JPH02138583A

JPH02138583A - 電磁弁

Info

Publication number: JPH02138583A
Application number: JP28979988A
Authority: JP
Inventors: Mikio Suzuki; 幹夫鈴木; Osamu Watanabe; 修渡辺; Koichi Takanishi; 孝一高西
Original assignee: Toyoda Koki KK
Current assignee: Toyoda Koki KK
Priority date: 1988-11-16
Filing date: 1988-11-16
Publication date: 1990-05-28
Anticipated expiration: 2013-01-21
Also published as: JP2701890B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉本発明は、ソレノイドによって作動されるスプールによ
り供給通路からライン通路に供給される流体の圧力制御
を行うようにした電磁弁に関するものである。

〈従来の技術〉圧力制御を行う電磁弁の１つとして、第３図及び第４図
に示すようにスプールハウジング１に第１の摺動孔３と
この第１の摺動孔３より小径の第２の摺動孔４を連続し
て形成し、またスプールハウジング１に第１の摺動孔３
にそれぞれ連通するタンク通路５とライン通路６と供給
通路７を形成し、前記第１の摺動孔３と第２の摺動孔４
にスプ一ル２を摺動可能に嵌挿し、このスプール２にタ
ンク通路５とライン通路６との連通制御を行う第１のラ
ンド部８と、ライン通路６と供給通路７との連通制御を
行う第２のランド部９と、第２の摺動孔４に摺動可能に
嵌挿され第２のランド部９より小径の第３のランド部１
０と、第１のランド部８と第２のランド部９間に第１の
小径部１１と、第２のランド部９と第３のランド部１０
間に第２の小径部１２を形成し、第１の小径部１１とス
プールハウジング１の第１の摺動孔３間に制御圧室１３
を形成するとともに第２の小径部１２とスプールハウジ
ング１の第１の摺動孔３間にフィードバック室１４を形
成し、前記制御圧室１３の流体の圧力をフィードバック
室１４に導く絞り通路１５をスプールハウジング１に形
成し、前記スプール２をソレノイド１６に印加された電
流に応じてスプリング１７に打ち勝って作動させるよう
にしたものがある。

このものは、タンク通路５とライン通路６の連通制御Ａ
Ｉ並びにライン通路６と供給通路７の連通制御Ａ２を行
うことによって、ライン通路６の圧力を制御し、ライン
通路６の圧力の変動を絞り通路１５を介してフィードバ
ック室１４に導くことよって、前記スプール２を作動さ
せライン通路６の圧力の変動を抑えている。

〈発明が解決しようとする課題〉上述したものは、フィードバック室１４にエアが溜まっ
ていると、制御圧室１３の圧力が第２のランド部９と第
３のランド部１０の端面に伝わらないため、制御圧の変
動を抑えることができない問題があった。

〈課題を解決するための手段〉本発明は、上述した問題を解決するためになされたもの
で、制御圧室とフィードバック室とが連通ずる絞り通路
の他に、供給通路とフィードバック室とが連通ずる制限
通路をスプールハウジングに形成したものである。

く作用〉ソレノイドに印加される電流に応じてスプールがスプリ
ングに打ち勝って作動し、タンク通路とライン通路の連
通制御並びにライン通路と供給通路の連通制御を行うこ
とによってライン通路の圧力制御がなされる。ライン通
路の圧力変動は、絞り通路を介してフィードバック室に
導かれ、スプールを作動させることによってライン通路
の圧力変動を抑える。供給通路の圧力がフィードバック
室よりも高いときは、供給通路の流体がフィードバック
室に導かれてフィードバック室のエアが無くなり、制御
圧室の圧力を第２のランド部と第３のランド部にスムー
ズに作用させることができる。

〈実施例〉以下本発明の実施例を第１図及び第２図に基づいて説明
する。２０は非磁性体からなるスリーブであり、このス
リーブ２０の一端には磁性体からなる第１のソレノイド
ハウジング２１が嵌合固定されている。スリーブ２０の
他端に非磁性体からなるリング２２が嵌挿されさらに磁
性体からなる第２のソレノイドハウジング２３が嵌合固
定されている。第１．第２のソレノイドハウジング２１
゜２３とリング２２の内周に嵌合孔２４が形成され、こ
の嵌合孔２４にプランジャ２５が摺動可能に嵌挿されて
いる。第１のソレノイドハウジング２１にはリング２２
側にヨーク２６が形成され、このヨーク２６と直交する
方向にフランジ部２７が形成されている。第１のソレノ
イドハウジング２１の嵌合孔２４には磁性体からなる円
筒部材２８が嵌合固定されている。スリーブ２０の周囲
にはソレノイド３０が配置され、このソレノイド３０は
磁性体からなり円筒状のカバー３１によって覆われてい
る。第２のソレノイドハウジング２３の一端には磁性体
からなるエンドプレート７２が当接し、このエンドプレ
ート７２に前記カバー３１の一端がかしめられている。

４０は非磁性体からなるスプールハウジングであり、第
１のソレノイドハウジング２１に当接した状態で前記カ
バー３１の一端をかしめることによって第１のソレノイ
ドハウジング２１に連結される。スプールハウジング４
０には第１の摺動孔４１ａと第１の摺動孔４１ａより小
径の第２の摺動孔４１ｂが連続して形成され、第１の摺
動孔４１ａと第２の摺動孔４１ｂにスプール４２が摺動
可能に嵌挿されている。スプールハウジング４０の第１
の摺動孔４１ａと第２の摺動孔４１ｂには第１のソレノ
イドハウジング２１から順に第１の環状溝４３、第２の
環状溝４４、第３の環状溝４５、第４の環状溝４６、第
５の環状溝４７が間隔をおいて形成されている。またス
プールハウジング４０には第１の摺動孔４１ａとカバー
３１の外部にある凹路のタンクとを連通ずる第１のタン
ク通路４８と、第１の環状溝４３とカバー３１の外部に
ある凹路のタンクとを連通ずる第２のタンク通路４９と
、第２の環状溝４４と凹路のアクチエータと連通ずるラ
イン通路５０と、第３の環状溝３５と凹路のポンプとを
連通ずる供給通路５１と、第５の環状溝４７と凹路のタ
ンクとを連通ずる第３のタンク通路５３とが形成されて
いる。第１の環状溝４３と第２の環状溝４４間には第１
のランド部５４が、第２の環状溝４４と第３の環状溝４
５間には第２のランド部５５が形成されている。

スプール４２にはライン通路５０と第２のタンク通路４
９を連通制御する第１のランド部５６と、ライン通路５
０と供給通路５１を連通制御する第２のランド部５７と
、第２の摺動孔４１ｂに摺動可能に嵌挿され第２のラン
ド部より小径の第３のランド部５日が間隔をおいて形成
されている。前記第１のランド部５６と第１の摺動孔４
１ａ間に半径方向に僅かな隙間を持つ環状絞りが形成さ
れ、同じく第２のランド部５７と第１の摺動孔４１ｂ間
に環状絞りが形成されている。スプール４２のランド部
５６．５７とスプールハウジング４０のランド部５４．
５５のオーバラップ量に応じて前記環状絞りの流路抵抗
が変えられる。またスプール４２には第１のランド部５
６と第２のランド部５７間に第１の小径部５９が形成さ
れ、第２のランド部５７と第３のランド部５８間に第２
の小径部６０が形成されている。第１の小径部５９とス
プールハウジング４０間に制御圧室６１が形成され、第
２の小径部６０とスプールハウジング４０間にフィード
バック室６２が形成されている。スプールハウジング４
０にはライン通路５０とフィードバック室６２とを連通
ずる絞り通路６３が形成され、供給通路５１とフィード
バック室６２とを連通ずる制限通路６４が形成されてい
る。制限通路６４は絞り通路６３より流路抵抗が大きく
なるように通路面積が小さく形成されている。スプール
ハウジング４０にはキャップ６５がねじ込まれ、キャッ
プ６５とスプール４２の第３のランド部５８間にスプー
ル４２をプランジャ２５に当接する側に付勢するスプリ
ング６６が介挿されている。

７０はケースハウジングであり、このケースハウジング
７０に形成された取付は穴７１にスプールハウジング４
０が嵌め込まれている。ケースハウジング４０には第１
のタンク通路４８と第２のタンク通路４９とライン通路
５０と供給通路５１と第３のタンク通路５３にそれぞれ
つながる通路が形成されている。

次に上述した構成に基づいて作用について説明する。ソ
レノイド３０に電流を印加するとカバー３１とエンドプ
レート７２と第２のソレノイドハウジング２３とプラン
ジャ２５と第１のソレノイドハウジング２１を通る磁力
線が発生し、プランジャ２５がヨーク２６側へ吸引され
、スプール４２がスプリング６６に打ち勝って右進する
。このスプール４２の右進によって供給通路５１がライ
ン通路５０につながる通路の開度Ａ３が大きくなり、ラ
イン通路５０が第２のタンク通路４９につながる通路の
開度Ａ４が小さくなる。この結果、ライン通路５０に供
給される油の圧力が供給通路５１内の油の圧力まで上昇
する。ライン通路５０の圧力変動は絞り通路６３を介し
てフィードバック室６２に伝えられ、第２のランド部５
７と第３のランド部５８の端面に作用する。第２のラン
ド５７と第３のランド部５８の面積差によって、スプー
ル４２を左進させる力が変わる。スプリング６６によっ
てスプール４２が右進した状態においては、制御圧室６
１とフィードバック室６２の圧力が低く、供給通路５１
内の油が制限通路６４を介してフィードバック室６２に
流れる。この結果、フィードバック室６２内にあったエ
アは絞り通路６３とライン３ｍ路５０と制御圧室６１を
介して第２のタンク通路４９に流れるため、スプール４
２が右進した状態における制御圧室６１内の圧力の変動
をスムーズに第２のランド部５７と第３のランド部５８
に伝えることができ、制御圧室６１の圧力変動を抑える
ことができる効果が得られる。

〈発明の効果〉以上述べたように本発明は、制御圧室とフィードバック
室とが連通ずる絞り通路の他に、供給通路とフィードバ
ック室とが連通ずる制限通路をスプールハウジングに形
成した構成であるので、フィードバック室の圧力が低い
ときは、供給通路からの流体の流れによってフィードバ
ック室のエアを流すことができ、制御圧室の圧力の変動
をスムーズに第２のランド部と第３のランド部の端面に
伝えることができるため、制御圧室の圧力の変動を抑え
ることができる効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図と第２図は本発明の実施例を示すもので、第１図
は電磁弁の断面図、第２図は油圧回路図、第３図は従来
のｔＫｌ弁の断面図、第４図は従来の油圧回路図。３０・・・ソレノイド、４０・・・スプールハウジング
、４１ａ・・・第１の摺動孔、４１ｂ・・・第２の摺動
孔、４２・・・スプール、４９・・・第２のタンク通路
、５０・・・ライン通路、５１・・・供給通路、５６・
・・第１のランド部、５７・・・第２のランド部、５８
・・・第３のランド部、５９・・・第１の小径部、６１
・・・制御圧室、６２・・・フィードバック室、６３・
・・第２の小径部、６３・・・絞り通路、６４・・・制
限通路、６Ｇ・・・スプリング。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）　スプールハウジングに第１の摺動孔とこの第１
の摺動孔より小径の第２の摺動孔を連続して形成し、ま
たスプールハウジングに第１の摺動孔にそれぞれ連通す
るタンク通路とライン通路と供給通路を形成し、前記第
１の摺動孔と第２の摺動孔にスプールを摺動可能に嵌挿
し、このスプールにタンク通路とライン通路との連通制
御を行う第１のランド部と、ライン通路と供給通路との
連通制御を行う第２のランド部と、第２の摺動孔に摺動
可能に嵌挿され第２のランド部より小径の第３のランド
部と、第１のランド部と第２のランド部間に第１の小径
部と、第２のランド部と第３のランド部間に第２の小径
部を形成し、第１の小径部とスプールハウジングの第１
の摺動孔間に制御圧室を形成するとともに第２の小径部
とスプールハウジングの第１の摺動孔間にフィードバッ
ク室を形成し、前記制御圧室の流体の圧力をフィードバ
ック室に導く絞り通路をスプールハウジングに形成し、
前記スプールをソレノイドに印加された電流に応じてス
プリングに打ち勝って作動させるようにした電磁弁であ
って、前記スプールハウジングに供給通路とフィードバ
ック室とが連通する制限通路を形成したことを特徴とす
る電磁弁。