JPH02181956A - 半導体装置 - Google Patents
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- JPH02181956A JPH02181956A JP1002627A JP262789A JPH02181956A JP H02181956 A JPH02181956 A JP H02181956A JP 1002627 A JP1002627 A JP 1002627A JP 262789 A JP262789 A JP 262789A JP H02181956 A JPH02181956 A JP H02181956A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 41
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims abstract description 98
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 22
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 4
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 3
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000218202 Coptis Species 0.000 description 2
- 235000002991 Coptis groenlandica Nutrition 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFLYIWITHZJFLS-UHFFFAOYSA-N [Si].[Au] Chemical compound [Si].[Au] OFLYIWITHZJFLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- -1 4270I Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000272168 Laridae Species 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N gold tin Chemical compound [Sn].[Au] JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
- H01L2224/48465—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置の製造技術、特に、ペレットの放
熱性能の向上技術に関するもので、例えば、多ビン、低
熱抵抗で、小型かつ低価格化が要求される半導体集積回
路装置(以下、ICという。 )に利用して有効なものに間する。 〔従来の技術〕 −Cに、所謂パワーIC等のような消費電力が大きいI
Cにおいては、樹脂封止パッケージにヒートシンク葛内
蔵することが行われている。ヒートシンクがパッケージ
に内蔵される場合、通常、ヒートシンクはペレットがボ
ンディングされているタブの裏面に機械的かつ熱的に結
合されることになる。 なお、ヒートシンクが内蔵されているパワー
熱性能の向上技術に関するもので、例えば、多ビン、低
熱抵抗で、小型かつ低価格化が要求される半導体集積回
路装置(以下、ICという。 )に利用して有効なものに間する。 〔従来の技術〕 −Cに、所謂パワーIC等のような消費電力が大きいI
Cにおいては、樹脂封止パッケージにヒートシンク葛内
蔵することが行われている。ヒートシンクがパッケージ
に内蔵される場合、通常、ヒートシンクはペレットがボ
ンディングされているタブの裏面に機械的かつ熱的に結
合されることになる。 なお、ヒートシンクが内蔵されているパワー
【Cを述べ
である例としては、日経マグロウヒル社発行「別冊マイ
クロデバイセズNα2」昭和59年6月11日発行 P
L 35.がある。 また、ヒートシンクは内蔵しなし)が、ペレットがボン
ディングされたタブにヒートシンクを直接的に接触させ
るように構成されている半導体装置として、特開昭54
−128278号公報に記載されているように、樹脂封
止パッケージの一端面に凹部がタブを露出させるように
没設されているものがある。 さらに、コンピュータに使用される高密度、高速ICに
おいては、高い放熱性能が要求されるため、例えば、特
開昭53−110371号公報に記載されているように
、半導体ペレットをボンディングされた金属板にヒート
シンクが外付けされているセラミックパッケージ型半導
体装置が使用されている。 〔発明が解決しようとする課題〕 しかし、前述したように、Icのパッケージにヒートシ
ンクを内蔵する技術は、パッケージの外形的制限を受け
るため、パッケージの外形についての設計に自由度のあ
るピン(リード)数の少ない【Cにのみ適用されている
のが現状である。 そして、ペレットがボンディングされるタブはリードフ
レームに一体的に形成されており、このリードフレーム
はリードの機械的強度を確保する必要上、ばね材料(鉄
−ニソケル合金、4270イ、コバール、燐青銅)等を
用いて製作されているため、その材質上熱伝導性が低く
、ペレットからヒートシンクへの熱伝達効率を低下させ
てしまうという問題点があることが、本発明者によって
明らかにされた。 一方、ICの多機能化、高集積化、高速化が進む最近、
ビン数の多いICについても、熱放散性の良好なヒート
シンク内蔵形バノノ1−ジをOlhえているICの開発
が要望されている。 本発明の第1の目的は、高い放熱性能を有する半導体’
JTIを提供することにある。 本発明の第2の目的は、生産性および実装性が良好で、
かつ低価格にして、小型化および多ピン化を促進するこ
とができるとともに、高い放熱性能を有する半導体装置
を提供することにある。 本発明の前記ならびにその他の目的とifr現な特徴は
、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。 〔課題を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうら代表的なものの概要
を説明すれば、次の通りである。 すなわち、第1主面側に集積回路が作り込まれている半
導体ペレットと、この半導体ベレン)・の集積回路に電
気的に接続されている複数本のリードと、この半導体ペ
レットおよびリードの一部を樹脂封止するパッケージと
を備えている半導体装置において、前記半導体ペレット
の第1主面にヒートシンクを絶縁層を介して接合すると
ともに、このヒートシンクを前記パッケージにその一部
を露出させて植設したものである。 〔作用〕 前記した手段によれば、ペレットの集積回路が作り込ま
れた第1主面側にヒートシンクがタブを介さずに直接的
に接触されているため、ペレットの発熱はこのヒートシ
ンクを経て外部に直接的に放出されることになり〜充分
な放熱性能が確保される、 しかも、ヒートシンクがペレットの第1主面に電気的接
続用のリードとは別体の専用平面形状構造物によって接
合されるため、ヒートシンクは電気的接続用のリード群
とは別に熱伝導性の良好な材料を用いて構成することが
できる。したがって、所望に応じて熱伝導性の良好な材
料を選定することにより、前記放熱性能をより一層高め
ることができる。他方、リード群は機械的強度の大きい
材料を用いて形成することができるため、リード群の曲
がりや破■等を防止することができる。 また、ペレット、リード群およびヒートシンクは樹脂封
止パッケージにより樹脂1・J止されているため、この
半導体装置がプリント配LA基板に実装される時や、実
装された後において、移送中の振動等による外力がこの
半導体装直に711ねった場合においても、リード曲が
り等のような事故が起きるのを防止することができ、そ
の結果、短絡不良や、断線不良の発生のを未然に回避す
ることができる。 〔実施例1〕 第1図は本発明の一実施例である半導体装置を示す一部
切断正面図、第2図〜第8図はその製造方法壱示す各説
明図である。 本実施例において、本発明に係る半導体装置は、高密度
実装を実現するための半導体集積回路装置(以下、Ic
という。)である樹脂封止形スモール・アウトライン・
パッケージを備えているIc(以下、SOP・IC1ま
たは、単に、ICということがある。)として構成され
ている。この樹脂封止形5OP−ICはシリコン半導体
ペレット(以下、ペレットという。)と、ペレットの周
囲に配設されている複数本のリードと、ペレットの各電
極および各リードにその両端部をそれぞれポンディング
されて橋絡されているボンディングワイヤと、ペレット
の第1主面に接合されているヒートシンクと、これらを
樹脂封止するパッケージとを備えており、この5OP−
1cは次のような製造方法により製造されている。 以下、この樹脂封止形5OP−ICの製造方法を説明す
る。この説明により、前記5OP−1cについての構成
の詳細が明らかにされる。 本実施例において、樹脂封止形SOP・ICの製造方法
には、第2図に示されている多連リードフレーム1が使
用されている。この多連リードフレーム1ば、鉄−ニッ
ケル合金や燐青銅等のような比較的大きい機械的強度を
有するばね材料からなる薄板を用いて、打ら抜きプレス
加工またはエツチング加工等のような適当な手段により
一体成形されており、この多連リードフレーム1の表面
には銀(Ag)等を用いためっき処理が、後述するワイ
ヤポンディングが適正に実施されるように施されている
。この多連リードフレーム1には複数の単位リードフレ
ーム2が横方向に1列に並設されている。 単位リードフレーム2は位置決め孔3aが開設されてい
る外枠3を一対備えており、円外枠3は所定の間隔で平
行になるように配されて一連にそれぞれ延設されている
。隣り合う栄位、リードフレーム2.2間には一対のセ
クション枠4が円外枠3.3間に互いに平行に配されて
一体的に架設されており、これら外枠、セクション枠に
より形成される略長方形の枠体内に単位リードフレーム
2が構成されている。 各単位リードフレーム2において、円外枠3.3にはタ
ブ吊りリード5が直角に突設されており、このリード5
の先端部にはタブ6が略正方形の平板形状に一体成形さ
れている。また、各単位リードフレーム2において、両
セクション枠4.4の内側には一対のダム部材7がセク
ション枠と平行になるように配されて、円外枠3.3間
に一体的に架設されている。ダム部材7には電気的接続
用のり一部8が複数本、長平方向に等間隔に配されて、
互いに平行で、ダム部材7と直交するように一体的に突
設されており、各リード8の内側端部は先端が後記する
ペレットを支持するだめのタブ6を取り囲むように配さ
れることにより、インナ部8aをそれぞれ構成している
。他方、各リード8の外側延長部分は、その先端がセク
ション枠4にそれぞれ接続され、アウタ部8bをそれぞ
れ構成している。そして、ダム部材7における隣り合う
リード8.8間の部分は後述するパッケージ成形時にレ
ジンの流れをせき止めるダム7aを実質的に構成してい
る。 この多連リードフレーム1には各単位リードフレーム2
毎にペレット・ボンディング作業、続いて、ワイヤ・ボ
ンディング作業が実施される。これらボンディング作業
は多連リードフレーム1が横方向にピンチ送りされるこ
とにより、各単位リードフレーム2毎に順次実施される
。 そして、ペレット・ボンディング作業により、第3図お
よび第4図に示されているように、半導体装置の製造工
程における所謂前工程において集積回路を作り込まれた
半導体4A積回路素子としてのペレット11が、各単位
リードフレーム2におけるタブ6上の略中央部に配され
て、タブ6とペレット11との間に形成されたボンディ
ング封止2によって機械的に固着されることによりボン
ディングされる。ペレットボンディング層の形成手段と
しては、金−シリコン共晶層、はんだ付は層および銀ペ
ースト接着層等々によるボンディング法を用いることが
可能である。 続いて、ワイヤボンディング作業により、第3図および
第4図に示されているように、タブ6上にボンディング
されたペレット11の電極パッドLLaと、各単位リー
ドフレーム2におけるり−ド8のインナ部8aとの間に
、ボンディングワイヤ13が超音波熱圧着式ワイヤボン
ディング装置等のような適当なワイヤボンディング装置
(図示せず)が使用されることにより、その両端部をそ
れぞれボンディングされて橋絡される。これにより、ペ
レット11に作り込まれている4J、積回路は、電極バ
ンドlla、ボンディングワイヤ13、リード8のイン
ナ部8aおよびアウタ部8bを介して電気的に外部に引
き出されることになる。 本実施例においては、ワイヤボンディング作業が終了し
た後、第6図に示されているように、ベレッ+−11の
集積回路が作り込まれた第1主面側に絶U層14および
接合層15を介して、第5図に示されているように構成
されているヒートシンク16が接合される。 すなわち、ペレット11の第1主面には絶縁層14が樹
脂または合圧等を用いられて保護膜の上に重ねて被着さ
れており、1!縁層14上には接合層15が、熱伝導性
が良好で、かつ、絶縁層14およびヒートシンク16の
いずれの材料にも接合性の良好な材料を用いられて、重
ねて被着されている。これら絶縁層14および接合層1
5はペレット11が装造される所謂前工程において、予
め、形成しておいてもよいし、ワイヤボンディング作業
後に、形成してもよい、但し、接合層15がワイヤボン
ディング作業後に形成される場合には、ワイヤ13相互
間の絶縁性についての配慮が必要である。したがって、
この場合、接合層15はヒートシンク16側に形成して
おいてもよい。 ヒートシンク16は銅等のような熱伝導性の良好な材t
4を用いられて、第6図に示されているように、ペレッ
ト11よりも大きめの長方形の平盤形状に形成されてお
り、ヒートシンク16のペレットtiとの接合面には接
合部17が一体的に突設されている。この接合部17は
、その平面形状がベレ・ント11の第1主面におけるボ
ンディングバッFlla群に取り囲まれた空スペースよ
リモ小さ目の大きさになるように、がっ、その高さがワ
イヤ13との干渉を回避し得るように形成されている。 ヒートシンク16の外周面には係合部としての環状溝1
8が没設されており、この環状溝L8は後述する樹脂封
止パッケージと形状結合することにより、ヒートシンク
16を確実に固定するとともに、リークバスを長くする
ようになっている。さらに、ヒートシンク16の上面に
は放熱用のフィン19が凹凸形状に形成されており、こ
のフィン19は樹脂封止パッケージの外部に露出されて
、ヒートシンク16の放熱面積を大きく形成する口出に
より、放熱効率をより一層高めるようになっている。 このように構成されたヒートシンクL6はその接合部1
7においてペレット11の第1主面に接合される。この
とき、接合層15によりヒートシンク16とペレット1
1との接合が実行される。 接合手段としては、ヒートシンクJ6を加熱して接合層
15を)宿敵させることにより溶着する方法等を適用す
ることができる。また、絶縁層14によりヒートシンク
16とペレットttとの間は電気的に絶録される。 このようにしてペレットの第1主面にヒートシンクが接
合された多連シードフレーム1には、各単位リードフレ
ーム毎に樹脂1.J止するパッケージ群が、第7図に示
されているようなトランスファ成形装置30を使用され
て単位リードフレーム群について同時成形される。 第7図に示されているトランスファ成形装置はシリンダ
装置等(図示せず)によって互いに型締めされる一対の
上型31と下型32とを013えており、上型31と下
型32との合わせ面には上型キャビティー凹部33aと
下型キャビティー四部33bとが互いに協働してキャビ
ティー33を形成するようにそれぞれ複数組没設されて
いる。上型31の合わせ面にはボット34が開設されて
おり、ボット34にはシリンダ装置(図示せず)により
進退されるプランジャ35が成形材料としての樹脂(以
下、レジンという。)を送給し得るように挿入されてい
る。下型32の合わせ面にはカル36がボット34との
対向位置に配されて没設されているとともに、複数条の
ランナ37がボット34にそれぞれ接続するように放射
状に配されて没設されている。各ランナ37の他端部は
下側キャビティー凹部33bにそれぞれ接続されており
、その接続部にはゲート38がレジンをキャビティー3
3内に注入し得るように形成されている。また、下型3
2の合わせ面には逃げ凹所39がリードフレームの厚み
を逃げ得るように、その外形よりも若干大きめの長方形
で、その厚さと略等しい寸法の一定深さに没設されてい
る。 前記構成にかかる多連リードフレームを用いて樹脂封止
形パッケージをトランスファ成形する場合、上型31お
よび下型32における各キャビティー33は各単位リー
ドフレーム2における一対のダム部材7.7間の空間に
それぞれ対応される。 トランスファ成形時において、前記構成にかかる多連リ
ードフレームlは下型32に没設されている逃げ凹所3
9内に、各単位リードフレーム12におけるペレット1
1が各キャビティー33内にそれぞれ収容されるように
配されてセットされる。このとき、ペレット11とヒー
トシンク16とは互いに接合された状態でキャビティー
33内において保持されている。続いて、上型31と下
型32とが型締めされ、ボット34からプランジャ35
により成形材料としてのレジン40がランナ37および
ゲート38を通して各キャビティー33に送給されて圧
入される。 注入後、レジンが熱硬化されて樹脂封止形パッケージ2
0が成形されると、上型31および下型32は型開きさ
れるとともに、エジェクタ・ビン(図示せず)によりパ
ッケージ20群が離型される。このようにして、第8図
に示されているように、パッケージ20群を成形された
多連リードフレーム1はトランスファ成形装置30から
脱装される。 そして、このように樹脂成形されたパッケージ20の内
部には、ペレット11、リード8のインナ部8a=ボン
ディングワイヤ13およびヒートシンク16の一部が樹
脂封止されることになる。 この状態において、ヒートシンク16の上面におけるフ
ィン19は樹脂封止パッケージ20の一端面から露出さ
れた状態になっている。 その後、多連リードフレームlはリード切断成形工程に
おいて、各単位リードフレーム毎に1唾次、リード切断
装置(図示せず)により、外枠、セクション枠および各
ダム7aを切り落された後、リード成形製置(図示せず
)により、リード8のアウタ部8bを第9図および第1
0図に示されているように、ガル・ウィング形状に屈曲
成形される。 以上のようにして製造された樹脂封止形SOP・IC2
1は第9図および第10図に示されているようにプリン
ト配線基板に実装される。 第9図および第10図において、プリント配線基t7i
22にはランド23が複数個、実装対象物となる樹脂封
止形SOP・・IC21における各リード8に対応する
ように配されて、はんだ材料を用いて略長方形のE[4
1形状に形成されており、このランド23にこの1c2
1のリード8群が整合されて当1妾されているとともに
、各リード8とランド23とがリフローはんだ処理によ
り形成されたはんだ盛り層(図示せず)によって電気的
か・つ機械的に接続されている。 そして、必要に応じて、ごのSOP・IC21はヒート
シンク16が押さえ具(図示せず)により、プリント配
線基板22に押さえられて固定されたりする。 この実装状態で、IC2Lが稼働されてペレット11が
発熱した場合、その熱はペレット11の第1主面からヒ
ートシンク16に直接的に熱伝導されるとともに、ヒー
トシンク16の広い表面から外気に放熱されるため、相
対的にペレット11は充分に冷却される。また、ヒート
シンク】6に放熱フィンや、押さえ具等が連設されてい
る場合には、ヒートシンクL6の熱が放熱フィンや、押
さえ具等を通じてさらに広い範囲に熱伝導されるため、
放熱効果はより一層高くなる。 前記実施例によれば次の効果が得られる。 (1) ペレットの第り主面にヒートシンクを直接的
に接合することにより、ペレットにおける第1主面の発
熱をヒートシンクに直接的に伝えてパッケージの外部に
効果的に放出させることができるため、高い放熱性能を
確保することができる。 (2) 電気的接続用のリードとは別に、熱伝導性の
良好な材料を用いて形成されたヒートシンクにペレット
をボンディングすることにより、前記(+)の放熱性能
をより一層高めることができる。 (3)他方、電気的接続用のリードはヒートシンクとは
別に機械的強度の高い材料を用いて形成することにより
、リード群の曲がりや破損等を防止することができると
ともに、前記(1)および(2)により、高い放熱性能
を確保することができるゆ(4) ペレット、リード
群およびヒートシンクの一部を樹脂封止パッケージによ
って樹脂封止することにより、リード曲がり等のような
事故が起きるのを防止することができるため、短絡不良
や、断線不良の発生を未然に回避することができる。 〔実施例2〕 第11図は本発明の他の実施例である半導体装置を示す
一部切断正面図、第12図はその外観斜視図、第[3図
〜第17図はその製造方法を示す各説明図である。 本実施例において、本発明に係る半導体装置は表面実装
形の樹脂封止パッケージを備えているIC(以下、Ic
という、)として構成されている。 このICのパッケージは略正方形の平盤形状に形成され
ており、このパッケージの4側面の下端辺付近からリー
ド群のアウタ部が複数未完突設されている。この
である例としては、日経マグロウヒル社発行「別冊マイ
クロデバイセズNα2」昭和59年6月11日発行 P
L 35.がある。 また、ヒートシンクは内蔵しなし)が、ペレットがボン
ディングされたタブにヒートシンクを直接的に接触させ
るように構成されている半導体装置として、特開昭54
−128278号公報に記載されているように、樹脂封
止パッケージの一端面に凹部がタブを露出させるように
没設されているものがある。 さらに、コンピュータに使用される高密度、高速ICに
おいては、高い放熱性能が要求されるため、例えば、特
開昭53−110371号公報に記載されているように
、半導体ペレットをボンディングされた金属板にヒート
シンクが外付けされているセラミックパッケージ型半導
体装置が使用されている。 〔発明が解決しようとする課題〕 しかし、前述したように、Icのパッケージにヒートシ
ンクを内蔵する技術は、パッケージの外形的制限を受け
るため、パッケージの外形についての設計に自由度のあ
るピン(リード)数の少ない【Cにのみ適用されている
のが現状である。 そして、ペレットがボンディングされるタブはリードフ
レームに一体的に形成されており、このリードフレーム
はリードの機械的強度を確保する必要上、ばね材料(鉄
−ニソケル合金、4270イ、コバール、燐青銅)等を
用いて製作されているため、その材質上熱伝導性が低く
、ペレットからヒートシンクへの熱伝達効率を低下させ
てしまうという問題点があることが、本発明者によって
明らかにされた。 一方、ICの多機能化、高集積化、高速化が進む最近、
ビン数の多いICについても、熱放散性の良好なヒート
シンク内蔵形バノノ1−ジをOlhえているICの開発
が要望されている。 本発明の第1の目的は、高い放熱性能を有する半導体’
JTIを提供することにある。 本発明の第2の目的は、生産性および実装性が良好で、
かつ低価格にして、小型化および多ピン化を促進するこ
とができるとともに、高い放熱性能を有する半導体装置
を提供することにある。 本発明の前記ならびにその他の目的とifr現な特徴は
、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。 〔課題を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうら代表的なものの概要
を説明すれば、次の通りである。 すなわち、第1主面側に集積回路が作り込まれている半
導体ペレットと、この半導体ベレン)・の集積回路に電
気的に接続されている複数本のリードと、この半導体ペ
レットおよびリードの一部を樹脂封止するパッケージと
を備えている半導体装置において、前記半導体ペレット
の第1主面にヒートシンクを絶縁層を介して接合すると
ともに、このヒートシンクを前記パッケージにその一部
を露出させて植設したものである。 〔作用〕 前記した手段によれば、ペレットの集積回路が作り込ま
れた第1主面側にヒートシンクがタブを介さずに直接的
に接触されているため、ペレットの発熱はこのヒートシ
ンクを経て外部に直接的に放出されることになり〜充分
な放熱性能が確保される、 しかも、ヒートシンクがペレットの第1主面に電気的接
続用のリードとは別体の専用平面形状構造物によって接
合されるため、ヒートシンクは電気的接続用のリード群
とは別に熱伝導性の良好な材料を用いて構成することが
できる。したがって、所望に応じて熱伝導性の良好な材
料を選定することにより、前記放熱性能をより一層高め
ることができる。他方、リード群は機械的強度の大きい
材料を用いて形成することができるため、リード群の曲
がりや破■等を防止することができる。 また、ペレット、リード群およびヒートシンクは樹脂封
止パッケージにより樹脂1・J止されているため、この
半導体装置がプリント配LA基板に実装される時や、実
装された後において、移送中の振動等による外力がこの
半導体装直に711ねった場合においても、リード曲が
り等のような事故が起きるのを防止することができ、そ
の結果、短絡不良や、断線不良の発生のを未然に回避す
ることができる。 〔実施例1〕 第1図は本発明の一実施例である半導体装置を示す一部
切断正面図、第2図〜第8図はその製造方法壱示す各説
明図である。 本実施例において、本発明に係る半導体装置は、高密度
実装を実現するための半導体集積回路装置(以下、Ic
という。)である樹脂封止形スモール・アウトライン・
パッケージを備えているIc(以下、SOP・IC1ま
たは、単に、ICということがある。)として構成され
ている。この樹脂封止形5OP−ICはシリコン半導体
ペレット(以下、ペレットという。)と、ペレットの周
囲に配設されている複数本のリードと、ペレットの各電
極および各リードにその両端部をそれぞれポンディング
されて橋絡されているボンディングワイヤと、ペレット
の第1主面に接合されているヒートシンクと、これらを
樹脂封止するパッケージとを備えており、この5OP−
1cは次のような製造方法により製造されている。 以下、この樹脂封止形5OP−ICの製造方法を説明す
る。この説明により、前記5OP−1cについての構成
の詳細が明らかにされる。 本実施例において、樹脂封止形SOP・ICの製造方法
には、第2図に示されている多連リードフレーム1が使
用されている。この多連リードフレーム1ば、鉄−ニッ
ケル合金や燐青銅等のような比較的大きい機械的強度を
有するばね材料からなる薄板を用いて、打ら抜きプレス
加工またはエツチング加工等のような適当な手段により
一体成形されており、この多連リードフレーム1の表面
には銀(Ag)等を用いためっき処理が、後述するワイ
ヤポンディングが適正に実施されるように施されている
。この多連リードフレーム1には複数の単位リードフレ
ーム2が横方向に1列に並設されている。 単位リードフレーム2は位置決め孔3aが開設されてい
る外枠3を一対備えており、円外枠3は所定の間隔で平
行になるように配されて一連にそれぞれ延設されている
。隣り合う栄位、リードフレーム2.2間には一対のセ
クション枠4が円外枠3.3間に互いに平行に配されて
一体的に架設されており、これら外枠、セクション枠に
より形成される略長方形の枠体内に単位リードフレーム
2が構成されている。 各単位リードフレーム2において、円外枠3.3にはタ
ブ吊りリード5が直角に突設されており、このリード5
の先端部にはタブ6が略正方形の平板形状に一体成形さ
れている。また、各単位リードフレーム2において、両
セクション枠4.4の内側には一対のダム部材7がセク
ション枠と平行になるように配されて、円外枠3.3間
に一体的に架設されている。ダム部材7には電気的接続
用のり一部8が複数本、長平方向に等間隔に配されて、
互いに平行で、ダム部材7と直交するように一体的に突
設されており、各リード8の内側端部は先端が後記する
ペレットを支持するだめのタブ6を取り囲むように配さ
れることにより、インナ部8aをそれぞれ構成している
。他方、各リード8の外側延長部分は、その先端がセク
ション枠4にそれぞれ接続され、アウタ部8bをそれぞ
れ構成している。そして、ダム部材7における隣り合う
リード8.8間の部分は後述するパッケージ成形時にレ
ジンの流れをせき止めるダム7aを実質的に構成してい
る。 この多連リードフレーム1には各単位リードフレーム2
毎にペレット・ボンディング作業、続いて、ワイヤ・ボ
ンディング作業が実施される。これらボンディング作業
は多連リードフレーム1が横方向にピンチ送りされるこ
とにより、各単位リードフレーム2毎に順次実施される
。 そして、ペレット・ボンディング作業により、第3図お
よび第4図に示されているように、半導体装置の製造工
程における所謂前工程において集積回路を作り込まれた
半導体4A積回路素子としてのペレット11が、各単位
リードフレーム2におけるタブ6上の略中央部に配され
て、タブ6とペレット11との間に形成されたボンディ
ング封止2によって機械的に固着されることによりボン
ディングされる。ペレットボンディング層の形成手段と
しては、金−シリコン共晶層、はんだ付は層および銀ペ
ースト接着層等々によるボンディング法を用いることが
可能である。 続いて、ワイヤボンディング作業により、第3図および
第4図に示されているように、タブ6上にボンディング
されたペレット11の電極パッドLLaと、各単位リー
ドフレーム2におけるり−ド8のインナ部8aとの間に
、ボンディングワイヤ13が超音波熱圧着式ワイヤボン
ディング装置等のような適当なワイヤボンディング装置
(図示せず)が使用されることにより、その両端部をそ
れぞれボンディングされて橋絡される。これにより、ペ
レット11に作り込まれている4J、積回路は、電極バ
ンドlla、ボンディングワイヤ13、リード8のイン
ナ部8aおよびアウタ部8bを介して電気的に外部に引
き出されることになる。 本実施例においては、ワイヤボンディング作業が終了し
た後、第6図に示されているように、ベレッ+−11の
集積回路が作り込まれた第1主面側に絶U層14および
接合層15を介して、第5図に示されているように構成
されているヒートシンク16が接合される。 すなわち、ペレット11の第1主面には絶縁層14が樹
脂または合圧等を用いられて保護膜の上に重ねて被着さ
れており、1!縁層14上には接合層15が、熱伝導性
が良好で、かつ、絶縁層14およびヒートシンク16の
いずれの材料にも接合性の良好な材料を用いられて、重
ねて被着されている。これら絶縁層14および接合層1
5はペレット11が装造される所謂前工程において、予
め、形成しておいてもよいし、ワイヤボンディング作業
後に、形成してもよい、但し、接合層15がワイヤボン
ディング作業後に形成される場合には、ワイヤ13相互
間の絶縁性についての配慮が必要である。したがって、
この場合、接合層15はヒートシンク16側に形成して
おいてもよい。 ヒートシンク16は銅等のような熱伝導性の良好な材t
4を用いられて、第6図に示されているように、ペレッ
ト11よりも大きめの長方形の平盤形状に形成されてお
り、ヒートシンク16のペレットtiとの接合面には接
合部17が一体的に突設されている。この接合部17は
、その平面形状がベレ・ント11の第1主面におけるボ
ンディングバッFlla群に取り囲まれた空スペースよ
リモ小さ目の大きさになるように、がっ、その高さがワ
イヤ13との干渉を回避し得るように形成されている。 ヒートシンク16の外周面には係合部としての環状溝1
8が没設されており、この環状溝L8は後述する樹脂封
止パッケージと形状結合することにより、ヒートシンク
16を確実に固定するとともに、リークバスを長くする
ようになっている。さらに、ヒートシンク16の上面に
は放熱用のフィン19が凹凸形状に形成されており、こ
のフィン19は樹脂封止パッケージの外部に露出されて
、ヒートシンク16の放熱面積を大きく形成する口出に
より、放熱効率をより一層高めるようになっている。 このように構成されたヒートシンクL6はその接合部1
7においてペレット11の第1主面に接合される。この
とき、接合層15によりヒートシンク16とペレット1
1との接合が実行される。 接合手段としては、ヒートシンクJ6を加熱して接合層
15を)宿敵させることにより溶着する方法等を適用す
ることができる。また、絶縁層14によりヒートシンク
16とペレットttとの間は電気的に絶録される。 このようにしてペレットの第1主面にヒートシンクが接
合された多連シードフレーム1には、各単位リードフレ
ーム毎に樹脂1.J止するパッケージ群が、第7図に示
されているようなトランスファ成形装置30を使用され
て単位リードフレーム群について同時成形される。 第7図に示されているトランスファ成形装置はシリンダ
装置等(図示せず)によって互いに型締めされる一対の
上型31と下型32とを013えており、上型31と下
型32との合わせ面には上型キャビティー凹部33aと
下型キャビティー四部33bとが互いに協働してキャビ
ティー33を形成するようにそれぞれ複数組没設されて
いる。上型31の合わせ面にはボット34が開設されて
おり、ボット34にはシリンダ装置(図示せず)により
進退されるプランジャ35が成形材料としての樹脂(以
下、レジンという。)を送給し得るように挿入されてい
る。下型32の合わせ面にはカル36がボット34との
対向位置に配されて没設されているとともに、複数条の
ランナ37がボット34にそれぞれ接続するように放射
状に配されて没設されている。各ランナ37の他端部は
下側キャビティー凹部33bにそれぞれ接続されており
、その接続部にはゲート38がレジンをキャビティー3
3内に注入し得るように形成されている。また、下型3
2の合わせ面には逃げ凹所39がリードフレームの厚み
を逃げ得るように、その外形よりも若干大きめの長方形
で、その厚さと略等しい寸法の一定深さに没設されてい
る。 前記構成にかかる多連リードフレームを用いて樹脂封止
形パッケージをトランスファ成形する場合、上型31お
よび下型32における各キャビティー33は各単位リー
ドフレーム2における一対のダム部材7.7間の空間に
それぞれ対応される。 トランスファ成形時において、前記構成にかかる多連リ
ードフレームlは下型32に没設されている逃げ凹所3
9内に、各単位リードフレーム12におけるペレット1
1が各キャビティー33内にそれぞれ収容されるように
配されてセットされる。このとき、ペレット11とヒー
トシンク16とは互いに接合された状態でキャビティー
33内において保持されている。続いて、上型31と下
型32とが型締めされ、ボット34からプランジャ35
により成形材料としてのレジン40がランナ37および
ゲート38を通して各キャビティー33に送給されて圧
入される。 注入後、レジンが熱硬化されて樹脂封止形パッケージ2
0が成形されると、上型31および下型32は型開きさ
れるとともに、エジェクタ・ビン(図示せず)によりパ
ッケージ20群が離型される。このようにして、第8図
に示されているように、パッケージ20群を成形された
多連リードフレーム1はトランスファ成形装置30から
脱装される。 そして、このように樹脂成形されたパッケージ20の内
部には、ペレット11、リード8のインナ部8a=ボン
ディングワイヤ13およびヒートシンク16の一部が樹
脂封止されることになる。 この状態において、ヒートシンク16の上面におけるフ
ィン19は樹脂封止パッケージ20の一端面から露出さ
れた状態になっている。 その後、多連リードフレームlはリード切断成形工程に
おいて、各単位リードフレーム毎に1唾次、リード切断
装置(図示せず)により、外枠、セクション枠および各
ダム7aを切り落された後、リード成形製置(図示せず
)により、リード8のアウタ部8bを第9図および第1
0図に示されているように、ガル・ウィング形状に屈曲
成形される。 以上のようにして製造された樹脂封止形SOP・IC2
1は第9図および第10図に示されているようにプリン
ト配線基板に実装される。 第9図および第10図において、プリント配線基t7i
22にはランド23が複数個、実装対象物となる樹脂封
止形SOP・・IC21における各リード8に対応する
ように配されて、はんだ材料を用いて略長方形のE[4
1形状に形成されており、このランド23にこの1c2
1のリード8群が整合されて当1妾されているとともに
、各リード8とランド23とがリフローはんだ処理によ
り形成されたはんだ盛り層(図示せず)によって電気的
か・つ機械的に接続されている。 そして、必要に応じて、ごのSOP・IC21はヒート
シンク16が押さえ具(図示せず)により、プリント配
線基板22に押さえられて固定されたりする。 この実装状態で、IC2Lが稼働されてペレット11が
発熱した場合、その熱はペレット11の第1主面からヒ
ートシンク16に直接的に熱伝導されるとともに、ヒー
トシンク16の広い表面から外気に放熱されるため、相
対的にペレット11は充分に冷却される。また、ヒート
シンク】6に放熱フィンや、押さえ具等が連設されてい
る場合には、ヒートシンクL6の熱が放熱フィンや、押
さえ具等を通じてさらに広い範囲に熱伝導されるため、
放熱効果はより一層高くなる。 前記実施例によれば次の効果が得られる。 (1) ペレットの第り主面にヒートシンクを直接的
に接合することにより、ペレットにおける第1主面の発
熱をヒートシンクに直接的に伝えてパッケージの外部に
効果的に放出させることができるため、高い放熱性能を
確保することができる。 (2) 電気的接続用のリードとは別に、熱伝導性の
良好な材料を用いて形成されたヒートシンクにペレット
をボンディングすることにより、前記(+)の放熱性能
をより一層高めることができる。 (3)他方、電気的接続用のリードはヒートシンクとは
別に機械的強度の高い材料を用いて形成することにより
、リード群の曲がりや破損等を防止することができると
ともに、前記(1)および(2)により、高い放熱性能
を確保することができるゆ(4) ペレット、リード
群およびヒートシンクの一部を樹脂封止パッケージによ
って樹脂封止することにより、リード曲がり等のような
事故が起きるのを防止することができるため、短絡不良
や、断線不良の発生を未然に回避することができる。 〔実施例2〕 第11図は本発明の他の実施例である半導体装置を示す
一部切断正面図、第12図はその外観斜視図、第[3図
〜第17図はその製造方法を示す各説明図である。 本実施例において、本発明に係る半導体装置は表面実装
形の樹脂封止パッケージを備えているIC(以下、Ic
という、)として構成されている。 このICのパッケージは略正方形の平盤形状に形成され
ており、このパッケージの4側面の下端辺付近からリー
ド群のアウタ部が複数未完突設されている。この
【Cは
リード群にペレットがテープ・オートメイテッド・ボン
ディングされているとともに、このペレットの表面およ
び2面の両面にヒートシンクがそれぞれ接合されており
、これらペレットと、リードの一部と、ヒートシンクの
一部とが樹脂封止パッケージにより樹脂封止されている
。そして、このICは以下に述べるような製造方法によ
って製造される。 以下、本発明の実施例2である表面実装形樹脂封止パッ
ケージを備えているICの製造方法を説明する。この説
明により、前記ICについての構成の詳細が明らかにさ
れる。 本実施例において、tc、ttはそのペレットとリード
群とがテープ・オートメイテッド・ボンディングにより
機械的かつ電気的に接続されている。 すなわち、キャリア用のテープ42はポリイミド等のよ
うな絶縁性樹脂を用いて、第13図に示されている如く
、同一パターンが長手方向に連続するように一体成形さ
れている。但し、説明および図示は一単位だけについて
行われている。キャリアテープ42における幅方向の両
側端辺部にはピンチ送りに使用される送り孔43が等ピ
ッチに配されて開設されており、両側の送り孔群間には
窓孔44が等ピッチをもって1列縦隊に配されて形成さ
れている。窓孔44は略正方形形状に開設されており、
その大きさは後記するペレットおよびヒートシンクの外
形よりも充分大きく、互いに対向するリードの先端間の
長さよりも若干大きくなるように設定されている。 集積回路を電気的に外部に引き出すためのり一部45は
複数本が、キャリアテープ42の片側平面(以下、第1
主面とする。)上に配されて、銅箔等のような導電性材
$4を用いて溶着や接着等のような適当な手段により固
定的に付設されている。 リード45群は窓孔44における4辺に分けられて、窓
孔44を径方向に貫通ずるように配設されており、各リ
ード45同士が互いに電気的に非接続になるように形成
されている。リード45群の内側先端部は窓孔44内に
突き出されて正方形の端辺上に並ぶように揃えられてお
り、この内側先端部によってインナ部としてのインナリ
ード46が構成されている。リード45群の外側先端部
は窓孔44の外側まで延長されて正方形の端辺上に並ぶ
ように揃えられており、各リードにおける窓孔44の縁
辺内側付近の部分によってアウタ部としてのアウタリー
ド47が構成されている。各す−ド45のキャリアテー
プ42上に固着された端末部にはテスト用端子部4Bが
形成されており、リード45群の表面にはソルダビリテ
ィ−を高めるために錫めっき膜(図示せず)が被着され
ている。 一方、詳細な説明は省略するが、このIC41に使用さ
れるペレット51は半導体装置の製造工程における所謂
前工程において、ウェハ状態にて所望の集積回路を適宜
作り込まれる6そして、集積回路(図示せず)が作り込
まれたペレット51は相対向するインナリード46と4
6との内PIIfi間距離よりも若干大きい略正方形の
小片にグイシングされており、その−平面(以下、第1
主面とする。)における周辺部には、金糸材料を用いて
形成されたバンブ52が複数個、キャリアテープ42に
おける各インナリード46に整合し得るように配されて
突設されている。 リード45群にペレット51がインナリードボンディン
グされる際、キャリアテープ42は複数のスプロケット
(図示せず)間に張設されて一方向に間欠送りされる。 そして、張設されたキャリアテープ42の途中に配設さ
れているインナリードボンデインダステージにおいて、
第[4図に示されているようにペレット51は窓孔44
内に下方から収容されるとともに、各バンプ52を各イ
ンナリード46にそれぞれ整合されてボンディング工具
53により熱圧着されることにより、キャリアテープ4
2に組み付けられる。すなわち、リード45の表面に被
着されている錫めっきl漠と金糸材料から成るバンプ5
2と間において、金−錫の共晶が形成されるため、リー
ド45のインナリード46とバンブ52とは一体的に結
合されることになる。 本実施例においては、インナボンディング作業が終了し
た後、第15図に示されているように、ペレット51の
集積回路が作り込まれた第1主面側に絶uM54および
接合N55を介してヒートシンク56が接合されるとと
もに、第2主面側に接合i!55Aを介してヒートシン
ク56Aが接合される。すなわち、ペレット51の第1
主面には絶縁層54が樹脂または金属等を用いられて保
護1jりの上に重ねて被着されており、絶縁石54上に
は接合[55が、熱伝導性が良好で、かつ、絶縁層54
およびヒートシンク56のいずれの材料にも接合性の良
好な材料を用いられて、重ねて被着されている。これら
絶縁層54および接合層55はペレソ1−51が製造さ
れる所謂前工程において、予め、形成しておいてもよい
し、インナボンディング作業後に、形成してもよい、但
し、接合層55がインナボンディング作業後に形成され
る場合には、リード45相互間のMAii性についての
配慮が必要である。したがって、この場合、接合層55
はヒートシンク56側に形成しておいてもよい。 ペレット51の第1主面に接合される第1ヒートシンク
56は銅等のような熱伝導性の良好な材料を用いられて
、ペレット51よりも大きめの正方形の平盤形状に形成
されており、ヒートシンク56のペレット51との接合
面には接合部57が一体的に突設されている。この接合
部57はその平面形状がペレット51の第1主面におけ
るバンブ52群に取り囲まれた空スペースよりも小さ目
の大きさになるように、かつ、その高さがリード45と
の干渉を回避し得るように形成されている。 ヒートシンク56の外周面には係合部としての環状溝5
8が没設されており、この環状溝58は後述する樹脂封
止パッケージと係合することによりヒートシンク56を
確実に固定するとともに、リークバスを長くするように
なっている。さらに、ヒートシンク56の上面には放熱
用のフィン59が凹凸形状に形成されており、このフィ
ン59は樹脂封止パッケージの外部に露出されて、ヒー
トシンク56の放熱面積を大きく形成することにより、
放熱効率をより一層高めるようになっている。 他方、ペレット51の第2主面に接合される第2ヒート
シンク56Aは接合部57が突設されない点を除いて、
第1ヒートシンク56の構造と略同様に構成されている
。 そして、前記のように構成された第1ヒートシンク16
はその接合部17においてペレット51の第1主面に接
合される。このとき、接合層55によりヒートシンク5
6とペレット51との接合が実行される。接合手段とし
ては、ヒートシンク56を加熱して接合層55をi8融
されることにより溶着する方法を適用することができる
。また、絶縁層54によりヒートシンク56とペレット
51との間は電気的に絶縁される。また、第2ヒートシ
ンク56Aはそのフィン59とは反対側の平面において
ペレットの第2主面に接合される。接合手段としては、
接合層55Aに熱伝導性の良好な接着材を用いることに
よりヒートシンクをベレ7 t・に接着する方法を適用
することができる。 このようにして、ペレット51とリード45群とがテー
プ・オートメイテフド・ボンディングされるとともに、
ヒートシンク56および56Aがペレット51の両面に
それぞれ結合されたキャリアテープ42には、エポキシ
樹脂等のような絶縁性樹脂からなる樹脂封止パッケージ
60群が、第16図に示されているようなトランスファ
成形装置7oを使用されて各ペレット51について同時
成形される。 第16図に示されているトランスファ成形装置はシリン
ダ装置等(図示せず)によって互いに型締めされる一対
の上型71と下型72と壱01ηえており、上型71と
下型72との合わせ面には上型キャビティー凹部73a
と、下型キャビティー四部73bとが互いに協働してキ
ャビティー73を形成するように複数組(1組のみが図
示されている。)没設されている。上型71の合わせ面
にはボット74が開設されており、ボット74にはシリ
ンダ装rIt(図示せず)により進退されるプランジャ
75が成形材料としての樹脂(以下、レジンという、)
を送給し得るように挿入されている。 下型72の合わせ面にはカル76がボット74との対向
位置に配されて没設されているとともに、複数条のラン
ナ77がボンド74にそれぞれ接続するように放射状に
配されて没設されている。各ランナ77の他端部は下側
キャビティー凹部73bにそれぞれ接続されており、そ
の接続部にはゲー178がレジンをキャビティー73内
に注入し得るように形成されている。また、上型71の
合わせ面には逃げ凹所79がキャリアテープ42の厚み
を逃げ得るように、キャリアテープ42の外形よりも若
干大きめの長方形で、その厚さと略等しい寸法の一定深
さに没設されている。 前記構成にかかるキャリアテープ42を用いて樹脂封止
形パッケージをトランスファ成形する場合、上型71お
よび下型72における各キャビティー73はキャリアテ
ープ42における窓孔44の空間にそれぞれ対応される
。 トランスファ成形時において、前記構成にかかるキャリ
アテープ42は上型71に没設されている逃げ凹所79
内に、各ペレット51が各キャビティー73内にそれぞ
れ収容されるように配されてセットされる。続いて、上
型71と下型72とが型締めされ、ボット74からプラ
ンジャ75によりレジン80がランナ77およびゲート
78を通して各キャビティー73に送給されて圧入され
る。 注入後、レジンが熱硬化されて樹脂封止形パッケージ6
0が成形されると、上型7】および下型72は型開きさ
れるとともに、エジェクタ・ピン〔図示せず)によりパ
ッケージ60群が雌型される。このようにして、第17
図に示されているように、パッケージ60群を成形され
たキャリアテープ42はトランスファ成形装置70から
脱装される。 そして、このように樹脂成形されたパッケージ60の内
部には、ペレット51、リード45群のインナ部46、
およびベレッ)51の第1主面および第2主面にそれぞ
れ接合されたヒートシンク56.56Aの一部が樹脂封
止されることになる。 この状態において、両ヒートシンク56.56Aはその
ペレット取付面とは反対側の端面がパッケージ60の表
面からそれぞれ露出するようになっており、リード45
群のアウタ部47はパッケージ60の側面から直角方向
に突出するようになっている。 このようにして樹脂封止パッケージ60を成形されたI
C41はキャリアテープ42に付設された状態のまま、
電気的特性試験等のような検査を受けた後、出荷される
。 そして、出荷されたIC41はキャリアテープ42に付
設された状態のまま、または、樹脂封止パッケージ60
の外方位置で切断されてキャリアテープ42から個別に
分離された状態において、第18図に示されているよう
に、プリント配線基板61上に第1ヒートシンク56を
上向きにして配され、アウタリード47とランドパッド
62との間がリフローはんだ処理される。このとき、リ
ード45の表面には錫めっき膜が被着されているため、
ソルダビリティ−は良好に行われる。 この実装状態で、IC4Lが稼働されてペレット51が
発熱した場合、その熱はペレット51からヒートシンク
56.56Aに直接的に熱伝導されるとともに、ヒート
シンク56.56Aの広い表面積から外気に放熱される
ため、相対的にペレット51は充分に冷却される。また
、ヒートシンク56.56Aに放熱フィンや、押さえ具
等が連設されている場合には、ヒートシンク56.56
Aの熱が放熱フィンや、押さえ具等を通じてさらに広い
範囲に熱伝達されるため、放熱効果はより一層高くなる
。 前記実施例2によれば、前記実施例1の効果に加えて次
の効果が得られる。 (1) リード群にペレットをテープ・オートメイテ
ッド・ボンディングすることにより、小型軽■化および
多ピン化を仔細することができるとともに、実装性およ
び生産性を高めることができるため、多ピンの半導体装
置においても、低価格化を実現することができる。 (2) ペレットの裏面にもヒートシンクを付設する
ことにより、ペレットの熱を表裏面のヒートシンクに直
接的に熱伝導させることができるため、放熱性能をより
一層高めることができ、TAB措造のIC等においても
低熱抵抗化を実現させることができる。 (3) ペレット、リード群およびヒートシンクを樹
脂封止パッケージにより封止することにより、TAB構
造の半導体装置であっても、充分満足し得る封止性能を
確保することができるとともに、アウタリードを樹脂封
止パッケージにより保定することができるため、その強
度を高めることができる。 以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。 例えば、第19図、または第20図および第21図に示
されているように構成してもよい。 第19図において、ペレット51の第2主面には第2ヒ
ートシンクが接合される代わりに、ヒートシンク56を
第1主面に接合されたペレット51が実装基板65に没
設された凹部64に収容されて、接合層65により接合
されているとともに、各リード47がランド66に電気
的に接続されており、さらに、樹脂封止パッケージ67
がボッティング等のような適当な手段により、凹部64
およびヒートシンク56の周りを埋めるように成形され
ている。 第20図においては、ペレンl−L Lが実装基板63
の凹部64に接合層65により接合されているとともに
、ワイヤボンディング作業により、ペレット11のボン
ディングバラI−11aと実装基板63の配線6日との
間にボンディングワイヤ13が橋絡されている。その後
、ヒートシンク16がペレット11の第1主面上にMA
縁FJL4および接合層15を介して接合され、次いで
、樹脂封止パッケージ69がボッティング等のような適
当な手段により、凹部64およびヒートシンク16の周
りを埋めるように成形されている。 つまり、ペレットがリード群にワイヤボンディングまた
はインナボンディングされた後に、ヒートシンクをペレ
ットに付設させるように構成するに限らず、インナボン
ディングと同時ないしは前に、ヒートシンクをペレット
に付設させるように構成してもよい。 また、ヒートシンクのペレット表裏面への付ffl方法
としては、銀ペースト、はんだ材料等のような接合材に
よる接着方法を使用するに限らず、金シリコン共晶層に
よる固着方法等を使用してもよい。 ヒートシンクの形状、大きさ、構造等は、要求される放
熱性能、実装形態(例えば、押さえ具やv6結ボルトの
使用の有無等)、ペレットの性能、大きさ、形状、構造
等々の諸条件に対応して選定することが望ましく、必要
に応じて、放熱フィンやボルト挿通孔、雌ねし等々を設
けることができる。 また、ヒートシンクを形成する材料としては銅系材料を
使用するに限らず、アルミニューム系等のような熱伝導
性の良好な他の金属材ネ1を使用することができる。特
に、炭化シリコン(Sic)等のように熱伝導性に優れ
、かつ、熱膨張率がペレットの材料であるシリコンのそ
れと略等しい材料を使用することが望ましい。 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である表面実装形樹脂封止
パッケージを備え′たICに適用した場合について説明
したが、それに限定されるものではなく、樹脂封止型パ
ワートランジスタや、その他の電子装置全般に通用する
ことができる。 特に、小型軽量、多ビンで、しかも、低価格であり、高
い放熱性能が要求される半導体装置に利用して優れた効
果が得られる。 〔発明の効果〕 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。 ペレットの第り主面にヒートシンクを付設することによ
り、ペレットの熱をヒートシンクに直接的に熱伝導させ
ることができるため、放熱性能を高めることができ、集
積度の高いIC等においても低熱抵抗化を実現させるこ
とができる。
リード群にペレットがテープ・オートメイテッド・ボン
ディングされているとともに、このペレットの表面およ
び2面の両面にヒートシンクがそれぞれ接合されており
、これらペレットと、リードの一部と、ヒートシンクの
一部とが樹脂封止パッケージにより樹脂封止されている
。そして、このICは以下に述べるような製造方法によ
って製造される。 以下、本発明の実施例2である表面実装形樹脂封止パッ
ケージを備えているICの製造方法を説明する。この説
明により、前記ICについての構成の詳細が明らかにさ
れる。 本実施例において、tc、ttはそのペレットとリード
群とがテープ・オートメイテッド・ボンディングにより
機械的かつ電気的に接続されている。 すなわち、キャリア用のテープ42はポリイミド等のよ
うな絶縁性樹脂を用いて、第13図に示されている如く
、同一パターンが長手方向に連続するように一体成形さ
れている。但し、説明および図示は一単位だけについて
行われている。キャリアテープ42における幅方向の両
側端辺部にはピンチ送りに使用される送り孔43が等ピ
ッチに配されて開設されており、両側の送り孔群間には
窓孔44が等ピッチをもって1列縦隊に配されて形成さ
れている。窓孔44は略正方形形状に開設されており、
その大きさは後記するペレットおよびヒートシンクの外
形よりも充分大きく、互いに対向するリードの先端間の
長さよりも若干大きくなるように設定されている。 集積回路を電気的に外部に引き出すためのり一部45は
複数本が、キャリアテープ42の片側平面(以下、第1
主面とする。)上に配されて、銅箔等のような導電性材
$4を用いて溶着や接着等のような適当な手段により固
定的に付設されている。 リード45群は窓孔44における4辺に分けられて、窓
孔44を径方向に貫通ずるように配設されており、各リ
ード45同士が互いに電気的に非接続になるように形成
されている。リード45群の内側先端部は窓孔44内に
突き出されて正方形の端辺上に並ぶように揃えられてお
り、この内側先端部によってインナ部としてのインナリ
ード46が構成されている。リード45群の外側先端部
は窓孔44の外側まで延長されて正方形の端辺上に並ぶ
ように揃えられており、各リードにおける窓孔44の縁
辺内側付近の部分によってアウタ部としてのアウタリー
ド47が構成されている。各す−ド45のキャリアテー
プ42上に固着された端末部にはテスト用端子部4Bが
形成されており、リード45群の表面にはソルダビリテ
ィ−を高めるために錫めっき膜(図示せず)が被着され
ている。 一方、詳細な説明は省略するが、このIC41に使用さ
れるペレット51は半導体装置の製造工程における所謂
前工程において、ウェハ状態にて所望の集積回路を適宜
作り込まれる6そして、集積回路(図示せず)が作り込
まれたペレット51は相対向するインナリード46と4
6との内PIIfi間距離よりも若干大きい略正方形の
小片にグイシングされており、その−平面(以下、第1
主面とする。)における周辺部には、金糸材料を用いて
形成されたバンブ52が複数個、キャリアテープ42に
おける各インナリード46に整合し得るように配されて
突設されている。 リード45群にペレット51がインナリードボンディン
グされる際、キャリアテープ42は複数のスプロケット
(図示せず)間に張設されて一方向に間欠送りされる。 そして、張設されたキャリアテープ42の途中に配設さ
れているインナリードボンデインダステージにおいて、
第[4図に示されているようにペレット51は窓孔44
内に下方から収容されるとともに、各バンプ52を各イ
ンナリード46にそれぞれ整合されてボンディング工具
53により熱圧着されることにより、キャリアテープ4
2に組み付けられる。すなわち、リード45の表面に被
着されている錫めっきl漠と金糸材料から成るバンプ5
2と間において、金−錫の共晶が形成されるため、リー
ド45のインナリード46とバンブ52とは一体的に結
合されることになる。 本実施例においては、インナボンディング作業が終了し
た後、第15図に示されているように、ペレット51の
集積回路が作り込まれた第1主面側に絶uM54および
接合N55を介してヒートシンク56が接合されるとと
もに、第2主面側に接合i!55Aを介してヒートシン
ク56Aが接合される。すなわち、ペレット51の第1
主面には絶縁層54が樹脂または金属等を用いられて保
護1jりの上に重ねて被着されており、絶縁石54上に
は接合[55が、熱伝導性が良好で、かつ、絶縁層54
およびヒートシンク56のいずれの材料にも接合性の良
好な材料を用いられて、重ねて被着されている。これら
絶縁層54および接合層55はペレソ1−51が製造さ
れる所謂前工程において、予め、形成しておいてもよい
し、インナボンディング作業後に、形成してもよい、但
し、接合層55がインナボンディング作業後に形成され
る場合には、リード45相互間のMAii性についての
配慮が必要である。したがって、この場合、接合層55
はヒートシンク56側に形成しておいてもよい。 ペレット51の第1主面に接合される第1ヒートシンク
56は銅等のような熱伝導性の良好な材料を用いられて
、ペレット51よりも大きめの正方形の平盤形状に形成
されており、ヒートシンク56のペレット51との接合
面には接合部57が一体的に突設されている。この接合
部57はその平面形状がペレット51の第1主面におけ
るバンブ52群に取り囲まれた空スペースよりも小さ目
の大きさになるように、かつ、その高さがリード45と
の干渉を回避し得るように形成されている。 ヒートシンク56の外周面には係合部としての環状溝5
8が没設されており、この環状溝58は後述する樹脂封
止パッケージと係合することによりヒートシンク56を
確実に固定するとともに、リークバスを長くするように
なっている。さらに、ヒートシンク56の上面には放熱
用のフィン59が凹凸形状に形成されており、このフィ
ン59は樹脂封止パッケージの外部に露出されて、ヒー
トシンク56の放熱面積を大きく形成することにより、
放熱効率をより一層高めるようになっている。 他方、ペレット51の第2主面に接合される第2ヒート
シンク56Aは接合部57が突設されない点を除いて、
第1ヒートシンク56の構造と略同様に構成されている
。 そして、前記のように構成された第1ヒートシンク16
はその接合部17においてペレット51の第1主面に接
合される。このとき、接合層55によりヒートシンク5
6とペレット51との接合が実行される。接合手段とし
ては、ヒートシンク56を加熱して接合層55をi8融
されることにより溶着する方法を適用することができる
。また、絶縁層54によりヒートシンク56とペレット
51との間は電気的に絶縁される。また、第2ヒートシ
ンク56Aはそのフィン59とは反対側の平面において
ペレットの第2主面に接合される。接合手段としては、
接合層55Aに熱伝導性の良好な接着材を用いることに
よりヒートシンクをベレ7 t・に接着する方法を適用
することができる。 このようにして、ペレット51とリード45群とがテー
プ・オートメイテフド・ボンディングされるとともに、
ヒートシンク56および56Aがペレット51の両面に
それぞれ結合されたキャリアテープ42には、エポキシ
樹脂等のような絶縁性樹脂からなる樹脂封止パッケージ
60群が、第16図に示されているようなトランスファ
成形装置7oを使用されて各ペレット51について同時
成形される。 第16図に示されているトランスファ成形装置はシリン
ダ装置等(図示せず)によって互いに型締めされる一対
の上型71と下型72と壱01ηえており、上型71と
下型72との合わせ面には上型キャビティー凹部73a
と、下型キャビティー四部73bとが互いに協働してキ
ャビティー73を形成するように複数組(1組のみが図
示されている。)没設されている。上型71の合わせ面
にはボット74が開設されており、ボット74にはシリ
ンダ装rIt(図示せず)により進退されるプランジャ
75が成形材料としての樹脂(以下、レジンという、)
を送給し得るように挿入されている。 下型72の合わせ面にはカル76がボット74との対向
位置に配されて没設されているとともに、複数条のラン
ナ77がボンド74にそれぞれ接続するように放射状に
配されて没設されている。各ランナ77の他端部は下側
キャビティー凹部73bにそれぞれ接続されており、そ
の接続部にはゲー178がレジンをキャビティー73内
に注入し得るように形成されている。また、上型71の
合わせ面には逃げ凹所79がキャリアテープ42の厚み
を逃げ得るように、キャリアテープ42の外形よりも若
干大きめの長方形で、その厚さと略等しい寸法の一定深
さに没設されている。 前記構成にかかるキャリアテープ42を用いて樹脂封止
形パッケージをトランスファ成形する場合、上型71お
よび下型72における各キャビティー73はキャリアテ
ープ42における窓孔44の空間にそれぞれ対応される
。 トランスファ成形時において、前記構成にかかるキャリ
アテープ42は上型71に没設されている逃げ凹所79
内に、各ペレット51が各キャビティー73内にそれぞ
れ収容されるように配されてセットされる。続いて、上
型71と下型72とが型締めされ、ボット74からプラ
ンジャ75によりレジン80がランナ77およびゲート
78を通して各キャビティー73に送給されて圧入され
る。 注入後、レジンが熱硬化されて樹脂封止形パッケージ6
0が成形されると、上型7】および下型72は型開きさ
れるとともに、エジェクタ・ピン〔図示せず)によりパ
ッケージ60群が雌型される。このようにして、第17
図に示されているように、パッケージ60群を成形され
たキャリアテープ42はトランスファ成形装置70から
脱装される。 そして、このように樹脂成形されたパッケージ60の内
部には、ペレット51、リード45群のインナ部46、
およびベレッ)51の第1主面および第2主面にそれぞ
れ接合されたヒートシンク56.56Aの一部が樹脂封
止されることになる。 この状態において、両ヒートシンク56.56Aはその
ペレット取付面とは反対側の端面がパッケージ60の表
面からそれぞれ露出するようになっており、リード45
群のアウタ部47はパッケージ60の側面から直角方向
に突出するようになっている。 このようにして樹脂封止パッケージ60を成形されたI
C41はキャリアテープ42に付設された状態のまま、
電気的特性試験等のような検査を受けた後、出荷される
。 そして、出荷されたIC41はキャリアテープ42に付
設された状態のまま、または、樹脂封止パッケージ60
の外方位置で切断されてキャリアテープ42から個別に
分離された状態において、第18図に示されているよう
に、プリント配線基板61上に第1ヒートシンク56を
上向きにして配され、アウタリード47とランドパッド
62との間がリフローはんだ処理される。このとき、リ
ード45の表面には錫めっき膜が被着されているため、
ソルダビリティ−は良好に行われる。 この実装状態で、IC4Lが稼働されてペレット51が
発熱した場合、その熱はペレット51からヒートシンク
56.56Aに直接的に熱伝導されるとともに、ヒート
シンク56.56Aの広い表面積から外気に放熱される
ため、相対的にペレット51は充分に冷却される。また
、ヒートシンク56.56Aに放熱フィンや、押さえ具
等が連設されている場合には、ヒートシンク56.56
Aの熱が放熱フィンや、押さえ具等を通じてさらに広い
範囲に熱伝達されるため、放熱効果はより一層高くなる
。 前記実施例2によれば、前記実施例1の効果に加えて次
の効果が得られる。 (1) リード群にペレットをテープ・オートメイテ
ッド・ボンディングすることにより、小型軽■化および
多ピン化を仔細することができるとともに、実装性およ
び生産性を高めることができるため、多ピンの半導体装
置においても、低価格化を実現することができる。 (2) ペレットの裏面にもヒートシンクを付設する
ことにより、ペレットの熱を表裏面のヒートシンクに直
接的に熱伝導させることができるため、放熱性能をより
一層高めることができ、TAB措造のIC等においても
低熱抵抗化を実現させることができる。 (3) ペレット、リード群およびヒートシンクを樹
脂封止パッケージにより封止することにより、TAB構
造の半導体装置であっても、充分満足し得る封止性能を
確保することができるとともに、アウタリードを樹脂封
止パッケージにより保定することができるため、その強
度を高めることができる。 以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。 例えば、第19図、または第20図および第21図に示
されているように構成してもよい。 第19図において、ペレット51の第2主面には第2ヒ
ートシンクが接合される代わりに、ヒートシンク56を
第1主面に接合されたペレット51が実装基板65に没
設された凹部64に収容されて、接合層65により接合
されているとともに、各リード47がランド66に電気
的に接続されており、さらに、樹脂封止パッケージ67
がボッティング等のような適当な手段により、凹部64
およびヒートシンク56の周りを埋めるように成形され
ている。 第20図においては、ペレンl−L Lが実装基板63
の凹部64に接合層65により接合されているとともに
、ワイヤボンディング作業により、ペレット11のボン
ディングバラI−11aと実装基板63の配線6日との
間にボンディングワイヤ13が橋絡されている。その後
、ヒートシンク16がペレット11の第1主面上にMA
縁FJL4および接合層15を介して接合され、次いで
、樹脂封止パッケージ69がボッティング等のような適
当な手段により、凹部64およびヒートシンク16の周
りを埋めるように成形されている。 つまり、ペレットがリード群にワイヤボンディングまた
はインナボンディングされた後に、ヒートシンクをペレ
ットに付設させるように構成するに限らず、インナボン
ディングと同時ないしは前に、ヒートシンクをペレット
に付設させるように構成してもよい。 また、ヒートシンクのペレット表裏面への付ffl方法
としては、銀ペースト、はんだ材料等のような接合材に
よる接着方法を使用するに限らず、金シリコン共晶層に
よる固着方法等を使用してもよい。 ヒートシンクの形状、大きさ、構造等は、要求される放
熱性能、実装形態(例えば、押さえ具やv6結ボルトの
使用の有無等)、ペレットの性能、大きさ、形状、構造
等々の諸条件に対応して選定することが望ましく、必要
に応じて、放熱フィンやボルト挿通孔、雌ねし等々を設
けることができる。 また、ヒートシンクを形成する材料としては銅系材料を
使用するに限らず、アルミニューム系等のような熱伝導
性の良好な他の金属材ネ1を使用することができる。特
に、炭化シリコン(Sic)等のように熱伝導性に優れ
、かつ、熱膨張率がペレットの材料であるシリコンのそ
れと略等しい材料を使用することが望ましい。 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である表面実装形樹脂封止
パッケージを備え′たICに適用した場合について説明
したが、それに限定されるものではなく、樹脂封止型パ
ワートランジスタや、その他の電子装置全般に通用する
ことができる。 特に、小型軽量、多ビンで、しかも、低価格であり、高
い放熱性能が要求される半導体装置に利用して優れた効
果が得られる。 〔発明の効果〕 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。 ペレットの第り主面にヒートシンクを付設することによ
り、ペレットの熱をヒートシンクに直接的に熱伝導させ
ることができるため、放熱性能を高めることができ、集
積度の高いIC等においても低熱抵抗化を実現させるこ
とができる。
第り図は本発明の一実施例である半導体装置を示す一部
切断正面図、 第2図は多連リードフレームを示す一部省略平面図、 第3図はその製造途中を示す一部省略平面図、第4図は
第3図の縦断面図、 第5図はヒートシンクの一実施例を示す斜視昧第6図は
ヒートシンク接合工程を示す縦断面図、第7図は樹脂封
止パッケージ成形作業を示す縦断面図、 第8図はパッケージ成形後を示す平面図、第9図はその
半導体装置の実装状態を示す斜視図、 第10図は同じく一部切断正面図である。 第11図は本発明の他の実施例である半導体装置を示す
一部切断正面図、 第12図はその外観斜視図、 第13図はキャリアテープを示す一部省略平面図、 第14121はインナリードボンディング作業を示す縦
断面図、 第15図はヒートシンク接合工程を示す縦断面図、 第16図は樹脂封止パッケージ成形作業を示す一部省略
縦断面図、 第17図はパッケージ成形後を示す一部省略平面図、 第18図はその半導体装置の実装状態壱示ず斜視図であ
る。 第19図は本発明の他の実施例を示す一部切断正面図、 第20図および第21図は本発明の別の他の実施例を示
す各縦断面図である。 ・1・・・多連リードフレーム、2・・・単位リードフ
レーム、3・・・外枠、4・・・セクション枠、5・・
・タブ吊りリード、6・・・タブ、7・・・ダム部材、
7a・・・ダム、8・・・リード、11・・・ペレット
、】2・・・ボンディング層、13・・・ボンディング
ワイヤ、14.54・・・絶縁層、15.55・・・接
合層、16.56・・・ヒートシンク、17.57・・
・接合部、18.58・・・係合溝、19.59・・・
フィン、20.60.67.69・・・樹脂封止パッケ
ージ、21・・・5OP−IC(半導体装置)、22・
・・プリント配線基板、23・・・ランドバンド、30
.70・・・トランスファ成形装置、31.71・・・
上型、32.72・・・下型、33.73・・・キャビ
ティー、34.74・・・ボンド、35.75・・・プ
ランジャ、36.76・・・カル、37.77・・・ラ
ンナ、38.78・・・ゲート、39.79・・・凹所
、40.80・・・レジン、41・・・TAB構造のI
C(半導体装置)、42・・・キャリアテープ、43・
・・送り孔、44・・・8孔、45・・・リード、46
・・・インナリード、47・・・アウタリード、48・
・・テスト用端子、51・・・ペレット、52・・・ノ
マンプ、53・・・ボンディング工具、56A・・・ヒ
ートシンク。 代理人 弁理士 梶 原 辰 也第3rXJ 第4図 第11図 ム1 第13図
切断正面図、 第2図は多連リードフレームを示す一部省略平面図、 第3図はその製造途中を示す一部省略平面図、第4図は
第3図の縦断面図、 第5図はヒートシンクの一実施例を示す斜視昧第6図は
ヒートシンク接合工程を示す縦断面図、第7図は樹脂封
止パッケージ成形作業を示す縦断面図、 第8図はパッケージ成形後を示す平面図、第9図はその
半導体装置の実装状態を示す斜視図、 第10図は同じく一部切断正面図である。 第11図は本発明の他の実施例である半導体装置を示す
一部切断正面図、 第12図はその外観斜視図、 第13図はキャリアテープを示す一部省略平面図、 第14121はインナリードボンディング作業を示す縦
断面図、 第15図はヒートシンク接合工程を示す縦断面図、 第16図は樹脂封止パッケージ成形作業を示す一部省略
縦断面図、 第17図はパッケージ成形後を示す一部省略平面図、 第18図はその半導体装置の実装状態壱示ず斜視図であ
る。 第19図は本発明の他の実施例を示す一部切断正面図、 第20図および第21図は本発明の別の他の実施例を示
す各縦断面図である。 ・1・・・多連リードフレーム、2・・・単位リードフ
レーム、3・・・外枠、4・・・セクション枠、5・・
・タブ吊りリード、6・・・タブ、7・・・ダム部材、
7a・・・ダム、8・・・リード、11・・・ペレット
、】2・・・ボンディング層、13・・・ボンディング
ワイヤ、14.54・・・絶縁層、15.55・・・接
合層、16.56・・・ヒートシンク、17.57・・
・接合部、18.58・・・係合溝、19.59・・・
フィン、20.60.67.69・・・樹脂封止パッケ
ージ、21・・・5OP−IC(半導体装置)、22・
・・プリント配線基板、23・・・ランドバンド、30
.70・・・トランスファ成形装置、31.71・・・
上型、32.72・・・下型、33.73・・・キャビ
ティー、34.74・・・ボンド、35.75・・・プ
ランジャ、36.76・・・カル、37.77・・・ラ
ンナ、38.78・・・ゲート、39.79・・・凹所
、40.80・・・レジン、41・・・TAB構造のI
C(半導体装置)、42・・・キャリアテープ、43・
・・送り孔、44・・・8孔、45・・・リード、46
・・・インナリード、47・・・アウタリード、48・
・・テスト用端子、51・・・ペレット、52・・・ノ
マンプ、53・・・ボンディング工具、56A・・・ヒ
ートシンク。 代理人 弁理士 梶 原 辰 也第3rXJ 第4図 第11図 ム1 第13図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、第1主面側に集積回路が作り込まれている半導体ペ
レットと、この半導体ペレットの集積回路に電気的に接
続されている複数本のリードと、この半導体ペレットお
よびリードの一部を樹脂封止するパッケージとを備えて
いる半導体装置において、前記半導体ペレットの第1主
面にヒートシンクが絶縁層を介して接合されているとと
もに、このヒートシンクが前記パッケージにその一部を
露出されて植設されていることを特徴とする半導体装置
。 2、前記半導体ペレットの第2主面にもヒートシンクが
接合されているとともに、このヒートシンクが前記パッ
ケージにその一部を露出されて植設されていることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 3、前記リード群がキャリアテープにより一体化され、
各リードに前記半導体ペレットがテープ・オートメイテ
ッド・ボンディングにより電気的にそれぞれ接続されて
成ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導
体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1002627A JP2660732B2 (ja) | 1989-01-09 | 1989-01-09 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1002627A JP2660732B2 (ja) | 1989-01-09 | 1989-01-09 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02181956A true JPH02181956A (ja) | 1990-07-16 |
JP2660732B2 JP2660732B2 (ja) | 1997-10-08 |
Family
ID=11534634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1002627A Expired - Fee Related JP2660732B2 (ja) | 1989-01-09 | 1989-01-09 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2660732B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0488783A2 (en) * | 1990-11-30 | 1992-06-03 | Shinko Electric Industries Co. Ltd. | Lead frame for semiconductor device comprising a heat sink |
EP0712159A3 (en) * | 1994-11-08 | 1997-03-26 | Oki Electric Ind Co Ltd | Structure of a resin molded semiconductor |
US5705851A (en) * | 1995-06-28 | 1998-01-06 | National Semiconductor Corporation | Thermal ball lead integrated package |
EP1335426A2 (en) * | 2002-02-07 | 2003-08-13 | Motorola, Inc. | Packaged semiconductor device and method of formation |
-
1989
- 1989-01-09 JP JP1002627A patent/JP2660732B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0488783A2 (en) * | 1990-11-30 | 1992-06-03 | Shinko Electric Industries Co. Ltd. | Lead frame for semiconductor device comprising a heat sink |
EP0712159A3 (en) * | 1994-11-08 | 1997-03-26 | Oki Electric Ind Co Ltd | Structure of a resin molded semiconductor |
US6002181A (en) * | 1994-11-08 | 1999-12-14 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Structure of resin molded type semiconductor device with embedded thermal dissipator |
US5705851A (en) * | 1995-06-28 | 1998-01-06 | National Semiconductor Corporation | Thermal ball lead integrated package |
EP1335426A2 (en) * | 2002-02-07 | 2003-08-13 | Motorola, Inc. | Packaged semiconductor device and method of formation |
EP1335426A3 (en) * | 2002-02-07 | 2008-07-30 | Freescale Semiconductor, Inc. | Packaged semiconductor device and method of formation |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2660732B2 (ja) | 1997-10-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |