JPH02135451A - 印刷回路板の製造法 - Google Patents

印刷回路板の製造法

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JPH02135451A
JPH02135451A JP29218188A JP29218188A JPH02135451A JP H02135451 A JPH02135451 A JP H02135451A JP 29218188 A JP29218188 A JP 29218188A JP 29218188 A JP29218188 A JP 29218188A JP H02135451 A JPH02135451 A JP H02135451A
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JP
Japan
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viscosity
printed circuit
resist
circuit board
coating
Prior art date
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Pending
Application number
JP29218188A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Kubota
裕之 久保田
Hiroaki Tsuruta
洋明 鶴田
Katsumi Watanabe
克己 渡辺
Kyoichi Awaji
淡路 亨一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、印刷回路板の製造法であり、特に各種のレジ
ストの塗布方法に特徴を有する製造法に関する。
(従来技術) 印刷回路板の製造においては、エツチングレジスト、メ
ツキレジストおよびソルダーレジストなどの各種レジス
トが用いられている。これらのレジストのパターン形成
方法としては、シリクスクリーン印刷を代表とする印刷
方法と、感光性樹脂を利用した写真法がある。前者は印
刷精度に限界があり、高解像度を要求される場合には実
用的ではなく、高密度化の要求の高いエツチングレジス
トでは写真法が主流となり、またソルダーレジストでも
実用化の検討がされている。
後者の写真法に用られるレジストとしては、ドライフィ
ルムタイプと液状タイプがある。ドライフィルムタイプ
によると、膜厚が均一であり、液状レジストのように塗
布・乾燥工程がないという特徴があるために汎く用いら
れている。しかし、既に回路が形成されて凹凸のある基
板に貼り付ける場合には、凹部にレジスト膜が密着しな
いことがあるという問題点がある。
液状タイプでは塗布・乾燥の工程があるもののコスト的
に有利であり、また凹凸のある基板にも適用できるため
、工業上メリットのある方法と言える。
従来、この液状タイプのレジストの塗布は、既存の設備
を利用できるということから、スクリーン印刷方式が広
く行われている。しかし、この方式は、■塗膜厚の制御
に熟練を要する、■製造ラインの自動化が困難である、
■塗工速度が遅い、■両面同時塗工ができないなどの種
々の問題点があった。
また、スクリーン印刷以外では、ロールコート、カーテ
ンフローコート、スプレーコートなどが考えられている
が、いずれもスクリーン印刷法の欠点を克服することが
できなかった。
(発明が解決しようとする課題) 本発明者等は、レジスト液の粘度を選ぶことによってス
プレー塗布する方法により上記の問題点を解決すること
を試みたが、更に種々の問題が生じた。
すなわち、粘度が高いとレジスト液がスプレーノズルか
ら吐出しなかったり、また吐出したとしても塗布ムラが
生じた。この解決のため粘度を低くすると、印刷回路板
の細い配線上における膜厚が著しく薄(なることが判明
した。なお、塗装ムラは噴霧ミストの粒子のバラツキに
起因しており、レジストでの塗装ムラは致命的な欠陥と
されている。また、配線上の膜厚が著しく薄いときは、
その後の工程でレジストの剥離が起こる危険がある。
本発明は、スプレー塗布されるレジスト液に非ニユート
ン粘性を与えることによって、凹凸のある基板に適用し
ても均一な塗膜とすることができ、かつ塗布ムラがなく
、平滑で光沢のあるレジスト膜を形成する方法に関する
ものである 〔発明の構成〕 (課題を解決するための手段) 本発明は、JIS  K7117に規定されるSB型粘
度計により、回転数30回/分、温度25℃で測定した
粘度が1500mPa・S以下であり、下記式(1)で
定義される構造粘性指数Rが2〜8の範囲にあるレジス
ト液を、多条交叉した■カット溝を有するノズルを使用
してスプレー塗布する工程を含むことを特徴とする印刷
回路板の製造法を提供するものである。
R−V −/ V b  ・−・−・−・ (1)ただ
し、式(1)中Vaは、温度25℃において、SB型粘
度計によって回転数3回/分にて測定した粘度であり、
■、は、同じく回転数30回/分にて測定した粘度であ
る。
なお、応力を与えて流動化すると見掛は上粘度が低くな
り、応力が少なくなるほど粘度が高くなる性質を示す流
体があり、このような性質を非ニユートン性と云う。本
発明者等は係る性質に着目し、塗液がスプレーノズルか
ら吐出するまでは粘度が低く、微粒で均一な液滴となり
、印刷回路板に塗着すると流動性が低くなって凸部にお
ける膜厚を十分に確保することができる方法を確立した
。非ニユートン性流体の構造粘性指数Rは上記のように
定義され、その値は2〜8、好ましくは3〜6の範囲で
ある。構造粘性指数Rが2未満の場合には塗着後も塗液
が流動性を有しているため、凸部についた塗液が流れ落
ちてしまい、膜厚不足や胴部分の露出という結果を招き
、反対に指数Rが8を越えると基板上でのレベリング性
が悪くなり、光沢のないマットな塗膜となる。表面がマ
ットになると印刷回路板の製造時に使用される各種薬品
、例えばエツチング液、メツキ液、半田付はフシックス
、あるいは酸、アルカリ、ジクロロエタン、トリクロロ
エタンなどがレジスト膜を透過し易くなり、また引っ掻
き傷が付き易くなるなどの問題が生ずる。
また、回転数30回/分、温度25°Cで測定した粘度
Vaは、1500mPa・s以下、好ましくは500m
Pa・s以下の範囲が良い。粘度が高いと塗膜ムラが生
じ易くなり、かつノズル詰まりの虞がある。
また、本発明において使用するノズルとしては、実開昭
62−31950号公報に記載されているような多条交
叉した■カット溝を有するノズルであり、これは2条交
叉もしくは3条以上の交叉であっても良い。
上記特定の構造粘性を有するレジストを用い、かつこの
Vカット溝を有するノズルによってスプレーすることに
よって、レジスト液は十分細かい噴霧ミストとなり、薄
い塗膜としても厚い塗■々としても塗装ムラがなく、か
つ平滑なレジスト膜を形成することができる。
本発明において使用されるレジスト液の組成としては、
特に制限されることはないが、例えば、重合性基を有す
るか、もしくは有しない皮膜形成性樹脂、重合性基を有
するモノマー、必要に応じて、光重合開始剤、熱硬化性
樹脂およびその硬化剤、着色剤、チキソトロピー性付与
のための有機もしくは無機の充填剤、並びにこれらを溶
解もしくは分散する揮発性溶剤からなるものである。
以下実施例および比較例をもって本発明を具体的に説明
する。例中部および%は重量部および重量%を示す。
(実 施 例) レジスト液の調製 スチレン−無水マレイン酸共重合体のエステル化物S?
’1A−144OA (サトマー社製商品名)の55%
ブチルセロソルブ溶液952部、テトラメチロールメタ
ントリアクリレート305部、ベンゾフェノン10部、
N、N’−ジエチルアミノベンゾフェノンlO部および
フタロシアニングリーン8部をプラネタリ−ミキサーに
て30分間混練し、練肉ベースA0を得た。
次に練肉ベースA。を三本ロールミルにて更に練肉し、
最大粒子径が5μm以下の練肉物A1を調製した。
また、練肉ベースA、1285部と微粉シリカTS10
0(デグサ社製商品名)82部をプラネタリ−ミキサー
にて30分間混練し、更に三本ロールミルにて最大粒子
径が5μm以下となるまで練肉し、練肉物A2を調製し
た。
これとは別にタレゾールノボラック型エポキシ樹脂エピ
クロンN−695(大日本インキ化学社製商品名)70
部をブチルセロソルブ30部に溶解した樹脂溶液Bを調
製した。
練肉物A、1285部と樹脂溶液B543部とを混合し
た液Sl、および練肉物Az1367部と樹脂溶液83
43部とを混合した液s2を調製した。
このSlおよびS2並びに溶剤・メチルエチルケ1−7
 (MEK)を表1に示すとおりのレジスト液とし、同
じく表1に示す各種ノズルを用いて印刷回路板上にスプ
レー塗装した。なお、印刷回路板は、NEMA規格FR
−4相当のガラス繊維含有エポキシ樹脂の銅張積層基板
から配線の高さ35μm、幅160μmの回路を形成し
たものである。
スプレー塗装装置は、圧力ポンプ、圧力調節弁、フィル
ター、塗液タンク、スプレーガン(スプレーノズルを含
む)より構成されている。
レジスト液は、ポンプで加圧され、スプレーガンに送ら
れる。スプレーガンは幅1000mmで往復走引するこ
とができ、スプレーガンの先端にはノズルチップを取り
つける。ノズルチップの先端から30mmのところに針
状の電極Elが設けられている。
一方、被塗物である印刷回路板は、金属製のコンベアに
乗せられて搬送される。搬送速度は0〜10m/分の任
意の値に設定することができる。
スプレーガンをスプレーファンが鉛直下向きに出るよう
に、またスプレーガンの走引方向に垂直になるように設
定する。高電圧発生装置の+側にはコンベアの搬送台を
接続し、−側には電極Elを接続する。高電圧発生装置
は電圧を0/76Kvの範囲で変えることができる。
ここではスプレー塗装の諸条件を以下のように設定した
液圧       50kg/c己 ガン距lid      160m111コンベアスピ
ード 2.0m/秒 スプレーガン走引速度600mm/秒 電圧       40KV 塗布直後に目視で斑点状のムラの有無を確認し、その結
果を表1に示す。
塗装した印刷回路板を以下の条件で処理した。
乾燥    75℃/20分 紫外線露光 500mJ/co! 現像    1%炭酸ナトリウム水溶液、28℃、1分 加熱硬化  140℃、40分 処理済の基板の光沢度をJIS−Z8741の方法3に
従って測定した。鏡面光沢度は30%以上、好ましくは
50%以上が必要であるとされている。
各印刷回路板を任意の5ケ所で配線に垂直に切断し、そ
の断面を200倍に拡大してレジスト層の膜厚を測定し
た。
配線の断面を四角形とみなし、その上辺の中点の位置に
おけるレジスト膜厚を11頂点の位置におけるレジスト
膜厚を12と定義する。表1に5ケ所の平均値を示す。
なお、各基板の平坦部のレジストの厚さは30±2μm
であり、はとんど差がなかった。
表1から明らかなように、レジスト液のVaの粘度の高
い比較例1では塗装ムラが発生し、チキントロピー値R
が小さい比較例2ではl!1および12が共に小さく、
凸部にレジスト膜が形成されない。通常このβ1および
12は少なくとも5μm以上が実用範囲とされている。
また、構造粘性指数Rが大きい比較例3では光沢度が不
十分である。
比較例4および5は、ノズルの種類を代えたものであり
、やはり塗装ムラが生じた。
(以下、余白)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.JIS−K7117に規定されるSB型粘度計によ
    り、回転数30回/分、温度25℃で測定した粘度が1
    500mPa・s以下であり、下記式(1)で定義され
    る構造粘性指数Rが2〜8の範囲にあるレジスト液を、
    多条交叉したVカット溝を有するノズルを使用してスプ
    レー塗布する工程を含むことを特徴とする印刷回路板の
    製造法。 R=V_a/V_b・・・・・・・・・(1)(ただし
    、式(1)中V_aは、温度25℃において、SB型粘
    度計によって回転数3回/分にて測定した粘度であり、
    V_bは、同じく回転数30回/分にて測定した粘度で
    ある。)
  2. 2.V_bが500mPa・s以下であることを特徴と
    する請求項1項記載の印刷回路板の製造法。
  3. 3.Rが2〜6である請求項1もしくは2記載の印刷回
    路板の製造法。
JP29218188A 1988-11-17 1988-11-17 印刷回路板の製造法 Pending JPH02135451A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05273760A (ja) * 1992-03-26 1993-10-22 Matsushita Electric Works Ltd レジスト膜形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05273760A (ja) * 1992-03-26 1993-10-22 Matsushita Electric Works Ltd レジスト膜形成方法

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