JPH02166116A - Epoxy resin molding material for sealing electronic component - Google Patents

Epoxy resin molding material for sealing electronic component

Info

Publication number
JPH02166116A
JPH02166116A JP32086188A JP32086188A JPH02166116A JP H02166116 A JPH02166116 A JP H02166116A JP 32086188 A JP32086188 A JP 32086188A JP 32086188 A JP32086188 A JP 32086188A JP H02166116 A JPH02166116 A JP H02166116A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
molding material
component
epoxy
groups
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32086188A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumio Furusawa
文夫 古沢
Shinsuke Hagiwara
伸介 萩原
Hiroyuki Saito
裕之 斉藤
Shigeki Ichimura
茂樹 市村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP32086188A priority Critical patent/JPH02166116A/en
Publication of JPH02166116A publication Critical patent/JPH02166116A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Insulating Of Coils (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the title material improved in moldability and humidity resistance by mixing an epoxy resin with a phenolic compound, a specified reaction product, a solid silicone polymer and an inorganic filler. CONSTITUTION:An epoxy resin (A) having at least two epoxy groups in the molecule, desirably a novolac epoxy resin of an epoxy equivalent <=320, is mixed with a compound (B) having at least two phenolic hydroxyls in the molecule, desirably a novolac phenolic resin of a number-average MW of 300-600, a reaction product (C) obtained by reacting component A or B with a reactive silicone oil having 50 or lens functional groups per 100 epoxy or phenolic hydroxyl groups for 1-50hr in the presence of a catalyst in such amounts that the ratio of total epoxies to total phenolic hydroxyls in components A-C is 0.8-1.2. The obtained mixture is mixed with 2-10wt.% based on the total of components A-C, solid silicone polymer (D) of a max. particle diameter <=150mum and a hardness <=80 and 50-80vol.%, based on the total of the obtained molding material, inorganic filler.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、成形性及び耐湿性に優れた電子部品封止用エ
ポキシ樹脂成形材料に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an epoxy resin molding material for encapsulating electronic components that has excellent moldability and moisture resistance.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、コイル、コンデンサ、トランジスタ、IC等の電
子部品封止用として、エポキシ樹脂成形材料が広く用い
られている。その理由は、エポキシ樹脂が電気特性、耐
熱性、機械強度、インサートとの密着性等の緒特性にバ
ランスがとれているためである。
Conventionally, epoxy resin molding materials have been widely used for encapsulating electronic components such as coils, capacitors, transistors, and ICs. This is because the epoxy resin has well-balanced properties such as electrical properties, heat resistance, mechanical strength, and adhesion to the insert.

近年、電子部品、特にICの分野においては、部品の高
機能化に伴う素子サイズの大形化の反面、パッケージの
軽薄短小化が推進される傾向にある。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of electronic components, particularly ICs, there has been a trend to make packages lighter, thinner, shorter and smaller, while element sizes have become larger as parts become more sophisticated.

そのため、封止用成形材料には、従来からの要求特性で
ある高耐熱性に加えて、低応力性が必須の条件となって
いる。高耐熱性の要求から、多官能エポキシ樹脂である
ノボラック型エポキシ樹脂を、多価フェノールであるフ
ェノールノボラック樹脂により硬化させた樹脂系が一般
的に採用されている。また、低応力化については、各種
のゴム成分を添加混合し、低弾性率化する方法が検討さ
れてきた。その結果、現在では、上記の耐熱性に優れた
樹脂系に、可撓化剤としてシリコーンオイルを添加した
エポキシ樹脂成形材料が広く使用されるようになってい
る。シリコーンオイルは成形材料のベース樹脂であるエ
ポキシ樹脂及び硬化剤と相溶しないため、ベース樹脂中
に微粒子分散(海島構造)し、耐熱性を維持したまま低
弾性率化が図れる。
Therefore, in addition to high heat resistance, which is a conventionally required property, low stress properties are essential conditions for molding materials for sealing. Due to the requirement for high heat resistance, a resin system in which a novolac type epoxy resin, which is a polyfunctional epoxy resin, is cured with a phenol novolac resin, which is a polyhydric phenol, is generally employed. Furthermore, in order to reduce the stress, a method of adding and mixing various rubber components to lower the elastic modulus has been studied. As a result, epoxy resin molding materials in which silicone oil is added as a flexibilizer to the above-mentioned resin system with excellent heat resistance are now widely used. Since silicone oil is incompatible with the epoxy resin and curing agent that are the base resin of the molding material, fine particles are dispersed in the base resin (sea-island structure), making it possible to lower the elastic modulus while maintaining heat resistance.

しかし、上記のようなシリコーンを単純ブレンドした成
形材料では、成形時シリコーンとベース樹脂が相分離し
、シリコーンがブリードし易いため、金型汚れなどの問
題を起こし易い。この問題の解決策としては、既に、シ
リコーンとベース樹脂を予備反応させて用いる方法が提
案されており、良好な結果が得られている(例えば、特
公昭62−36050号公報、特公昭63−32807
号公報)。
However, with a molding material that is a simple blend of silicone as described above, the silicone and the base resin phase separate during molding, and the silicone tends to bleed, which tends to cause problems such as mold staining. As a solution to this problem, a method has already been proposed in which silicone and a base resin are pre-reacted, and good results have been obtained (for example, Japanese Patent Publication No. 36050/1983, Japanese Patent Publication No. 63/1983) 32807
Publication No.).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上述のように、シリコーンを予めベース樹脂と予備反応
させ、シリコーンをベース樹脂に固定化する方法を採用
すれば、金型汚れなどの成形性が改良されるものの、耐
湿性が十分でないという問題点がある6本発明は、成形
性を損なうことなく、耐湿性を向上させた電子部品封止
用エポキシ樹脂成形材料を提供するものである。
As mentioned above, if a method is adopted in which silicone is pre-reacted with the base resin and silicone is fixed to the base resin, moldability such as mold stains can be improved, but the problem is that moisture resistance is insufficient. The present invention provides an epoxy resin molding material for encapsulating electronic components that has improved moisture resistance without impairing moldability.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討を
重ねた結果、次に示す成形材料が有効なことを見出し、
本発明を完成させるに至った。
As a result of extensive studies to solve the above problems, the present inventors discovered that the following molding materials are effective.
The present invention has now been completed.

すなわち本発明は、 (A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキ
シ樹脂、 (B)1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有す
る化合物、 (C)上記(A)成分又は(B)成分と反応性シリコー
ンオイルとの反応物 (D)最大粒径150μm以下、硬度80以下の固形シ
リコーン重合体及び (E)無機質充填剤 を必須成分として成ることを特徴とする電子部品対土用
エポキシ樹脂成形材料を提供するものである。
That is, the present invention provides (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, (B) a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, (C) the above component (A), or An electronic component pair comprising (B) a reaction product of component and reactive silicone oil, (D) a solid silicone polymer having a maximum particle size of 150 μm or less and a hardness of 80 or less, and (E) an inorganic filler as essential components. The present invention provides epoxy resin molding materials for soil use.

本発明において用いられる(A)成分の1分子中に2個
以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂としては、電子
部品封止用エポキシ樹脂成形材料で、一般に使用されて
いるものであれば制限はなく、フェノールノボラック型
エポキシ樹脂、オルツクし・ゾールノボラック型エポキ
シ樹脂をはじめとするフェノール類とアルデヒド類のノ
ボラック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェノールA
1ビスフエノールB1ビスフエノールF1ビスフエノー
ルS等のジグリシジルエーテル、フタル酸、ダイマー酸
等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られ
るグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェ
ニルメタン、インシアヌール酸等のポリアミンとエピク
ロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルアミン
型エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸
化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、及び脂環式エ
ポキシ樹脂等があるが、耐熱性の点から、エポキシ当量
230以下のノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。
The epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule of component (A) used in the present invention is not limited as long as it is a commonly used epoxy resin molding material for encapsulating electronic components. , phenol novolak type epoxy resin, epoxidized phenol and aldehyde novolac resins including Ortsukushi-sol novolac type epoxy resin, bisphenol A
1 Bisphenol B 1 Bisphenol F 1 Diglycidyl ether such as Bisphenol S, glycidyl ester type epoxy resin obtained by reacting polybasic acids such as phthalic acid and dimer acid with epichlorohydrin, polyamines such as diaminodiphenylmethane and incyanuric acid, and epichlorohydrin. There are glycidylamine type epoxy resins obtained by the reaction of A novolac type epoxy resin having an epoxy equivalent of 230 or less is preferred.

本発明において用いられる(B)成分の1分子中に2個
以上のフェノール性水酸基を有する化合物としては、フ
ェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カ
テコール、ビスフェノールA・ビスフェノールFなどの
フェノール類とホルムアルデヒドとを酸性触媒下で縮合
反応させて得られるノボラック型フェノール樹脂、ビス
フエノ−ルA1ビスフェノールF、ポリバラビニルフェ
ノール樹脂、レゾルシン、カテコール、ハイドロキノン
などの多価フェノールなどがあり、単独又は2種類以上
併用して使用することができるが、コスト及び特性のバ
ランスの点から、ノボラック型フェノール樹脂が好まし
い。また、数平均分子量は300〜600が好適である
。数平均分子量300未満では、耐熱性が十分でなく、
600を超えると、成形材料の流動性が低下するためで
ある。
Compounds having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule of component (B) used in the present invention include phenols such as phenol, cresol, xylenol, resorcinol, catechol, bisphenol A and bisphenol F, and formaldehyde. There are novolac-type phenol resins obtained by condensation reaction under acidic catalysts, bisphenol A1 bisphenol F, polyvarabinyl phenol resins, and polyhydric phenols such as resorcinol, catechol, and hydroquinone, which can be used alone or in combination of two or more. Although it can be used, a novolac type phenolic resin is preferred from the viewpoint of cost and balance of properties. Further, the number average molecular weight is preferably 300 to 600. When the number average molecular weight is less than 300, heat resistance is insufficient,
This is because when it exceeds 600, the fluidity of the molding material decreases.

次に、本発明に用いる(C)成分は、上記(A)成分又
は(B)成分と反応性シリコーンオイルとの反応物fあ
り、反応性シリコーンオイルの官能基としては、(A)
成分中のエポキシ基又は(B)成分中のフェノール性水
酸基と反応可能な官能基であれば特に制限はない。この
ようなシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーン
を基本構造とし、この分子中の末端及び/又は側鎖に、
アミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ヒドロキシ
フェニル基、エポキシ基、アルコキシ基などの官能基を
有するものであり、さらに、(A)、CB)成分との相
溶性を向上させるためにメチル基の一部が、フェニル基
、ポリオキシアルキレン基などで置換された構造であっ
ても良い0反応物を合成する方法としては、選択した官
能基に応じて、従来公知の触媒の存在下、溶媒の存在下
又は非存在下で、(A)成分又は(B)成分と反応性シ
リコーンオイルの混合物を加熱攪拌することにより行う
ことができる。好適な溶媒としては、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン等を
あげることができる0反応時間としては、反応系の官能
基濃度、溶解性、反応温度によっても異なるが、1〜5
0時間である。
Next, the (C) component used in the present invention is a reaction product f of the above-mentioned (A) component or (B) component and a reactive silicone oil, and the functional groups of the reactive silicone oil are (A)
There is no particular restriction as long as it is a functional group that can react with the epoxy group in the component or the phenolic hydroxyl group in the component (B). Such silicone oil has a basic structure of dimethyl silicone, and has the terminal and/or side chain of this molecule,
It has a functional group such as an amino group, a carboxyl group, a mercapto group, a hydroxyphenyl group, an epoxy group, an alkoxy group, etc. In addition, one of the methyl groups is added to improve the compatibility with components (A) and CB). The method for synthesizing the 0 reactant may have a structure in which the moiety is substituted with a phenyl group, a polyoxyalkylene group, etc., depending on the selected functional group, in the presence of a conventionally known catalyst and in the presence of a solvent. This can be carried out by heating and stirring a mixture of component (A) or component (B) and reactive silicone oil in the presence or absence of the silicone oil. Suitable solvents include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, etc. The reaction time varies depending on the functional group concentration, solubility, and reaction temperature of the reaction system, but is 1 to 5.
It is 0 hours.

(C)成分の合成に際し重要なことは、(A)成分又は
(B)成分中の官能基すなわちエポキシ基又はフェノー
ル性水酸基の一部が残るように、反応性シリコーンオイ
ルの官能基量を調節することである。すなわち、エポキ
シ基又はフェノール性水酸基の数を100とした場合、
シリコーンオイル中の官能基数が50以下となるように
配合し合成反応を行うことが好ましい、このような条件
下で合成された(C)成分を用いることにより、成形材
料を金型内で硬化させた時、(A)成分、(B)成分、
(C)成分が均一に硬化し、可撓剤であるシリコーンが
、硬化樹脂中に均一に分散し、固定化される。また、(
C)成分合成に用いる(A)成分、(B)成分は、先に
述べた理由により、(A)成分としてはエポキシ当量2
30以下のノボラック型エポキシ樹脂、(B)成分とし
ては、数平均分子1300〜600のノボラック型フェ
ノール樹脂が特に好ましい。(C)成分の添加量は、(
A) +(B)+ (C)合計量に対して5〜70重量
%の範囲とすることが好ましい。5重量%未満では十分
な低応力性が得られず、70重量%を超えると硬化物の
機械的強度が低下するためである。
What is important when synthesizing component (C) is to adjust the amount of functional groups in the reactive silicone oil so that some of the functional groups in component (A) or component (B), that is, epoxy groups or phenolic hydroxyl groups, remain. It is to be. That is, when the number of epoxy groups or phenolic hydroxyl groups is 100,
It is preferable to carry out the synthesis reaction by blending the silicone oil so that the number of functional groups is 50 or less. By using component (C) synthesized under such conditions, the molding material can be cured in the mold. When, (A) component, (B) component,
Component (C) is uniformly cured, and silicone as a flexible agent is uniformly dispersed and fixed in the cured resin. Also,(
For the reasons stated above, the (A) component and (B) component used in component C) synthesis have an epoxy equivalent of 2.
As the novolac type epoxy resin having a number average molecular weight of 30 or less and the component (B), a novolak type phenol resin having a number average molecular weight of 1300 to 600 is particularly preferable. The amount of component (C) added is (
A) + (B) + (C) It is preferably in the range of 5 to 70% by weight based on the total amount. This is because if it is less than 5% by weight, sufficient low stress properties cannot be obtained, and if it exceeds 70% by weight, the mechanical strength of the cured product will decrease.

上記(A)、(B)、(C)成分の配合量としては、3
成分中の(エポキシ基数の合計)/(フェノール性水酸
基数の合計)が0.8〜1゜2となるように配合するこ
とが、バランスのとれた硬化物を得るために好ましい。
The blending amount of the above components (A), (B), and (C) is 3
In order to obtain a well-balanced cured product, it is preferable to mix the components so that (total number of epoxy groups)/(total number of phenolic hydroxyl groups) is 0.8 to 1°2.

本発明に用いる(D)成分の固形シリコーン重合体は、
最大粒径150μm以下かつ硬度80以下とする必要が
ある。ここでいう硬度とは、日本ゴム協会標準規格5R
IS−0101に準拠し、そのC型硬度計で測定した値
を示す。まず、最大粒径を150μm以下と規定した理
由は、成形時に金型ゲートづまりが起こらないようにす
るためである。ICなどの電子部品を形成する金型のゲ
ートサイズは、パッケージの小形薄形化とともに小さく
なっており、最近では200〜500μm程度である。
The solid silicone polymer as component (D) used in the present invention is:
The maximum particle size must be 150 μm or less and the hardness must be 80 or less. The hardness here refers to the Japan Rubber Association standard 5R.
Based on IS-0101, the values measured using the C-type hardness tester are shown. First, the reason why the maximum particle size is specified to be 150 μm or less is to prevent mold gate clogging from occurring during molding. The gate size of a mold for forming electronic components such as ICs has become smaller as packages become smaller and thinner, and is currently about 200 to 500 μm.

したがって、ゲートづまりなどの成形トラブルを生じさ
せないためには最大粒径150am以下とする必要があ
る。次に、硬度については、硬度が80を超えたものを
用いた場合、耐湿性向上効果が認められないため、80
以下とする必要がある。(D)成分の具体例としては、
ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサ
ン、ジメチルシロキサン−ジフェニルシロキサンコポリ
マーなどポリオルガノシロキサンの高重合体があげられ
る。さらにこれらポリオルガノシロキサン重合体の架橋
物を用いてもよい、また、構造中にシラノール基、ヒド
ロキシ基、カルボキシル基、ビニル基、アミノ基、メル
カプト基、エポキシ基、メトキシ基、エトキシ基などの
官能基。
Therefore, in order to prevent molding troubles such as gate clogging, the maximum particle size must be 150 am or less. Next, regarding the hardness, if a material with a hardness exceeding 80 is used, the moisture resistance improvement effect will not be observed.
It is necessary to do the following. Specific examples of component (D) include:
Examples include high polymers of polyorganosiloxane such as polydimethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, and dimethylsiloxane-diphenylsiloxane copolymer. Furthermore, crosslinked products of these polyorganosiloxane polymers may be used, and functional groups such as silanol groups, hydroxy groups, carboxyl groups, vinyl groups, amino groups, mercapto groups, epoxy groups, methoxy groups, and ethoxy groups may be used in the structure. Base.

を有するものを用いてもよい。(D)成分の添加量は、
(A)+ (B)+ (c)成分合計量に対して2〜1
0重量%が好ましい、2重量%未満では耐湿性向上効果
がなく、10重量%を超えると耐湿性向上効果が飽和す
る傾向があり、また、機械的強度の低下を招くためであ
る。なお、(C)成分と(D)成分の添加により耐湿性
(加湿+VPS処理後)が向上する効果は、当初予期し
ないものであったが、その理由は、硬度80以下のシリ
コーンゴム(D)の界面に、シリコーンを含む(C)成
分が存在し、樹脂(A)(B)成分との結合が良くなる
ことから、■PSによる熱衝撃に対して強くなったもの
と考えられる。
You may use the one which has. (D) The amount of component added is
(A) + (B) + (c) 2 to 1 for the total amount of ingredients
The content is preferably 0% by weight; if it is less than 2% by weight, there is no effect of improving moisture resistance, and if it exceeds 10% by weight, the effect of improving moisture resistance tends to be saturated, and mechanical strength may be lowered. The effect of improving moisture resistance (after humidification + VPS treatment) by adding components (C) and (D) was initially unexpected, but the reason is that silicone rubber (D) with a hardness of 80 or less It is thought that component (C) containing silicone exists at the interface of (2) and improves the bonding with the resin (A) and (B) components, making it stronger against the thermal shock caused by PS.

次に、本発明に用いる(E)成分の無機質充填剤は、硬
化物の線膨張係数を下げるために必須の成分であり、例
えば溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪
酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪素、窒化珪素、
窒化ホウ素、ベリリア、マグネシア、ジルコニア、フォ
ルステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チ
タニアなどの粉体、及びチタン酸カリウム、炭化珪素、
窒化珪素、アルミナなどの単結晶繊維、ガラス繊維など
をあげることができるが、コスト及び特性のバランスの
点から溶融シリカが好ましい。また、充填剤の形状につ
いては、角形、球形いずれも用いることができる。球形
の充填剤は、高流動性を与えるため、充填剤の一部又は
全部として用いることが好ましい。また、(E)成分の
配合量は、成形材料全体の50〜80容量%用いること
が好ましい。
Next, the inorganic filler (E) component used in the present invention is an essential component for lowering the linear expansion coefficient of the cured product, and includes, for example, fused silica, crystalline silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride,
Powders such as boron nitride, beryllia, magnesia, zirconia, forsterite, steatite, spinel, mullite, titania, potassium titanate, silicon carbide,
Examples include silicon nitride, single crystal fibers such as alumina, and glass fibers, but fused silica is preferable from the viewpoint of cost and balance of properties. Further, regarding the shape of the filler, either a square or a spherical shape can be used. A spherical filler is preferably used as part or all of the filler because it provides high fluidity. Moreover, it is preferable that the blending amount of component (E) is 50 to 80% by volume of the entire molding material.

本発明の成形材料には、エポキシ樹脂とフェノール性水
酸基を有する化合物の硬化反応を促進する硬化促進剤を
配合することができる。この硬化促進剤としては、例え
ば1.8−ジアザ−ビシクロ(5,4,O)ウンデセン
−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン
、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、
トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級ア
ミン類、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダ
ゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−
ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール類、トリブ
チルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、メチル
ジフェニルボスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフ
ェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフ
ィン類、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボ
レート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレー
ト、2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニ
ルボレート、N−メチルモルホリンテトラフェニルボレ
ート等のテトラフェニルボロン塩等がある。
The molding material of the present invention may contain a curing accelerator that accelerates the curing reaction between the epoxy resin and the compound having a phenolic hydroxyl group. Examples of the curing accelerator include 1,8-diaza-bicyclo(5,4,O)undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol,
Tertiary amines such as tris(dimethylaminomethyl)phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-
Imidazole such as heptadecylimidazole, organic phosphine such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, methyldiphenylbosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, triphenylphosphine tetraphenylborate, 2 Examples include tetraphenylboron salts such as -ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate and N-methylmorpholinetetraphenylborate.

また、本発明の電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料に
は、三酸化アンチモンなどの難燃剤、高級脂肪酸、高級
脂肪酸金属塩、エステル系ワックスなどの離型剤、カー
ボンブラックなどの着色剤、エポキシシラン、アミノシ
ラン、ビニルシラン、アルキルシラン、を機チタネート
、アルミニウムアルコレートなどのカップリング剤を使
用することができる。
The epoxy resin molding material for encapsulating electronic components of the present invention also includes flame retardants such as antimony trioxide, higher fatty acids, higher fatty acid metal salts, mold release agents such as ester waxes, colorants such as carbon black, and epoxy resins. Coupling agents such as silanes, aminosilanes, vinylsilanes, alkylsilanes, titanates, aluminum alcoholates, etc. can be used.

以上のような原材料を用いて成形材料を作製する一般的
な方法としては、所定の配合量の原材料混合物をミキサ
ー等によって充分混合した後、熱ロール、押出機等によ
って混練し、冷却、粉砕することによって、成形材料を
得ることができる。
A general method for producing molding materials using the above raw materials is to thoroughly mix a raw material mixture of a predetermined amount using a mixer, etc., then knead it using a heated roll, extruder, etc., cool it, and crush it. By this, a molding material can be obtained.

本発明で得られる成形材料を用いて電子部品を封止する
方法としては、低圧トランスファ成形法が最も一般的で
あるが、インジエクシジン成形、圧縮成形、注型などの
方法によっても可能である。
The most common method for sealing electronic components using the molding material obtained in the present invention is low-pressure transfer molding, but methods such as indie-excidine molding, compression molding, and casting are also possible. .

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例により本発明を説明するが、本発明の範囲
はこれらの実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be explained below with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to these Examples.

実施例1 エポキシ当量200、軟化点78°Cのオルソクレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂AI)50
重量部、エポキシ当量400、軟化点70℃、臭素含有
率40重量%の臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(エポキシ樹脂At)20重量部、水酸基当量106、
軟化点82°C1数平均分子量450のフェノールノボ
ラック樹脂(硬化剤B、)48重量部、両末端にアミノ
プロピル基を有し平均重合度50のジメチルシリコーン
オイルと上記エポキシ樹脂A、とを重量比10/30(
官能基数比3.5/100)で反応させて得た化合物(
反応物CI)40重量部、最大粒径105μm1硬度5
6の粉末状シリコーン(固形シリコーンD、>5111
部、I−リフェニルホスフィン1.3重量部、カルナバ
ワックス1.5重量部、二酸化アンチモン8重量部、カ
ーボンブラック1゜5重量部、α−グリシドキシプロビ
ルトリメトキシシラン3重量部、溶融シリカ粉400重
量部を配合し、10インチ径の加熱ロールを使用して、
混練温度80〜90″C1混練時間10分の条件で混練
した。シート状の混練物を冷却し、その後粉砕すること
により、成形材料を作製した。
Example 1 Orthocresol novolak type epoxy resin (epoxy resin AI) with epoxy equivalent weight 200 and softening point 78°C 50
parts by weight, epoxy equivalent 400, softening point 70°C, brominated bisphenol A type epoxy resin (epoxy resin At) 20 parts by weight with bromine content 40%, hydroxyl equivalent 106,
A weight ratio of 48 parts by weight of a phenol novolak resin (curing agent B) having a softening point of 82° C. and a number average molecular weight of 450, dimethyl silicone oil having an aminopropyl group at both ends and an average degree of polymerization of 50, and the above epoxy resin A. 10/30 (
A compound obtained by reacting with a functional group ratio of 3.5/100) (
Reactant CI) 40 parts by weight, maximum particle size 105 μm 1 hardness 5
6 powdered silicone (solid silicone D, >5111
1.3 parts by weight of I-rephenylphosphine, 1.5 parts by weight of carnauba wax, 8 parts by weight of antimony dioxide, 1.5 parts by weight of carbon black, 3 parts by weight of α-glycidoxyprobyltrimethoxysilane, melted. Blending 400 parts by weight of silica powder and using a 10 inch diameter heating roll,
The mixture was kneaded at a kneading temperature of 80 to 90'' and a C1 kneading time of 10 minutes. The sheet-like kneaded material was cooled and then pulverized to prepare a molding material.

実施例2 実施例1の固形シリコーンD+5重量部を、最大粒径4
4μm、硬度43の粉末状シリコーン(固形シリコーン
Dよ)5重量部に代えた以外は実施例1と同様に作製し
た。
Example 2 Solid silicone D+5 parts by weight of Example 1 was mixed with a maximum particle size of 4
It was produced in the same manner as in Example 1, except that 5 parts by weight of powdered silicone (solid silicone D) having a diameter of 4 μm and a hardness of 43 was used.

実施例3 実施例1の反応物C,40重量部を、両末端グリシドキ
シプロビル基を有し、平均重合度30のジメチルシリコ
ーンオイルと実施例1中に記載した硬化剤B+ とをト
リフェニルホスフィンを触媒とし重量比10/15(官
能基数比5.8/100)で反応させて得た化合物(反
応物C2)25重量部に、また、エポキシ樹脂A、50
重量部を80重量部に、さらに硬化剤B14B重量部を
33重量部に代えた以外は、実施例1と同様の方法で成
形材料を作製した。
Example 3 40 parts by weight of the reactant C of Example 1 was mixed with dimethyl silicone oil having glycidoxyprobyl groups at both ends and having an average degree of polymerization of 30, and the curing agent B+ described in Example 1. To 25 parts by weight of a compound (reactant C2) obtained by reacting phenylphosphine at a weight ratio of 10/15 (functional group ratio 5.8/100), 50 parts of epoxy resin A was added.
A molding material was produced in the same manner as in Example 1, except that the weight part was changed to 80 weight parts, and the curing agent B14B weight part was changed to 33 weight parts.

実施例4 実施例3の固形シリコーンD、5重量部を、実施例2で
用いた固形シリコーンDi5重量部に代えた以外は、実
施例3と同様にして成形材料を作製した。
Example 4 A molding material was produced in the same manner as in Example 3, except that 5 parts by weight of solid silicone D in Example 3 was replaced with 5 parts by weight of solid silicone Di used in Example 2.

比較例1 実施例1の固形シリコーンD+を除いた以外は実施例1
と同様にして成形材料を作製した。
Comparative Example 1 Example 1 except that the solid silicone D+ of Example 1 was removed.
A molding material was prepared in the same manner.

比較例2 実施例3の固形シリコーンD、を除いた以外は実施例3
と同様にして成形材料を作製した。
Comparative Example 2 Example 3 except that solid silicone D of Example 3 was removed.
A molding material was prepared in the same manner.

パッケージを85℃/85%Rf(,72時間加湿処理
シタ後、VPS(215℃/90秒)処理し、PCT試
験を行い、一定時間毎にアルミ配線の断線不良を調べた
The package was subjected to humidification treatment at 85° C./85% Rf (for 72 hours, followed by VPS treatment (215° C./90 seconds), and a PCT test was conducted to check for disconnection defects in the aluminum wiring at regular intervals.

また、各成形材料の金型汚れ性を調べるため、100φ
X3a*’の円板を連続成形(50回)し、金型表面の
汚れ具合を目視により観察した。
In addition, in order to investigate the mold staining property of each molding material,
Discs of X3a*' were continuously molded (50 times), and the degree of dirt on the mold surface was visually observed.

耐湿性及び金型汚れ性の結果を第1表に示す。The results of moisture resistance and mold stain resistance are shown in Table 1.

以下余白 次に、上記で得られた成形材料を用いて、6×6mmの
アルミ配線のみを施したテスト素子を搭載した54ビン
QFPをトランスファー成形し、180℃、5時間の後
硬化を行うことにより、各20個の試験用パッケージを
作製した0次に、この第1表の結果から、実施別品は耐
湿性、金型汚れ性ともに優れている。これに対し、比較
例1.2は金型汚れ性は良好であるが、耐湿性が劣る。
Margin below Next, using the molding material obtained above, a 54-bin QFP equipped with a test element with only 6 x 6 mm aluminum wiring was transfer molded, and post-cured at 180°C for 5 hours. According to the results shown in Table 1, 20 test packages were produced for each test package.From the results shown in Table 1, the tested products were excellent in both moisture resistance and mold stain resistance. On the other hand, Comparative Example 1.2 has good mold stain resistance but poor moisture resistance.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の成形材料を用いて電子部品を封止すれば、金型
汚れなその成形性が改善され、作業性が良好となり、耐
湿性が同上した信頼性の高い製品を得ることができる。
When electronic parts are encapsulated using the molding material of the present invention, the moldability of electronic parts without mold contamination is improved, workability is improved, and a highly reliable product with the same moisture resistance can be obtained.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエ
ポキシ樹脂、 (B)1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有す
る化合物、 (C)上記(A)成分又は(B)成分と反応性シリコー
ンオイルとの反応物、 (D)最大粒径150μm以下、硬度80以下の固形シ
リコーン重合体及び (E)無機質充填剤 を必須成分として成ることを特徴とする電子部品封止用
エポキシ樹脂成形材料。
1. (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, (B) a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, (C) the above (A) component or (B) component; An epoxy resin for encapsulating electronic components, comprising as essential components a reaction product with a reactive silicone oil, (D) a solid silicone polymer having a maximum particle size of 150 μm or less and a hardness of 80 or less, and (E) an inorganic filler. Molding material.
2.(A)成分がエポキシ当量230以下のノボラック
型エポキシ樹脂である請求項1記載の電子部品封止用エ
ポキシ樹脂成形材料。
2. 2. The epoxy resin molding material for encapsulating electronic parts according to claim 1, wherein component (A) is a novolac type epoxy resin having an epoxy equivalent of 230 or less.
3.(B)成分が数平均分子量300〜600のノボラ
ック型フェノール樹脂である請求項1記載のエポキシ樹
脂電子部品封止用成形材料。
3. The epoxy resin molding material for encapsulating electronic components according to claim 1, wherein component (B) is a novolac type phenolic resin having a number average molecular weight of 300 to 600.
JP32086188A 1988-12-20 1988-12-20 Epoxy resin molding material for sealing electronic component Pending JPH02166116A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32086188A JPH02166116A (en) 1988-12-20 1988-12-20 Epoxy resin molding material for sealing electronic component

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32086188A JPH02166116A (en) 1988-12-20 1988-12-20 Epoxy resin molding material for sealing electronic component

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02166116A true JPH02166116A (en) 1990-06-26

Family

ID=18126076

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32086188A Pending JPH02166116A (en) 1988-12-20 1988-12-20 Epoxy resin molding material for sealing electronic component

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02166116A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6005030A (en) * 1997-01-28 1999-12-21 Hitachi Chemical Company, Ltd. Epoxy resin composition for semiconductor sealing and resin molded type semiconductor device sealed with the epoxy resin composition
JP2004504436A (en) * 2000-07-14 2004-02-12 アーベーベー・リサーチ・リミテッド Volume-modified casting material based on polymer matrix resin
JP2007227426A (en) * 2006-02-21 2007-09-06 Nec Tokin Corp Magnetic admixture and inductor employing it
JP2012186420A (en) * 2011-03-08 2012-09-27 Denso Corp Manufacturing method of ignition coil for internal combustion engine

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6005030A (en) * 1997-01-28 1999-12-21 Hitachi Chemical Company, Ltd. Epoxy resin composition for semiconductor sealing and resin molded type semiconductor device sealed with the epoxy resin composition
JP2004504436A (en) * 2000-07-14 2004-02-12 アーベーベー・リサーチ・リミテッド Volume-modified casting material based on polymer matrix resin
JP2007227426A (en) * 2006-02-21 2007-09-06 Nec Tokin Corp Magnetic admixture and inductor employing it
JP2012186420A (en) * 2011-03-08 2012-09-27 Denso Corp Manufacturing method of ignition coil for internal combustion engine

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0707042B1 (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic parts and sealed semiconductor device using the same
EP0553371B1 (en) Epoxy resin molding material for sealing of electronic component
EP1921111A1 (en) Epoxy resin composition and die bonding material comprising the composition
US5190995A (en) Naphthalene ring containing epoxy resin composition and semiconductor device encapsulated therewith
JPH02166116A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic component
JPH03210325A (en) Semiconductor sealing epoxy resin molding material
JPH04227624A (en) Epoxy resin curing agent and epoxy resin composition
JP2890591B2 (en) Epoxy resin molding compound for electronic parts encapsulation
JP2836274B2 (en) Epoxy resin composition
JPH01272620A (en) Epoxy resin molding material for electronic parts sealing use
JPH04328117A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor
JPH04173828A (en) Epoxy resin molding material for sealing electric part
JPH01272624A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic part
JPH02129220A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic component and preparation thereof
JP2552343B2 (en) Epoxy resin composition
JPS6335615A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor
JP2559625B2 (en) Epoxy resin composition
JPH07102148A (en) Semiconductor-sealing resin composition
JP2551828B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JPH0647613B2 (en) Epoxy resin molding material for electronic parts encapsulation
JPH0697324A (en) Resin-sealed semiconductor device
JPH05175373A (en) Epoxy resin composition
JP3651013B2 (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic parts and IC package using the same
JPH03212423A (en) Epoxy resin molding material for sealing electronic part
JP2534317B2 (en) Semiconductor device