、これは必要に応じてカラムクロマトグラ
フィー、再結晶等により精製することができる。
、濃縮等の操作により光学活性なベンゼン誘導体(一般
式(1)においてXがHOOC−である)を収率よく得
ることができ、これは必要に応じてカラムクロマトグラ
フィー、再結晶等により精製することができる。
第2に、XがCHa COO−である光学活性なベンゼ
ン誘導体(特に、光学活性なアセトキシベンゼン誘導体
と称する。)は、前記の光学活性なアセトフェノン誘導
体(一般式(1)において、XがCH,Co−である1
をバイヤービリガー酸化することにより製造することが
できる。
ン誘導体(特に、光学活性なアセトキシベンゼン誘導体
と称する。)は、前記の光学活性なアセトフェノン誘導
体(一般式(1)において、XがCH,Co−である1
をバイヤービリガー酸化することにより製造することが
できる。
上記のバイヤービリガー酸化反応は上記の光学活性なア
セトフェノン誘導体を酸化剤と処理することにより行わ
れる。
セトフェノン誘導体を酸化剤と処理することにより行わ
れる。
酸化剤としては、たとえば過酢酸、過ギ酸、メタクロル
過安息香酸、過安息香酸等の過酸が例示される、かかる
過酸は、たとえば対応する酸と過酸化水素から生じせし
めることができ、反応系中で過酸を合成しながら、バイ
ヤービリガー酸化を行うこともできる。
過安息香酸、過安息香酸等の過酸が例示される、かかる
過酸は、たとえば対応する酸と過酸化水素から生じせし
めることができ、反応系中で過酸を合成しながら、バイ
ヤービリガー酸化を行うこともできる。
過酸の使用量は、通常、光学活性なアセトフェノン誘導
体に対して1当量倍以上必要であり、上限については特
に制限されないが、好ましくは2当量倍以下である。
体に対して1当量倍以上必要であり、上限については特
に制限されないが、好ましくは2当量倍以下である。
この反応で使用される溶媒としては、通常酸化反応に不
活性な溶媒、たとえばジクロルメタン、ジクロルエタン
、クロロホルム、クロルベンゼン、ベンゼン、トルエン
、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等のハロゲン化
炭化水魚芳香族あるいは脂肪族炭化水素等の反応に不活
性な溶媒の単独または混合物が挙げられる。
活性な溶媒、たとえばジクロルメタン、ジクロルエタン
、クロロホルム、クロルベンゼン、ベンゼン、トルエン
、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等のハロゲン化
炭化水魚芳香族あるいは脂肪族炭化水素等の反応に不活
性な溶媒の単独または混合物が挙げられる。
反応は通常−20℃〜180℃、好ましくは−io@c
〜100℃で行う。
〜100℃で行う。
反応終了後、通常の分離手段、たとえば過剰の過酸の除
去、濾過、抽出、分液、濃縮等の操作により、光学活性
なアセトキシベンゼン誘導体が得られるが、ξれは必要
に応じてカラムクロマトグラフィー等により精製する仁
とができる。
去、濾過、抽出、分液、濃縮等の操作により、光学活性
なアセトキシベンゼン誘導体が得られるが、ξれは必要
に応じてカラムクロマトグラフィー等により精製する仁
とができる。
最後に、一般式(す1ζおいてXがHO−である光学活
性なベンゼン誘導体は、−上記のバイヤービリガー酸化
により得られた一般式(1)においてXがCHaCOO
−である光学活性なベンゼン誘導体を加水分解すること
暑ζより製造することができる。
性なベンゼン誘導体は、−上記のバイヤービリガー酸化
により得られた一般式(1)においてXがCHaCOO
−である光学活性なベンゼン誘導体を加水分解すること
暑ζより製造することができる。
この加水分解反応は、水の存在下に、通常は酸もしくは
アルカリを共存させて行われる。
アルカリを共存させて行われる。
ここで用いられる酸としては、たとえば、硫酸、リン酸
、塩酸のごとき無機酸、トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸のごとき有機酸があげられる。アルカリとして
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ム、炭酸カリウム、1,8−ジアザビシクロ(5,4゜
0)7−ウンデセン等の有機および無機塩基があげられ
る。
、塩酸のごとき無機酸、トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸のごとき有機酸があげられる。アルカリとして
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ム、炭酸カリウム、1,8−ジアザビシクロ(5,4゜
0)7−ウンデセン等の有機および無機塩基があげられ
る。
かかる酸もしくはアルカリの使用量は以下に述べるとお
りである。酸については原料化合物・1モルに対して0
.01倍モルから10倍モルが好ましく用いられ、アル
カリの場合には、原料化合物に対して少くと61倍モル
以上、好ましくは10倍モル以下である。もちろんこれ
以上の使用量でもさしつかえない。これらは通常溶媒と
ともにもちいられ、かかる溶媒としては以下のものが例
示される。
りである。酸については原料化合物・1モルに対して0
.01倍モルから10倍モルが好ましく用いられ、アル
カリの場合には、原料化合物に対して少くと61倍モル
以上、好ましくは10倍モル以下である。もちろんこれ
以上の使用量でもさしつかえない。これらは通常溶媒と
ともにもちいられ、かかる溶媒としては以下のものが例
示される。
水、メタノール、エタノール、プロパツール、アセトン
、メチルエチルケトン、クロロホルム、ジクロルメタン
、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホ
ルムアミド、N−メチルピロリドン等の脂肪族もしくは
芳香族炭化水域、エーテル、アルコール、ケトン、アミ
ドあるいはハロゲン化炭化水素等の反応iζ不活性な溶
媒の単独または混合物が使用され、その使用量について
は特に制限されない。
、メチルエチルケトン、クロロホルム、ジクロルメタン
、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホ
ルムアミド、N−メチルピロリドン等の脂肪族もしくは
芳香族炭化水域、エーテル、アルコール、ケトン、アミ
ドあるいはハロゲン化炭化水素等の反応iζ不活性な溶
媒の単独または混合物が使用され、その使用量について
は特に制限されない。
反応温度は、通常−80℃〜150℃であるが、好まし
くは一20℃〜100℃である。
くは一20℃〜100℃である。
反応時間は特に制限されない。反応終了後、通常の分離
手段、たとえば抽出、分液、濃縮、再結晶等により一般
式(1)においてXがHO−である光学活性なベンゼン
誘導体が収率よく得られ、これは必要により更にカラム
クロマトグラフィー等で精製することができる。
手段、たとえば抽出、分液、濃縮、再結晶等により一般
式(1)においてXがHO−である光学活性なベンゼン
誘導体が収率よく得られ、これは必要により更にカラム
クロマトグラフィー等で精製することができる。
以上の製法により得られる一般式(1)で示される光学
活性なベンゼン誘導体を以下に例示する。
活性なベンゼン誘導体を以下に例示する。
4−(2−アルコキシプロピル)安息香酸、4−(2−
アルコキシプロピルラフエノール、4−(2−1ルコキ
シブロビル)アセトフェノン、 1−アセトキシ−4−(2−アルコキシプロピル)ベン
ゼン、 4−(8−アルコキシブチル)安息香酸、4−(8−ア
ルコキシブチル)フェノール、4−(8−アルコキシブ
チル)アセトフェノン、 1−アセトキシ−4−(8−アルコキシブチル)ベンゼ
ン、 4−(4−アルコキシペンチル)安Jlit酸、4−(
4−アルコキシペンチル)フェノール、4−(4−アル
コキシペンチル)アセトフェノン、 1−アセトキシ−4−(4−アルコキシペンチル)ベン
ゼン、 4−(5−アルコキシヘキシル)安息香酸、4−(5−
アルコキシヘキシル)フェノール、4−(5−アルコキ
シヘキシル)アセトフェノン、 l−アセトキシ−4−(5−アルコキシヘキシル)ベン
ゼン、 4−(6−アルコキシヘプチル)安息香酸、4−(6−
アルコキシヘプチル)フェノール、4−(6−アルコキ
シヘプチル)アセトフェノン、 1−アセトキシ−4−(う−アルコキシヘプチル)ベン
ゼン。
アルコキシプロピルラフエノール、4−(2−1ルコキ
シブロビル)アセトフェノン、 1−アセトキシ−4−(2−アルコキシプロピル)ベン
ゼン、 4−(8−アルコキシブチル)安息香酸、4−(8−ア
ルコキシブチル)フェノール、4−(8−アルコキシブ
チル)アセトフェノン、 1−アセトキシ−4−(8−アルコキシブチル)ベンゼ
ン、 4−(4−アルコキシペンチル)安Jlit酸、4−(
4−アルコキシペンチル)フェノール、4−(4−アル
コキシペンチル)アセトフェノン、 1−アセトキシ−4−(4−アルコキシペンチル)ベン
ゼン、 4−(5−アルコキシヘキシル)安息香酸、4−(5−
アルコキシヘキシル)フェノール、4−(5−アルコキ
シヘキシル)アセトフェノン、 l−アセトキシ−4−(5−アルコキシヘキシル)ベン
ゼン、 4−(6−アルコキシヘプチル)安息香酸、4−(6−
アルコキシヘプチル)フェノール、4−(6−アルコキ
シヘプチル)アセトフェノン、 1−アセトキシ−4−(う−アルコキシヘプチル)ベン
ゼン。
これらは光学活性体であり、名称中、アルコキシとはハ
ロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1〜20のアルキ
ルオキシ基またはアルコキシアルキルオキシ基を示し、
それらは前述したとおりのものである。
ロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1〜20のアルキ
ルオキシ基またはアルコキシアルキルオキシ基を示し、
それらは前述したとおりのものである。
〈発明の効果〉
本発明の方法によれば、光学活性なベンゼン誘導体(り
を工業的有利に製造することができ、該ベンゼン3導体
(1)は、たとえば次式に示されるような方法により新
規な液晶化合物(劾または(XI)へ導くことができ、
該化合物は強誘電性液晶として非常に優れた性質を有し
ている。
を工業的有利に製造することができ、該ベンゼン3導体
(1)は、たとえば次式に示されるような方法により新
規な液晶化合物(劾または(XI)へ導くことができ、
該化合物は強誘電性液晶として非常に優れた性質を有し
ている。
(ここで、Arはフェニレン基、ビフェニレン基あるい
は複素環基などを示し、Zはアルキル基あるいはアルコ
キシ基などを示す。*印およびnは前記と同じ意味であ
る。)利用することができる。
は複素環基などを示し、Zはアルキル基あるいはアルコ
キシ基などを示す。*印およびnは前記と同じ意味であ
る。)利用することができる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
温度計、攪拌装置を装着した4つロフラスコに4−フェ
ニル−2−ブタノール150PC1モル)トルエン50
0wjとピリジン200dを仕込み、無水酢酸122.
4P(1,2モル)と4−ジメチルアミノピリジンIP
を加えて40〜50℃に温度を保ちながら4時間反応さ
せた。反応終了後、反応混合物を4N塩酸500aJ中
に注ぎ出し、抽出、分液したのち、有機層をIN−塩酸
、水、5%重曹水、水の順に洗浄する。得られた有機層
は減圧下に濃縮して、2−アセトキシ−4−フェニルブ
タン(17−1)189)(収率98.5%)を得た。
ニル−2−ブタノール150PC1モル)トルエン50
0wjとピリジン200dを仕込み、無水酢酸122.
4P(1,2モル)と4−ジメチルアミノピリジンIP
を加えて40〜50℃に温度を保ちながら4時間反応さ
せた。反応終了後、反応混合物を4N塩酸500aJ中
に注ぎ出し、抽出、分液したのち、有機層をIN−塩酸
、水、5%重曹水、水の順に洗浄する。得られた有機層
は減圧下に濃縮して、2−アセトキシ−4−フェニルブ
タン(17−1)189)(収率98.5%)を得た。
次に、無水ジクロルエタン800dに塩化アルミニウム
240F(1,8モル)と塩化アセチル141y−(1
,8モル)を加え、塩化アルミニウムがほとんど溶解す
る(約1時間)まで攪拌する。その後、この溶液を0〜
5℃に冷却し、上で得た(IV−1)178P(0,9
モル)のジクロルエタン(200v)溶液を同温度を保
つようにして滴下する。滴下後、2時間同温度で攪拌し
たのち、反応混合物を水11に注ぎ出し、抽出、分液す
る。有機層は水、596重曹水、水の順に洗浄したのち
、減圧下に溶媒を留去して、黄色油状物質を得た。これ
を減圧蒸留して4−(8−アセトキシブチル) 7 *
ドア z / ン(V 1 ) 149.1F(収率
71%)を得た。l!4点181°C〜184’C/
0.8〜0.4穆Hg ここ1’fiだ(V−1)100fをaN−17ン酸バ
ツフアーIJ!にけんだくさせ、リパーゼ(「アマノP
J)5Fを加えて86±2℃で24時間、激しく攪拌し
た。反応終了後、酢酸エチル500dを加えて濾過した
のち、抽出、分液して得られた有機層は水洗したのち、
減圧下に溶媒を留去する。得られた残渣はカラムクロマ
トグラフィー(溶出液二トルエンー酢酸エチル)にて分
離し、(ト)−4−(8−アセトキシブチル)アセトフ
ェノン51、OF(収率51%)と(→−4−(8−と
ドロキシブチル)アセトフェノン(VI−1)40、O
F(収率48.8%)(g)”=−12,5゜(c−1
、2、CHCJI)を得た。
240F(1,8モル)と塩化アセチル141y−(1
,8モル)を加え、塩化アルミニウムがほとんど溶解す
る(約1時間)まで攪拌する。その後、この溶液を0〜
5℃に冷却し、上で得た(IV−1)178P(0,9
モル)のジクロルエタン(200v)溶液を同温度を保
つようにして滴下する。滴下後、2時間同温度で攪拌し
たのち、反応混合物を水11に注ぎ出し、抽出、分液す
る。有機層は水、596重曹水、水の順に洗浄したのち
、減圧下に溶媒を留去して、黄色油状物質を得た。これ
を減圧蒸留して4−(8−アセトキシブチル) 7 *
ドア z / ン(V 1 ) 149.1F(収率
71%)を得た。l!4点181°C〜184’C/
0.8〜0.4穆Hg ここ1’fiだ(V−1)100fをaN−17ン酸バ
ツフアーIJ!にけんだくさせ、リパーゼ(「アマノP
J)5Fを加えて86±2℃で24時間、激しく攪拌し
た。反応終了後、酢酸エチル500dを加えて濾過した
のち、抽出、分液して得られた有機層は水洗したのち、
減圧下に溶媒を留去する。得られた残渣はカラムクロマ
トグラフィー(溶出液二トルエンー酢酸エチル)にて分
離し、(ト)−4−(8−アセトキシブチル)アセトフ
ェノン51、OF(収率51%)と(→−4−(8−と
ドロキシブチル)アセトフェノン(VI−1)40、O
F(収率48.8%)(g)”=−12,5゜(c−1
、2、CHCJI)を得た。
上で得た(■−1)5.77F−(80ミリモル)に、
ヨウ化プロピル15.8F(90Fリモル)と酸化銀1
8.9Pを加えて、しや光下、室温で4日間攪拌する。
ヨウ化プロピル15.8F(90Fリモル)と酸化銀1
8.9Pを加えて、しや光下、室温で4日間攪拌する。
反応終了後、銀塩をP別したのち、減圧下に濃縮して、
残渣を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出液:トルエンー酢酸エチル)で分離して、←)
−4−(8−プロポキシブチル)アセトフェノン4.5
7 F (収率65%)(d)” = −10,8°(
c=1 、2 、 CHCJIa)を得り た。
残渣を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出液:トルエンー酢酸エチル)で分離して、←)
−4−(8−プロポキシブチル)アセトフェノン4.5
7 F (収率65%)(d)” = −10,8°(
c=1 、2 、 CHCJIa)を得り た。
ここで得た(→−4−(8−プロポキシブチル)アセト
フェノン2.0?を20%水酸化ナトリウム水溶液10
0−と臭素10.9F(68,8?リモル)から調製し
た次亜臭素酸ナトリウム水溶液中にジオキサン100−
とともに加える。室温で1日攪拌したのち、反応混合物
に亜硫酸ナトリウム20Pを加え攪拌、その後、塩酸で
pH1〜2にして、エーテル200tJで抽出する。得
られた有機層を飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去して、(→−
4−(8−プロがキシブチル)安息香酸1、88 P
(収率93%)(a)20= −10,4゜(c=1.
CHCjs)を得た。
フェノン2.0?を20%水酸化ナトリウム水溶液10
0−と臭素10.9F(68,8?リモル)から調製し
た次亜臭素酸ナトリウム水溶液中にジオキサン100−
とともに加える。室温で1日攪拌したのち、反応混合物
に亜硫酸ナトリウム20Pを加え攪拌、その後、塩酸で
pH1〜2にして、エーテル200tJで抽出する。得
られた有機層を飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去して、(→−
4−(8−プロがキシブチル)安息香酸1、88 P
(収率93%)(a)20= −10,4゜(c=1.
CHCjs)を得た。
また、前記で得た(−)−4−(8−プロポキシブチル
)アセトフェノン2.0?をジクロルメタン20mに溶
解し、m−クロ口過安息酸1、2当量(1,77F)を
加えて、室温下、24時間攪拌する。反応終了後、生じ
た沈殿をデ別したのち、トルエン100m/を加えて、
有機層を水洗、6%水酸化ナトリウム水溶液、水の順に
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。有機層から
溶媒を減圧下に留去して、(−)−4−(8−プロポキ
シブチル)アセトキシベンゼン2.09P(収率98%
)(t)”=−10,1° (CW 1 、 CHCj
B )を得た。
)アセトフェノン2.0?をジクロルメタン20mに溶
解し、m−クロ口過安息酸1、2当量(1,77F)を
加えて、室温下、24時間攪拌する。反応終了後、生じ
た沈殿をデ別したのち、トルエン100m/を加えて、
有機層を水洗、6%水酸化ナトリウム水溶液、水の順に
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。有機層から
溶媒を減圧下に留去して、(−)−4−(8−プロポキ
シブチル)アセトキシベンゼン2.09P(収率98%
)(t)”=−10,1° (CW 1 、 CHCj
B )を得た。
この(−)−4−(8−プロポキシブチル)アセトキシ
ベンゼン2.OFをメタノール20d。
ベンゼン2.OFをメタノール20d。
THFIQa#および20%水酸化ナトリウム水溶液t
oyの混合液に加えて室温で6時間攪拌する。反応終了
後、反応液に塩酸を加えてpH2〜8としたのち、エー
テル1O01Llを加えて抽出、分液し、有機層を飽和
食塩水洗浄後、減圧Tmζ溶媒を留去して←)−4−(
8−プロポキシブチル)フェノール1.66F(収率1
00%) ((り D−−9,9°(c = 1 、
CHCj B )、n 20 == 1.4970を得
た。
oyの混合液に加えて室温で6時間攪拌する。反応終了
後、反応液に塩酸を加えてpH2〜8としたのち、エー
テル1O01Llを加えて抽出、分液し、有機層を飽和
食塩水洗浄後、減圧Tmζ溶媒を留去して←)−4−(
8−プロポキシブチル)フェノール1.66F(収率1
00%) ((り D−−9,9°(c = 1 、
CHCj B )、n 20 == 1.4970を得
た。
実施例2〜4
実施例1で得た(VI−1)5.775’(80【リモ
ル)を用い、表−1姿ζ示すアルキル化剤(■)を用い
る以外は同モル数、同量の試剤・溶媒を用いて反応およ
び後処理して表−1に示す結果を得た。
ル)を用い、表−1姿ζ示すアルキル化剤(■)を用い
る以外は同モル数、同量の試剤・溶媒を用いて反応およ
び後処理して表−1に示す結果を得た。
(以下余白)
実施例5
実施例1で得た(ト)−4−(8−アセトキシブチル)
アセトフェノン25Pをメタノール100−とテトラヒ
ドロフラン50mの溶液に溶かし、20%水酸化ナトリ
ウム水溶液50dを加えて、80〜40℃で6時間反応
させる。反応終了後、4N−塩酸でpH8に調整したの
ち、トルエン800mで抽出、分液し、有機層は水洗し
たのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。有機層は減
圧下に濃縮して(→−4−(8−ヒドロキシブチル)ア
セトフェノン(VI−5)20.2P(収率98.5%
)(cg)20= + 11. s°(C= 1 、
CHCfs)を得た。
アセトフェノン25Pをメタノール100−とテトラヒ
ドロフラン50mの溶液に溶かし、20%水酸化ナトリ
ウム水溶液50dを加えて、80〜40℃で6時間反応
させる。反応終了後、4N−塩酸でpH8に調整したの
ち、トルエン800mで抽出、分液し、有機層は水洗し
たのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。有機層は減
圧下に濃縮して(→−4−(8−ヒドロキシブチル)ア
セトフェノン(VI−5)20.2P(収率98.5%
)(cg)20= + 11. s°(C= 1 、
CHCfs)を得た。
ここで得た(VI−5)7.7F(40ミリモル)をジ
メチルホルムアミド40−に溶かし、20−80℃警ζ
て6096水素化ナトリウム8.2P(80tリモル)
を加えて1時間攪拌する。
メチルホルムアミド40−に溶かし、20−80℃警ζ
て6096水素化ナトリウム8.2P(80tリモル)
を加えて1時間攪拌する。
その後、パラトルエンスルホン!22(S−フルオロヘ
プチルエステル11.5P(40tリモル)を加える。
プチルエステル11.5P(40tリモル)を加える。
そのまま2時間反応させたのち、反応液を水200sd
に注ぎ込み、トルエン200dを加えて、抽出、分液し
たのち、さらに有機層を水洗、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。有機層は減圧下に濃縮したのち、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(/1[:)
ルエンー酢酸エチル)で分離、精製して(ト)−4−(
8−(2−フルオロへブチル)オキシブチル1アセトフ
エノン6.66F(収率5496)を得た。
に注ぎ込み、トルエン200dを加えて、抽出、分液し
たのち、さらに有機層を水洗、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。有機層は減圧下に濃縮したのち、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(/1[:)
ルエンー酢酸エチル)で分離、精製して(ト)−4−(
8−(2−フルオロへブチル)オキシブチル1アセトフ
エノン6.66F(収率5496)を得た。
ここで得た(ト)−4−(8−(2−フルオロヘプチル
)オキシブチル1アセトフエノンを用い、実施例1と同
様に反応および後処理して表−2に示す結果を得た。
)オキシブチル1アセトフエノンを用い、実施例1と同
様に反応および後処理して表−2に示す結果を得た。
実施例6
実施例6で得た(W−5)を用い、アルキル化剤として
パラトルエンスルホン酸2(S)−メチルブチルエステ
ル9.7F(40ミリモル)を用いる以外は実施例6と
同様に反応および後処理して表−2に示す結果を得た。
パラトルエンスルホン酸2(S)−メチルブチルエステ
ル9.7F(40ミリモル)を用いる以外は実施例6と
同様に反応および後処理して表−2に示す結果を得た。
実施例7
実施例5で得た(Vl−5)を用い、アルキル化剤とし
てパラトルエンスルホン酸8−エトキシプロピル10.
8P(40tリモル)を用いる以外は実施例6と同様に
反応および後処理して表−2に示す結果を得た。
てパラトルエンスルホン酸8−エトキシプロピル10.
8P(40tリモル)を用いる以外は実施例6と同様に
反応および後処理して表−2に示す結果を得た。
(以下余白)
実施例8
4−フェニル−2−ブタノール(1,0モル)に代えて
、8−フェニル−2−プロパツール186F(1,0モ
ル)を用いる以外は実施例2に基づいて、同様のモル数
、容量の試剤、溶媒を用いて反応をおこない、表−8の
結果を得た。
、8−フェニル−2−プロパツール186F(1,0モ
ル)を用いる以外は実施例2に基づいて、同様のモル数
、容量の試剤、溶媒を用いて反応をおこない、表−8の
結果を得た。
実施例9
4−フェニル−2−ブタノール(1゜0モル)に代えて
、5−フェニル−2−ペンタノール164F(1,0モ
ル)を用いる以外は実施例2に基づいて、同様のモル数
、容量の試剤舎溶媒を用いて反応をおこない、表−8の
結果を得た。
、5−フェニル−2−ペンタノール164F(1,0モ
ル)を用いる以外は実施例2に基づいて、同様のモル数
、容量の試剤舎溶媒を用いて反応をおこない、表−8の
結果を得た。
実施例10
4−フェニル−2−ブタノール(1,0モル)に代えて
6−フェニル−2−ヘキサノール178F(1,0モル
)を用いる以外は実施例2に基づいて、同様のモル数、
容量の試剤−溶媒を用いて反応をおこない、表−8の結
果を得た。
6−フェニル−2−ヘキサノール178F(1,0モル
)を用いる以外は実施例2に基づいて、同様のモル数、
容量の試剤−溶媒を用いて反応をおこない、表−8の結
果を得た。
実施例11
4−フェニル−2−ブタノール(1,0モル)に代えて
7−フェニル−2−ヘプタツール192F(1,0モル
)を用いる以外は実施例2に基づいて、同様のモル数、
容量の試剤・溶媒を用いて反応をおこない、表−8の結
果を得た。
7−フェニル−2−ヘプタツール192F(1,0モル
)を用いる以外は実施例2に基づいて、同様のモル数、
容量の試剤・溶媒を用いて反応をおこない、表−8の結
果を得た。
(以下余白)
Claims (11)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rはハロゲン原子で置換されてい てもよい炭素数1〜20のアルキル基また はアルコキシアルキル基を示し、Xは HOOC−、HO−、CH_8CO−またはCH_2C
OO−を示す。nは1〜5の整数であり、*印は不斉炭
素原子であることを示す。)で示される光学活性なベン
ゼン誘導体。 - (2)XがHOOC−である請求項1に記載の光学活性
なベンゼン誘導体。 - (3)XがHO−である請求項1に記載の光学活性なベ
ンゼン誘導体。 - (4)XがCH_3CO−である請求項1に記載の光学
活性なベンゼン誘導体。 - (5)XがCH_3COO−である請求項1に記載の光
学活性なベンゼン誘導体。 - (6)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rはハロゲン原子で置換されてい てもよい炭素数1〜20のアルキル基また はアルコキシアルキル基を示す。nは1〜 5の整数であり、*印は不斉炭素原子であ ることを示す。) で示される光学活性なアセトフェノン誘導体を酸化する
ことを特徴とする請求項2に記載の光学活性なベンゼン
誘導体の製法。 - (7)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rはハロゲン原子で置換されてい てもよい炭素数1〜20のアルキル基また はアルコキシアルキル基を示す。nは1〜 5の整数であり、*印は不斉炭素原子であ ることを示す。) で示される光学活性なアセトキシベンゼン誘導体を加水
分解することを特徴とする請求項3に記載の光学活性な
ベンゼン誘導体の製法。 - (8)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rはハロゲン原子で置換されてい てもよい炭素数1〜20のアルキル基また はアルコキシアルキル基を示す。nは1〜 5の整数であり、*印は不斉炭素原子であ ることを示す。) で示される光学活性なアセトフェノン誘導体をバイヤー
ビリガー酸化して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R、nおよび*印は前記と同じ意 味である。) で示される光学活性なアセトキシベンゼン誘導体を得、
これを加水分解することを特徴とする請求項3に記載の
光学活性なベンゼン誘導体の製法。 - (9)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは1〜5の整数であり、*印は 不斉炭素原子であることを示す。) で示される光学活性なアルコール類を、一般式 R−Y (式中、Rはハロゲン原子で置換されてい てもよい炭素数1〜20のアルキル基また はアルコキシアルキル基を示し、Yはハロ ゲン原子または−OSO_2R′″を示す。ここでR′
″は低級アルキル基または置換されていてもよいフェニ
ル基を示す。) で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
請求項4に記載の光学活性なベンゼン誘導体の製法。 - (10)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′は低級アルキル基を示し、nは1〜5の整
数である。) で示されるエステル類を、該エステル類の鏡像体のどち
らか一方のみを加水分解する能力を有するエステラーゼ
を用いて不斉加水分解して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは前記と同じ意味であり、*印 は不斉炭素原子であることを示す。) で示される光学活性なアルコール類を得、ついで該アル
コール類を一般式 R−Y (式中、Rはハロゲン原子で置換されてい てもよい炭素数1〜20のアルキル基また はアルコキシアルキル基を示し、Yはハロ ゲン原子または−OSO_2R′″を示す。ここでR′
″は低級アルキル基または置換されていてもよいフェニ
ル基を示す。) で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
請求項4に記載の光学活性なベンゼン誘導体の製法。 - (11)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′は低級アルキル基を示し、nは1〜5の整
数である。) で示されるベンゼン誘導体を溶媒中でアセチル化して一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′は低級アルキル基を示し、nは1〜5の整
数である。) で示されるエステル類を得、該エステル類を、該エステ
ル類の鏡像体のどちらか一方のみを加水分解する能力を
有するエステラーゼを用いて不斉加水分解して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは前記と同じ意味であり、*印 は不斉炭素原子であることを示す。) で示される光学活性なアルコール類を得、ついで該光学
活性なアルコール類を、一般式 R−Y (式中、Rはハロゲン原子で置換されてい てもよい炭素数1〜20のアルキル基また はアルコキシアルキル基を示し、Yはハロ ゲン原子または−OSO_2R′″を示す。ここでR′
″は低級アルキル基または置換されていてもよいフェニ
ル基を示す。) で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
請求項4に記載の光学活性なベンゼン誘導体の製法。 12)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは1〜5の整数である。) で示されるアルコール類を、触媒の存在下に一般式 R′−COOH (式中、R′は低級アルキル基である。) で示されるカルボン酸またはその誘導体と反応させて一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′は低級アルキル基を示し、nは1〜5の整
数である。) で示されるベンゼン誘導体を得、これを溶媒中でアセチ
ル化して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′は低級アルキル基を示し、nは1〜5の整
数である。) で示されるエステル類を得、次いで、該エステル類の鏡
像体のどちらか一方のみを加水分解する能力を有するエ
ステラーゼを用いて不斉加水分解して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、nは前記と同じ意味であり、*印 は不斉炭素原子であることを示す。) で示される光学活性なアルコール類を得、さらに該光学
活性なアルコール類を、一般式 R−Y (式中、Rはハロゲン原子で置換されてい てもよい炭素数1〜20のアルキル基また はアルコキシアルキル基を示し、Yはハロ ゲン原子または−OSO_2R′″を示す。ここでR′
″は低級アルキル基または置換されていてもよいフェニ
ル基を示す。) で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
請求項4に記載の光学活性なベンゼン誘導体の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24442089A JP2727687B2 (ja) | 1988-10-13 | 1989-09-19 | 光学活性なベンゼン誘導体およびその製法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-258938 | 1988-10-13 | ||
JP25893888 | 1988-10-13 | ||
JP24442089A JP2727687B2 (ja) | 1988-10-13 | 1989-09-19 | 光学活性なベンゼン誘導体およびその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02188547A true JPH02188547A (ja) | 1990-07-24 |
JP2727687B2 JP2727687B2 (ja) | 1998-03-11 |
Family
ID=26536731
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24442089A Expired - Fee Related JP2727687B2 (ja) | 1988-10-13 | 1989-09-19 | 光学活性なベンゼン誘導体およびその製法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2727687B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011126098A1 (ja) | 2010-04-08 | 2011-10-13 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
-
1989
- 1989-09-19 JP JP24442089A patent/JP2727687B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011126098A1 (ja) | 2010-04-08 | 2011-10-13 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
CN102821741A (zh) * | 2010-04-08 | 2012-12-12 | 花王株式会社 | 皮肤外用剂 |
JPWO2011126098A1 (ja) * | 2010-04-08 | 2013-07-11 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
JP5778134B2 (ja) * | 2010-04-08 | 2015-09-16 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
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---|---|
JP2727687B2 (ja) | 1998-03-11 |
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