JPH0216542B2 - - Google Patents
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- JPH0216542B2 JPH0216542B2 JP13700781A JP13700781A JPH0216542B2 JP H0216542 B2 JPH0216542 B2 JP H0216542B2 JP 13700781 A JP13700781 A JP 13700781A JP 13700781 A JP13700781 A JP 13700781A JP H0216542 B2 JPH0216542 B2 JP H0216542B2
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- JP
- Japan
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- magnetic
- magnetic field
- cathode ray
- yoke
- ray tube
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 84
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/58—Arrangements for focusing or reflecting ray or beam
- H01J29/64—Magnetic lenses
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は複数の電子ビームを有する磁気集束型
陰極線管装置に関する電子ビームの集束手段とし
ては、静電集束方式と磁気集束方式の両者がある
が、磁気集束方式の方が高い解像度が得られる。
また、磁気集束方式では、フオーカス電圧の供給
が不要でありこれに付随して、陰極線管の信頼性
向上及びコスト低下等の大きなメリツトがある。
特に永久磁石を磁界発生源とする方法に於ては、
集束電力も不要である。第１図は複数の電子ビー
ムを有する磁気集束型陰極線管の１例である。１
は内部を真空に保つガラス製外囲器、２は外囲器
ネツク、３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは各々ヒーター、陰
極、第１、第２電極からなる電子銃構体、４は螢
光体スクリーン、５は色選別電極、６，６′は互
いに対向した軟強磁性体磁気ヨーク、７Ｒ，７
Ｇ，７Ｂはそれぞれ電子銃構体３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ
より射出した電子ビーム軌道、８は偏向ヨーク、
９は３電子ビーム集中装置である。磁界発生用永
久磁石（図示せず）は管内に配置される。電子銃
３Ｒ，３Ｇ，３Ｂより射出した電子ビーム７Ｒ，
７Ｇ，７Ｂは対向した磁気ヨーク６，６′間に形
成される管軸方向磁界により集束作用を受け、ス
クリーン４上に最小のビームスポツトを結ぶ。さ
らに３電子ビームを集中させるため、集中装置９
を用いてサイドビーム７Ｒ，７Ｂをセンタービー
ム７Ｇ方向に偏向し、３ビーム集中を実施してい
る。しかし、かかる電子ビーム集中方式ではスク
リーン４上のビームスポツトが縦長形状となり好
ましくない。
陰極線管装置に関する電子ビームの集束手段とし
ては、静電集束方式と磁気集束方式の両者がある
が、磁気集束方式の方が高い解像度が得られる。
また、磁気集束方式では、フオーカス電圧の供給
が不要でありこれに付随して、陰極線管の信頼性
向上及びコスト低下等の大きなメリツトがある。
特に永久磁石を磁界発生源とする方法に於ては、
集束電力も不要である。第１図は複数の電子ビー
ムを有する磁気集束型陰極線管の１例である。１
は内部を真空に保つガラス製外囲器、２は外囲器
ネツク、３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは各々ヒーター、陰
極、第１、第２電極からなる電子銃構体、４は螢
光体スクリーン、５は色選別電極、６，６′は互
いに対向した軟強磁性体磁気ヨーク、７Ｒ，７
Ｇ，７Ｂはそれぞれ電子銃構体３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ
より射出した電子ビーム軌道、８は偏向ヨーク、
９は３電子ビーム集中装置である。磁界発生用永
久磁石（図示せず）は管内に配置される。電子銃
３Ｒ，３Ｇ，３Ｂより射出した電子ビーム７Ｒ，
７Ｇ，７Ｂは対向した磁気ヨーク６，６′間に形
成される管軸方向磁界により集束作用を受け、ス
クリーン４上に最小のビームスポツトを結ぶ。さ
らに３電子ビームを集中させるため、集中装置９
を用いてサイドビーム７Ｒ，７Ｂをセンタービー
ム７Ｇ方向に偏向し、３ビーム集中を実施してい
る。しかし、かかる電子ビーム集中方式ではスク
リーン４上のビームスポツトが縦長形状となり好
ましくない。
本発明は集束磁界を用いて、自己集中を行う磁
気集束型陰極線管装置を提供するものである。本
発明の説明を容易ならしめるため、さらにくわし
く従来例につき説明する。第２図はセンタービー
ムの上下に永久磁石を配置したものである。第２
図ａはネツク断面形状であり、２１Ｒ，２１Ｇ，
２１Ｂは３電子ビーム通過孔、２２は管軸方向に
長手方向を有する永久磁石であり、センタービー
ム通過孔２１Ｇの上下の所定の位置に配置され
る。第２図ｂ，ｃは第２図ａのＹ−Y′及びＸ−
X′断面形状を示すものである。第２図に於てＺ
軸は管軸とし、Z+方向にスクリーンがあるとし
て説明する。永久磁石２２はZ-方向端面がＮ極
にZ+方向端面がＳ極に着磁されている。垂直断
面第２図ｂに於てＮ極を発した磁力線は磁気ヨー
ク２３内部を通り相対向する磁気ヨーク２３′と
のギヤツプ部で漏えいし、Z+方向集束主磁界を
形成し磁気ヨーク２３′に吸収されＳ極にもどる。
しかしながら磁界を完全に整形することは困難で
あり実際には、Ｎ極より発しZ-方向無限遠方に
向う磁界及びZ+無限遠方よりＳ極に入る磁界が
存在する。同様のことが水平断面についても生ず
る。即ち第２図ｃに於て、集束主磁界は磁気ヨー
ク２３，２３′間にZ+方向に形成されるが、磁気
ヨーク２３、端からZ-方向に向う磁界及びZ+か
ら磁気ヨーク２３′に向う磁界が存在する。第２
図ｄはサイドビーム孔２１Ｒ軸上の磁界分布の概
略を示すものでBxはビームに偏向効果を与える
成分である。第３図は永久磁石３１を４個とし、
サイドビーム通過孔３２Ｂ，３２Ｒ近傍の上下に
配置したものである。この構成は第２図ａよりも
上述のBx成分、即ち偏向磁界成分が減少する。
さらに、第３図ｂ，ｃに示す如く、永久磁石３１
の前後に３ビームをとりまく共通ヨーク３４を所
定の長さに設定することにより、上述の偏向成分
は大巾に減少させることが出来る。
気集束型陰極線管装置を提供するものである。本
発明の説明を容易ならしめるため、さらにくわし
く従来例につき説明する。第２図はセンタービー
ムの上下に永久磁石を配置したものである。第２
図ａはネツク断面形状であり、２１Ｒ，２１Ｇ，
２１Ｂは３電子ビーム通過孔、２２は管軸方向に
長手方向を有する永久磁石であり、センタービー
ム通過孔２１Ｇの上下の所定の位置に配置され
る。第２図ｂ，ｃは第２図ａのＹ−Y′及びＸ−
X′断面形状を示すものである。第２図に於てＺ
軸は管軸とし、Z+方向にスクリーンがあるとし
て説明する。永久磁石２２はZ-方向端面がＮ極
にZ+方向端面がＳ極に着磁されている。垂直断
面第２図ｂに於てＮ極を発した磁力線は磁気ヨー
ク２３内部を通り相対向する磁気ヨーク２３′と
のギヤツプ部で漏えいし、Z+方向集束主磁界を
形成し磁気ヨーク２３′に吸収されＳ極にもどる。
しかしながら磁界を完全に整形することは困難で
あり実際には、Ｎ極より発しZ-方向無限遠方に
向う磁界及びZ+無限遠方よりＳ極に入る磁界が
存在する。同様のことが水平断面についても生ず
る。即ち第２図ｃに於て、集束主磁界は磁気ヨー
ク２３，２３′間にZ+方向に形成されるが、磁気
ヨーク２３、端からZ-方向に向う磁界及びZ+か
ら磁気ヨーク２３′に向う磁界が存在する。第２
図ｄはサイドビーム孔２１Ｒ軸上の磁界分布の概
略を示すものでBxはビームに偏向効果を与える
成分である。第３図は永久磁石３１を４個とし、
サイドビーム通過孔３２Ｂ，３２Ｒ近傍の上下に
配置したものである。この構成は第２図ａよりも
上述のBx成分、即ち偏向磁界成分が減少する。
さらに、第３図ｂ，ｃに示す如く、永久磁石３１
の前後に３ビームをとりまく共通ヨーク３４を所
定の長さに設定することにより、上述の偏向成分
は大巾に減少させることが出来る。
以上のように、磁気ヨークの形状、永久磁石の
配置等により、ほとんど偏向成分をもたない磁界
を形成することが出来る。
配置等により、ほとんど偏向成分をもたない磁界
を形成することが出来る。
本発明は以上述べた如きほとんど偏向磁界成分
を有しない磁気集束装置に於て、さらに３ビーム
集中を実施させるものである。以下本発明につき
詳細に説明する。第４図は本発明の原理図であ
る。電子ビーム、４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂは、前
述の如く、ほとんど偏向成分のない磁気ヨーク４
２及び４３内部を通り磁気ヨークギヤツプ部４４
に入射する。磁気ヨークギヤツプ部４４に於ける
主磁界は図示する如くZ+（スクリーン）方向を向
き、かつ４１Ｒ，４１Ｂ上ではビーム進行方向に
対し所定の角θをもち外向き磁界成分Bxを含む
ようにする。当然のことながら電子ビーム４１Ｇ
上ではZ+方向磁界のみである。この時のビーム
の受ける力を第４図ｂに示す。電子ビームの速度
はvzのみであり、上述のBxにより４１ＲではY-
（下）向きに４１ｂではY+（上）向きに力を受け
る。従つて、磁気ヨークギヤツプ４４通過後は電
子ビーム４１ＲはY-（下）向き、電子ビーム４１
ｂはY+（上）向きの速度成分を有することとな
る。陰極（ネツク部端）側（Z-）及びスクリー
ン側（Z+）側に配置するヨーク４２，４２′につ
いては非対称形状となす。即ち陰極側ヨーク４２
は充分な均一磁界を得るよう充分なＺ方向長さを
有しスクリーン側ヨーク４２′は所定の長さとす
る。このため第４図aB−B′断面に於ては磁界の
シールド、整形が弱くBx成分が残つている。第
４図ｃはＢ−B′断面に於けるビームが受ける力
の説明図である。前述する如くこの断面での電子
ビーム４１Ｒはvz及び−vyである。一方磁界は、
−Bz及び−Bxをもつ。従つてビームの受ける力
は、Fx＝−（−Vy）×（−Bz）、Fx＝−（−Vz）×
（−Bx）であり、X-方向及びY+方向の力を受け
る。従つて、電子ビーム４１Ｒは、X-方向速度
とY+方向速度を得る。Y+方向速度はＡ−A′断面
で受けたY-方向速度成分と打ち消し合い全体と
してはＹ方向速度成分が零でX-方向速度成分の
みが残ることとなる。逆位置にあるビーム４１Ｂ
では同様にX+方向速度成分を得る。
を有しない磁気集束装置に於て、さらに３ビーム
集中を実施させるものである。以下本発明につき
詳細に説明する。第４図は本発明の原理図であ
る。電子ビーム、４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂは、前
述の如く、ほとんど偏向成分のない磁気ヨーク４
２及び４３内部を通り磁気ヨークギヤツプ部４４
に入射する。磁気ヨークギヤツプ部４４に於ける
主磁界は図示する如くZ+（スクリーン）方向を向
き、かつ４１Ｒ，４１Ｂ上ではビーム進行方向に
対し所定の角θをもち外向き磁界成分Bxを含む
ようにする。当然のことながら電子ビーム４１Ｇ
上ではZ+方向磁界のみである。この時のビーム
の受ける力を第４図ｂに示す。電子ビームの速度
はvzのみであり、上述のBxにより４１ＲではY-
（下）向きに４１ｂではY+（上）向きに力を受け
る。従つて、磁気ヨークギヤツプ４４通過後は電
子ビーム４１ＲはY-（下）向き、電子ビーム４１
ｂはY+（上）向きの速度成分を有することとな
る。陰極（ネツク部端）側（Z-）及びスクリー
ン側（Z+）側に配置するヨーク４２，４２′につ
いては非対称形状となす。即ち陰極側ヨーク４２
は充分な均一磁界を得るよう充分なＺ方向長さを
有しスクリーン側ヨーク４２′は所定の長さとす
る。このため第４図aB−B′断面に於ては磁界の
シールド、整形が弱くBx成分が残つている。第
４図ｃはＢ−B′断面に於けるビームが受ける力
の説明図である。前述する如くこの断面での電子
ビーム４１Ｒはvz及び−vyである。一方磁界は、
−Bz及び−Bxをもつ。従つてビームの受ける力
は、Fx＝−（−Vy）×（−Bz）、Fx＝−（−Vz）×
（−Bx）であり、X-方向及びY+方向の力を受け
る。従つて、電子ビーム４１Ｒは、X-方向速度
とY+方向速度を得る。Y+方向速度はＡ−A′断面
で受けたY-方向速度成分と打ち消し合い全体と
してはＹ方向速度成分が零でX-方向速度成分の
みが残ることとなる。逆位置にあるビーム４１Ｂ
では同様にX+方向速度成分を得る。
以上の様に両サイドビームはセンタービーム方
向に集中効果を受けることとなる。第５図は本発
明に係る一実施例の磁気ヨーク部水平断面図であ
る。５１は陰極側に配した３ビーム共通磁気ヨー
ク、５２，５２′は本発明に係る相対向する磁気
ヨーク、５１′はスクリーン側磁気ヨークである。
本発明に係る相対向する磁気ヨーク５２，５２′
は、互いに対向する面に３ビーム独立に円筒部５
３，５４及び５３′，５４′を有する。この円筒部
は陰極側磁気ヨーク５２に於てはセンター円筒５
３が両サイドの円筒５４に比し板厚が大きく形成
される。逆にスクリーン側磁気ヨーク５２′に於
てはセンター円筒５３が両サイド円筒５４′に比
し、板厚が小さく形成されている。
向に集中効果を受けることとなる。第５図は本発
明に係る一実施例の磁気ヨーク部水平断面図であ
る。５１は陰極側に配した３ビーム共通磁気ヨー
ク、５２，５２′は本発明に係る相対向する磁気
ヨーク、５１′はスクリーン側磁気ヨークである。
本発明に係る相対向する磁気ヨーク５２，５２′
は、互いに対向する面に３ビーム独立に円筒部５
３，５４及び５３′，５４′を有する。この円筒部
は陰極側磁気ヨーク５２に於てはセンター円筒５
３が両サイドの円筒５４に比し板厚が大きく形成
される。逆にスクリーン側磁気ヨーク５２′に於
てはセンター円筒５３が両サイド円筒５４′に比
し、板厚が小さく形成されている。
かかる形状の磁気ヨーク５２，５２′により整
形される磁界は磁気ヨーク５２に於ては板厚の大
きいセンター円筒５３に集中する傾向を示し、磁
気ヨーク５２′に於ては板厚の大きい両サイド円
筒５４′に集中する傾向を示す。
形される磁界は磁気ヨーク５２に於ては板厚の大
きいセンター円筒５３に集中する傾向を示し、磁
気ヨーク５２′に於ては板厚の大きい両サイド円
筒５４′に集中する傾向を示す。
この結果、磁気ヨーク５２，５２′間に形成さ
れる磁界は、サイド円筒５４，５４′部では、外
向き成分をもつ。当然のことながら永久磁石の極
性が反転すれば逆となる。陰極側磁気ヨーク５１
は、その内部の磁界を充分均一としビームが実際
上ほとんど偏向されないものであればよく３ビー
ム共通の磁気ヨークに限るわけではない。
れる磁界は、サイド円筒５４，５４′部では、外
向き成分をもつ。当然のことながら永久磁石の極
性が反転すれば逆となる。陰極側磁気ヨーク５１
は、その内部の磁界を充分均一としビームが実際
上ほとんど偏向されないものであればよく３ビー
ム共通の磁気ヨークに限るわけではない。
また、スクリーン側磁気ヨーク５１′は、その
高さや形状によりスクリーン側漏えい磁界の偏向
成分を所定の値に制御するものであればよい。
高さや形状によりスクリーン側漏えい磁界の偏向
成分を所定の値に制御するものであればよい。
以上のように本発明に適用される磁気ヨークの
３ビームに与える効果は第４図を用いて説明した
通りであり詳細な説明は省略する。
３ビームに与える効果は第４図を用いて説明した
通りであり詳細な説明は省略する。
尚、本発明は円筒板厚のセンター、サイドバラ
ンスを変えることにより、磁界傾角を適宜変化さ
せることが出来るから、３ビーム集中効果も適宜
に設定することが出来その汎用性は広く製作も容
易である。尚、円筒部が対向する磁気ヨークの内
部に形成されている場合であつても同様の効果が
あることは言うまでもない。
ンスを変えることにより、磁界傾角を適宜変化さ
せることが出来るから、３ビーム集中効果も適宜
に設定することが出来その汎用性は広く製作も容
易である。尚、円筒部が対向する磁気ヨークの内
部に形成されている場合であつても同様の効果が
あることは言うまでもない。
以上の様に本発明によれば、磁気集束装置自身
により３ビーム集中が実施され磁気集束方式の利
点を最大限活かし、良好で信頼性の高い磁気集束
型陰極線装置が提供できる。
により３ビーム集中が実施され磁気集束方式の利
点を最大限活かし、良好で信頼性の高い磁気集束
型陰極線装置が提供できる。
第１図は磁気集束型陰極線管装置の一例を示す
概略構成図、第２図ａ及び第３図ａは第１図の永
久磁石配置例を示すネツク断面図、第２図ｂ乃至
ｄ及び第３図ｂ乃至ｃは同じくネツク側面図及び
磁界分布を説明する為の概略図、第４図ａ乃至ｃ
は本発明の原理を説明するための側面図及び断面
図、第５図は本発明の一実施例に係る磁気ヨーク
部を示す概略水平断面図である。 ４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ……電子ビーム、４
２，４２′，４３，４３′……磁気ヨーク、４４…
…磁気ヨークギヤツプ部、５１，５１′……共通
磁気ヨーク、５２，５２′……相対向磁気ヨーク、
５３，５３′，５４，５４′……円筒部。
概略構成図、第２図ａ及び第３図ａは第１図の永
久磁石配置例を示すネツク断面図、第２図ｂ乃至
ｄ及び第３図ｂ乃至ｃは同じくネツク側面図及び
磁界分布を説明する為の概略図、第４図ａ乃至ｃ
は本発明の原理を説明するための側面図及び断面
図、第５図は本発明の一実施例に係る磁気ヨーク
部を示す概略水平断面図である。 ４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ……電子ビーム、４
２，４２′，４３，４３′……磁気ヨーク、４４…
…磁気ヨークギヤツプ部、５１，５１′……共通
磁気ヨーク、５２，５２′……相対向磁気ヨーク、
５３，５３′，５４，５４′……円筒部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 硝子製外囲器とこの外囲器ネツク部内に封入
されインライン配列の３個の電子ビームを射出
し、制御手段を備えた電子銃と前記外囲器パネル
内面に塗布形成された螢光面及び螢光面近傍に配
設したシヤドウマスクを主たる要素として構成さ
れる陰極線管であつて、前記電子ビームの集束手
段として管軸方向磁界発生用永久磁石と磁界整形
磁気ヨークを備えた磁気集束型陰極線管装置に於
て、互いに対向する前記磁気ヨークは少くとも独
立した３個の円筒状部分を有し、かつ前記円筒状
部分は前記ネツク部端側の磁気ヨークに於てはセ
ンター円筒の板厚が両サイド円筒に比し厚く他方
の磁気ヨークに於ては、両サイド円筒の板厚がセ
ンター円筒に比し厚くなるように形成されてなる
ことを特徴とする磁気集束型陰極線管装置。 ２ 電子ビームを射出する陰極から一対の相対向
する磁気ヨーク間の領域に於ては、サイドビーム
軸上ラジアル磁界成分が極力小さく、また上記一
対の相対向する磁気ヨークとスクリーン間に於て
は、サイドビーム軸上に所定のラジアル磁界成分
が形成されるように磁気ヨークを前後で非対称と
したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の磁気集束型陰極線管装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13700781A JPS5840753A (ja) | 1981-09-02 | 1981-09-02 | 磁気集束型陰極線管装置 |
| US06/411,364 US4495439A (en) | 1981-09-02 | 1982-08-25 | Magnetic focusing type cathode ray tube |
| DE8282107819T DE3275332D1 (en) | 1981-09-02 | 1982-08-25 | Magnetic focusing type cathode ray tube |
| EP82107819A EP0073472B1 (en) | 1981-09-02 | 1982-08-25 | Magnetic focusing type cathode ray tube |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13700781A JPS5840753A (ja) | 1981-09-02 | 1981-09-02 | 磁気集束型陰極線管装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5840753A JPS5840753A (ja) | 1983-03-09 |
| JPH0216542B2 true JPH0216542B2 (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=15188622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13700781A Granted JPS5840753A (ja) | 1981-09-02 | 1981-09-02 | 磁気集束型陰極線管装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5840753A (ja) |
-
1981
- 1981-09-02 JP JP13700781A patent/JPS5840753A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5840753A (ja) | 1983-03-09 |
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