JPH02131944A - Liquid jet recording head - Google Patents

Liquid jet recording head

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JPH02131944A
JPH02131944A JP1003393A JP339389A JPH02131944A JP H02131944 A JPH02131944 A JP H02131944A JP 1003393 A JP1003393 A JP 1003393A JP 339389 A JP339389 A JP 339389A JP H02131944 A JPH02131944 A JP H02131944A
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JP
Japan
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group
recording head
methacrylate
liquid
jet recording
Prior art date
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Pending
Application number
JP1003393A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiromichi Noguchi
弘道 野口
Tadaki Inamoto
忠喜 稲本
Emi Munakata
棟方 恵美
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/52Amides or imides
    • C08F220/54Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F220/58Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-(meth)acryloylmorpholine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/20Esters of polyhydric alcohols or phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F291/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00

Abstract

PURPOSE:To provide a recording head having a low cost, high accuracy, high reliability and excellent durability by incorporating specific graft copolymerizable polymer, specific epoxy resin, and polymerization initiator for generating Lewis acid by radiating it with active energy beam. CONSTITUTION:Composition contains graft copolymerizable polymer in which branched chain having a structure unit derived from one type of monomer of a group of monomers represented by formulae x and y is added to backbone chain having a structure unit derived from monomer of alkylmethacrylate, acrylonitrile and styrene as a main ingredient, its number-average molecular weight is 5000 or more, and its weight-average molecular weight is 50,000 or less, specific linear polymer, resin esterified with unsaturated carboxylic acid from part of epoxy resin containing compound having tow or more epoxy groups in its molecule, and polymerization initiator for generating Lewis acid by radiating it with active energy beam. In the formulae x and y, R<1> is 1-3 alkyl groups or hydroxyalkyl groups, R<2> is alkyl group or acyl group, R<3> is specific phenylalkyl group.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液体噴射記録ヘッド、詳しくは、インク等の
記録用液体の小滴を発生させ、それを紙などの被記録材
に付着させて記録を行なう液体噴射記録方式に用いる記
録用液体の小滴発生用の記録ヘットに関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a liquid jet recording head, specifically, a liquid jet recording head that generates droplets of a recording liquid such as ink and attaches them to a recording material such as paper. The present invention relates to a recording head for generating small droplets of recording liquid used in a liquid jet recording method that performs recording.

〔従、Kの技術〕[Second, K technology]

インク等の記録用液体の小滴を発生させ、それを紙なと
の被記録材に付着させて記録を行なう液体噴射記録方式
は、記録時の騒音の発生か無視てきる程度に極めて小さ
く、かつ高速記録か可能であり、しかも給通紙に定着な
どの特別な処理を必要とせずに記録を行なうことのでき
る記録方式として注[]され、最近種々のタイプのもの
か活発に研究されている。
The liquid jet recording method generates small droplets of recording liquid such as ink and attaches them to a recording material such as paper to perform recording, and the noise generated during recording is so small that it can be ignored. It has been noted as a recording method that enables high-speed recording and does not require special processing such as fixing on feeding paper, and has recently been actively researched into various types. There is.

液体噴射記録方式に用いられる記録装置の記録ヘット部
は、一般に、記録用液体を吐出するためのオリフィス(
液体吐出口)と、該オリフィスに連通し、記録用液体を
吐出するためのエネルギーが記録用液体に作用する部分
を有する液体通路と、該液体通路に供給する記録用液体
を貯留するための液室とを有して構成されている。
The recording head section of a recording device used in the liquid jet recording method generally has an orifice (
a liquid passage communicating with the orifice and having a portion where energy for ejecting the recording liquid acts on the recording liquid; and a liquid for storing the recording liquid to be supplied to the liquid passage. It is configured with a chamber.

記録の際に、記録用液体を吐出するためのエネルギーは
、液体通路の一部を構成する記録用液体に吐出エネルギ
ーを作用させる部分(エネルギー作用部)の所定の位置
に配設された発熱素子、圧電素r−等の種々のタイプの
吐出エネルギー発生素子によって発生さわるものか多い
During recording, the energy for ejecting the recording liquid is generated by a heating element disposed at a predetermined position in a part (energy application part) that applies ejection energy to the recording liquid, which forms part of the liquid path. , piezoelectric elements, and other types of ejection energy generating elements.

このような構成の液体噴射記録ヘッドを製造する方法と
しては、例λ.ば、ガラス、金属等の平板に切削やエッ
チング等によって、微細な溝を形成し、史にこの溝を形
成した平板に他の適当な板を接合して液体通路を形成す
る]二程を含む方法、あるいは例えば吐出エネルギー発
生素子の配置された」,ζ板上に硬化した感光性樹脂の
溝壁をフォトリソグラフィ−エ程によって形成して、基
板トに液体通路となる溝を設け、このようにして形成さ
れた溝付き板に、他の平板(覆い)を接合して液体通路
を形成する上程を含む方法か知られている(例えば特開
昭57−43876号)。
As a method for manufacturing a liquid jet recording head having such a configuration, an example λ. For example, fine grooves are formed in a flat plate of glass, metal, etc. by cutting or etching, and a liquid passage is formed by joining another suitable plate to the flat plate with these grooves formed. Alternatively, for example, groove walls of a cured photosensitive resin are formed on a ζ plate in which ejection energy generating elements are arranged by a photolithography process, and grooves serving as liquid passages are provided in the substrate. A method is known that includes the step of joining another flat plate (cover) to the grooved plate formed by the method to form a liquid passage (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 57-43876).

これらの液体噴射記録ヘッドの製造方法のなかでは、感
光性樹脂を使用した後者の方法は、前者の方法に対して
、液体通路をより鯖度良く、かつ歩留り良く微細加工で
き、しかも量産化が容易であるので、品質か良く、より
安価な液体噴射記録ヘッドを提供することかできるとい
う利点を有している。
Among these methods for manufacturing liquid jet recording heads, the latter method using photosensitive resin allows fine processing of liquid passages with better accuracy and higher yield than the former method, and is also easier to mass-produce. Since it is simple, it has the advantage that it is possible to provide a liquid jet recording head of good quality and at a lower cost.

このような記録ヘッドの製造に用いる感光性樹脂として
は、印刷版、プリント配線等におけるパターン形成用と
して用いられてきたもの、あるいはガラス、金属、セラ
ミックス等に用いる光硬化型の塗料や接着剤として知ら
れているものが用いられており、また作業能率などの而
からドライフィルムタイプの樹脂が主に利用されてきた
The photosensitive resins used to manufacture such recording heads are those that have been used for pattern formation in printing plates, printed wiring, etc., and those that have been used as photocurable paints and adhesives for glass, metals, ceramics, etc. Known resins have been used, and dry film type resins have been mainly used due to reasons such as work efficiency.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

感光性樹脂の硬化膜を構成の一部に利用する記録ヘット
において、高度な記録特性、耐久性及び信頼性等の優れ
た特性を得るためには、用いる感光性樹脂に、 (1)特に、硬化膜として基板等との接着性に優れてい
る、 (2)硬化した際の機械的強度及び耐久性等に優れてい
る、 (:1)パターン露光を用いたパターンニングの際の感
度及び解像度に優れている なとの特性を有していることが要求される。
In order to obtain excellent characteristics such as advanced recording characteristics, durability, and reliability in a recording head that uses a cured film of a photosensitive resin as part of its structure, the photosensitive resin used must have (1) In particular: (2) Excellent mechanical strength and durability when cured; (1) Sensitivity and resolution during patterning using pattern exposure. They are required to have excellent characteristics.

ところが、これまでに知られている液体噴射記録ヘット
の形成に用いられてきた感光性樹脂には、上記の要求特
性を全て満足したものは少ないのが現状である。
However, at present, there are few photosensitive resins that have been used to form known liquid jet recording heads that satisfy all of the above-mentioned required characteristics.

例えば、記録ヘッド用の感光性樹脂として、印刷版、プ
リント配線等におけるパターン形成用として用いられて
いるものは、感度及び解像度においては優れているが、
基板として用いられるガラス、セラミックス、プラスチ
ックフイルムなどに対する接着性や密着性に劣り、しか
も硬化した際の機絨的強度や耐久性が七分でない。その
ため、記録ヘットの製造段階において、または使用にと
もなって、例えば液体通路内の記録用液体の流れを阻害
したり、あるいは液滴吐出方向を不安定にするなとして
記録特性を低下させる等、記録ヘットの信頼性を著しく
損なう原因となる樹脂硬化膜の変形や基板からの’i+
+ a .損傷などが起き易いという欠点を有している
For example, photosensitive resins used for recording heads and for pattern formation in printing plates, printed wiring, etc. have excellent sensitivity and resolution;
It has poor adhesion and adhesion to glass, ceramics, plastic films, etc. used as substrates, and furthermore, its mechanical strength and durability when cured are not as good as 70%. Therefore, during the manufacturing stage of the recording head or during use, printing problems may occur, such as impeding the flow of the recording liquid in the liquid path or destabilizing the direction of droplet ejection, thereby reducing the recording characteristics. Deformation of the cured resin film and 'i+' from the board can significantly impair the reliability of the head.
+ a. It has the disadvantage of being easily damaged.

方、カラス、金属、セラミックス等に用いる光硬化型の
塗料や接着剤として知られているものは、これらの材質
からなる基板に対する密着性や接着性に優わ、かつ硬化
した際に十分な機械的強度や耐久性が得られるという利
点を有しているものの、感度及び解像度に劣るために、
より高強度の露光装置や長時間の露光操作が必要とされ
、また、その特性上、解像度良く精密な高密度パターン
を得ることかできないために、特に微細な精密加工か要
求される記録ヘット用としては向いていないという問題
点を有している。
On the other hand, known photocuring paints and adhesives used for glass, metals, ceramics, etc. have excellent adhesion and adhesion to substrates made of these materials, and have sufficient mechanical properties when cured. Although it has the advantage of being strong and durable, it has poor sensitivity and resolution, so
For recording heads that require higher-intensity exposure equipment and longer exposure operations, and because their characteristics make it impossible to obtain high-resolution, precise, high-density patterns, particularly fine precision processing is required. The problem is that it is not suitable as a

また、従来の種々の用途に利用されている感光性樹脂組
成物においては、例えば金属との錯体形成能を有する複
素環式化合物等の種々の添加助削、あるいはカップリン
グ剤等を感光性樹脂組成物に添加し、金属等との密着性
を向上させていた(特公昭51−59:14、特公昭5
8−24035など)。しかしこの方法には、長期間が
経過すると、上記添加助削等がその組成物の酸化および
r蝕等の現象を引き起こしてしまうという問題があった
In addition, in the photosensitive resin compositions used for various conventional purposes, various additives such as heterocyclic compounds having the ability to form complexes with metals, or coupling agents, etc. are added to the photosensitive resin. It was added to compositions to improve adhesion to metals, etc.
8-24035 etc.). However, this method has a problem in that, over a long period of time, the additives and the like cause phenomena such as oxidation and corrosion of the composition.

方、そのような添加助剤等を添加しなくとも七分な密着
性を4−iする硬化組成物を得ることを目的として、枝
鎖に極性基を有するグラフト共市合体より成る高分子物
質が特開昭61−2113F!45 ,特開昭6 1−
28:+646において開示されている。そこで開示さ
れた高分f¥JA質(グラフト共重合高分子)を含有″
1−る活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、添加助剤
等に頼ること無く、密着性の向F.更には・・こ膜の耐
久性の向上を実現することができるという利点を仔して
いる。
On the other hand, for the purpose of obtaining a cured composition with a 4-i degree of adhesion without the addition of such additives, etc., a polymer material consisting of a graft co-merchandising having polar groups in the branch chain. is JP-A-61-2113F! 45, Unexamined Japanese Patent Publication No. 1986 1-
28:+646. Contains the disclosed polymer f\JA quality (graft copolymer polymer)''
1-The active energy ray-curable resin composition improves adhesion without relying on additives or the like. Furthermore, it has the advantage of being able to improve the durability of the membrane.

しかしなから、この組成物においては、その高分子物質
(グラフト共重合高分子)の分子設計に困難性が伴なう
という問題がまだ残されていた。
However, in this composition, there still remains the problem that the molecular design of the polymer substance (graft copolymer polymer) is difficult.

すなわち、一般に、枝鎖の分子量および含有率を定にし
つつ、グラフト共重合体全体のffi!平均分子量を広
範囲(5万〜35万程度)に渡り適宜所望の値の分子量
になるよう合成することは、技術的に困難を伴なう。
That is, in general, while keeping the molecular weight and content of branch chains constant, the ffi! of the entire graft copolymer is determined. It is technically difficult to synthesize the average molecular weight over a wide range (approximately 50,000 to 350,000) to a desired value.

つまり、パターン形成時の現像特性、すなわち未重合部
の溶解速度、重合部の膨拐性、そしてそれらの結果とし
ての感度、パターンのシャープさ、解像度を良好なもの
とするには、高分子物質の平均分子量は小さ過ぎてはな
らない。グラフト共重合高分子において、比較的大きな
分子量の幹鎖に、有効な密着性が得られる程度に十分な
長さを持った枝鎮を多数結合させ、上述した目的に合致
する平均分子量を得ることは、現在の合成技術において
は、立体的障害の点から困難を伴なうものである。
In other words, in order to improve the development characteristics during pattern formation, that is, the dissolution rate of the unpolymerized part, the swelling property of the polymerized part, and the resulting sensitivity, pattern sharpness, and resolution, it is necessary to use a polymeric material. The average molecular weight of should not be too small. In a graft copolymer polymer, a large number of branch chains having sufficient length to obtain effective adhesion are bonded to a relatively large molecular weight trunk chain to obtain an average molecular weight that meets the above objectives. is difficult with current synthetic techniques due to steric hindrance.

言い替えれば、高分子物質の平均分子量が低すぎると、
それを用いたパターン形成材料の現像特性、すなわち未
重合部の溶解速度、重合部の膨拐f[、そしてそれらの
結果としての感度、パターンのシャープさ、解像度の調
節に一定の制限を受けるのである。
In other words, if the average molecular weight of the polymeric substance is too low,
There are certain limitations on the development characteristics of pattern-forming materials using it, that is, the dissolution rate of unpolymerized parts, the swelling f of polymerized parts, and the resulting sensitivity, pattern sharpness, and resolution adjustment. be.

本発明は上記問題点に鑑み成されたものであり、その目
的は、添加助剤等を添加しなくともモ分な密着性を有し
、パターン形成時の現像特性に優れ、かつ液体噴射記録
ヘッドの構成部材として良好な特性を得られるようにそ
の特性を制御することが容易な活性エネルギー線硬化型
樹脂組成物を用い、安価で蹟密であり、信頼性が高く、
耐久性に優れた記録ヘットを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and its objects are to have sufficient adhesion without the addition of additives, excellent development characteristics during pattern formation, and liquid jet recording. We use an active energy ray-curable resin composition whose properties can be easily controlled to obtain good properties as a component of the head, and it is inexpensive, dense, and highly reliable.
The objective is to provide a recording head with excellent durability.

本発明の他の目的は、液体通路が蹟度良くかつ歩留り良
く微細加工された構成を有した液体噴射記録ヘッドを提
供することにある。
Another object of the present invention is to provide a liquid jet recording head having a structure in which liquid passages are microfabricated with good roughness and high yield.

本発明の他の目的は、マルチオリフィス化された場合に
も信頼性が高く、耐久性に優れた液体噴射記録ヘッドを
提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a liquid jet recording head that is highly reliable and has excellent durability even when it has multiple orifices.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記の目的は以下の本発明によって達成することができ
る。
The above objects can be achieved by the following invention.

本発明は、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物
をその構成の一部どする液体噴射記録ヘッドであって、
前記組成物が、 (A)アルキルメタアクリレート、アクリロニトリルお
よびスチレンからなる群より選ばれた一種以上のモノマ
ー(以下七ノマー成分■という)に由来する構造単位を
主体とする幹鎖に、下記一般式(x)で表わされる七ノ
マーおよび下記一般式(y)で表わされるモノマーから
なる群より選択された少なくとも一種のモノマー(以下
七ノマー成分■という)に山来する構造m位を有する枝
鎖が付加ざれてなり、かつ数平均分子川か5千以上であ
り,重喰乎均分子量か5万以下であるグラフト共市合高
分子と、 R1 CH2 =C                  ・
・・ (x)0=C−NH−CH2 −0−R2 RI CH2 =C                ・−(
y)0=C−0−R3  −OH [ただし、Rlは水素、もしくは炭素原子数が1〜3の
アルキル基またはヒドロキシアルキル基を表わし、R2
は水素、もしくは炭素原子数が1〜4のヒドロキシ基を
有していてもよいアルキル基またはアシル基を表わし、
R3は炭素原子数2〜6のアルキル基、あるいはハロゲ
ン置換されたアルキル基、 −{− C H 2−), O −一〇C H −2−
) m−(たたし、2≦m+n≦6、n≠0、m≠0)
で表わされるアルキルエーテル基、 (たたし、2≦m十n≦4、n=oあるいはm=Oの場
合も含む) で表わされるフェニルアルキル基である。](B)メチ
ルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、イソブ
チルメタアクリレート、t−ブチルメタアクリレート、
ヘンシルメタアクリレート、アクリロニトリル、イソボ
ルニルメタアクリレート、イソボルニルアクリレート、
トリシクロデカンアクリレート、トリシクロデカンメタ
アクリレート、トリシクロデカンオキシエチルメタアク
リレート、スチレン、ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、シクロへキシルメタクリレートからなる群より選
ばれた一種以上のモノマー(以下モノマー成分■という
)に由来する構造m位を有し、かつ萌記一般式(×)で
表わされる七ノマーおよび前記一般式(y)で表わされ
るモノマーからなる群より選択された少なくとも一種の
モノマー(以下モノマー成分■′という:ただし、モノ
マー成分0とモノマー成分■゛は同一の組成を有するも
のであっても、異なる組成のものであっても良い)に山
来する構造単位を仔し、かつ数平均分子量が5万以トで
あり、重量平均分子川が35万以下であり、ガラス転移
温度が60℃以上である線状高分子と、 (C)分子内にエボキシ基を2個以上有する化合物の少
なくとも1種を含んでなるエボキシ樹脂に存在ずろエボ
キシ基の一部を不飽和カルボン酸によってエスデル化し
てなる樹脂と、 (D)活性エネルキ一線の照射によってルイス酸を発生
する市合開始剤と を含むことを特徴とする液体噴射記録ヘッドである。
The present invention provides a liquid jet recording head in which a cured product of an active energy ray-curable resin composition is partially incorporated,
(A) A backbone mainly composed of structural units derived from one or more monomers selected from the group consisting of alkyl methacrylate, acrylonitrile, and styrene (hereinafter referred to as heptanomer component ■), which has the following general formula: At least one monomer selected from the group consisting of the heptanomer represented by (x) and the monomer represented by the following general formula (y) (hereinafter referred to as heptanomer component ■) has a branch chain having the m-position in the structure and a graft co-merchandising polymer having a number average molecular weight of 5,000 or more and a weight average molecular weight of 50,000 or less, and R1 CH2 = C.
・・(x)0=C-NH-CH2 -0-R2 RI CH2 =C ・-(
y) 0=C-0-R3 -OH [However, Rl represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a hydroxyalkyl group, and R2
represents hydrogen, or an alkyl group or acyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a hydroxy group,
R3 is an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a halogen-substituted alkyl group, -{- C H 2-), O -10C H -2-
) m-(tatashi, 2≦m+n≦6, n≠0, m≠0)
They are an alkyl ether group represented by the following formula, and a phenylalkyl group represented by the following formula (including cases where 2≦m, n≦4, n=o or m=O). ] (B) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate,
Hensyl methacrylate, acrylonitrile, isobornyl methacrylate, isobornyl acrylate,
Derived from one or more monomers selected from the group consisting of tricyclodecane acrylate, tricyclodecane methacrylate, tricyclodecaneoxyethyl methacrylate, styrene, dimethylaminoethyl methacrylate, and cyclohexyl methacrylate (hereinafter referred to as monomer component ■) At least one monomer (hereinafter referred to as monomer component :However, monomer component 0 and monomer component (C) at least one kind of compound having two or more epoxy groups in the molecule; (D) an initiator that generates a Lewis acid upon irradiation with a single line of active energy; This is a liquid jet recording head.

本発明の液体噴射記録ヘッドは所望に応じて種々の構成
を取ることができるが、少な〈とも上記樹脂組成物の硬
化物がその構成の一部として用いられる。
The liquid jet recording head of the present invention can have various configurations as desired, but at least a cured product of the resin composition described above is used as a part of the configuration.

以r、図面に従って本発明の液体噴射記録ヘッドの一例
を詳細に説明する。
Hereinafter, an example of the liquid jet recording head of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の液体噴射記録ヘッドの一例であり、第
1図(a)はその主要部の斜視図、第1図(b)は第1
図(a)のC−C線に添った切断断面図である。
FIG. 1 shows an example of the liquid jet recording head of the present invention, FIG. 1(a) is a perspective view of its main parts, and FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line CC in FIG.

この液体噴射記録ヘッドは、基本的に、基板1と、該基
板トに設けられ、所定の形状にパターンニングされた樹
脂硬化膜からなる液体通路壁311と、該液体通路壁上
に積層された覆い7とを有してなり、これらの部材によ
って、記録用液体を吐出するためのオリフィス9、該オ
リフィスに連通し、記録用液体を吐出するためのエネル
ギーか記録用液体に作用する部分を打する液体通路6−
2及び該液体通路に供給する記録用液体を貯留するため
の液室6−1が形成さわている。更に、覆いに設けらわ
た4通孔8には、記録ヘッド外部から液室6−1に記録
用液体を供給するための供給管10が接合さわている。
This liquid jet recording head basically consists of a substrate 1, a liquid passage wall 311 made of a cured resin film provided on the substrate and patterned into a predetermined shape, and a liquid passage wall 311 laminated on the liquid passage wall. Through these members, an orifice 9 for discharging recording liquid is communicated with the orifice, and the energy for discharging the recording liquid strikes the part that acts on the recording liquid. liquid passage 6-
2 and a liquid chamber 6-1 for storing recording liquid to be supplied to the liquid passage. Further, a supply pipe 10 for supplying recording liquid from the outside of the recording head to the liquid chamber 6-1 is connected to the four through holes 8 provided in the cover.

尚、第1図(a)には、供給管lOは省略してある。Note that the supply pipe IO is omitted in FIG. 1(a).

記録の際に、記録用液体を吐出するためのエネルギーは
、液体通路6−2の一部を構成する記録用液体に吐出エ
ネルギーを作用させる部分の所定の位置に配設された発
熱素子、圧電素子等の種々のタイプの吐出エネルギー発
生素子2に、これら素子に接続してある配線(不図示)
を介して吐出信号を所望に応じて印加することにより発
生される。
During recording, the energy for ejecting the recording liquid is generated by a heating element or a piezoelectric element disposed at a predetermined position in a part of the liquid passage 6-2 that applies ejection energy to the recording liquid. Wiring (not shown) connected to various types of ejection energy generating elements 2 such as elements, etc.
The ejection signal is generated by applying an ejection signal as desired via the ejection signal.

本発明の記録ヘツ1・を構成する基板1は、ガラス、セ
ラミックス、プラスチックあるいは金属等からなり、発
生素子2が所望の個数所定位置に配設される。なお、第
1図の例においては発生素子か2個設けられているが、
発熱素子の個数及び配置は記録ヘットの所定の構成に応
じて適宜決定さわる。
A substrate 1 constituting the recording head 1 of the present invention is made of glass, ceramics, plastic, metal, etc., and a desired number of generating elements 2 are disposed at predetermined positions. In addition, in the example of FIG. 1, two generating elements are provided, but
The number and arrangement of heating elements are determined as appropriate depending on the predetermined configuration of the recording head.

また、覆い7は、ガラス、セラミックス、プラスチック
または金属等の平板からなり、融着あるいは接着剤を用
いた接着方法により液体通路壁311Fに接合されてお
り、また所定の位置に供給管10を接続するための貫通
孔8が設けられている。
The cover 7 is made of a flat plate made of glass, ceramics, plastic, metal, etc., and is bonded to the liquid passage wall 311F by fusing or bonding using an adhesive, and the supply pipe 10 is connected at a predetermined position. A through hole 8 is provided for this purpose.

この記録ヘッドにおいて、液体通路6−2及び液室6−
1の壁311を構成する所定の形状にパターンニンクさ
わだ樹脂硬化膜は、基板1上に、または覆い7トに設け
た1iη述した構成成分(A)〜(D)を含む活性エネ
ルギー線硬化型樹脂組成物からなる層をフォトリソグラ
フィーエ程によってパターンニングして1itられたも
のである。
In this recording head, a liquid passage 6-2 and a liquid chamber 6-
The Sawada resin cured film patterned in a predetermined shape constituting the wall 311 of 1 is an active energy ray-curable film containing the above-mentioned components (A) to (D) provided on the substrate 1 or on the cover 7. It is formed by patterning a layer made of a resin composition using a photolithography process.

以北、液体通路壁311の構成に該樹脂組成物の硬化膜
を用いた例を説明したか、該樹脂組成物の硬化膜(硬化
物)は、記録ヘッドのその他の部分に好適に利用し得る
Hereinafter, an example in which a cured film of the resin composition is used in the structure of the liquid passage wall 311 has been described, and a cured film (cured product) of the resin composition can be suitably used in other parts of the recording head. obtain.

例えば、液体通路に垂直な記録ヘッドの部分断面として
表した第7図(a)〜(h)に示すように 1.覆い7として(a) 2.液体通路壁311及び覆い7として(b)(この場
合液体通路壁311と覆い7は一体化されて形成されて
いても良いし、別途形成後接合されたものあっても良い
。) 3.各種樹脂等から形成した液体通路壁311と覆い7
との接着層14(c)、(e)及び(g)として 4.液体通路壁3H及び液体通路壁311と覆い7との
接着層14として(d)及び(f) 5.液体通路璧3H及び液体通路壁311と覆い7との
接着層I4(2層構成)として(h) の利用を挙げることができる。なお、上記構成のなかで
第7図(a)〜(6)、(h)の構成及び第7図(f)
における液体通路壁3Hの形成には、ドライフィルムタ
イプのものか好適に利用でき、また第7図(f)及び(
G)の接着剤層14には、液体状で用いて硬化させるタ
イプが好適に川いらわる。
For example, 1. As cover 7 (a) 2. (b) as the liquid passage wall 311 and the cover 7 (in this case, the liquid passage wall 311 and the cover 7 may be formed integrally, or may be formed separately and then joined) 3. Liquid passage wall 311 and cover 7 made of various resins, etc.
4. as the adhesive layer 14 (c), (e) and (g) with. (d) and (f) as the adhesive layer 14 between the liquid passage wall 3H and the liquid passage wall 311 and the cover 7; 5. (h) can be used as the adhesive layer I4 (two-layer structure) between the liquid passage wall 3H and the liquid passage wall 311 and the cover 7. In addition, among the above configurations, the configurations in FIGS. 7(a) to (6), (h) and FIG. 7(f)
For forming the liquid passage wall 3H in FIGS. 7(f) and 7(f), a dry film type may be preferably used.
For the adhesive layer 14 in G), a type that is used in a liquid state and then cured is preferably used.

史に、本発明の記録ヘットは、第8図(a)及び(b)
並びに第9図に示す液体通路(6−2 )に対して爪直
な方向に液滴を吐出する構造を有するものであっても良
く、その際には、例えば第lO図(a)及び(b)に示
す部分等上記第7図に示したのと同様の部分などに該樹
脂組成物の硬化膜が好適に利用できる。
Historically, the recording head of the present invention is shown in FIGS. 8(a) and (b).
It may also have a structure that discharges droplets in a direction perpendicular to the liquid passage (6-2) shown in FIG. A cured film of the resin composition can be suitably used for the same parts as shown in FIG. 7 above, such as the part shown in b).

以下、本発明の記録ヘットの構成の用いる前述した構成
成分(A)〜(D)を含む活性エネルギー線硬化型樹脂
組成物について説明する。
Hereinafter, an active energy ray-curable resin composition containing the above-mentioned constituent components (A) to (D) used in the configuration of the recording head of the present invention will be described.

該樹脂組成物は、特に硬化膜とした際にガラス、ブラス
ヂック、セラミックス等からなる基板等の各種部材に対
して良好な接着性を有し、かつインク等の記録用液体に
対する耐性及び機械的強度にも優れ、しかも活性エネル
ギー線によるバターニングによって鯖密で高解像度のパ
ターンを形成することができるという液体噴射記録ヘッ
ドの構成部材として優れた特性を任ずるものである。
The resin composition has good adhesion to various members such as substrates made of glass, brass, ceramics, etc., especially when formed into a cured film, and has good resistance to recording liquids such as ink and mechanical strength. Furthermore, it has excellent properties as a component of a liquid jet recording head, such as being able to form a dense, high-resolution pattern by patterning with active energy rays.

更に、この樹脂組成物は、ドライフィルムとして用いる
ことができ、その際にも−F記の優れた特性か発揮され
る。
Furthermore, this resin composition can be used as a dry film, and in that case also exhibits the excellent properties listed in -F.

該樹詣組成物に含まれるグラフト共重合高分子(A)の
幹釦の形成には、前述のモノマー成分■が土成分として
用いられRる。
In forming the trunk button of the graft copolymer polymer (A) contained in the tree composition, the monomer component (2) described above is used as a soil component (R).

枝3nに用いるモノマーとしては、前述のモノマー成分
(■に加え、必要に応じて以下の極性モノマーを併川1
−ることか必要である。
As for the monomers used for the branch 3n, in addition to the above-mentioned monomer components (■), the following polar monomers may be added as necessary.
-It is necessary.

(I)アミン基またはアルキルアミノ基含有アクリルモ
ノマー (II)カルボキシル基含有アクリルまたはビニルモノ
マー (III)N−ビニルビロリトン、もしくはその誘導体 (IV)ビニルビリジン、もしくはその話導体また、疎
水性モノマーも、約25モル%以}の範囲内で共重合の
成分として用いることかできる。
(I) Acrylic monomer containing an amine group or alkylamino group (II) Acrylic or vinyl monomer containing a carboxyl group (III) N-vinyl pyrrolitone or its derivative (IV) Vinyl pyridine or its conductor Also, a hydrophobic monomer of about It can be used as a component of copolymerization within the range of 25 mol % or less.

グラフト共重合高分F(八)の重合方法としては、例え
ば「ボリマーアロイ基礎と応川」 (高分子学会一稟、
東京化学問人■発行、1981年)のlO〜35頁に記
載されているような、従来より公知の種々の方法を用い
ることかできる。それらの方法としては、■連鎖移動法
、■放射線を用いる方法、■酸化重合法、■イオンクラ
フト重合法、(りマクロモノマー法なとがある。これら
の方法を用い、先に例示したモノマー■とモノマー■を
用いて、数平均分子量5千以七、市[11平均分子川5
万以下のグラフト共川合高分子か得らえるように適宜i
1i合条件を選定して重合することによって、本発明の
組成物を構成するクラフト共重合高分f(A)を得るこ
とかできる。
As a polymerization method for graft copolymerization polymer F (8), for example, "Bolimer Alloy Basics and Ogawa" (Ichiryo, The Society of Polymer Science,
Various conventionally known methods can be used, such as those described on pages 10 to 35 of Tokyo Kagaku Gakujin (Published by Tokyo Kagaku Gakujin, 1981). These methods include: ■ chain transfer method, ■ method using radiation, ■ oxidative polymerization method, ■ ion craft polymerization method, and macromonomer method. and monomer ■, number average molecular weight 5,000 or more, city [11 average molecular weight 5
as appropriate to obtain less than 10,000 grafts of covalent polymers.
By carrying out polymerization while selecting the 1i polymerization conditions, the kraft copolymerization polymer f(A) constituting the composition of the present invention can be obtained.

なお、而記方法■から■のうち、■あるいは■の方法を
用いると、共i[合高分子(A)の枝鎖の長さか揃うの
で、特に■の方法は材料選択〈設計)の容易さの点から
より好ましい。
Note that among methods ■ to ■, if method ■ or ■ is used, the lengths of the branch chains of the copolymer (A) will be the same, so method ■ is especially easy to select materials (design). It is more preferable from the viewpoint of safety.

」―記線状高分子CB)は、而述したモノマー成分■を
主成分とし、かつ前述したモノマー成分■゛を用い、数
平均分子量5万以ト、重量平均分子計35万以斗で、ガ
ラス転移温度60℃以上の1fc合体になるように、適
宜車合条件を選定しつつ、従来より公知の方法を用いて
11!合することにより得ることかてきる。なお、七ノ
マー成分■゜は、5モル%から30モル%の範囲で加え
ることが好ましい。線状高分子中のモノマー成分■゛が
30モル%以ト多〈含有さ九ると、硬化塗膜中の極性基
濃度か高くなり、密着性向士の効果がそれ以上」−昇せ
ずに、耐水性の低下か現われてくるので好ましくない。
``--The linear polymer CB) has the above-mentioned monomer component ① as the main component, uses the above-mentioned monomer component ⑛, has a number average molecular weight of 50,000 or more, and a weight average molecular weight of 350,000 or more, 11! using a conventionally known method while appropriately selecting the coalescence conditions so as to obtain a 1fc coalescence with a glass transition temperature of 60°C or higher. You can get what you want by combining them. In addition, it is preferable to add the heptanomer component ゜ in a range of 5 mol % to 30 mol %. If the monomer component in the linear polymer exceeds 30 mol%, the concentration of polar groups in the cured coating film will increase, and the adhesion promoter effect will increase. This is not preferable because it may result in a decrease in water resistance.

また、モノマー成分■′が5モル%以下であると、密着
性向上および塗膜の結合剤としての効果か不十分になる
Furthermore, if the monomer component (1) is less than 5 mol %, the effect of improving adhesion and acting as a binder for the coating film will be insufficient.

作成された硬化膜に対して高いガラス転移温度を与え、
耐水性を高める目的では、而述したモノマー成分■とし
て、メチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレー
ト、イソボルニルアクリレート、トリシクロデカンメタ
クリレート、トリシク口テカンアクリレート等は特に好
ましい結果をり,える。
Gives a high glass transition temperature to the created cured film,
For the purpose of increasing water resistance, particularly favorable results can be obtained by using methyl methacrylate, isobornyl methacrylate, isobornyl acrylate, tricyclodecane methacrylate, tricyclotecan acrylate, etc. as the above-mentioned monomer component (2).

1該組成物に含有させるところの1分子内にエボキシ↓
[を2個以ト含む化合物の1種以上からなるエポキシ樹
脂に存在するエボキシ基の一部を、不飽和カルボン酸に
よってエステル化して得らわる樹脂(C)(以後、ハー
フエステル化エボキシ樹脂と略称する)とは、後述する
重合開始剤(D)の47−在下に該組成物に活性エネル
ギー線による高感度で十分な硬化性を発揮させ、これに
加えて、該組成物をガラス、プラスチックス、セラミッ
クス等からなる各種支持体−Lに液体状で塗布してから
こわを硬化させて硬化膜として形成した際に、あるいは
ドライフィルムの形で各種支持体−Lに接着して用いた
際に該樹脂組成物からなる硬化膜に、より良好な支持体
との密着性、耐水性、耐薬品性、寸法安定性等を付与す
るための成分である。
1 Epoxy in one molecule contained in the composition↓
Resin (C) obtained by esterifying a part of the epoxy groups present in an epoxy resin consisting of one or more compounds containing two or more [ with an unsaturated carboxylic acid (hereinafter referred to as half-esterified epoxy resin) ) means that the composition exhibits sufficient curability with high sensitivity to active energy rays in the presence of the polymerization initiator (D) described below, and in addition, the composition can be used to cure glass, plastics, etc. When it is applied in liquid form to various supports L made of materials, ceramics, etc. and then hardened to form a cured film, or when it is used by adhering to various supports L in the form of a dry film. It is a component for imparting better adhesion to the support, water resistance, chemical resistance, dimensional stability, etc. to the cured film made of the resin composition.

このハーフエステル化エボキシ樹脂(C)は、通常の方
法によって得られるものでは、例えば、分子内にエポキ
シ基を2個以上含む化合物の1種以−Lを含んでなるエ
ボキシ樹脂に、所定量の不飽和カルボン酸を、付加触媒
及び重合禁止剤の共存Fて、溶媒の存在F若しくは不存
在上において、80〜120℃の温度条件によって反応
させて、エボキシ樹脂に存在するエボキシ基の一部をカ
ルボン酸でエステル化(ハーフエステル化)するなど、
通常用いられている方法によって得ることかできる。
This half-esterified epoxy resin (C) cannot be obtained by a normal method. An unsaturated carboxylic acid is reacted with an addition catalyst and a polymerization inhibitor in the presence or absence of a solvent at a temperature of 80 to 120°C to convert some of the epoxy groups present in the epoxy resin. Esterification with carboxylic acid (half esterification), etc.
It can be obtained by commonly used methods.

ハーフエステル化エボキシ樹脂(C)の形成に用いるこ
とのできる1分子内にエボキシ基を2個以ト含む化合物
の1種以上を含んでなるエボキシ樹脂としては、ビスフ
ェノールA型、ノポラック型、脂環型に代表されるエポ
キシ樹脂、あるいは、ヒスフェノールS、ヒスフェノー
ルF、テトラヒト口キシフェニルメタンテトラグリシジ
ルエーテル、レソルシノールジグリシジルエーテル、グ
リセリン1〜リクリシジルエーテル、ベンタエリストー
ルトリグリシジルエーデル、イソシアヌール酸トリグリ
シシルエーテルおよび下記一般式(I) (ただし、n4はアルキル基またはオキシアルキルキル
基を表わす) で表わされるエボキシウレタン樹脂等の多官能性のエボ
キシ樹脂及びこれらの一種以Lの混合物などをやげろこ
とができる。
Examples of epoxy resins containing one or more compounds containing two or more epoxy groups in one molecule that can be used to form the half-esterified epoxy resin (C) include bisphenol A type, nopolac type, and alicyclic type. Epoxy resins represented by the following types, or hisphenol S, hisphenol F, tetrahypoxyphenylmethane tetraglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, glycerin 1-lycricidyl ether, bentaerythol triglycidyl ether, isocyanuric acid Triglycyl ether, polyfunctional epoxy resins such as epoxyurethane resins represented by the following general formula (I) (where n4 represents an alkyl group or an oxyalkyl group), and mixtures of one or more of these. I can puke.

なお、これら多官能性エボキシ樹脂のIL体例としては
以下のようなものを挙げることかできる,. すなわち、ビスフェノールA型エボキシ樹脂としては、
例えばエビコート828 . 834 、871、10
01. 1004 (商品名、シェル化学社製) , 
DER:]31−J 、337−J , 661−.1
 , 664−.J , 687−.J  (タウケミ
カル社製)及びエビクロンB00(商晶名、大11本r
ンキ化学−[業■社製)など:ノホラツク型エボキシ樹
脂としては、例えばエピコート152、+54 , !
72、(商品名、シェル化学社製)、アラルダイトEP
N 1138 (商品名、チハガイギ−社製) , D
ER 431 、438及び439(商品名、ダウケミ
カル社製)など;脂環式エポキシ樹脂としては、例えば
アラルダイト CY−175 ,−176、−179、
−182、−184、−192 (商品名、チバガイギ
ー社製)、チッソノックス090 , 091 、09
2 , 301、313(商品名、チッソ■社製)、シ
ラキュア−(cyH八CIIRE) 6 100、61
10、6200及び ERI 4090 、4617、
2256、54+1 (商品名、ユニオンカーバイド社
製)なと:脂肪族多価アルコールの多価グリシジルエー
テル類としては、例えばエチレングリコールシグリシジ
ルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエー
テル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ボ
リブロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオベ
ンチルグリコールジグリシジルエーテル、1.6−ヘキ
サンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリ
シジルエーテル、トリメチロールブロバンドリグリシジ
ルエーテル、水素添加ビスフェノールAのジグリシジル
エーテル、2.2−ジブロモネオベンチルクリコールジ
グリシジルエーテル等;芳香族多価アルコールから誘導
された多価グリシジルエーテルとしては、ビスフェノー
ルAのアルキレンオキシドの2〜l6モル付加体のジグ
リシジルエーテル、ビスフェノールFのアルキレンオキ
シドの2〜16モル付加体のジグリシジルエーテル、ビ
スフェノールSのアルキレンオキシドの2〜16モル付
加体のジグリシジルエーテルなどかある。
Incidentally, examples of IL forms of these polyfunctional epoxy resins include the following. That is, as a bisphenol A type epoxy resin,
For example, Ebicoat 828. 834, 871, 10
01. 1004 (product name, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.),
DER: ] 31-J, 337-J, 661-. 1
, 664-. J, 687-. J (manufactured by Tau Chemical Co., Ltd.) and Ebikuron B00 (trade name, large 11 r
Nki Kagaku-[manufactured by Gyosha Co., Ltd.] etc.: Examples of the Noholac type epoxy resin include Epikote 152, +54, !
72, (trade name, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.), Araldite EP
N 1138 (product name, manufactured by Chiha Geigy), D
ER 431, 438, and 439 (trade name, manufactured by Dow Chemical Company), etc.; Examples of alicyclic epoxy resins include Araldite CY-175, -176, -179,
-182, -184, -192 (product name, manufactured by Ciba Geigy), Chisson Knox 090, 091, 09
2, 301, 313 (product name, manufactured by Chisso ■), Syracure (cyH8CIIRE) 6 100, 61
10, 6200 and ERI 4090, 4617,
2256, 54+1 (trade name, manufactured by Union Carbide): Examples of polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols include ethylene glycol siglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, and Bolibro. Pyrene glycol diglycidyl ether, neobentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylolbroband triglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 2,2-dibromo Neobentyl glycol diglycidyl ether, etc.; polyhydric glycidyl ethers derived from aromatic polyhydric alcohols include diglycidyl ethers of 2 to 16 mol adducts of alkylene oxides of bisphenol A, and 2 to 16 moles of alkylene oxides of bisphenol F; Examples include diglycidyl ether as a 16 mol adduct, and diglycidyl ether as a 2 to 16 mol adduct of alkylene oxide of bisphenol S.

面述のエボキシ樹脂のエポキシ基をハーフエステル化に
用いることのできる不飽和カルボン酸としては、種々の
ものを用いることができるが、樹脂組成物に、より良好
な活性化エネルギーによる硬化性を付与するためには、
少なくとも分子の一方の未端にアクリル性若しくはメタ
アクリル性ビニル基を有し、他方の末端にカルボキシル
基を有したー塩基性の不飽和カルボン酸を好適なものと
して用いることかできる。
Various unsaturated carboxylic acids can be used to half-esterify the epoxy group of the epoxy resin mentioned above, but it is desirable to impart curability to the resin composition with better activation energy. In order to
A basic unsaturated carboxylic acid having an acrylic or methacrylic vinyl group at least at one end of the molecule and a carboxyl group at the other end can be preferably used.

そのような不飽和カルボン酸の代表例とじては、アクリ
ル酸及びメタアクリル酸が挙げられるか、ジカルボン酸
と1個のヒドロキシル基を有する(メタ)アクリル酸エ
ステルとを反応させて得られるモノエステル化合物も使
用することかできる。
Representative examples of such unsaturated carboxylic acids include acrylic acid and methacrylic acid, or monoesters obtained by reacting dicarboxylic acids with (meth)acrylic esters having one hydroxyl group. Compounds can also be used.

−L記のジカルホン酸としてはフタル酸、イソフタル酸
、テレフタル酸、シュウ酸、マロン酸、こはく酸、グル
タル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼラ
イン酸、セバシン酸、イソセバシン酸、テトラヒトロフ
タル酸及びこれらの無水物などを挙げることかできる。
-Dicarphonic acids of letter L include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, isosebacic acid, and tetrahydrophthalic acid. Examples include acids and anhydrides thereof.

また、1−記の1個のと1・ロキシルJ,(を有するメ
タアクリル酸エステルとしては、2−ヒト口キシフ口ビ
ル(メタ)アクリレート、3−クロロー2−ヒト口キシ
ブ口ビル(メタ)アクリレート、4−ヒト口キシブチル
(メタ)アクリレート、3−ヒド口キシブチル(メタ)
アクリレート、5−ヒト口キシベンチル(メタ)アクリ
レート及び6−ヒドロキシl\キシル(メタ)アクリレ
ート等を挙げることができる。
In addition, as the methacrylic acid ester having one and 1-roxyl J, (1-), 2-human xibucyl (meth)acrylate, 3-chloro2-human xibucyl (meth)acrylate, Acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)
Acrylate, 5-human xybentyl (meth)acrylate and 6-hydroxy l\xyl (meth)acrylate, etc. can be mentioned.

エポキシ樹脂のハーフエステル化反応に用いることので
きる付加反応触媒としては、例えば塩化亜鉛、塩化リチ
ウムなどの金属ハロゲン化物、例えばジメチルサルファ
イド、メチルフェニルサルファイトなどのサルファイド
類の化合物、例えばジメチルスルホキシド、メチルエチ
ルスルホキシドなどのスルホキド類の化合物、例えばN
,N−ジメチルアニリン、ビリジン、トリエチルアミン
、ペンシルジメチルアミンなどの第3級アミン類の化合
物及びその塩酸塩若しくは臭酸塩、例えばテトラメチル
アンモニウムクロライド、トリメチルトデシルペンシル
アンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニ
ウムクロライドなどの第4級アンモニウム塩、例えばパ
ラトルエンスルホン酸なとのスルホン酸類の化合物及び
例えばエチルメルカブタン、プロビルメルカブタンなど
のメルカブタン類の化合物などを挙げることができる。
Examples of addition reaction catalysts that can be used in the half-esterification reaction of epoxy resins include metal halides such as zinc chloride and lithium chloride, sulfide compounds such as dimethyl sulfide and methyl phenyl sulfite, and dimethyl sulfoxide, methyl Compounds of the sulfoxide class such as ethyl sulfoxide, e.g.
, N-dimethylaniline, pyridine, triethylamine, pencyldimethylamine and other tertiary amine compounds, and their hydrochlorides or bromates, such as tetramethylammonium chloride, trimethyltodecylpencylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride, etc. Examples of quaternary ammonium salts include compounds of sulfonic acids such as para-toluenesulfonic acid and compounds of mercabutanes such as ethylmercabutane and probylmercabutane.

史に、ハーフエステル化に用いることのできる屯合禁止
剤としては、例えばハイトロキノン、アルキル若しくは
アリール置換ハイドロキノン、第3プチルカテコール、
ピロガロール、ナフチルアミン、β−ナフトール、塩化
第一銅、2.6−ジ第3ブチルーp−クレゾール、フェ
ノチアジン、Nーニトロソジフェニルアミン及びニトロ
ベンゼンなどを挙げることができる。
Historically, examples of conjugation inhibitors that can be used in half-esterification include hydroquinone, alkyl- or aryl-substituted hydroquinone, tertiary butylcatechol,
Mention may be made of pyrogallol, naphthylamine, β-naphthol, cuprous chloride, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, phenothiazine, N-nitrosodiphenylamine and nitrobenzene.

また、ハーフエステル化を溶媒の存在下で行なう場合に
使用することのできる溶媒としては、トルエン、キシレ
ン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、酢
酸エチル、酢酸ブチル及び酢酸イソブチルなどを挙げる
ことができる。
Furthermore, examples of solvents that can be used when half-esterification is carried out in the presence of a solvent include toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, and isobutyl acetate.

ハーフエステル化の際のエボキシ樹脂とカルボン酸の使
用量は、エボキシ樹脂のエポキシ基とカルホン酸のカル
ボキシル基との比率が、好ましくはl :0.3〜I 
:0.7 ,より好ましくは1 :0.45〜] :0
.55となるように適宜選択される。
The amount of epoxy resin and carboxylic acid used during half-esterification is such that the ratio of the epoxy group of the epoxy resin to the carboxyl group of the carbonic acid is preferably 1:0.3 to 1.
:0.7, more preferably 1 :0.45~] :0
.. 55, as appropriate.

すなわち、ハーフエステル化エポキシ樹脂における不飽
和カルボン酸によるエポキシ基のエステル化率が、上記
の範囲よりも高いと、エボキシ樹脂に由来する良好な耐
薬品性や寸法安定性等を樹脂組成物に有効に活すことか
できず、また上記の範囲よりも低いと、メタアクリル酸
エステル基に基つく、活性エネルギー線の作用による高
解像度でl一分な硬化性が樹脂組成物に得られない。
In other words, if the esterification rate of the epoxy group by unsaturated carboxylic acid in the half-esterified epoxy resin is higher than the above range, the good chemical resistance and dimensional stability derived from the epoxy resin will be effective for the resin composition. Moreover, if it is lower than the above range, the resin composition will not have high resolution and sufficient curability due to the action of active energy rays based on the methacrylic acid ester group.

このように、本発明に用いる活性エネルギー線硬化型樹
脂組成物は、ハーフエステル化エボキシ樹脂(C)の高
感度とアクリル酸エステル基に基づく活性エネルギー線
の作用による硬化性と、エボキシ基に」ルづく熱硬化性
とを有しており、この樹脂組成物に活性エネルギー線を
照射させて硬化させた後、80℃以上で、10分〜3時
間程度加熱して更に熱硬化させて得た硬化膜には、ハー
フエステル化エボキシ樹脂に由来する良好な耐薬品性や
寸法安定性等が更に有効に付与される。
As described above, the active energy ray-curable resin composition used in the present invention has the high sensitivity of the half-esterified epoxy resin (C), the curability due to the action of active energy rays based on the acrylic acid ester group, and the epoxy group. This resin composition is cured by irradiating it with active energy rays, and then heated at 80°C or higher for about 10 minutes to 3 hours to further heat cure it. Good chemical resistance, dimensional stability, etc. derived from the half-esterified epoxy resin are more effectively imparted to the cured film.

該樹脂組成物に含有させる活性エネルギー線の照射によ
ってルイス酸を発生する重合開始剤(D)とは、該ルイ
ス酸の作用によって而述のハーフエステル化エポキシ樹
脂(C)を硬化させ、該樹脂組成物に活性エネルギー線
に対する高感度で十分な硬化性を発揮させるための成分
であり、好適には例えば特公昭52−14278号公報
に示されている第VTa族に属する元素を含む光感知性
を有する芳香族オニウム塩化合物、または特公昭52−
14279号公報に示されている第Va族に属する元素
を含む光感知性を仔する芳香族オニウム塩化合物、ある
いは特公昭52−14277号に示されている光感知性
を有する芳香族八ロニウム塩などを用いることかできる
。これら芳香族オニウム塩化合物または芳香族ハロニウ
ム塩は、そのいずれもが活性エネルギー線の照射によっ
てルイス酸を放出してハーフエステル化エポキシ樹脂(
C)を硬化させるという特性を有している。
The polymerization initiator (D) that generates a Lewis acid upon irradiation with active energy rays, which is contained in the resin composition, is a polymerization initiator (D) that cures the half-esterified epoxy resin (C) mentioned above by the action of the Lewis acid. It is a component for making the composition exhibit sufficient curability with high sensitivity to active energy rays, and is preferably a photosensitive material containing an element belonging to group VTa as disclosed in Japanese Patent Publication No. 52-14278. Aromatic onium salt compound having
Aromatic onium salt compounds with photosensitivity containing elements belonging to group Va as shown in Japanese Patent Publication No. 14279, or aromatic octaronium salts with photosensitivity as shown in Japanese Patent Publication No. 14277/1983 You can also use something like Both of these aromatic onium salt compounds or aromatic halonium salts release Lewis acids when irradiated with active energy rays, resulting in half-esterified epoxy resins (
C) has the property of curing.

F記の第VTa族若しくは第Va族に属する元素を有す
る光感知性の芳香族オニウム塩化合物には、代表的には
F記一敗式II . [ (R3)a(R’)b(1円.X]d”   [M
Qeドla−1)・・−  ( I1 ) (1二記式中、R3は一価の有機芳香族基、R4はアル
キル基、シクロアルキル基及び置換アルキル基から選ら
ばれる一価の有機脂肪族基、R5は脂肪族基及び芳香族
基から選らばれる複素環若しくは縮合環構造を構成する
多価有機基、Xはイオウ、セレン及びテルルから選らば
れる第Vla族または窒素、リン、ヒ素、アンチモン及
びビスマスから選らばれる第Va族に属する元素、Mは
金属またはt金属及びQはハロゲン基をそれぞれ表わし
、aはXが第VTa族に属する元素である場合にはO〜
3の整数、Xが第Va族に属する元素である場合には0
〜4の整数、bは0〜2の整数、CはXが第Vla族に
属する元素である場合には0または1の整数、Xが第V
a族に属ずる元素である場合には0〜2の整数、fはM
の価数で2〜7の!5数、eはfより大で8以下の整数
であり、かつaとbとCの和はXが第Vla族に属する
元素である場合には3、Xか第Va族に属する元素であ
る場合には4及びd=e−fである》で表される化合物
が挙げられる。
Photosensitive aromatic onium salt compounds having elements belonging to Group VTa or Group Va of Group F are typically those of Formula II. [(R3)a(R')b(1 yen.X]d" [M
Qe de la-1)...- (I1) (1 In the two notations, R3 is a monovalent organic aromatic group, and R4 is a monovalent organic aliphatic group selected from an alkyl group, a cycloalkyl group, and a substituted alkyl group) group, R5 is a polyvalent organic group constituting a heterocyclic or fused ring structure selected from aliphatic groups and aromatic groups, X is Group Vla selected from sulfur, selenium and tellurium, or nitrogen, phosphorus, arsenic, antimony and An element belonging to Group Va selected from bismuth, M represents a metal or t metal, and Q represents a halogen group, and a represents O when X is an element belonging to Group VTa.
An integer of 3, 0 if X is an element belonging to Group Va
an integer of ~4, b is an integer of 0 to 2, C is an integer of 0 or 1 when X is an element belonging to group Vla, X is an integer of group V
If the element belongs to group a, an integer of 0 to 2, f is M
The valence of 2 to 7! 5 number, e is an integer greater than f and less than or equal to 8, and the sum of a, b, and C is 3 if X is an element belonging to group Vla, and X is an element belonging to group Va. 4 and d=ef].

また、光感知性の芳香族八ロニウム塩としては、ド記一
般式■; [  (R’).(R7)hX]i”[MQj ]−L
k−”   −(I[I)(1−記式中、R6は一僅の
芳香族有機基、R7は二価の芳香族有機基、Xはハロゲ
ン基、Mは金属または判金属及びQはハロゲン基をそれ
ぞれ表わし、gは0または2の整数かつhは0または1
の整数であって、gとhの和が2またはXの原子価に等
しく、iはk−1に等しく、jは2〜7の整数でMの原
価に等しく、kはlよりも大きい8までの整数である)
で表される化合物が挙げられる。
Further, as the photosensitive aromatic octaronium salt, the following general formula (2); [(R'). (R7)hX]i”[MQj]-L
k-"-(I[I)(1-In the formula, R6 is one aromatic organic group, R7 is a divalent aromatic organic group, X is a halogen group, M is a metal or a metal, and Q is each represents a halogen group, g is an integer of 0 or 2, and h is 0 or 1
an integer in which the sum of g and h is equal to 2 or the valence of X, i is equal to k-1, j is an integer from 2 to 7 and equal to the cost of M, and k is greater than l8 )
Examples include compounds represented by:

上記第Vla族若しくは第Va族に属する元素を含む光
感知性の芳香族オニウム塩化合物の具体例としては、例
えば などの第Via族に属する元素の光感知性の芳香族才ニ
ウム塩、及び例えば などの第Va族に属する元素の光感知性の芳香族才ニウ
ム塩などを挙げることができる.また、光感知性の芳香
族ハロニウム塩の具体例としては、例えば、 尚、上記のようなルイス酸を放出する市合開始剤(D)
に加えて、エボキシ樹脂の硬化剤として般に広く知られ
ているポリアミン、ボリアミト、酸無水物、酸フッ化ホ
ウJ;−アミンコンプレックス、イミダゾール類、,r
ミダゾールと金属塩のコンプレックス等の硬化剤を必要
に応じて用いてもよい。
Specific examples of the photosensitive aromatic onium salt compounds containing elements belonging to Group Vla or Group Va include photosensitive aromatic onium salts of elements belonging to Group Via, such as; Examples include photosensitive aromatic salts of elements belonging to Group Va such as. Further, as specific examples of photosensitive aromatic halonium salts, for example, the above-mentioned Lewis acid-releasing initiator (D)
In addition, polyamines, polyamides, acid anhydrides, boron acid fluorides, which are generally widely known as curing agents for epoxy resins, -amine complexes, imidazoles, etc.
A curing agent such as a complex of midazole and a metal salt may be used if necessary.

以ト説明した本発明の液体噴射記録ヘッドの作製に用い
る活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、活性エネルギ
ー線によって硬化ざれるものであるか、クラフト共1■
合高分子(A)及び/または線状高分r− ( B )
として光1[α性を打するものを用い、かつ活性エネル
ギー線として波長250na+〜450nmの活性エネ
ルキ一線を用いる場合には、活性エネルギー線の作用に
より賦活化し得る打機范離ラシカル生成性のラジカル重
合開始削を該樹脂組成物中に添加しておくことが好まし
い。
The active energy ray-curable resin composition used for producing the liquid jet recording head of the present invention described above is one that can be cured by active energy rays, or is one that can be cured by active energy rays.
Synthetic polymer (A) and/or linear polymer r- (B)
When using light 1 [α-characteristic as the active energy ray and using an active energy line with a wavelength of 250 na+ to 450 nm as the active energy ray, it is possible to generate radicals that can be activated by the action of the active energy ray. It is preferable to add a polymerization starting material to the resin composition.

そのようなラシカル1■合開始剤を具体的に示せば、ヘ
ンシルエーデル:ベンゾインイソブチルエーテル、ヘン
ソインイソブ口ビルエーテル、へンソインー『1−ブチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ヘンゾインメ
チルエーテルなどのペンゾインアルキルエーテル類;ベ
ンゾフェノン、4.4′−ビス(N,N−ジエチルアミ
ノ)ベンゾフエノン,ペンゾフエノンメチルエーテルな
どのヘンゾフェノン類;2−エチルアントラキノン、2
 − tert−プチルアントラキノンなどのアントラ
キノン1.2.4−ジメチルチオキサントン、2,4−
シイソブロピルチオキサントンなどのキサントン類:2
.2−ジメトキシ−2−7エニルアセトフェノン2α,
α−シクロロー4−フェノキシアセトフェノン、p −
 tert−プチルトリク口ロアセトフェノン、p −
 terL−プチルジク口ロアセトフェノン、2.2−
ジエトキシアセトフェノン、ρ−ジメチルアミノアセト
フエノンなどのアセトフェノン類;あるいはヒドロキシ
シク口へキシルフェニルケトン(イルガキュア 184
チハ・ガイギー■製11−(4−イソブロビルフェニル
)−2−ヒドロキシ−2−メチルブロバンー1−オン(
ダロキュア1116  メルク(MERCK)@製):
2−ヒトロキシー2−メチル−1一フェニルーブロパン
ーl−オン(ダロキュア117:]  メルク■製)等
が好適に用いられるものとして挙げられる。これらのラ
ジカル重合開始剤に加えて、光重合促進剤としてアミノ
化合物を添加してもよい。
Specific examples of such radical 1 synthesis initiators include penzoin alkyl ether such as benzoin isobutyl ether, henzoin isobutyl ether, hensoin-1-butyl ether, benzoin ethyl ether, and henzoin methyl ether. Ethers; benzophenone, 4,4'-bis(N,N-diethylamino)benzophenone, penzophenone methyl ether and other henzophenones; 2-ethylanthraquinone, 2
- anthraquinones such as tert-butylanthraquinone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-
Xanthone such as diisopropylthioxanthone: 2
.. 2-dimethoxy-2-7enylacetophenone 2α,
α-cyclo-4-phenoxyacetophenone, p-
tert-butyltolic oral acetophenone, p-
terL-butyl dichloroacetophenone, 2.2-
Acetophenones such as diethoxyacetophenone and ρ-dimethylaminoacetophenone; or hydroxyl phenyl ketone (Irgacure 184
11-(4-isobrobylphenyl)-2-hydroxy-2-methylbroban-1-one (manufactured by Chiha Geigy ■)
Darocure 1116 manufactured by MERCK:
2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylbropan-l-one (Darocur 117: manufactured by Merck ■) and the like are preferably used. In addition to these radical polymerization initiators, an amino compound may be added as a photopolymerization accelerator.

光重合促進剤に用いられるアミノ化合物としては、エタ
ノールアミン、アチルー4−ジメチルアミノベンゾエー
ト、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、p−
ジメチルアミノ安息香酸n−アミルエステル、p−ジメ
チルアミノ安息香酸イソアミルエステル等が挙げられる
Examples of amino compounds used as photopolymerization accelerators include ethanolamine, acyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-(dimethylamino)ethylbenzoate, p-
Examples include dimethylaminobenzoic acid n-amyl ester and p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester.

次に、以上の各組成分の配合比は、これら組成分を含む
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の本発明の液体噴射
記録ヘッドにおける使用部位あるいは使用目的に応じて
適宜選択される。
Next, the blending ratio of each of the above components is appropriately selected depending on the location or purpose of use of the active energy ray-curable resin composition containing these components in the liquid jet recording head of the present invention.

例えば、グラフト共重合高分子(A)と線状高分子(B
)との重量比率は (A):(B)= 80:20〜5
0:50の範囲が望ましく、この範囲であるとグラフト
共重合高分子に基づく気体への良好な密着性と、線状高
分子に基づく良好なバターニング性が得られる。
For example, a graft copolymer polymer (A) and a linear polymer (B
) is (A):(B)=80:20~5
A range of 0:50 is desirable, and within this range, good adhesion to gas based on the graft copolymer polymer and good buttering properties based on the linear polymer can be obtained.

高分子物質の合計増(^)+(B)に対して、ハーフエ
ステル化エボキシ樹脂(C)との重量比率は、((^)
+(B)):((:) =  100:50〜+00:
200の範囲が望ましい。重合開始剤(D)は、前記樹
脂の合計量(八)+(B)÷(C)に対して{(八)÷
(B)+(C)}:([1)  = +00:l〜10
0:10の範囲で用いるのが望ましい。
The weight ratio of half-esterified epoxy resin (C) to the total increase in polymeric substances (^) + (B) is ((^)
+(B)):((:) = 100:50~+00:
A range of 200 is desirable. The polymerization initiator (D) is {(8)÷ with respect to the total amount of the resin (8)+(B)÷(C)
(B)+(C)}:([1)=+00:l~10
It is desirable to use the ratio in the range of 0:10.

また、上記ラジカル重合開始剤(F.)及び/または光
爪合促進剤としてのアミノ化合物(F)を用いる場合の
これらの添加量((E)+(F))  [ (E)・0
、(F)・0の場合を含む]は、而記樹脂の合計量(A
) +CI1)+(C)に対して、<(A) + (B
) + (C) l : ((E)÷(F)l =10
0・l〜too:10の範囲で用いるのが望ましい。
In addition, when using the above radical polymerization initiator (F.) and/or amino compound (F) as a photonail synthesis accelerator, the amount added ((E) + (F)) [(E)・0
, (F)・0] is the total amount of resin (A
) +CI1)+(C), <(A) + (B
) + (C)l : ((E)÷(F)l = 10
It is desirable to use it in the range of 0.l to too:10.

史に、本発明に用いる活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物には、必要に応じて、縮合架橋触媒、熱市合禁IE刑
、染料や顔料等の着色剤、充てん刑、ヒトロキノンやバ
ラメトキシフェノール等の熱安定剤、密着促進剤、可塑
剤、シリカやタルク等の体′〔τ顔料、塗王適性を与え
るレヘリング刑などを添加しても良い。
Historically, the active energy ray-curable resin composition used in the present invention may contain, if necessary, a condensation crosslinking catalyst, a heat exchanger, a coloring agent such as a dye or a pigment, a filler, hydroquinone or paramethoxyphenol. Heat stabilizers such as adhesion promoters, plasticizers, bodies such as silica and talc, pigments such as τ pigments, and lehering agents that impart coating suitability may be added.

例えば、縮合架橋触媒としては、バラトルエンスルホン
酸に代表されるスルホン酸、ギ酸などのカルボン酸等が
挙げられる。熱重合禁止剤としては、ハイドロキノンお
よびその誘導体、パラメトキシフェノール、フェノチア
ジン等が挙げられる。着色剤としては、油溶性染料及び
顔料が活性エネルギー線の透過を実質的に防げない範囲
で添加され得る。充填剤は、塗膜の硬度−F昇、着色、
密着性、機械的強度上昇のために、塗料一般で使用され
る体質顔料、プラスチック微粒子等が用いられる。密着
促進剤としては、無機質表面改質剤としてのシランカッ
プリング剤、低合子界面活性剤等がある。
For example, examples of the condensation crosslinking catalyst include sulfonic acids represented by valatoluenesulfonic acid, carboxylic acids such as formic acid, and the like. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone and its derivatives, paramethoxyphenol, and phenothiazine. As the colorant, oil-soluble dyes and pigments may be added to the extent that they do not substantially prevent the transmission of active energy rays. The filler increases the hardness of the coating film by -F, coloring it,
In order to increase adhesion and mechanical strength, extender pigments, plastic particles, etc. commonly used in paints are used. Examples of adhesion promoters include silane coupling agents as inorganic surface modifiers, low molecular weight surfactants, and the like.

本発明の液体噴射記録ヘッドの作製のために、上記活性
エネルギー線硬化型樹脂組成物を溶液状で用いる際、あ
るいはドライフィルムとする際のフィルム基材であるプ
ラスチックフィルムなどのトに塗布する場合などに用い
る溶剤としては、アルコール類、グリコールエーテル類
、グリコールエステル類等の親水性溶剤などが挙げられ
る。もちろん、これら親水性溶剤を主体とし、それらに
必要に応じてメチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等のケトン類、酢酸エチル5酢酸イソブチル等のエ
ステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素及び
そのハロゲン置換体、塩化メチレン、1,1.1−トリ
クロルエタン等の塩素含有の脂肪族溶剤等を適宜混合し
たものを用いることもできる。尚、これら溶剤は、該樹
脂組成物の現像液として用いることもできる。
When using the above-mentioned active energy ray-curable resin composition in the form of a solution or applying it to a plastic film or the like as a film base material when forming a dry film for producing the liquid jet recording head of the present invention, Examples of the solvent used for this include hydrophilic solvents such as alcohols, glycol ethers, and glycol esters. Of course, these hydrophilic solvents are mainly used, and if necessary, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate 5 isobutyl acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and their halogen substituted substances It is also possible to use an appropriate mixture of chlorine-containing aliphatic solvents such as , methylene chloride, and 1,1.1-trichloroethane. Incidentally, these solvents can also be used as a developer for the resin composition.

本発明の液体噴射3己録ヘッドの作製のために、上記活
性エネルギー線硬化型樹脂組成物を溶液状で用いる際、
あるいはドライフィルムとする際に、該樹脂組成物をフ
ィルム基材であるプラスチックフィルムなどの上に塗布
する場合などに用いる溶剤としては、アルコール類、グ
リコールエーテル類、グリコールエステル類等の親水性
溶剤などが挙げられる。もちろん、これら親水性溶剤を
土体とし、それらに必要に応じてメチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢
酸イソブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素及びそのハロゲン置換体、塩化メチレン
、1,1.1 − トリクロルエタン等の塩素含有の脂
肪族溶剤等を適宜混合したものを用いることもできる。
When using the active energy ray-curable resin composition in the form of a solution for producing the liquid jet recording head of the present invention,
Alternatively, when forming a dry film, the solvent used when coating the resin composition on a film base such as a plastic film may include hydrophilic solvents such as alcohols, glycol ethers, and glycol esters. can be mentioned. Of course, these hydrophilic solvents can be used as soil bodies, and if necessary, methyl ethyl ketone,
Ketones such as methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate and isobutyl acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene and their halogenated products, chlorine-containing fats such as methylene chloride and 1,1.1-trichloroethane. It is also possible to use an appropriate mixture of group solvents and the like.

尚、これら溶剤は、該樹脂組成物の現像液として用いる
こともできる。
Incidentally, these solvents can also be used as a developer for the resin composition.

本発明の液体噴射記録ヘッドの作製に際して、詠樹脂組
成物は、通常の方法によって基板等の上に硬化層を形成
できる。
In producing the liquid jet recording head of the present invention, the resin composition can be used to form a cured layer on a substrate or the like by a conventional method.

例えば、 (1)基板等の上に硬化した塗布膜からなる層を形成す
る場合一 液体状の上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を基板
等のトに液状塗布膜を形成するため付与し、引き続いて
蒸発乾燥させる。そして得られた乾燥塗布膜に、活性エ
ネルギー線を照射することでこれを硬化させて、硬化塗
布膜からなる層とする。
For example, (1) When forming a layer consisting of a cured coating film on a substrate etc., apply the active energy ray-curable resin composition in liquid form to the substrate etc. to form a liquid coating film, This is followed by evaporation to dryness. Then, the obtained dry coating film is cured by irradiating active energy rays to form a layer consisting of a cured coating film.

(2)基板等の上に所望パターンの形状の硬化した塗布
膜からなる層を形成する場合(そのよ);液体状の上記
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を液状塗布膜を形成
するため基板等の七に付与し、引き続いて蒸発乾燥させ
る。そして乾燥した塗布膜からなる層に所望のパターン
にレーザービームを走査し、未露光部を1.1.1−ト
リクロ口エタン等の適当な溶剤で除去することで基板等
の上に所望のパターン形状の硬化塗布膜層を形成する。
(2) In the case of forming a layer consisting of a cured coating film in the shape of a desired pattern on a substrate, etc. (this is the case); etc. and subsequently evaporated to dryness. Then, by scanning the layer consisting of the dried coating film with a laser beam in a desired pattern and removing the unexposed areas with an appropriate solvent such as 1.1.1-tricloethane, the desired pattern is formed on the substrate, etc. Form a cured coating layer with a shape.

(3)基板等の上に所望のパターン形状の硬化塗布膜か
らなる層を形成する場合(その2):基板等の上に、液
体状の−ト記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を液状
塗布膜を形成するために付与し、続いて蒸発乾燥する。
(3) When forming a layer consisting of a cured coating film in a desired pattern shape on a substrate, etc. (Part 2): On a substrate, etc., apply the active energy ray-curable resin composition described in (g) in liquid form. It is applied to form a coating followed by evaporation drying.

得られた乾燥塗布膜からなる層トに、活性エネルギー線
が透過しない所望の形状をもったパターンを有するフォ
トマスクを重ね合わせ、フォトマスクーヒから活性エネ
ルギー線で露光する。そして、未露光部を1.1.1−
トリクロ口エタン等の適当な溶剤によって除去し、基板
等の上に所望のパターン形状の硬化した塗布膜からなる
層を形成する。
A photomask having a pattern of a desired shape through which active energy rays do not pass is superimposed on the layer consisting of the obtained dry coating film, and the photomask is exposed to active energy rays from a photomask. Then, the unexposed area is 1.1.1-
It is removed using a suitable solvent such as trichlorethane to form a layer of a cured coating film in a desired pattern shape on a substrate or the like.

(4)感光性トライフィルムを形成し、基板等の上に面
記ドライフィルムを積層する場合:液体状の上記活性エ
ネルギー線硬化型樹脂を液状膜を形成するためポリエチ
レンテレフタレートフィルムLに付与し、続いて蒸発乾
燥して前記ポリエチレンテレフタレートフィルム上に感
光性ドライフィルムを得る。そのドライフィルムを積層
体を得るため通常の積層方法によって基板等の上に禎層
する。そして、基板等の上に積層した感光性ドライフィ
ルムを上記した方法(1)と同様の方法で活性エネルギ
ー線で照射することで硬化する。
(4) When forming a photosensitive tri-film and laminating a surface dry film on a substrate etc.: Applying the active energy ray-curable resin in a liquid state to a polyethylene terephthalate film L to form a liquid film, Subsequently, the film is evaporated and dried to obtain a photosensitive dry film on the polyethylene terephthalate film. The dry film is layered on a substrate or the like by a conventional lamination method to obtain a laminate. Then, the photosensitive dry film laminated on the substrate or the like is cured by irradiating it with active energy rays in the same manner as method (1) above.

硬化した感光性フィルムを所望のパターンに形成したい
場合は支持体上に積層したト記トライフィルムをト記し
た方法(2)又は(3)と同様の方法で処理する。
When it is desired to form the cured photosensitive film into a desired pattern, the tri-film laminated on the support is treated in the same manner as in method (2) or (3).

活+[エネルギー線硬化型樹脂組成物が前記一般式(x
)によって表わされるモノマーを含むものである場合、
上記(1)〜(4)の方法で得た硬化膜を史に80℃〜
200℃の温度で加熱処理して縮合硬化させることは望
ましい。
The active + [energy ray curable resin composition has the general formula (x
), if it contains a monomer represented by
The cured film obtained by the methods (1) to (4) above was heated to 80°C
It is desirable to carry out condensation curing by heat treatment at a temperature of 200°C.

本発明の液体噴射記録ヘッドの作製過程において、ト記
活性エネルキ一線硬化型樹脂組成物の硬化、あるいは該
樹脂組成物へのパターン露光等に用いる活性エネルギー
線としては、既に広く実用化されている紫外線あるいは
電f線などが挙げられる。紫外線光源としては、波長2
50r++t+〜450nmの尤を多く含む高圧水銀灯
、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等か挙げられ、
実用的に許容さわるランブー被照射物間の距離において
365nmの近傍の光の強度か1 mW/cm2〜IO
OmW/cm2程度のものか好ましい。電f線照射装置
としては、特に限定はないが、0.5〜20M Rad
の範囲の線量を有する装置か実用的に適している。
In the process of manufacturing the liquid jet recording head of the present invention, the active energy rays used for curing the active energy single-line curable resin composition or pattern exposure of the resin composition have already been widely put into practical use. Examples include ultraviolet rays and electric f-rays. As an ultraviolet light source, wavelength 2
Examples include high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, etc., which contain a large amount of wavelength from 50r++t+ to 450nm.
The intensity of light in the vicinity of 365 nm at a practically acceptable distance between objects to be irradiated is 1 mW/cm2 ~ IO
It is preferable that it be about OmW/cm2. There are no particular limitations on the electric f-ray irradiation device, but 0.5 to 20M Rad
A device with a dose in the range of is practically suitable.

以ド、液体通路壁3+1をドライフィルムタイプの上記
樹脂組成物から得られる硬化膜を用いて形成する場合を
一例として、図面を用いて本発明の液体噴射記録ヘット
の製造方法を説明する。
Hereinafter, the method for manufacturing a liquid jet recording head of the present invention will be described with reference to the drawings, taking as an example a case in which the liquid passage wall 3+1 is formed using a dry film type cured film obtained from the above-mentioned resin composition.

?2図〜第6図は、本発明の液体噴射記録ヘットの製作
手順を説明するための模式図である。
? 2 to 6 are schematic diagrams for explaining the manufacturing procedure of the liquid jet recording head of the present invention.

本発明の液体噴射記録ヘットを形成するには、まず、第
2図に示すように、ガラス、セラミック、プラスチック
あるいは金属等の基板1上に発熱素子やビエゾ素子等の
吐出エネルギー発生素子2が所望の個数配置される。尚
、必要に応じて記録用液体に対する耐性、電気絶縁性等
を基板1表面に付与する目的で、該表面にSiO■、T
a205 ,ガラス等の保護層を被覆してもよい。また
、吐出エネルギー発生素子2には、図示されていないが
、記録信号人力用電極が接続してある。
In order to form the liquid jet recording head of the present invention, first, as shown in FIG. The number of pieces will be placed. In addition, in order to provide the surface of the substrate 1 with resistance to recording liquid, electrical insulation, etc., if necessary, SiO2, T
A205, a protective layer such as glass may be coated. Further, although not shown, an electrode for recording signal manually is connected to the ejection energy generating element 2.

次に、第2図の工程を経て得られた基板1の表面を清浄
化する,と共に例えば80〜150℃で乾燥させた後、
第3図(a)及び第3図(b)に示したようにドライフ
イルムタイプ(膜厚、約20μ〜200鱗)の而述した
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物3を、40〜130
℃程度に加温して、例えば0.5〜0.4 f /mi
n.の速度、1〜3κg/cm2の加圧条件下で基板面
IA上にラミネートする。
Next, after cleaning the surface of the substrate 1 obtained through the steps shown in FIG. 2 and drying it at, for example, 80 to 150°C,
As shown in FIGS. 3(a) and 3(b), the above-mentioned active energy ray-curable resin composition 3 of dry film type (film thickness, approximately 20 μ to 200 scales) was added to
For example, 0.5 to 0.4 f/mi by heating to about ℃.
n. The film is laminated onto the substrate surface IA at a speed of 1 to 3 κg/cm 2 under pressure conditions.

続いて、第4図に示すように、基板面IA上に設けたド
ライフィルム層3.1−.に、活性エネルギー線を透過
しない所定の形状のパターン4Pを有するフfトマスク
4を重ね合わせた後、このフォトマスク4のF部から露
光を行なう。
Subsequently, as shown in FIG. 4, a dry film layer 3.1-. After a photomask 4 having a pattern 4P of a predetermined shape that does not transmit active energy rays is superimposed on the photomask 4, exposure is performed from the F portion of the photomask 4.

なお、フォトマスク4と基板1との位置合わせは、露光
、現像処理等の工程を経て、最終的に形成ざれる液体通
路領域中にL記素子2か位置するように行なわれ、例え
ば、位置合せマークを、基板1とマスク4のそわぞれに
予め描いておき、そのマークに従って{i2置合わせす
る方法等によって実施できる。
The photomask 4 and the substrate 1 are aligned so that the L element 2 is located in the liquid passage area that will be finally formed through steps such as exposure and development. This can be carried out by drawing alignment marks in advance on each of the substrate 1 and the mask 4, and performing {i2 alignment according to the marks.

このように露光を行うと、而記パターンに覆われた領域
以外、すなわちトライフィルム層3の露光された部分か
市合硬化し、露光されなかった部分か、溶剤r−任溶性
のままであるのに対して溶剤不溶性となる。
When exposure is carried out in this way, the area other than the area covered by the pattern, that is, the exposed part of the tri-film layer 3 is cured, and the unexposed part remains soluble in the solvent. It becomes insoluble in solvents.

トライフィルム層3のパターン露光を終了したら、次に
、露光済みのドライフィルム3を,例えば!.1.1−
トリクロルエタン等の揮発性打機溶剤中に浸漬するなど
して現像処理し、溶剤可溶性であるドライフィルム層3
の未重合(未硬化)部分を基板1Fから溶解除去し、第
5図(a)および第5図(b)に示すように基板1上に
残存した樹脂硬化11Q 3 11によって最終的に液
体通路6−2及び液室6−1となる溝を形成する。
After pattern exposure of the try film layer 3 is completed, next, the exposed dry film 3 is exposed, for example! .. 1.1-
A dry film layer 3 that is soluble in a solvent is developed by being immersed in a volatile solvent such as trichloroethane.
The unpolymerized (unhardened) portion of the resin is dissolved and removed from the substrate 1F, and as shown in FIGS. 6-2 and a groove that will become the liquid chamber 6-1.

次に、基板1上の硬化樹脂膜311を、少なくとも80
℃以上の温度で、IO分〜3時間程度加熱し熱重合させ
る。なお、熱硬化性のグラフト共重合高分子か樹脂組成
物3に用いられている場合には、この加熱処理温度を、
少なくとも100℃で5〜60分程度とする。
Next, the cured resin film 311 on the substrate 1 is coated with at least 80%
The mixture is heated at a temperature of 10° C. or higher for about 10 minutes to 3 hours for thermal polymerization. In addition, when a thermosetting graft copolymer polymer is used in the resin composition 3, the heat treatment temperature is
The temperature is at least 100°C for about 5 to 60 minutes.

なお、本例の記録ヘッドにおいては、液体通路6−2及
び液室6−tとなる溝の形成に、ドライフィルムタイプ
の樹脂組成物、つまり固体状のものを使用した例につい
て説明しているが、本発明の記録ヘッドの形成に際して
使用できる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物としては
、固体状のもののみに限られるものではなく、液状のも
のももちろん使用可能である。
In addition, in the recording head of this example, an example is described in which a dry film type resin composition, that is, a solid material is used to form the grooves that will become the liquid passage 6-2 and the liquid chamber 6-t. However, the active energy ray-curable resin composition that can be used in forming the recording head of the present invention is not limited to solid ones, and of course liquid ones can also be used.

基板上に液状の樹脂組成物を用いて該組成物からなる層
を形成する方法としては、例えばレリーフ画像の作製時
に用いられるスキージによる方法、すなわち所望の樹脂
組成物の塗膜のJ7さに相当した高さの壁を基板の周囲
に設け、スキージによって余分な樹脂組成物を除去する
方法等を挙げることかできる。この場合、樹脂組成物の
粘度は、IOOcp〜3000cpか適当である。また
、基板の周囲に置く壁の高さは、感光性樹脂組成物の含
有する溶剤分の蒸発による減量分を見込んで決定する必
要がある。
A method for forming a layer made of a liquid resin composition on a substrate using a squeegee, which is used when creating a relief image, for example, corresponds to J7 of a coating film of a desired resin composition. For example, a method may be used in which a wall with a certain height is provided around the substrate and excess resin composition is removed using a squeegee. In this case, the viscosity of the resin composition is suitably between IOO cp and 3000 cp. Further, the height of the wall placed around the substrate must be determined in consideration of the amount of weight loss due to evaporation of the solvent contained in the photosensitive resin composition.

また、固体状の樹脂組成物を用いる場合には、而記のよ
うにドライフィルムを基板上に加熱圧着して貼着する方
法等が好適である。
In addition, when using a solid resin composition, it is preferable to apply a dry film to the substrate by heat-pressing it as described below.

しかしながら、本発明の記録ヘットを形成するに際して
は、取扱い上で、あるいは厚さの制御が容易かつ正確に
できる点に於いて、固体状のフィルムタイプのものが便
利である。
However, when forming the recording head of the present invention, a solid film type recording head is convenient in terms of handling and the fact that the thickness can be easily and accurately controlled.

このようにして、樹脂硬化膜311によって最終的に液
体通路6−2及び液室6−1を構成する溝を形成した後
、第6図(a)及び第6図(b)に示すように、溝の覆
いとなる平板7を樹脂硬化膜31jlに接着剤に接合し
、接合体を形成する。
After forming the grooves that will finally constitute the liquid passage 6-2 and the liquid chamber 6-1 using the cured resin film 311 in this way, as shown in FIGS. 6(a) and 6(b), Then, the flat plate 7 that covers the groove is bonded to the cured resin film 31jl with an adhesive to form a bonded body.

第6図(a)及び第6図(b)に示した工程に於いて、
覆い7を付設する具体的な方法としては、例えばガラス
、セラミック、金属、プラスチック等の平板7にエボキ
シ樹脂系接着剤を厚さ3〜4鱗にスビンコートした後、
予備加熱して接着剤層を、いわゆるBステージ化させ、
これを硬化したドライフィルム3 11 4−に貼り合
わせた後前記接着剤層を、本硬化させる等の方法がある
が、アクリル系樹脂,ABS樹脂、ポリエチレン等の熱
可塑性樹脂の平板7を樹脂硬化膜3■上に、直接、熱融
着させる等の接着剤を使用しない方法でも良い。
In the steps shown in FIG. 6(a) and FIG. 6(b),
A specific method for attaching the cover 7 is, for example, after coating the flat plate 7 of glass, ceramic, metal, plastic, etc. with an epoxy resin adhesive to a thickness of 3 to 4 scales,
The adhesive layer is preheated to a so-called B stage,
There is a method of bonding this to a cured dry film 3 11 4- and then curing the adhesive layer. It is also possible to use a method that does not use an adhesive, such as directly heat-sealing it onto the film 3.

また、覆い7の液体通路と接合する側に、本発明におけ
る樹脂硬化膜形成用の樹脂組成物からなる樹脂層を設け
、これを液体通路を形成した樹詣硬化膜31{と熱融着
させ、しかる後に活性エネルギー線を照射して加熱する
という方法、すなわち本発明における樹脂硬化膜形成用
の樹脂組成物を接着剤として用いる方法も好ましい。
In addition, a resin layer made of the resin composition for forming a cured resin film according to the present invention is provided on the side of the cover 7 that joins with the liquid passage, and this is thermally fused to the cured tree film 31 that forms the liquid passage. A method in which the resin composition for forming a cured resin film of the present invention is then used as an adhesive is also preferred.

尚、第6図に於いて、 6−1は液室、 6−2は液体
通路、8は液室6−1に不図示の記録ヘッド外部から内
部へ記録用液体を供給するための供給管(不[A示)を
連結するための貫通孔を示す。
In FIG. 6, 6-1 is a liquid chamber, 6-2 is a liquid passage, and 8 is a supply pipe for supplying recording liquid from the outside of the recording head (not shown) to the inside of the recording head. A through hole is shown for connecting (not shown in A).

このようにして、基板1上に設けられた樹脂硬化膜3t
lと平板7との接合が完了した後、この接合体を第6図
(a)及び第6図(b)に示した液体通路6−2の下流
側にあたるC−Cに添って切削して、切削而に於ける液
体通路の開口部である、記録用液体を吐出するためのオ
リフィスを形成する。
In this way, the cured resin film 3t provided on the substrate 1
1 and the flat plate 7, this joined body is cut along C-C on the downstream side of the liquid passage 6-2 shown in FIGS. 6(a) and 6(b). , an orifice for discharging the recording liquid is formed, which is the opening of the liquid passage during cutting.

この工程は、吐出エネルギー発生素子2とオリフィス9
との間隔を通正化するために行なうものであり、ここで
切削する領域は通宣選択される。
This process involves the ejection energy generating element 2 and the orifice 9.
This is done in order to normalize the distance between the two, and the area to be cut here is generally selected.

この切削に際しては、゛ト導体工業で通常採用されてい
るダイシング法等を採用することができる。
For this cutting, a dicing method or the like commonly used in the conductor industry can be employed.

なお、本発明でいう液体通路下流部とは、記録ヘットを
用いて記録を行なっている際の記録用液体の流わ方向に
於ける下流領域、具体的には、吐出エネルギー発生素子
2の設置位置よりF流の液体通路の部分を言う。
Note that the downstream part of the liquid path in the present invention refers to the downstream area in the flow direction of the recording liquid when recording is performed using a recording head, specifically, the area where the ejection energy generating element 2 is installed. Based on the position, it refers to the part of the F flow liquid passage.

切削か終了したところで、切削面を研磨して平滑化し、
tT通孔8に供給管IOを取付けて第1図に示したよう
な液体噴射記録ヘッドを完成する。
After cutting is finished, the cut surface is polished and smoothed.
A supply pipe IO is attached to the tT through hole 8 to complete a liquid jet recording head as shown in FIG.

なお、以上説明した例では、基板1上に樹脂硬化膜3B
を形成した後、これに覆い7が接合されたが、覆い7側
に樹脂硬化膜311を形成した後これを基板1に接合し
ても良い。また、液体通路6−2と液室6−1 とは別
々に形成されたものであっても良い。
In addition, in the example explained above, the resin cured film 3B is formed on the substrate 1.
Although the cover 7 was bonded to the cover 7 after forming the cover 7, it is also possible to form a resin cured film 311 on the cover 7 side and then bond this to the substrate 1. Further, the liquid passage 6-2 and the liquid chamber 6-1 may be formed separately.

/ 7/″ 7/ / / / / 〔実hh例) 以下、合成例および実施例により本発明を更に詳細に説
明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるも
のではない。
/ 7/'' 7/ / / / / / [Examples] The present invention will be explained in more detail with reference to synthesis examples and examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

合成例1 本発明の記録ヘットの構成に利用する活性エネルキ一線
硬化型樹脂組成物の成分として以下に示すものを用,ヘ
した。
Synthesis Example 1 The components shown below were used as components of the active energy single-line curing resin composition used in the construction of the recording head of the present invention.

ムiヱ土去』冷沼d」董M 2−ヒトロキシエチルメタクリレート80重量部、プチ
ルアクリレート20重量部を用い、チオグリコール酸を
連鎖移動剤、アゾビスイソブチルニトリルを市合開始剤
として用い,ラジカル連鎖移動市合を行ない、分子鎖末
端にカルボキシ基を持つオリゴマーを得た。
Using 80 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate and 20 parts by weight of butyl acrylate, using thioglycolic acid as a chain transfer agent and azobisisobutylnitrile as a market initiator, An oligomer with a carboxy group at the end of the molecular chain was obtained by radical chain transfer.

このオリゴマーに,グリシジルメタアクリレートを反応
させることにより、分子鎖の片末端にメタアクリロイル
基を持つマクロモノマーを得た。
By reacting this oligomer with glycidyl methacrylate, a macromonomer with a methacryloyl group at one end of the molecular chain was obtained.

このマクロモノマーのGPC法による数平均分子場は、
約3千であった。このマクロモノマ−30i1iq1部
とメチルメタクリレート70重量部とを、メチルセロソ
ルブ溶媒中で溶液重合し、重量平均分子ffltが約5
万、数平均分子量が約1万2千のグラフト共重合高分子
を得た。
The number average molecular field of this macromonomer by GPC method is
It was about 3,000. 1 part of this macromonomer 30i1iq and 70 parts by weight of methyl methacrylate were solution polymerized in a methyl cellosolve solvent, and the weight average molecular fflt was about 5.
A graft copolymer polymer having a number average molecular weight of about 12,000 was obtained.

敵状扁遣ゴ」肘 メチルメタクリレートとイソボルニルメタアクリレート
と2−ヒドロキシエチルメタクリレートとを70: 2
0: 10 (モル比)の割合で重合して得た線状アク
リル市合体。なお、その数平均分子量は約7万、その重
■平均分子1■は約25万である。
70:2 of methyl methacrylate, isobornyl methacrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate
Linear acrylic aggregate obtained by polymerization at a ratio of 0:10 (mole ratio). The number average molecular weight is about 70,000, and the weight average molecular weight is about 250,000.

ハーフエステル エボキシ  C オルソクレゾールノボラック型エボキシ樹脂(縮今度6
〜7)の50%アクリル酸エステル化物叫立朋一始』L
住) 以下の2つの重合開始剤(D) −1 , (D)−2
を用意した。
Half ester epoxy C Orthocresol novolak type epoxy resin (condensation degree 6
~7) 50% acrylic acid ester compound Kaitatetomo Ichime”L
) The following two polymerization initiators (D)-1, (D)-2
prepared.

(D) − 1 .前述した感光性の芳香族オニウム塩
化合物( 1 )  ( UVE−1014、GE社製
)(D) −2 .イルガキュア65l(チバガイギー
社製)次に、以上の材料(A)〜(D)−2を以下に示
すような市川比で通常の方法により混合することによっ
て、活性エネルギー線硬化型組成物を得た。
(D)-1. The aforementioned photosensitive aromatic onium salt compound (1) (UVE-1014, manufactured by GE) (D)-2. Irgacure 65l (manufactured by Ciba Geigy) Next, the above materials (A) to (D)-2 were mixed in the Ichikawa ratio shown below by a conventional method to obtain an active energy ray-curable composition. .

材料        重量部 A                    80B 
          20 C                  100D  
−1                  6D −2
                 6メチレンブルー
     1 メチルセロソルブ  200 メチルエチルケチトン +00 合成例2 本発明の記録ヘットの構成に利用する活性エネルギー線
硬化型樹脂組成物の成分とし′C以下に示すものを川、
αした。
Material Weight part A 80B
20C 100D
-1 6D -2
6 Methylene Blue 1 Methyl Cellosolve 200 Methyl Ethyl Ketitone +00 Synthesis Example 2 The following components of the active energy ray-curable resin composition used in the construction of the recording head of the present invention are as follows:
α was done.

ムiヱと典皿遣鵠±]」M 2−ヒトロキシエチルメタクリレート50TTL14部
、ブトキシメチルアクリルアミト50i[j!i1部を
用い、実施例1と同様の方法を用いて、分−′f3nの
片末端にメタアクリロイル基を持つマクロモノマーを得
た。このマクロモノマーのGPC法による数平均分子看
は、約2千であった。
M 2-hydroxyethyl methacrylate 50TTL 14 parts, butoxymethyl acrylamide 50i[j! A macromonomer having a methacryloyl group at one end of 1-'f3n was obtained in the same manner as in Example 1 using part i1. The number average molecular weight of this macromonomer by GPC method was about 2,000.

このマクロモノマー30重量部とメチルメタクリレート
70重量部とを、メチルセロソルブ:メチルエチルケト
ン(MEκ)=60:40(重量比)の溶媒中で溶液重
合し、数平均分子量約6千、重量平均分子量が約4万5
千の熱硬化性グラフト共重合高分子を得た。
30 parts by weight of this macromonomer and 70 parts by weight of methyl methacrylate were solution polymerized in a solvent of methyl cellosolve: methyl ethyl ketone (MEκ) = 60:40 (weight ratio), and the number average molecular weight was about 6,000 and the weight average molecular weight was about 6,000. 40,050
1,000 thermosetting graft copolymer polymers were obtained.

衆状扁遣1」■ メチルメタクリレートと、トリシクロデカンメタクリレ
ートと、N−メチルロールアクリルアミドとを、60:
30:10のモル比で重合して得た線状アクリル共重合
体。なお、その数平均分子射は約6万、その重量平均分
子量は約26万である。
Methyl methacrylate, tricyclodecane methacrylate, and N-methylol acrylamide at 60:
A linear acrylic copolymer obtained by polymerization at a molar ratio of 30:10. The number average molecular weight is approximately 60,000, and the weight average molecular weight is approximately 260,000.

ハーフエステル エポキシ  C) フェノールノボラック型エボキシ樹脂(縮今度5〜6)
の50%アクリル酸エステル化物l伍旦推泄μ》 以Fの2つのm合開始剤(D) −1 , (D)−2
を用意した。
Half ester epoxy C) Phenol novolak type epoxy resin (contraction degree 5-6)
50% acrylic acid ester of 150% excretion μ》 2 m combination initiators (D)-1, (D)-2
prepared.

(0)−+.前述した感光性の芳香族オニウム塩化合物
(m) (D) −2 .ダロキュア+173 (メルク社製)
次に、以上の材料(A)〜(D)−2を以士に示すよう
な重量比で通常の方法により混合することによって、活
性エネルギー線硬化型組成物を得た。
(0)−+. The aforementioned photosensitive aromatic onium salt compound (m) (D) -2. Darocure+173 (manufactured by Merck & Co.)
Next, an active energy ray-curable composition was obtained by mixing the above-mentioned materials (A) to (D)-2 in the weight ratio shown below using a conventional method.

材料        重量部 八50 B                    50C1
00 D −1          6 D −2                 6メチレ
ンブルー     I メチルセルソルブ  200 メチルエチルケトン  l00 次に、上記合成例lおよび2で得た各々の樹脂組成物溶
液をリバースコータにて25戸のポリエチレンテレフタ
レートフィルム(ルミラーTタイブ)に、乾燥後腹圧が
50μ』となるように塗ノt−i L/た。カバーフィ
ルムには、40μ鳳の延伸ポリエチレンフィルムを用い
た。以上のようにして、活性エネルギー線樹脂硬化型組
成物層が、2枚のフィルムの間にサンドイッチされた構
成のドライフィルムを得た。
Material Weight part 850 B 50C1
00 D-1 6 D-2 6 Methylene Blue I Methyl Cellsolve 200 Methyl Ethyl Ketone 100 Next, each of the resin composition solutions obtained in Synthesis Examples 1 and 2 above was coated with 25 polyethylene terephthalate films (Lumirror T type) using a reverse coater. ), and applied it so that the intra-abdominal pressure after drying was 50μ. A 40μ stretched polyethylene film was used as the cover film. As described above, a dry film having a structure in which the active energy ray resin-curable composition layer was sandwiched between two films was obtained.

実施例1 合成例2で製造したトライフィルムを用い、先に明細書
中で説明した第1図〜第6図の工程に従って、吐出エネ
ルギー発生素子として10個の発熱素子[ハフニウムボ
ライド(HfB,) ]及び該発熱素子に対応して設け
られたオリフィス(オリフィス寸法:70μ×50μ、
ピッチ0.12mII+)を有する第7図(d)に示す
ようなオンデマンド型液体噴射記録ヘットの作成を以下
のようにして実施した。尚、記録ヘッドは、同形状のも
のを各30個宛試作した。
Example 1 Using the tri-film produced in Synthesis Example 2, ten heating elements [hafnium boride (HfB, )] and an orifice provided corresponding to the heating element (orifice dimensions: 70μ x 50μ,
An on-demand liquid jet recording head as shown in FIG. 7(d) having a pitch of 0.12 mII+) was prepared as follows. Incidentally, 30 recording heads each having the same shape were prototyped.

まず、シリコンからなる基板上に発熱素子の複数を所定
の位置に配設し、これらに記録信号印加用電極を接続し
た。
First, a plurality of heating elements were arranged at predetermined positions on a substrate made of silicon, and recording signal application electrodes were connected to these heating elements.

次に,発熱素子が配設された基板面上に保護膜としての
Sin2層(厚さ1.0.)を設け、保護層の表面を清
浄化すると共に乾燥させた後、保護層に1■ねて、12
0℃に加温された合成例2で得た膜厚50μのドライフ
ィルムを,ロール温度95℃、周速1  m/min.
の条件下でゴムロールを用いて、ポリエチレンフィルム
を剥離しながらラミネートした。
Next, a second layer of Sin (thickness: 1.0. Sleep, 12
The dry film with a thickness of 50μ obtained in Synthesis Example 2 heated to 0°C was rolled at a roll temperature of 95°C and a peripheral speed of 1 m/min.
The polyethylene film was laminated while being peeled off using a rubber roll under these conditions.

続いて、基板面上に設けたドライフィルム上に、液体通
路及び液室の形状に対応したパターンを有するフォトマ
スクを重ね合わせ、最終的に形成される液体通路中に上
記素子か設けられるように位置合せを行なって真空密着
した後、このフォトマスクのF部から365nm付近で
の紫外線強度が7 mW/cl12であってコリメーシ
ョン{扁角が3゜の平行度の高い超高圧水銀灯を用いて
35秒間ドライフィルムを露光した。
Next, a photomask having a pattern corresponding to the shape of the liquid passage and the liquid chamber is superimposed on the dry film provided on the substrate surface, so that the above-mentioned element is placed in the liquid passage that is finally formed. After alignment and vacuum sealing, the UV intensity in the vicinity of 365 nm from the F part of this photomask was 7 mW/cl12, and the collimation {35° using a highly parallel ultra-high-pressure mercury lamp with an angle of 3° The dry film was exposed for seconds.

次に、露光後ドライフィルムをエターナNuで20℃、
50秒間のスプレー現像処理し、ドライフィルムの未重
合(未硬化)部分を基板トから溶解除去して、基板上に
残存した硬化ドライフィルム膜によって最終的に液体通
路及び液室となる溝を形成した。
Next, after exposure, the dry film was heated with Eterna Nu at 20°C.
Spray development treatment for 50 seconds to dissolve and remove the unpolymerized (uncured) portion of the dry film from the substrate, and the cured dry film film remaining on the substrate forms grooves that will eventually become liquid passages and liquid chambers. did.

現像処理を終了した後、基板上の硬化ドライフィルム膜
に、先にパターン露光に用いたのと同様の条件で5分間
の超高圧水銀灯による後照射(UVポストキュア)を行
ない、更に150℃で15分間の加熱処理を行ない後硬
化処理を施した。
After completing the development process, the cured dry film film on the substrate was post-irradiated (UV post-cure) with an ultra-high pressure mercury lamp for 5 minutes under the same conditions as those used for pattern exposure, and further heated at 150°C. A heat treatment was performed for 15 minutes and a post-curing treatment was performed.

方、液室が形成され且つ貫通孔の設けられたソーダガラ
スからなる平板に、合成例2で得たドライフィルムを、
ロール温度95℃、周速lm/min.の条件下でゴム
ロールを用いて、ポリエチレンフィルムを剥離しながら
ラミネートした。次いで、メカマスクを用いた以外は前
記液体通路及び液室の形成の際と同様の条件にて露光お
よび現像を行ない、前記(4JL室上のドライフィルム
を除去した。
On the other hand, the dry film obtained in Synthesis Example 2 was placed on a flat plate made of soda glass in which a liquid chamber was formed and a through hole was provided.
Roll temperature 95°C, peripheral speed lm/min. The polyethylene film was laminated while being peeled off using a rubber roll under these conditions. Next, exposure and development were performed under the same conditions as in the formation of the liquid passage and the liquid chamber, except that a mechanical mask was used, and the dry film on the (4JL chamber) was removed.

萌記基板上の硬化ドライフィルム膜面と、而記モ板トの
硬化ドライフィルム膜而とを加圧接合し,・κ板側から
紫外線照射( 50mll/cm2、60秒)を行なう
ことにより接着固定し、接合体を形成した。
The surface of the cured dry film on the substrate and the surface of the cured dry film on the substrate are bonded together under pressure, and bonding is achieved by irradiating ultraviolet rays (50 ml/cm2, 60 seconds) from the κ plate side. It was fixed and a zygote was formed.

続いて、接合体の液体通路の下流側、すなわち吐出エネ
ルギー発生素子の設置位置から下流側へ0.150 m
mのところを液体通路に対して重直に、市!坂のダイシ
ング・ソー(商品名; DAD 2H/6型、DISC
O社製)を用いて切削し、記録用液体を吐出するための
オリフィスを形成した。
Next, the distance is 0.150 m from the downstream side of the liquid passage of the bonded body, that is, from the installation position of the ejection energy generating element.
Place m squarely against the liquid passage, city! Saka no dicing saw (product name: DAD 2H/6 type, DISC
(manufactured by O Company) to form an orifice for discharging recording liquid.

最後に、切削面を洗浄したのち乾燥させ、更に、切削面
を研磨して侶滑化し、貫通孔に記録用液体の供給管を取
付けて液体噴射記録ヘッドを完成した。得られた記録ヘ
ッドは、何れもマスクパターンを忠実に再現した液体通
路及び液室を有する十法績度に優れたものであった。ち
なみに、オリフィスマ1一法は、縦50±5u+,横7
0±5戸、オリフィスピッチは、!20±5μ1の範囲
にあった。
Finally, the cut surface was cleaned and dried, and the cut surface was polished to smooth it, and a recording liquid supply pipe was attached to the through hole to complete the liquid jet recording head. The resulting recording heads all had liquid passages and liquid chambers that faithfully reproduced the mask pattern, and had excellent performance. By the way, the orifice 1 method is 50±5u+ vertically and 7 horizontally.
0±5 doors, orifice pitch is! It was in the range of 20±5μ1.

このようにして試作した記録ヘッドの品質及び長期使用
に際しての耐久性を以下のようにして試験した。
The quality and durability of the thus prototyped recording head during long-term use were tested as follows.

まず、得られた記録ヘッドについて、次の各組?からな
る記録用液体中に、60℃で1000時間浸漬処理(記
録ヘッドの長期使用時に匹敵する環境条件)する耐久試
験を実施した。
First, for each of the following sets of recording heads obtained? A durability test was conducted in which the recording head was immersed for 1000 hours at 60° C. (environmental conditions comparable to those during long-term use of a recording head).

記録用液体成分 1)I1■0/ジエチレングリコール/l,3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジノン/ C.I.ダイレクトブル
ー86” (・57/30/10/:l11!量部) pH−8.
02)I+,0 /ジエチレングリコール/N−メチル
−2−ビロリドン/C.T.ダイレクトブラック+54
 ”(−55/:10/10/5重量部) pH−9.
03)11■0/ジエチレングリコール/ポリエチレン
グリコール$400 /N−メチル−2−ピロリドン/
II:.1.ダイレクトイエロー86″3 (・65/10/10/10/5重量部) pl1−7
.04)H20 /エチレングリコール/トリエチレン
グリコール/トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル/C.l.フードブラック 2“4(−67/10/
15/5/3重量部) I)I1−10.0尚、注)$
1〜64は、水溶性染料であり、pHの調整には、カセ
イソーダを用いた。
Recording liquid component 1) I1■0/diethylene glycol/l,3-dimethyl-2-imidazolidinone/C. I. Direct Blue 86” (・57/30/10/: l11! parts) pH-8.
02) I+,0/diethylene glycol/N-methyl-2-pyrrolidone/C.I. T. Direct black +54
”(-55/:10/10/5 parts by weight) pH-9.
03) 11■0/diethylene glycol/polyethylene glycol $400/N-methyl-2-pyrrolidone/
II:. 1. Direct Yellow 86″3 (・65/10/10/10/5 parts by weight) pl1-7
.. 04) H20/ethylene glycol/triethylene glycol/triethylene glycol monomethyl ether/C. l. Hood black 2"4 (-67/10/
15/5/3 parts by weight) I) I1-10.0 Note) $
1 to 64 are water-soluble dyes, and caustic soda was used to adjust the pH.

耐久試験後、該試験を実施した各ヘッドにつき基板及び
覆いと硬化トライフィルム膜の接合状態を観察した結果
、すへての記録ヘッドにおいて剥離や損傷は全く認めら
わず、良好な密着性を示していた。
After the durability test, we observed the state of bonding between the substrate and cover and the cured tri-film film for each head tested, and found that no peeling or damage was observed in all recording heads, indicating good adhesion. It was showing.

次いでこれとは別に、得られた記録ヘッドのlO個につ
いて、各ヘットを記録装置に取付け、面記の記録用液体
を用いて108パルスの記録信号を14時間連続的に記
録ヘッドに印加して印字を行なう印字試験を実施した。
Separately, each of the obtained 10 recording heads was attached to a recording device, and a recording signal of 108 pulses was continuously applied to the recording head for 14 hours using a recording liquid. A printing test was conducted.

何れの記録ヘッドに関してb、印字開始直後と14時間
経過後において、記録用液体の吐出性能及び印字状態共
に性能の低下が殆と認められず、耐久性に優れた記録ヘ
ッドであった。
With respect to any of the recording heads, there was hardly any deterioration in performance in both the recording liquid ejection performance and the printing condition immediately after the start of printing and after 14 hours had elapsed, and the recording heads were excellent in durability.

実施例2 実施例1において使用した合成例2のドライフィルムの
代わりに合成例1のものを用いた以外は、実施例1と同
様にして記録ヘッドを作成した。
Example 2 A recording head was produced in the same manner as in Example 1, except that the dry film of Synthesis Example 1 was used instead of the dry film of Synthesis Example 2 used in Example 1.

得られた記録ヘッドは、実施例1と同様に、良好な蹟度
を有し、かつ耐久試験及び印字試験において同様の良好
な結果が得られた。
The obtained recording head had a good degree of sag as in Example 1, and the same good results were obtained in the durability test and the printing test.

(発明の効果) 以−ヒ説明したように、本発明の液体噴射記録ヘッドの
構成に用いられる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は
、グラフト共重合高分子(A)を構成成分とするので、
添加助剤等を添加しなくとも、種々の部材に対して十分
な密着性を有し、かつ線状高分子(83を構成成分とし
て含むので、パターン形成時の現像特性に帰れる。また
、同時にその硬化膜は十分な耐薬品性、耐久性等を有す
る。
(Effects of the Invention) As explained below, since the active energy ray-curable resin composition used in the structure of the liquid jet recording head of the present invention contains the graft copolymer polymer (A) as a constituent component,
It has sufficient adhesion to various members without the addition of additives, etc., and contains linear polymer (83) as a component, so it can return to the development characteristics during pattern formation. The cured film has sufficient chemical resistance, durability, etc.

史には、該組成物は、その構成成分である高分子物質と
して、グラフト共重合高分子と線状高分子とを併用して
用いるので、そのグラフト共重合高分子のみを高分子物
質として用いた場合に比べて、少ない活性エネルギー線
照射で、現像液に対する耐溶剤の塗膜になる。その結果
、高感度、解像度のアップ、部材の種類あるいは状態に
左右さわずにパターン形成かできる等のバターニングプ
ロセスの性質が向上し、作業条件巾か拡大する。
Historically, since the composition uses a combination of a graft copolymer polymer and a linear polymer as its constituent polymer materials, it is difficult to use only the graft copolymer polymer as the polymer material. A coating film that is resistant to developing solutions and solvents can be created with less active energy ray irradiation than would be the case. As a result, the properties of the patterning process are improved, such as high sensitivity, increased resolution, and the ability to form patterns regardless of the type or condition of the member, and the range of working conditions is expanded.

従って、該組成物の硬化物をその構成の一部とすること
によって本発明の記録ヘッドは、安価で精密であり、信
頼性が高く、耐久性に優れたものとなる。また、液体通
路壁を該組成物の硬化膜で形成すれば、鯖度良〈かつ歩
留り良く微細加工された液体通路を有する記録ヘットか
得られる。
Therefore, by using the cured product of the composition as a part of its structure, the recording head of the present invention is inexpensive, precise, highly reliable, and has excellent durability. Furthermore, if the liquid passage wall is formed of a cured film of the composition, a recording head having a finely machined liquid passage with good quality and high yield can be obtained.

更に、本発明の記録ヘッドは上記の構成を有することに
より、マルチオリフィス化された場合にも信頼性が高く
、耐久性に優れたものとなる。
Furthermore, since the recording head of the present invention has the above-described configuration, it has high reliability and excellent durability even when it is configured with multiple orifices.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図〜第6図は本発明の液体噴射記録ヘッドならびに
その製造方法を説明するための模式図、第7図及び第1
0図は樹脂硬化膜の使用部分を示す記録ヘッドの液体通
路に垂直な面での横断面部分図、第8図(a)及び(b
)並びに第9図は記録ヘッドの他の構成を示す図である
。 1二基板 2・吐出エネルギー発生素子 3.樹脂層 311:樹脂硬化膜(液体通路壁) 4:フォトマスク 4P:マスクパターン 6−1・液室 6−2:液体通路 7:覆い 8:ば通孔 9:オリフィス 10:供給管 11:電極 12:ト部保護層 I3:発熱抵抗層 l4:接着層
1 to 6 are schematic diagrams for explaining the liquid jet recording head of the present invention and its manufacturing method, and FIG.
Figure 0 is a partial cross-sectional view taken in a plane perpendicular to the liquid path of the recording head, showing the portion where the cured resin film is used, and Figures 8 (a) and (b).
) and FIG. 9 are diagrams showing other configurations of the recording head. 1. 2. Substrate 2. Discharge energy generating element 3. Resin layer 311: Resin cured film (liquid passage wall) 4: Photomask 4P: Mask pattern 6-1/Liquid chamber 6-2: Liquid passage 7: Cover 8: Through hole 9: Orifice 10: Supply pipe 11: Electrode 12: Protective layer I3: Heat generating resistance layer l4: Adhesive layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物をその
構成の一部とする液体噴射記録ヘッドであって、前記組
成物が、 (A)アルキルメタアクリレート、アクリロニトリルお
よびスチレンからなる群より選ばれた一種以上のモノマ
ーに由来する構造単位を主体とする幹鎖に、下記一般式
(x)で表わされるモノマー及び下記一般式(y)で表
わされるモノマーからなる群より選択された少なくとも
一種のモノマーに由来する構造単位を有する枝鎖が付加
されてなり、かつ数平均分子量が5千以上であり、重量
平均分子量が5万以下であるグラフト共重合高分子と、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(x) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(y) [ただし、R^1は水素、もしくは炭素原子数が1〜3
のアルキル基またはヒドロキシアルキル基を表わし、R
^2は水素、もしくは炭素原子数が1〜4のヒドロキシ
基を有していてもよいアルキル基またはアシル基を表わ
し、R^3は炭素原子数2〜6のアルキル基、あるいは
ハロゲン置換されたアルキル基、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、2≦m+n≦6、n≠0、m≠0)で表わさ
れるアルキルエーテル基、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、2≦m+n≦4、n=0あるいはm=0の場
合も含む) で表わされるフェニルアルキル基である。](B)メチ
ルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、イソブ
チルメタアクリレート、t−ブチルメタアクリレート、
ベンジルメタアクリレート、アクリロニトリル、イソボ
ルニルメタアクリレート、イソボルニルアクリレート、
トリシクロデカンアクリレート、トリシクロデカンメタ
アクリレート、トリシクロデカンオキシエチルメタアク
リレート、スチレン、ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、シクロヘキシルメタクリレートからなる群より選
ばれた一種以上のモノマーに由来する構造単位を有し、
かつ前記一般式(x)および前記一般式(y)で表わさ
れるモノマーからなる群より選択された少なくとも一種
のモノマーに由来する構造単位を有し、かつ数平均分子
量が5万以上であり、重量平均分子量が35万以下であ
り、ガラス転移温度が60℃以上である線状高分子と、 (C)分子内にエポキシ基を2個以上有する化合物の少
なくとも1種を含んでなるエポキシ樹脂に存在するエポ
キシ基の一部を不飽和カルボン酸によってエステル化し
てなる樹脂と、 (D)活性エネルギー線の照射によってルイス酸を発生
する重合開始剤と を含むことを特徴とする液体噴射記録ヘッド。 2)前記グラフト共重合高分子(A)と前記線状高分子
(B)との重量比が(A):(B)=80:20〜50
:50である請求項1記載の液体噴射記録ヘッド。 3)前記グラフト共重合高分子(A)および前記線状高
分子(B)の合計重量(A)+(B)と前記エポキシ樹
脂(C)の重量比が{(A)+(B)}:(C)=10
0:50〜100:200である請求項1または2に記
載の液体噴射記録ヘッド。 4)前記グラフト共重合高分子(A)、前記線状高分子
(B)および前記樹脂(C)の合計重量(A)+(B)
+(C)と前記重合開始剤(D)の重量比が{(A)+
(B)+(C)}:(D)=100:1〜100:10
である請求項1〜3のいずれかに記載の液体噴射記録ヘ
ッド。 5)前記の重合開始剤(D)が芳香族ハロニウム塩化合
物及び周期律表第VIa族若しくは第Va族に属する元素
を含む光感知性を有する芳香族オニウム塩化合物から成
る群より選択した1種以上である請求項1〜4のいずれ
かに記載の液体噴射記録ヘッド。
[Scope of Claims] 1) A liquid jet recording head having a cured product of an active energy ray-curable resin composition as part of its structure, wherein the composition comprises (A) alkyl methacrylate, acrylonitrile, and styrene. A backbone mainly consisting of a structural unit derived from one or more monomers selected from the group consisting of a monomer represented by the following general formula (x) and a monomer represented by the following general formula (y). A graft copolymer polymer having a branched chain having a structural unit derived from at least one monomer derived from the above, and having a number average molecular weight of 5,000 or more and a weight average molecular weight of 50,000 or less; , chemical formulas, tables, etc.▼...(x) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(y) [However, R^1 is hydrogen or has 1 to 3 carbon atoms.
represents an alkyl group or a hydroxyalkyl group, R
^2 represents hydrogen, or an alkyl group or acyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a hydroxy group, and R^3 represents an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a halogen-substituted alkyl group. Alkyl groups, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (However, 2≦m+n≦6, n≠0, m≠0) Alkyl ether groups, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (However, 2≦m+n≦4, including cases where n=0 or m=0). ] (B) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate,
Benzyl methacrylate, acrylonitrile, isobornyl methacrylate, isobornyl acrylate,
Having a structural unit derived from one or more monomers selected from the group consisting of tricyclodecane acrylate, tricyclodecane methacrylate, tricyclodecaneoxyethyl methacrylate, styrene, dimethylaminoethyl methacrylate, and cyclohexyl methacrylate,
and has a structural unit derived from at least one monomer selected from the group consisting of monomers represented by the general formula (x) and the general formula (y), and has a number average molecular weight of 50,000 or more, and has a weight Existing in an epoxy resin comprising a linear polymer having an average molecular weight of 350,000 or less and a glass transition temperature of 60°C or more, and (C) at least one compound having two or more epoxy groups in the molecule. (D) a polymerization initiator that generates a Lewis acid upon irradiation with active energy rays. 2) The weight ratio of the graft copolymer polymer (A) and the linear polymer (B) is (A):(B)=80:20 to 50.
2. The liquid jet recording head according to claim 1, wherein: :50. 3) The weight ratio of the total weight (A) + (B) of the graft copolymer polymer (A) and the linear polymer (B) to the epoxy resin (C) is {(A) + (B)} :(C)=10
3. The liquid jet recording head according to claim 1, wherein the ratio is 0:50 to 100:200. 4) Total weight (A)+(B) of the graft copolymer polymer (A), the linear polymer (B), and the resin (C)
The weight ratio of +(C) and the polymerization initiator (D) is {(A)+
(B)+(C)}:(D)=100:1~100:10
The liquid jet recording head according to any one of claims 1 to 3. 5) The polymerization initiator (D) is one selected from the group consisting of aromatic halonium salt compounds and photosensitive aromatic onium salt compounds containing elements belonging to Group VIa or Group Va of the Periodic Table. The liquid jet recording head according to any one of claims 1 to 4, which is the above.
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