JPH02148806A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH02148806A
JPH02148806A JP30104688A JP30104688A JPH02148806A JP H02148806 A JPH02148806 A JP H02148806A JP 30104688 A JP30104688 A JP 30104688A JP 30104688 A JP30104688 A JP 30104688A JP H02148806 A JPH02148806 A JP H02148806A
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JP
Japan
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magnetic
amorphous
composition
film
magnetic head
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JP30104688A
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Hirosuke Mikami
三上 寛祐
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Maxell Ltd
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Hitachi Maxell Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a magnetic film having predetermined magnetic properties and to improve recording/reproducing characteristics by composing Co-Nb-Zr amorphous magnetic alloy of Co, Nb and Zr. CONSTITUTION:In a magnetic head in which at least parts 32a, 32b of magnetic layers are composed of Co-Nb-Zr amorphous magnetic alloy, the Co-Nb-Zr amorphous magnetic alloy contains (80.0+x) at% of Co, [(12.8-16.8)-0.7x] at% of Nb and [(3.2-7,2)-0.3x] at% of Zr, where 0<=x<=10, 80<=Co<=90 (at%). When the composition of the Co-Nb-Zr amorphous alloy contains in the above ranges, decrease in the magnetic properties of the head becomes an allowable range.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、Co−Nb−Zr非晶質磁性合金により少な
くともその一部が構成されてしする磁気へ・ンドに関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magnetic head at least partially composed of a Co--Nb--Zr amorphous magnetic alloy.

(従来の技術〕 高密度磁気記録に対応するために、主GこC。(Conventional technology) In order to support high-density magnetic recording, the main G.C.

Nb−Zr非晶質磁性合金により磁性層力<キ青成され
る磁気ヘッドが実用化されている。本発明者らはその一
例として、磁気ギャップと対向する方の側面が磁気ギャ
ップ面に対して傾斜しているコア基体部と、そのコア基
体部の磁気ギャップと対向する方の側面に被看された主
にCo−Nb−Zr非晶質磁性合金よりなる磁性薄膜と
を備えた磁気へラドコア半休を用いた磁気ヘッドを提案
した(特開昭58155513号公報)。
A magnetic head in which the magnetic layer force is formed by an Nb-Zr amorphous magnetic alloy has been put into practical use. As an example, the present inventors considered a core base portion whose side surface facing the magnetic gap is inclined with respect to the magnetic gap plane, and a side surface of the core base portion facing the magnetic gap. proposed a magnetic head using a magnetic heald core with a magnetic thin film mainly made of an amorphous magnetic alloy of Co--Nb--Zr (Japanese Patent Laid-Open No. 58155513).

第4図はその磁気ヘッド示す斜視図であって、La、l
bは磁性フェライト基体からなる磁気コア半休、2a、
2bは主にCo−Nb−Zr非晶質磁性合金よりなる磁
性層、3は磁性層をガラス4の侵食より守るための保護
膜、4はガラス、5は磁気ギャップ、6は巻線窓である
FIG. 4 is a perspective view showing the magnetic head, with La, l
b is a half magnetic core made of a magnetic ferrite substrate, 2a,
2b is a magnetic layer mainly made of Co-Nb-Zr amorphous magnetic alloy, 3 is a protective film for protecting the magnetic layer from erosion of glass 4, 4 is glass, 5 is a magnetic gap, and 6 is a wire-wound window. be.

以下、第5図〜第8図に基づいてこの磁気ヘッドの製造
方法の一例を説明する。第5図において、磁気へラドコ
ア半体1a、1bを構成するフェライトブロック1の片
面に、接近して溝7.7を平行に設け、この溝7の間に
突条8が形成される。
Hereinafter, an example of a method for manufacturing this magnetic head will be explained based on FIGS. 5 to 8. In FIG. 5, grooves 7.7 are provided in parallel in close proximity to each other on one side of the ferrite block 1 constituting the magnetic helad core halves 1a, 1b, and protrusions 8 are formed between the grooves 7.

次にこの溝7及び突条8を形成した面に、スパツタリン
グ等の薄膜製造技術により、主にCo−Nb−Zr非晶
質磁性合金よりなる磁性層2と5iOzより成る保護膜
3を形成する。次いで第6図に示すように、ガラス4を
比較的厚めに設けた後、図中に点線で示す位置まで研磨
する。突条8の先端部に形成された磁性膜2の一部がフ
ラットに研磨されて平坦部9が形成されており、この部
分に磁気ギャップが形成されることになる。
Next, on the surface on which the grooves 7 and protrusions 8 are formed, a magnetic layer 2 mainly made of a Co-Nb-Zr amorphous magnetic alloy and a protective film 3 made of 5iOz are formed using a thin film manufacturing technique such as sputtering. . Next, as shown in FIG. 6, the glass 4 is provided relatively thickly, and then polished to the position shown by the dotted line in the figure. A portion of the magnetic film 2 formed at the tip of the protrusion 8 is polished flat to form a flat portion 9, and a magnetic gap is formed in this portion.

このように形成されたブロックのうちの一部は、第7図
に示すように、突条8と直行するた巻線溝10が所定の
深さに形成され、これにより巻線溝6を有する磁気へラ
ドコア半体1bとなる。
As shown in FIG. 7, some of the blocks formed in this manner have winding grooves 10 perpendicular to the protrusions 8 formed at a predetermined depth, thereby having winding grooves 6. This becomes the magnetic helad core half body 1b.

次いでこれら2個のヘッドコア半休を、第8図に示すよ
うにガラス4が互いに対向するようにして加熱圧着する
ガラスポンディング工程で一体に接合する。なおこの時
、所定の磁気ギャップ長を得るために、2個の磁気へラ
ドコア半体1a、1bの各々の接合面には、所定の厚さ
のSiO□より成るギャップ規制膜がスパッタリング等
の物理蒸着法で形成される。
Next, as shown in FIG. 8, these two head core halves are joined together by a glass bonding process in which they are heated and pressed so that the glasses 4 face each other. At this time, in order to obtain a predetermined magnetic gap length, a gap regulating film made of SiO□ with a predetermined thickness is formed on the bonding surface of each of the two magnetic helad core halves 1a and 1b by a physical process such as sputtering. Formed by vapor deposition.

最後にこの接合されたブロックを図中の点線に沿って切
断することによって、第4図に示した磁気ヘッドが得ら
れる。
Finally, by cutting this joined block along the dotted line in the figure, the magnetic head shown in FIG. 4 is obtained.

ところでCo−Nb−Zr非晶質磁性膜の作成には、現
在のところRF2F2式ッタ装置やプレーナーマグネト
ロンスパッタ装置が多く用いられている。特にプレーナ
ーマグネトロンスパッタ装置は、成膜速度が大きいため
近年多く用いられている。この装置はRF2F2式ッタ
装置のターゲット下部にプラズマ収束用の磁石を設けた
ものである。
By the way, RF2F2 type sputtering equipment and planar magnetron sputtering equipment are currently often used to create Co--Nb--Zr amorphous magnetic films. In particular, planar magnetron sputtering equipment has been widely used in recent years because of its high film formation rate. This device is an RF2F2 type target device in which a magnet for plasma convergence is provided below the target.

従来、この磁石には永久磁石が多く用いられてきたが、
最近はターゲットの有効利用や均一な膜厚分布を得るた
めに、電磁石を用いたプレーナーマグネトロンスパッタ
装置も用いられ始めている。
Conventionally, permanent magnets have often been used for this magnet, but
Recently, planar magnetron sputtering devices using electromagnets have also begun to be used in order to effectively utilize targets and obtain uniform film thickness distribution.

第9図はこの電磁石を用いたプレーナーマグネトロンス
パッタ装置のアノード電極の断面図である。第9図にお
いて、21はヨーク、22は内側コイル、23は外側コ
イル、24はターゲット、25はバッキングプレート、
26はバッキングプレート補強板、27は0リング、2
8はアースシールド、29は絶縁材、30は真空槽外壁
である。
FIG. 9 is a sectional view of an anode electrode of a planar magnetron sputtering apparatus using this electromagnet. In FIG. 9, 21 is a yoke, 22 is an inner coil, 23 is an outer coil, 24 is a target, 25 is a backing plate,
26 is the backing plate reinforcement plate, 27 is the 0 ring, 2
8 is an earth shield, 29 is an insulating material, and 30 is an outer wall of the vacuum chamber.

ヨーク21に巻かれた内側コイル22と外側コイル23
に適当な直流電流を流すことにより、第10図に示すよ
うにターゲットの中心部と外周部に現れたエロージョン
領域C及びDを交互にスパッタさせ、ターゲットの有効
利用や均一な膜厚分布を得るようになっている。
Inner coil 22 and outer coil 23 wound around yoke 21
By passing an appropriate direct current through the target, erosion areas C and D appearing at the center and outer periphery of the target are alternately sputtered as shown in Figure 10, thereby achieving effective use of the target and uniform film thickness distribution. It looks like this.

[発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、このような場合、電磁石に流す電流の大
きさや周期、及び磁気ヘッド基板とターゲットの位置関
係によっては、中心部のエロージョン領域Cをスパッタ
することにより得られる膜と、外周部のエロージョン領
域りをスパッタして得られる膜の組成が異なる。すなわ
ち、第11回において、白○はターゲット中心部のエロ
ージョン領域をスパッタすることにより得られる膜の組
成を示し、黒Oはターゲット外周部のエロージョン領域
をスパッタすることにより得られる膜の組成を示してい
る。このように中心部のエロージョン頭載C外周部のエ
ロージョン領域りとの組成が異なると、磁性膜は深さ方
向の組成変調の程度によっては所定の磁気特性の磁性膜
が得られず、磁気ヘッドの記録再生特性を低下させる原
因となっていた。
[Problem to be Solved by the Invention] However, in such a case, depending on the magnitude and period of the current flowing through the electromagnet and the positional relationship between the magnetic head substrate and the target, it is possible to obtain the erosion region C at the center by sputtering. The composition of the film is different from that of the film obtained by sputtering the outer peripheral erosion region. That is, in the 11th session, white ○ indicates the composition of the film obtained by sputtering the erosion region at the center of the target, and black O indicates the composition of the film obtained by sputtering the erosion region at the outer periphery of the target. ing. If the composition of the erosion region in the central part differs from that in the outer peripheral part of the magnetic film, depending on the degree of compositional modulation in the depth direction, a magnetic film with predetermined magnetic properties cannot be obtained, and the magnetic head This was a cause of deterioration in the recording and reproducing characteristics of.

本発明の目的は、磁性層の少なくとも一部がCo−Nb
−Zr非晶質磁性合金で構成されている磁気ヘッドにお
いて、所定の磁気特性の磁性膜を得ることができ、記録
再生特性を向上させることができる磁気ヘッドを提供す
ることにある。
An object of the present invention is to provide a magnetic layer in which at least a portion of the magnetic layer is made of Co--Nb.
- It is an object of the present invention to provide a magnetic head made of a Zr amorphous magnetic alloy, in which a magnetic film with predetermined magnetic properties can be obtained and recording and reproducing characteristics can be improved.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記した目的を達成するために、本発明は、磁性層の少
なくとも一部がCo−Nb−Zr非晶質磁性合金で構成
されている磁気ヘッドにおいて、前記Co−Nb−Zr
非非晶質付n性合金Co: (80,0+x)at% Nb:  〔(12,8〜16.8)−0,7x)at
%Z’ :  〔(3,2〜7.2)−0,3x)a 
t%但し、0≦x≦10.80≦Co≦90(at%)
からなることを特徴とする磁気ヘッドである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a magnetic head in which at least a part of the magnetic layer is made of a Co-Nb-Zr amorphous magnetic alloy.
Amorphous n-type alloy Co: (80,0+x)at% Nb: [(12,8~16.8)-0,7x)at
%Z': [(3,2~7.2)-0,3x)a
t% However, 0≦x≦10.80≦Co≦90 (at%)
This is a magnetic head characterized by comprising:

すなわち、Co−Nb−Zr非晶質合金の組成が上記し
た範囲であれば、磁気ヘッドの磁気特性の低下は許容で
きる範囲であることを求めた。
That is, it was determined that as long as the composition of the Co--Nb--Zr amorphous alloy was within the above-mentioned range, the deterioration of the magnetic properties of the magnetic head would be within an acceptable range.

磁気ヘッドの磁気特性を低下させないためには、磁歪±
5×101を満足する必要がある。
In order not to deteriorate the magnetic properties of the magnetic head, magnetostriction ±
It is necessary to satisfy 5×101.

(80,0+ X)Co −(12,8−0,7x)N
b −(5,2−0,3x)Zr (at%)・・・・
・・(1)上記(1)式は、Co−Nb−Zr非晶質合
金における磁歪±0を示す式である。
(80,0+X)Co-(12,8-0,7x)N
b - (5,2-0,3x)Zr (at%)...
...(1) The above formula (1) is a formula showing magnetostriction ±0 in the Co-Nb-Zr amorphous alloy.

(80,0+ x)Co −(13,8−0,7x)N
b −(7,2−0,3x)Zr(at%)・・・・・
・(2)また、(2)式は磁歪+5×10〜1である組
成を示す式である。
(80,0+x)Co-(13,8-0,7x)N
b - (7,2-0,3x)Zr (at%)...
- (2) Moreover, the formula (2) is a formula indicating a composition with magnetostriction of +5×10 to 1.

(80,0+ x)Co−(16,8−0,7x)Nb
 −(3,2−0,3x)Zr(at%)・・・・・・
(3)さらに、(3)式はけ歪が−5X 10−’であ
る組成を示す式である。但し、(1)〜(3)式におい
て、0≦x≦10.80≦Co≦90(at%)である
。したがって、これらの範囲の含む組成、すなわち Co:  (80,0+x)  at %Nb:  〔
(12,8〜16. 8)−0,7x)at%Zr  
:  〔(3,2〜7. 2)−0,3x)a  t%
の場合、磁気ヘッドの磁気特性の低下が防止される。
(80,0+x)Co-(16,8-0,7x)Nb
-(3,2-0,3x)Zr(at%)...
(3) Furthermore, formula (3) is a formula representing a composition with a brush strain of -5X 10-'. However, in formulas (1) to (3), 0≦x≦10.80≦Co≦90 (at%). Therefore, the compositions included in these ranges are Co: (80,0+x) at %Nb: [
(12,8~16.8)-0,7x)at%Zr
: [(3,2~7.2)-0,3x)a t%
In this case, deterioration of the magnetic properties of the magnetic head is prevented.

組成変調の幅がこの範囲に収まっている場合(A)と収
まっていない場合(B)の相対出力と記録密度の関係を
第2図に示す。(A)の場合の膜組成は上記(1)式で
表される組成を中心にして、(4)式で表される範囲で
組成変調した膜である。
FIG. 2 shows the relationship between relative output and recording density when the compositional modulation width falls within this range (A) and when it does not (B). In the case of (A), the film composition is centered on the composition represented by the above formula (1), and the composition is modulated within the range represented by the formula (4).

方(B)の場合の膜組成は、同じく上記(1)式で表さ
れる組成を中心にして、(5)式で表される範囲で組成
変調した膜である。
In the case of method (B), the film composition is similarly centered around the composition represented by the above formula (1), and the composition is modulated within the range represented by formula (5).

(4) (80,0+ x)Co −〔(13,8±1
.0)−0,7xl Nb[(5,2±1.0)−0,
3x) )Zr  (at%)(5) (80,0+ 
x)Go −〔(12,8±2.5)−0,1x3Nb
〔(5,2±2.5)  0.3x) Zr  (at
%)(但し0≦x≦10) (B)に比べて(A)は相対出力が3dB程高くなって
いることがわかる。これは(B)は中心組成に対して組
成変調の幅が大きいので、磁歪が大きくなり過ぎ、膜へ
の応力の関係から、磁性膜の一軸磁気異方性が所定の方
向に向かず、また透磁率が大きく低下したことが考えら
れる。一方(A)は組成変調の幅が小さいので、磁歪も
小さく、めのため応力による影響を受は難いことが、お
おきな相対出力の原因と考えられる。
(4) (80,0+ x)Co − [(13,8±1
.. 0)-0,7xl Nb[(5,2±1.0)-0,
3x) ) Zr (at%) (5) (80,0+
x) Go - [(12,8±2.5)-0,1x3Nb
[(5,2±2.5) 0.3x) Zr (at
%) (0≦x≦10) It can be seen that the relative output of (A) is about 3 dB higher than that of (B). This is because (B) has a large compositional modulation width with respect to the central composition, so the magnetostriction becomes too large, and due to the stress on the film, the uniaxial magnetic anisotropy of the magnetic film does not go in the predetermined direction. This is probably due to a large decrease in magnetic permeability. On the other hand, in (A), the width of the compositional modulation is small, so the magnetostriction is also small, and it is difficult to be affected by stress, which is considered to be the reason for the large relative output.

以下に、本発明の実施例を図を用いて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明による磁気ヘッドの斜視図であり、31
a、31bは磁性フェライト基体、32a、32bは主
にCo−Nb−Zr非晶質磁性合金からなる磁性層、3
3はこれら磁性層をガラス34から守るための保護膜、
34はガラス、35は磁気ギャップ、36は巻線窓であ
る。この磁気ヘッドの製造方法はCo−Nb−Zr非晶
質磁性巻く作成時のスパッタ条件以外は第5図〜第8図
で述べたのと同じである。
FIG. 1 is a perspective view of a magnetic head according to the present invention, 31
a and 31b are magnetic ferrite substrates, 32a and 32b are magnetic layers mainly made of a Co-Nb-Zr amorphous magnetic alloy, and 3
3 is a protective film for protecting these magnetic layers from glass 34;
34 is glass, 35 is a magnetic gap, and 36 is a winding window. The manufacturing method of this magnetic head is the same as that described in FIGS. 5 to 8 except for the sputtering conditions when producing the Co--Nb--Zr amorphous magnetic winding.

次にCo−Nb−Zr非晶質巻くのスパッタ条件を第1
表に示す。
Next, the sputtering conditions for Co-Nb-Zr amorphous winding were changed to the first
Shown in the table.

第   1   表 マグネトロン電磁石電流は、内側コイル22に4Aの電
流を常に流しながら、外側コイル23に逆極性の4Aの
電流を4.5秒流し、0.5秒でOAにし、次いで4.
5秒OAに保持し、そして0.5秒でまた4Aにする。
Table 1 The magnetron electromagnet current is as follows: 4A current is constantly passed through the inner coil 22, 4A current of opposite polarity is passed through the outer coil 23 for 4.5 seconds, the current is set to OA in 0.5 seconds, and then 4.
Hold at OA for 5 seconds, then go back to 4A for 0.5 seconds.

つまり外側コイル23のみ10秒周期でOAと4Aの電
流を流している。
In other words, a current of OA and 4A is applied only to the outer coil 23 at a cycle of 10 seconds.

このようにして得られた膜の組成を第3図に○で示す。The composition of the film thus obtained is shown in FIG. 3 by circles.

そして深さ方向の組成変調を観るために外側コイル23
に流す電流を周期的に変化させずに、外側コイル23に
電流を流さないことでターゲット中心部のみをエロージ
ョンさせた得た膜の組成を△で、外側コイルに4Aの電
流を流してタードツト外周部のみをエロージョンさせて
得た膜の組成を口で示す。
Then, in order to observe the compositional modulation in the depth direction, the outer coil 23
The composition of the obtained film was eroded only at the center of the target by not periodically changing the current flowing through the outer coil 23, and by passing a current of 4 A through the outer coil 23. The composition of the film obtained by eroding only the part is shown below.

これより第1表のスパッタ条件を採用することにより、
本実施例でのCo−Nb−Zr非晶質合金は、前記(1
)式で表される組成を中心として(6)弐で表される範
囲内で組成変調をしていることがわかる。
From this, by adopting the sputtering conditions in Table 1,
The Co-Nb-Zr amorphous alloy in this example is the above-mentioned (1
It can be seen that the composition is modulated within the range expressed by (6) 2, centered on the composition expressed by formula (6).

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、電磁石を用いた
プレーナーマグネトロンスパッタ装置によりCo−Nb
−Zr非晶質磁性合金を作成する際に、深さ方向の組成
変調の幅を規定することで、記録再生特性良好な磁気ヘ
ッドを得ることができた。
As explained above, according to the present invention, Co-Nb sputtering is performed using a planar magnetron sputtering apparatus using an electromagnet.
By defining the width of the compositional modulation in the depth direction when creating the -Zr amorphous magnetic alloy, it was possible to obtain a magnetic head with good recording and reproducing characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による磁気ヘッドの斜視図、第2図は本
発明のCo−Nb−Zr非晶質合金組成を有する磁気ヘ
ッドと比較例の磁気ヘッドの相対出力と記録密度との関
係を示すグラフ、第3図は膜の組成図、第4図は従来技
術によ磁気ヘッドの斜視図、第5図、第6図、第7図、
第8図はそれぞれその製造方法の説明図、第9図は電磁
石を用いたプレーナーマグネトロン電極の断面図、第1
0図はターゲット上に現れるエロージョン領域を示す説
明図、第11図はエロージョン領域が異なる場合の膜組
成の違いを示す組成図である。 31a、31b・・・・・・磁性フェライト基体、32
a、32b・・・・・・磁性層(Co−Nb−Zr非晶
質合金)、33・・・・・・保護膜、34・・・・・・
ガラス、35・・・・・・磁性ギャップ、36・・・・
・・巻線窓。 第2図 第1図 記録密1實 (kイC1) 第4図 第8図 第 図 第 ? 図 第1O図
Fig. 1 is a perspective view of a magnetic head according to the present invention, and Fig. 2 shows the relationship between relative output and recording density of a magnetic head having a Co-Nb-Zr amorphous alloy composition of the present invention and a magnetic head of a comparative example. 3 is a film composition diagram, FIG. 4 is a perspective view of a magnetic head according to the prior art, FIGS. 5, 6, 7,
Fig. 8 is an explanatory diagram of the manufacturing method, Fig. 9 is a cross-sectional view of a planar magnetron electrode using an electromagnet, and Fig. 1
FIG. 0 is an explanatory diagram showing the erosion region appearing on the target, and FIG. 11 is a composition diagram showing the difference in film composition when the erosion region is different. 31a, 31b...Magnetic ferrite base, 32
a, 32b...Magnetic layer (Co-Nb-Zr amorphous alloy), 33...Protective film, 34...
Glass, 35...Magnetic gap, 36...
...Window window. Fig. 2 Fig. 1 Recording density 1 truth (Ki C1) Fig. 4 Fig. 8 Fig. ? Figure 1O

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)磁性層の少なくとも一部がCo−Nb−Zr非晶質
磁性合金で構成されている磁気ヘッドにおいて、前記C
o−Nb−Zr非晶質磁性合金がCo:(80.0+x
)at% Nb:〔(12.8〜16.8)−0.7x〕at%Z
r:〔(3.2〜7.2)−0.3x〕at%但し、0
≦x≦10、80≦Co≦90(at%)からなること
を特徴とする磁気ヘッド。
[Claims] 1) A magnetic head in which at least a part of the magnetic layer is made of a Co-Nb-Zr amorphous magnetic alloy, in which the C
The o-Nb-Zr amorphous magnetic alloy is Co:(80.0+x
)at% Nb: [(12.8-16.8)-0.7x]at%Z
r: [(3.2-7.2)-0.3x] at% However, 0
A magnetic head characterized in that ≦x≦10, 80≦Co≦90 (at%).
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002252115A (en) * 2001-02-26 2002-09-06 Alps Electric Co Ltd Impedance element and its manufacturing method

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