JPS6216152A - Liquid jet recording head - Google Patents

Liquid jet recording head

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JPS6216152A
JPS6216152A JP15335685A JP15335685A JPS6216152A JP S6216152 A JPS6216152 A JP S6216152A JP 15335685 A JP15335685 A JP 15335685A JP 15335685 A JP15335685 A JP 15335685A JP S6216152 A JPS6216152 A JP S6216152A
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JP
Japan
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group
recording head
resin composition
liquid
active energy
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JP15335685A
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Japanese (ja)
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JPH0444578B2 (en
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Hiromichi Noguchi
弘道 野口
Tadaki Inamoto
忠喜 稲本
Emi Munakata
棟方 恵美
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Canon Inc
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Publication of JPH0444578B2 publication Critical patent/JPH0444578B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Abstract

PURPOSE:To provide an inexpensive and precise liquid jet recording head excel lent in durability, by using a specific resin composition in the preparation of the liquid jet recording head. CONSTITUTION:A liquid jet recording head is constituted by a method wherein predetermined pattern exposure using active energy rays is applied to the layer comprising a resin composition provided on a substrate to form cured regions and uncured regions are removed to form liquid passages to the surface of the substrate. Said resin composition consists of (i) a graft copolymer obtained by adding a branched chain based on a structural unit occurring from (A) a hydroxyl group-containing acrylic monomer, (B) an amino or alkylamino group- containing acrylic monomer, (C) a carboxyl group-containing acrylic or vinyl monomer, (D) N-vinyl pyrrolidone or a derivative thereof, (E) vinyl pyridine or a derivative thereof and (F) an acrylamide derivative represented by general formula I to a main chain based on a structural unit occurring monomers of alkyl methacrylate, acrylonitrile and styrene, (ii) and epoxy resin containing a compound having an epoxy group in the molecule thereof and (iii) a polymeri zation initiator generating Lewis acid by the irradiation of active energy rays.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液体噴射記録ヘッド、詳しくは、インク等の
記録用液体の小滴を発生させ、それを紙などの被記録材
に付着させて記録を行なう液体噴射記録方式に用いる記
録用液体の小滴発生用の記録ヘッドに関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a liquid jet recording head, specifically, a liquid jet recording head that generates droplets of a recording liquid such as ink and attaches them to a recording material such as paper. The present invention relates to a recording head for generating small droplets of recording liquid used in a liquid jet recording method that performs recording.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

インク等の記録用液体の小滴を発生させ、それを紙など
の被記録材に付着させて記録を行なう液体噴射記録方式
は、記録時の騒音の発生が無視できる程度に極めて小さ
く、かつ高速記録が可能であり、しかも普通紙に定着な
どの特別な処理を必要とせずに記録を行なうことのでき
る記録方式として注目され、最近種々のタイプのものが
活発に研究されている。
The liquid jet recording method generates small droplets of recording liquid such as ink and attaches them to a recording material such as paper to perform recording, and the noise generated during recording is extremely small and can be ignored at high speed. It has attracted attention as a recording method that can record on plain paper without requiring any special processing such as fixing, and various types have recently been actively researched.

液体噴射記録方式に用いられる記録装置の記録ヘッド部
は、一般に、記録用液体を吐出するためのオリフィス(
液体吐出口)と、該オリフィスに連通し、記録用液体を
吐出するためのエネルギーが記録用液体に作用する部分
を有する液体通路と、該液体通路に供給する記録用液体
を貯留するための液室とを有して構成されている。
The recording head section of a recording device used in the liquid jet recording method generally has an orifice (
a liquid passage communicating with the orifice and having a portion where energy for ejecting the recording liquid acts on the recording liquid; and a liquid for storing the recording liquid to be supplied to the liquid passage. It is configured with a chamber.

記録の際に、記録用液体を吐出するためのエネルギーは
、液体通路の一部を構成する記録用液体に吐出エネルギ
ーを作用させる部分(エネルギー作用部)の所定の位置
に配設された発熱素子、圧電素子等の種々のタイプの吐
出エネルギー発生素子によって発生されるものが多い。
During recording, the energy for ejecting the recording liquid is generated by a heating element disposed at a predetermined position in a part (energy application part) that applies ejection energy to the recording liquid, which forms part of the liquid path. In many cases, ejection energy is generated by various types of ejection energy generating elements such as piezoelectric elements.

このような構成の液体噴射記録ヘッドを製造する方法と
しては、例えば、ガラス、金属等の平板に切削やエツチ
ング等によって、微細な溝を形成し、更にこの溝を形成
した平板に他の適当な板を接合して液体通路を形成する
工程を含む方法、あるいは例えば吐出エネルギー発生素
子の配置された基板上に硬化した感光性樹脂の溝壁をフ
ォトリソグラフィ一工程によって形成して、基板上に液
体通路となる溝を設け、このようにして形成された溝付
き板に、他の平板(覆い)を接合して液体通路を形成す
る工程を含む方法が知られている(例えば特開昭57−
43878号)。
A method for manufacturing a liquid jet recording head having such a configuration is, for example, to form fine grooves on a flat plate of glass, metal, etc. by cutting or etching, and then to form other suitable grooves on the flat plate with these grooves. A method that includes a step of bonding plates to form a liquid passage, or, for example, forming a groove wall of a cured photosensitive resin on a substrate on which an ejection energy generating element is arranged by a single photolithography step, and forming a liquid passage on the substrate. A method is known that includes a step of providing a groove to serve as a passage, and joining another flat plate (cover) to the thus formed grooved plate to form a liquid passage (for example, Japanese Patent Application Laid-open No. 1983-1999)
No. 43878).

これらの液体噴射記録ヘッドの製造方法のなかでは、感
光性樹脂を使用した後者の方法は、前者の方法に対して
、液体通路をより精度良く、かっ歩留り良く微細加工で
き、しかも量産化が容易であるので、品質が良く、より
安価な液体噴射記録ヘッドを提供することができるとい
う利点を有している。
Among these methods for manufacturing liquid jet recording heads, the latter method using photosensitive resin allows fine processing of liquid passages with higher precision and higher yield than the former method, and is also easier to mass produce. Therefore, it has the advantage that it is possible to provide a liquid jet recording head of good quality and at a lower cost.

このような記録ヘッドの製造に用いる感光性樹脂として
は、印刷版、プリント配線等におけるパターン形成用と
して用いられてきたもの、あるいはガラス、金属、セラ
ミックス等に用いる光硬化型の塗料や接着剤として知ら
れているものが用いられており、また作業能率などの面
からドライフィルムタイプの樹脂が主に利用されてきた
The photosensitive resins used to manufacture such recording heads are those that have been used for pattern formation in printing plates, printed wiring, etc., and those that have been used as photocurable paints and adhesives for glass, metals, ceramics, etc. Known resins are used, and dry film type resins have been mainly used from the viewpoint of work efficiency.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

感光性樹脂の硬化膜を用いた記録ヘッドにおいては、高
度な記録特性、耐久性及び信頼性等の優れた特性を得る
ために、記録ヘッドに用いる感光性樹脂には。
In a recording head using a cured film of a photosensitive resin, in order to obtain excellent characteristics such as advanced recording characteristics, durability, and reliability, the photosensitive resin used in the recording head is:

(i)特に、硬化膜としての基板との接着性に優れてい
る、 (2)硬化した際の機械的強度及び耐久性等に優れてい
る、 (3)パターン露光を用いたパターン形成用の際の感度
及び解像度に優れている などの特性を有していることが要求される。
(i) Particularly excellent in adhesion to the substrate as a cured film; (2) Excellent in mechanical strength and durability when cured; (3) For pattern formation using pattern exposure. It is required to have characteristics such as excellent sensitivity and resolution.

ところが、これまでに知られている液体噴射記録ヘッド
の形成に用いられる感光性樹脂としては、上記の要求特
性を全て満足したものが見当たらないのが現状である。
However, the current situation is that there is no photosensitive resin that satisfies all of the above-mentioned required characteristics among the photosensitive resins used to form hitherto known liquid jet recording heads.

すなわち、記録ヘッド用の感光性樹脂として、印刷版、
プリント配線等におけるパターン形成用として用いられ
ているものは、感度及び解像度においては優れているが
、基板として用いられるガラス、セラミックス、プラス
チックフィルムなどに対する接着性や密着性に劣り、し
かも硬化した際の機械的強度や耐久性が十分でない、そ
のため、記録ヘッドの製造段階において、または使用に
ともなって、例えば液体通路内の記録用液体の流れを阻
害したり、あるいは液滴吐出方向を不安定にするなどし
て記録特性を低下させる等、記録ヘッドの信頼性を著し
く損なう原因となる樹脂硬化膜の変形や基板からの剥離
、損傷などが起き易いという欠点を有している。
That is, printing plates, photosensitive resins for recording heads,
The materials used for pattern formation in printed wiring etc. have excellent sensitivity and resolution, but have poor adhesion and adhesion to glass, ceramics, plastic films, etc. used as substrates, and moreover, they have poor adhesiveness when cured. Insufficient mechanical strength or durability, which may obstruct the flow of recording liquid in the liquid path or make the direction of droplet ejection unstable during the manufacturing stage of the recording head or during use. This method has the drawback that the cured resin film is easily deformed, peeled off from the substrate, and damaged, which causes a significant loss of reliability of the recording head, such as deterioration of recording characteristics.

一方、ガラス、金属、セラミックス等に用いる光硬化型
の塗料や接着剤として知られているものは、これらの材
質からなる基板に対する密着性や接着性に優れ、かつ硬
化した際に十分な機械的強度や1酎久性が得られるとい
う利点を有しているものの、感度及び解像度に劣るため
に、より高強度の露光装置や長時間の露光操作が必要と
され、また、その特性上、解像度良く精密な高密度パタ
ーンを得ることができないために、特に微細な精密加工
が要求される記録ヘッド用としては向いていないという
問題点を有している。
On the other hand, known photocuring paints and adhesives used for glass, metals, ceramics, etc. have excellent adhesion and adhesion to substrates made of these materials, and have sufficient mechanical strength when cured. Although it has the advantage of being strong and durable, it is inferior in sensitivity and resolution, requiring higher intensity exposure equipment and longer exposure operations, and due to its characteristics, resolution is lower. Since it is not possible to obtain a highly precise, high-density pattern, there is a problem in that it is not suitable for use in recording heads that require particularly fine precision processing.

本発明は、このような問題点に鑑みなされたものであり
、前述したような諸要求特性を全て満足した樹脂硬化膜
からなる液体通路壁を有し、安価で精密であり、信頼性
が高く、耐久性に優れた液体噴射記録ヘッドを提供する
ことを目的とする。
The present invention was made in view of these problems, and has a liquid passage wall made of a cured resin film that satisfies all the required characteristics as described above, and is inexpensive, precise, and highly reliable. The purpose of the present invention is to provide a liquid jet recording head with excellent durability.

本発明の他の目的は、液体通路が精度良くかつ歩留り良
く微細加工された構成を有した液体噴射記録ヘッドを提
供することにある。
Another object of the present invention is to provide a liquid jet recording head having a structure in which liquid passages are microfabricated with high precision and high yield.

本発明の他の目的は、マルチオリフィス化された場合に
も信頼性が高く、#久性に優れた液体噴射記録ヘッドを
提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a liquid jet recording head that is highly reliable and has excellent durability even when it has multiple orifices.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記の目的は以下の本発明によって達成することができ
る。
The above objects can be achieved by the following invention.

本発明は、基板面に設けられ、液体の吐出口に連通ずる
液体通路が、活性エネルギー線によって硬化する樹脂組
成物の層に、該活性エネルY−線を用いた所定のパター
ン露光を為して前記樹脂組成物の硬化領域を形成し、該
層から未硬化領域を除去して形成されている液体噴射記
録ヘッドであって、前記樹脂組成物が (i)アルキルメタアクリレート、アクリロニトリルお
よびスチレンからなる群より選ばれた一種以上のモノマ
ーに由来する構造単位を主体とする幹鎖に、(A)水酸
基含有アクリルモノマー、(B)アミノもしくはアルキ
ルアミノ基含有アクリルモノマー、(C)カルボキシル
基含有アクリルもしくはビニルモノマー、(D)N−ビ
ニルピロリドンもしくはその誘導体、(E)ビニルピリ
ジンもしくはその誘導体および(F)下記一般式1で表
わされるアクリルアミド誘導体からなる群より選ばれた
一種以上のモノマーに由来する構造単位を主体とする枝
鎖が付加されてなるグラフト共重合高分子と、0H2=
C−−−(I) 」 0 =C−NH−CH2−0−R2 (ただし、R1は水素または炭素原子数が1〜3のアル
キルもしくはヒドロキシアルキル基、R2は水素または
炭素原子数が1〜4のヒドロキシ基を有してもよいアル
キルもしくはアシル基を表わす、) (ii)分子内にエポキシ基を1個以上有する化合物の
少なくとも1種を含んでなるエポキシ樹脂と、 (iii)活性エネルギー線の照射によってルイス酸を
発生する重合開始剤 とを有してなるものであることを特徴とする液体噴射記
録ヘッドである。
In the present invention, a liquid passage provided on a substrate surface and communicating with a liquid discharge port exposes a layer of a resin composition that is cured by active energy rays in a predetermined pattern using active energy Y-rays. a liquid jet recording head formed by forming a cured region of the resin composition and removing an uncured region from the layer, the resin composition comprising (i) alkyl methacrylate, acrylonitrile, and styrene; (A) a hydroxyl group-containing acrylic monomer, (B) an amino or alkylamino group-containing acrylic monomer, and (C) a carboxyl group-containing acrylic monomer in a backbone chain mainly composed of structural units derived from one or more monomers selected from the group consisting of: or derived from one or more monomers selected from the group consisting of vinyl monomers, (D) N-vinylpyrrolidone or its derivatives, (E) vinylpyridine or its derivatives, and (F) an acrylamide derivative represented by the following general formula 1. A graft copolymer polymer formed by adding branch chains mainly composed of structural units, and 0H2=
C---(I)'' 0 = C-NH-CH2-0-R2 (However, R1 is hydrogen or an alkyl or hydroxyalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R2 is hydrogen or an alkyl or hydroxyalkyl group having 1 to 3 carbon atoms. (ii) an epoxy resin comprising at least one compound having one or more epoxy groups in the molecule; and (iii) active energy rays. A liquid jet recording head characterized in that it comprises a polymerization initiator that generates a Lewis acid when irradiated with a polymerization initiator.

すなわち本発明の記録ヘッドは、基板と、少なくとも液
体通路となる溝を形成する樹脂硬化膜層とを有してなり
、記録ヘッドを構成する各部材の耐久性及び各部材間で
の接着性に優れ、しかも樹脂硬化膜層が精度良く微細加
工されており、優れた記録特性を有し、信頼性も高く、
使用に際しての耐久性にも優れた記録ヘッドである。
That is, the recording head of the present invention includes a substrate and a cured resin film layer that forms at least grooves serving as liquid passages, and improves the durability of each member constituting the recording head and the adhesiveness between each member. Moreover, the cured resin film layer is precisely micro-processed, has excellent recording characteristics, and is highly reliable.
This recording head also has excellent durability during use.

以下、図面に従って本発明の液体噴射記録ヘッドを詳細
に説明する。
Hereinafter, the liquid jet recording head of the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の液体噴射記録ヘッドの一例であり、第
1図(a)はその主要部の斜視図、第1図(b)は第1
図(a)のc−c ’線に添った切断断面図である。
FIG. 1 shows an example of the liquid jet recording head of the present invention, FIG. 1(a) is a perspective view of its main parts, and FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line c-c' in FIG.

この液体噴射記録ヘッドは、基本的に、基板lと、該基
板上に設けられ、所定の形状にパターンニングされた樹
脂硬化膜3Hと、該樹脂硬化膜上に積層された覆い7と
を有してなり、これらの部材によって、記録用液体を吐
出するためのオリフィス9、該オリフィスに連通し、記
録用液体を吐出するためのエネルギーが記録用液体に作
用する部分を有する液体通路6−2及び該液体通路に供
給する記録用液体を貯留するための液室6−1が形成さ
れている。更に、覆いに設けられた貫通孔8には、記録
ヘッド外部から液室6−1に記録用液体を供給するため
の供給管10が接合されている。尚、第1図(a)には
、供給管10は省略しである。
This liquid jet recording head basically includes a substrate 1, a cured resin film 3H provided on the substrate and patterned into a predetermined shape, and a cover 7 laminated on the cured resin film. These members form an orifice 9 for discharging a recording liquid, and a liquid passage 6-2 communicating with the orifice and having a portion on which energy for discharging the recording liquid acts on the recording liquid. A liquid chamber 6-1 is formed for storing recording liquid to be supplied to the liquid passage. Furthermore, a supply pipe 10 for supplying recording liquid from the outside of the recording head to the liquid chamber 6-1 is connected to the through hole 8 provided in the cover. Note that the supply pipe 10 is omitted in FIG. 1(a).

記録の際に、記録用液体を吐出するためのエネルギーは
、液体通路6−2の一部を構成する記録用液体に吐出エ
ネルギーを作用させる部分の所定の位置に配設された発
熱素子、圧電素子等の種々のタイプの吐出エネルギー発
生素子2に、これら素子に接続しである配線(不図示)
を介して吐出信号を所望に応じて印加することtこより
発生される。
During recording, the energy for ejecting the recording liquid is generated by a heating element or a piezoelectric element disposed at a predetermined position in a part of the liquid passage 6-2 that applies ejection energy to the recording liquid. Wiring (not shown) connected to various types of ejection energy generating elements 2 such as elements, etc.
The ejection signal is generated by applying the ejection signal as desired via the ejection signal.

本発明の記録ヘッドを構成する基板lは、ガラス、セラ
ミックス、プラスチックあるいは金属等からなり、発生
素子2が所望の個数所定位置に配設される。なお、第1
図の例においては発生素子が2個設けられているが、発
熱素子の個数及び配置は記録ヘッドの所定の構成に応じ
て適宜決定される。
The substrate l constituting the recording head of the present invention is made of glass, ceramics, plastic, metal, or the like, and a desired number of generating elements 2 are disposed at predetermined positions. In addition, the first
In the illustrated example, two generating elements are provided, but the number and arrangement of the heating elements are determined as appropriate depending on the predetermined configuration of the recording head.

また、覆い7は、ガラス、セラミックス、プラスチック
あるいは金属等の平板からなり、融着あるいは接着剤を
用いた接着方法により樹脂硬化膜3H上に接合されてお
り、また所定の位置に供給管10を接続するための貫通
孔8が設けられている。
The cover 7 is made of a flat plate made of glass, ceramics, plastic, metal, etc., and is bonded onto the cured resin film 3H by fusing or bonding using an adhesive. A through hole 8 for connection is provided.

本発明の記録ヘッドにおいて、液体通路6−2及び液室
8−1の壁を構成する所定の形状にパターンニングされ
た樹脂硬化1i3Hは、基板1上に、または覆い7上に
設けた以下に説明する組成の樹脂組成物からなる層をフ
ォトリソグラフィ一工程によってパターンニングして得
られたものである。
In the recording head of the present invention, the cured resin 1i3H patterned in a predetermined shape constituting the walls of the liquid passage 6-2 and the liquid chamber 8-1 is placed on the substrate 1 or on the cover 7. It was obtained by patterning a layer made of a resin composition having the composition explained in one step of photolithography.

なお、該樹脂硬化膜3Hは、以下に説明する組成の樹脂
組成物からなる覆いに一体化して、パターンニングされ
たものであっても良い。
Note that the cured resin film 3H may be patterned and integrated with a cover made of a resin composition having the composition described below.

このような少なくとも液体通路となる部分を構成するた
めに基板上に設けられる樹脂硬化膜を形成するために用
いる樹脂組成物は。
The resin composition used to form the cured resin film provided on the substrate to constitute at least the portion that becomes the liquid passage is as follows.

(i)アルキルメタアクリレート、アクリロニトリルお
よびスチレンからなる群より選ばれた一種以上の千ツマ
−に由来する構造単位を主体とする幹鎖に、(A)水酸
基含有アクリルモノマー、(B)アミノもしくはアルキ
ルアミノ基含有アクリル七ツマ−1(C)カルボキシル
基含有アクリルもしくはビニルモノマー、(D) N−
ビニルピロリドンモジ〈はその誘導体、(E)ビニルピ
リジンもしくはその誘導体および(F)下記一般式Iで
表わされるアクリルアミド誘導体からなる群より選ばれ
た一種以上のモノマーに由来する構造単位を主体とする
枝鎖が付加されてなるグラフト共重合高分子と。
(i) (A) a hydroxyl group-containing acrylic monomer, (B) an amino or alkyl monomer, and (A) a hydroxy group-containing acrylic monomer; Amino group-containing acrylic monomer-1 (C) Carboxyl group-containing acrylic or vinyl monomer, (D) N-
Vinylpyrrolidone modi< is a derivative thereof, a branch mainly consisting of a structural unit derived from one or more monomers selected from the group consisting of (E) vinylpyridine or a derivative thereof, and (F) an acrylamide derivative represented by the following general formula I. A graft copolymer polymer with added chains.

I CH2=C−−−(I) 0=C−NH−CH2−0−R2 (ただし、R1は水素または炭素原子数が1〜3のアル
キルもしくはヒドロキシアルキル基、R2は水素または
炭素原子数が1〜4のヒドロキシ基を有してもよいアル
キルもしくはアシル基を表わす、) (ii)分子内にエポキシ基を1個以上有する化合物の
少なくとも1種を含んでなるエポキシ樹脂と。
I CH2=C---(I) 0=C-NH-CH2-0-R2 (However, R1 is hydrogen or an alkyl or hydroxyalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R2 is hydrogen or a carbon atom number (ii) an epoxy resin comprising at least one compound having one or more epoxy groups in the molecule;

(iii)活性エネルギー線の照射によってルイス酸を
発生する重合開始剤、 とを必須成分として含有する活性エネルギー線硬化型樹
脂組成物であり、特に硬化膜とした際にガラス、プラス
チック、セラミックス等からなる基板に対して良好な接
着性を有し、かつインク等の記録用液体に対する耐性及
び機械的強度にも優れ、しかも活性エネルギー線による
パターニングによって精密で高解像度のパターンを形成
することができるという液体噴射記録ヘッドの構成部材
として優れた特性を有するものである。更に、この樹脂
組成物は、ドライフィルムとして用いることができ、そ
の際にも上記の優れた特性が発揮される。
(iii) a polymerization initiator that generates a Lewis acid upon irradiation with active energy rays; It has good adhesion to substrates, has excellent resistance to recording liquids such as ink, and has excellent mechanical strength, and can also be used to form precise, high-resolution patterns by patterning with active energy rays. It has excellent properties as a component of a liquid jet recording head. Furthermore, this resin composition can be used as a dry film, and the above-mentioned excellent properties are exhibited in that case as well.

以下、この本発明の記録ヘッドの形成に用いる活性エネ
ルギー硬化型樹脂組成物の組成について詳細に説明する
Hereinafter, the composition of the active energy curable resin composition used for forming the recording head of the present invention will be explained in detail.

この活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の必須成分であ
る(i)グラフト共重谷高分子は、構造材キ4としての
適性を有する比較的剛直な性状を有する幹鎖に、親水性
を有する上記(A)〜(F)の七ツマ−を主体にし、支
持体への優れた密着性を発揮する枝鎖を付加して成るも
のである。
The (i) graft copolymer, which is an essential component of this active energy ray-curable resin composition, has a relatively rigid backbone suitable for use as a structural material, and the above-mentioned hydrophilic polymer. It is mainly composed of heptamers (A) to (F) and has branch chains added thereto to exhibit excellent adhesion to the support.

上記グラフト共重合高分子を構成するに際して、その枝
鎖を構成すべく用いる上記(A)〜(F)のモノマーを
具体的に示せば、 (A)の水酸基含有アクリルモノマ
ーとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト(以下、(メタ)アクリレートと記す場合、アクリレ
ートおよびメタアクリレートの双方を含むこと意味する
ものとする。)、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アク
リレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ
)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(ツタ)アクリ
レート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、
5−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、6−ヒ
ドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、あるいは1.
4−シクロヘキサンジメタツールとアクリル酸またはメ
タアクリル酸とのモノエステルなどが挙げられ、商品名
アロニンクスM57(i0(東亜合成化学株製) 、 
TONEMloo  (カプロラクトンアクリレート、
ユニオンカーバイドv4製)、ライトエステルHO−m
pp (共栄社油脂化学工業■製)、ライトエステルト
ロ00A(2−ヒドロ午シー3−フェノキシプロピルア
クリレートの商品名、共栄社油脂化学工業■製)として
知られているものや、二価アルコール類1例えば1.1
0−デカンジオール、ネオペンチルグリコール、ビス(
2−ヒドロキシエチル)テレフタレート、ビスフェノー
ルAとエチレンオキシドまたはプロピレンオキシドとの
付加反応物等と(メタ)アクリル酸とのモノエステル等
を使用することができる。
When constructing the graft copolymer polymer, the monomers (A) to (F) used to construct the branch chain are specifically shown below. Ethyl (meth)acrylate (hereinafter referred to as (meth)acrylate includes both acrylate and methacrylate), 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (ivy)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate,
5-hydroxypentyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, or 1.
Examples include monoesters of 4-cyclohexane dimetatool and acrylic acid or methacrylic acid, including trade names Aroninx M57 (i0 (manufactured by Toagosei Kagaku Co., Ltd.),
TONEMloo (caprolactone acrylate,
Union Carbide v4), Light Ester HO-m
pp (manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo ■), those known as Light Ester Toro 00A (trade name of 2-hydro-3-phenoxypropyl acrylate, manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo ■), dihydric alcohols 1, etc. 1.1
0-Decanediol, neopentyl glycol, bis(
2-hydroxyethyl) terephthalate, a monoester of an addition reaction product of bisphenol A and ethylene oxide or propylene oxide, and (meth)acrylic acid, etc. can be used.

(R)のアミノもしくはアルキル7ミノ基含有アクリル
モノマーとしては、 (メタ)アクリルアミド、N、 
N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N
、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N、N−ジメ
チルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、K N−
ジし一ブチルアミノエチル(メタ)アクリルアミドなど
が挙げられる。
The amino or alkyl 7-mino group-containing acrylic monomer for (R) includes (meth)acrylamide, N,
N-dimethylaminoethyl (meth)acrylamide, N
, N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-dimethylaminopropyl(meth)acrylamide, K N-
Examples include dibutylaminoethyl (meth)acrylamide.

(C)のカルボキシル基含有アクリルもしくはビニルモ
ノマーとしては、(メタ)アクリル酸、フマール酸、イ
タコン醜あるいは東亜合成化学[1品の商品名アロニッ
クスト5400、アロニックスM−5500等で知られ
るものが挙げられる。
Examples of the carboxyl group-containing acrylic or vinyl monomer (C) include (meth)acrylic acid, fumaric acid, Itacone Ugly, or Toagosei Chemical [one product known under the trade name Aronixt 5400, Aronix M-5500, etc. .

(E)のビニルピリジンもしくはその誘導体としては、
2−ビこルビリジン、4−ビニルピリジン、2−ビニル
−6−メチルピリジン、4−ビニル−1−メチルピリジ
ン、2−ビニル−5−エチルピリジン、4−(4−ピベ
ニリノエチル)ピリジン等が挙げられる。
As vinylpyridine or its derivative (E),
Examples include 2-vinylpyridine, 4-vinylpyridine, 2-vinyl-6-methylpyridine, 4-vinyl-1-methylpyridine, 2-vinyl-5-ethylpyridine, 4-(4-pibenylinoethyl)pyridine, etc. .

上記(A)〜(E)のモノマーは、その何れもが親木性
を有するものであり、本発明の組成物がガラス、セラミ
−2クス、プラスチックなどの支持体に接着する際に、
強固な密着性を付与するものである。
All of the above monomers (A) to (E) have wood-philic properties, and when the composition of the present invention adheres to a support such as glass, ceramics, plastic, etc.
It provides strong adhesion.

(F)の一般式1で表わされるアクリルアミド誘導体と
しては、N−メ千ロール(メタ)アクリルアミド、N−
プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−n−ブ
トキシメチル(メタ)アクリルアミド、β−ヒドロキシ
エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシ
メチル(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(
メタ)アクリルアミド、α−ヒドロキシメチル−N−メ
チロールアクリルアミド、α−ヒドロキシエチル−N−
ブトキシメチルアクリルアミド、α−ヒドロキシプロピ
ル−N−プロポキシメチルアクリルアミド、α−エチル
−N−メチロールアクリルアミド、α−プロピル−N−
メチロールアクリルアミド等の親水性で且つ熱架橋性を
有するモノマーが挙げられる。これらモノマー(F)は
、親木性はもとより加熱による縮合架橋性を有しており
、一般には100°C以上の温度で水分子あるいはアル
コールが脱離し架橋結合を形成してグラフト共重合高分
子自体にも硬化後に網目構造を形成させ、硬化して得ら
れるパターンの耐薬品性および機械的強度等をより一層
向上させ1本発明をより効果的なものとするものである
As the acrylamide derivative represented by the general formula 1 of (F), N-methylol (meth)acrylamide, N-
Propoxymethyl (meth)acrylamide, N-n-butoxymethyl (meth)acrylamide, β-hydroxyethoxymethyl (meth)acrylamide, N-ethoxymethyl (meth)acrylamide, N-methoxymethyl (
meth)acrylamide, α-hydroxymethyl-N-methylolacrylamide, α-hydroxyethyl-N-
Butoxymethylacrylamide, α-hydroxypropyl-N-propoxymethylacrylamide, α-ethyl-N-methylolacrylamide, α-propyl-N-
Examples include monomers that are hydrophilic and have thermal crosslinking properties, such as methylol acrylamide. These monomers (F) have not only wood-philic properties but also condensation cross-linking properties when heated, and generally, water molecules or alcohol are released at temperatures of 100°C or higher to form cross-linked bonds, resulting in graft copolymer polymers. After curing, a network structure is formed in the curing material itself, thereby further improving the chemical resistance, mechanical strength, etc. of the pattern obtained by curing, thereby making the present invention more effective.

また、上記(A)〜(F)のモノマーに、熱によって開
環し、架橋するモノマー、例えばグリシジル(メタ)ア
クリレートを一部添加し枝鎖を構成することによって、
上記(F)におけると同様の効果が得られるものである
In addition, by adding a portion of a monomer that is thermally ring-opened and crosslinked, such as glycidyl (meth)acrylate, to the monomers (A) to (F) above to form a branch chain,
The same effect as in (F) above can be obtained.

上記熱架橋の他、同様の目的で本発明における樹脂硬化
膜形成用の樹脂組成物に含まれるグラフト共重合体の枝
鎖の一部に光重合性の側鎖を導入し、活性エネルギー線
によってグラフト共重合高分子を架橋させることも有効
である。このような、枝鎖に光重合性を付与させるため
の方法としては、例えば、 ■(メタ)アクリル酸等に代表されるカルボキシル基含
有上ツマ−1またはアミノ基もしくは三級アミノ基含有
モノマーを共重合させ、しかる後にグリシジル(メタ)
アクリレート等と反応させる方法、 ■1分子内に1個のインシアネート基と1個以上のアク
リルエステル基を持つポリイソシアネートの部分ウレタ
ン化合物と、枝鎖の水酸基、アミノ基あるいはカルボキ
シル基とを反応させる方法、 ■枝鎖の水酸基にアクリル酸クロライドを反応させる方
法、 ■枝鎖の水酸基に醜無水物を反応させ、しかる後にグリ
シジル(メタ)アクリレートを反応させる方法、 [相]枝鎖の水酸基と(F)に例示した縮合架橋性モノ
マーとを縮合させ、側鎖にアクリルアミド基を残す方法
、 ■枝鎖の水酸基にグリシジル(メタ)アクリレートを反
応させる方法、 等の方法を用いることができる。
In addition to the above-mentioned thermal crosslinking, for the same purpose, photopolymerizable side chains are introduced into some of the branch chains of the graft copolymer contained in the resin composition for forming a cured resin film in the present invention. It is also effective to crosslink the graft copolymerized polymer. Examples of methods for imparting photopolymerizability to branch chains include: (1) using monomers containing carboxyl groups, such as (meth)acrylic acid, or monomers containing amino groups or tertiary amino groups; Copolymerize, then glycidyl (meth)
Method of reacting with acrylate etc., ■ Reacting a partial urethane compound of polyisocyanate having one incyanate group and one or more acrylic ester groups in one molecule with a branched hydroxyl group, amino group or carboxyl group. Method: ■Method of reacting acrylic acid chloride with the hydroxyl group of the branch chain; ■Method of reacting the hydroxyl group of the branch chain with an ugly anhydride, and then reacting with glycidyl (meth)acrylate; [Phase] The method of reacting the hydroxyl group of the branch chain with ( Methods such as condensation with the condensation crosslinking monomer exemplified in F) to leave an acrylamide group on the side chain, and (2) reacting the hydroxyl group of the branched chain with glycidyl (meth)acrylate can be used.

グラフト共重合高分子の枝鎖が熱架橋性である場合には
、活性エネルギー線の照射によりパターンを形成した後
に加熱を行なうことが好ましい。
When the branch chains of the graft copolymer polymer are thermally crosslinkable, it is preferable to perform heating after forming a pattern by irradiation with active energy rays.

一方、上記枝鎖が光重合性である場合にも、支持体の耐
熱性の面で許容され得る範囲内で加熱を行なうことは何
ら問題はなく、むしろより好ましい結果を与える。
On the other hand, even when the branch chain is photopolymerizable, there is no problem in heating within an allowable range in terms of the heat resistance of the support, and in fact, more favorable results can be obtained.

尚、枝鎖は前記(A)〜(F)に例示したような親木性
上ツマ−のみに由来するものの他、その他の種々の機能
を発揮させる各種の疎水性上ツマー等をθ〜約25重量
%までの範囲内で共重合の成分として用いて成る枝鎖で
あってもよい。
In addition to the branch chains derived only from the tree-loving epitome as exemplified in (A) to (F) above, the branch chains may be derived from various hydrophobic epitomes that exhibit various other functions. Branched chains may be used as a component of the copolymerization in an amount up to 25% by weight.

グラフト共重合高分子の幹鎖を構成するモノマーは、メ
チルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、イソ
ブチルメタアクリレート、t−ブチルメタアクリレート
などのアルキル基の炭素数が1〜4のフルキルメタアク
リレート、アクリロニトリルおよびスチレンである。
The monomers constituting the backbone chain of the graft copolymerized polymer are methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate and other furkyl methacrylates in which the alkyl group has 1 to 4 carbon atoms, acrylonitrile, and It is styrene.

幹鎖は上記モノマーのみに由来するものの他。The backbone chain is derived from only the above monomers.

例えば上記千ツマ−に、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、n−ブチルアクリレート、ラウリルアクリ
レート、n−ブチルメタアクリレート、2−エチルへキ
シルメタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、
酢酸ビニル等を0〜約50重量%までの範囲内で共重合
の成分として用いて成る幹鎖であってもよい。
For example, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, lauryl acrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate,
It may also be a backbone chain comprising vinyl acetate or the like as a copolymer component in an amount of 0 to about 50% by weight.

本発明の記録ヘッドの形成に用いるこの活性エネルギー
線硬化型樹脂組成物において、上記幹鎖は該組成物に高
い凝集強度を与える。該組成物は、記録ヘッドの形成に
際して溶液状あるいは固形のフィルム状等、使用目的に
応じた種々の形状で提供されるが、該組成物をフィルム
状で維持するためには、約50℃以上のガラス転移温度
を有する比較的剛直な幹鎖を用いることが好ましい、こ
の際、用いる幹鎖はガラス転移温度の異なる二種以上の
ものから構成されたものでもよい、また、該組成物を溶
液状にて用いるのであれば、該組成物に柔軟性を与える
ようなガラス転移温度の低い幹鎖を用いることも可能で
ある。しかしながら、この場合にも、優れた耐薬品性と
高い機械的強度を有するパターンを得るためには、幹鎖
をガラス転移温度の高いものとすることが好ましい。
In this active energy ray-curable resin composition used for forming the recording head of the present invention, the above-mentioned backbone chain imparts high cohesive strength to the composition. The composition is provided in various forms depending on the purpose of use, such as a solution or a solid film when forming a recording head.In order to maintain the composition in a film form, it is necessary to heat the composition at a temperature of about 50°C or higher. It is preferable to use a relatively rigid backbone chain having a glass transition temperature of If the composition is to be used in a form, it is also possible to use a backbone chain with a low glass transition temperature that imparts flexibility to the composition. However, even in this case, in order to obtain a pattern with excellent chemical resistance and high mechanical strength, it is preferable that the backbone chain has a high glass transition temperature.

本発明おける樹脂硬化膜形成用の樹脂組成物に用いられ
るグラフト共重合高分子は、硬化性を有しないもの、光
重合性のもの、および熱架橋性のものに大別されるが、
何れにしても本発明に用いる樹脂組成物の硬化工程(す
なわち、活性エネルギー線照射および必要に応じての熱
硬化)において、該組成物に形態保持性を付与して精密
なパターニングを可能にするとともに、硬化して得られ
るパターンに対しては優れた密着性、耐薬品性ならびに
高い機械的強度を与えるものである。
The graft copolymer polymers used in the resin composition for forming a cured resin film in the present invention are broadly classified into those without curability, those that are photopolymerizable, and those that are thermally crosslinkable.
In any case, in the curing process of the resin composition used in the present invention (i.e., active energy ray irradiation and thermal curing as necessary), shape retention is imparted to the composition to enable precise patterning. At the same time, it provides excellent adhesion, chemical resistance, and high mechanical strength to the pattern obtained by curing.

以上のようなグラフト共重合高分子は、公知の方法によ
って製造することが可能であり、具体的には例えば「ポ
リマーアロイ基礎と応用J 10〜35頁(高分子学会
編集、東京化学同人■発行、1881年)に記載されて
いるような種々の方法によって製造することができる。
The above-mentioned graft copolymer polymers can be produced by known methods, and specifically, for example, "Basics and Applications of Polymer Alloys J, pages 10-35 (edited by the Society of Polymer Engineers, published by Tokyo Kagaku Dojin)" , 1881).

それらの方法を例示すれば、■連鎖移動法、■放射線を
用いる方法、■酸化重合法、■イオングラフttrt合
法、■マクロモノマー法が挙げられる。本発明に用いる
樹脂組成物に含有させるグラフト共重合体は、枝鎖の長
さがそろっている方が界面活性効果が顕著となるので、
■、■の方法を用いるのが好ましく、中でも■のマクロ
モノマー法が材料設計上有利であり、特に好ましい、グ
ラフト共重合体の重量平均分子量は、約5000〜30
万の範囲が好ましく、ドライフィルムとして用いる場合
には、約3万〜30万の範囲が好ましい。
Examples of these methods include: (1) chain transfer method, (2) method using radiation, (2) oxidative polymerization method, (2) ion graph ttrt method, and (2) macromonomer method. The graft copolymer contained in the resin composition used in the present invention has a more pronounced surface active effect when the branch chain lengths are uniform.
It is preferable to use the methods ① and ②, and among them, the macromonomer method ② is advantageous in terms of material design, and it is particularly preferable that the weight average molecular weight of the graft copolymer is about 5000 to 30.
A range of about 10,000 is preferable, and when used as a dry film, a range of about 30,000 to 300,000 is preferable.

本発明において樹脂硬化膜形成用として用いる該樹脂組
成物に含有させる1分子内にエポキシ基を1個以上含む
化合物の1種以上からなるエポキシ樹脂(ii)とは、
後述する重合開始剤(iii)の存在下に本発明に用い
る該樹脂組成物に活性エネルギー線による高感度で十分
な硬化性を発揮させ、これに加えて、該樹脂組成物を、
ガラス、プラスチックス、セラミックス等からなる各種
支持体上に液体状で塗布してからこれを硬化させて硬化
膜として形成した際に、あるいはドライフィルムの形で
各種支持体上に接着して用いた際に該樹脂組成物からな
る硬化膜に、より良好な支持体との密着性、耐水性、耐
薬品性、寸法安定性等を付与するための成分である。
The epoxy resin (ii) consisting of one or more compounds containing one or more epoxy groups in one molecule contained in the resin composition used for forming a cured resin film in the present invention is:
In the presence of the polymerization initiator (iii) described below, the resin composition used in the present invention is made to exhibit sufficient curability with high sensitivity to active energy rays, and in addition, the resin composition is
It is used when it is applied in liquid form onto various supports made of glass, plastics, ceramics, etc. and then cured to form a cured film, or by adhering it to various supports in the form of a dry film. In particular, it is a component for imparting better adhesion to a support, water resistance, chemical resistance, dimensional stability, etc. to a cured film made of the resin composition.

このエポキシ樹脂(ii)としては、1分子内にエポキ
シ基を1個以上含む化合物の1種以上を用いてなるエポ
キシ樹脂であれば、特に限定することなく用いることが
できる。しかしながら、例えば記録ヘッドを形成した際
のこの樹脂組成物を硬化して得られた硬化樹脂膜の耐薬
品性や機械的強度、構造材料としての高い耐久性などを
考慮したり、あるいは該組成物の硬化膜からなる液体通
路となる溝を含むパターンを基板上に形成する際の作業
性や、形成されるパターンの解像度などを考慮すると、
1分子内にエポキシ基を2個以上含む化合物の1種以上
からなるエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
As the epoxy resin (ii), any epoxy resin can be used without particular limitation as long as it is made of one or more compounds containing one or more epoxy groups in one molecule. However, for example, when forming a recording head, consideration must be given to the chemical resistance and mechanical strength of the cured resin film obtained by curing this resin composition, high durability as a structural material, etc. Considering the workability and resolution of the formed pattern when forming a pattern on the substrate that includes grooves that serve as liquid passages made of a cured film of
It is preferable to use an epoxy resin made of one or more compounds containing two or more epoxy groups in one molecule.

上記1分子内にエポキシ基を2個以上含むエポキシ樹脂
としては、ビスフェノールA型、ノボラック型、脂環型
に代表されるエポキシ樹脂、あるいは、ビスフェノール
S、ビスフェノールF1テトラヒドロキシフエニルメタ
ンテトラグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシ
ジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペ
ンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、インシア
ヌール酸トリグリシジルエーテルおよび下記一般式■ (ただし、Rはアルキル基またはオキシアルキルキル基
を表わす) で表わされるエポキシウレタン樹脂等の多官能性のエポ
キシ樹脂及びこれらの一種以上の混合物などを挙げるこ
とができる。
The above-mentioned epoxy resins containing two or more epoxy groups in one molecule include epoxy resins represented by bisphenol A type, novolak type, and alicyclic type, or bisphenol S, bisphenol F1 tetrahydroxyphenylmethane tetraglycidyl ether, Resorcinol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, incyanuric acid triglycidyl ether, and epoxy urethane resins represented by the following general formula (where R represents an alkyl group or an oxyalkyl group). Examples include functional epoxy resins and mixtures of one or more thereof.

なお、これら多官能性エポキシ樹脂の具体例としては以
下のようなものを挙げることができる。
In addition, the following can be mentioned as a specific example of these polyfunctional epoxy resins.

すなわち、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、
例えばエピコート828 、834 、871.100
1、1004 (商品名、シェル化学社製) 、 DE
R331−J 、 337−J 、 881−J 、 
+3E14−J 、 8137−J  (ダウケミカル
社製)及びエピクロン800(商品名、大日本インキ化
学工業−社製)など:ノボラック型エポキシ樹脂として
は、例えばエピコート152.154 、172 、 
 (商品名、シェル化学社製)、アラルダイ) EPN
 1138 (商品名、チバガイギー社製) 、 DE
R431、438及び439(商品名、ダウケミカル社
製)など;脂環式エポキシ樹脂としては1例えばアラル
ダイトCY−175、−178、−179、−182、
−184、−182(商品名、チバガイギー社製)、チ
ッソノックス[0、091、0f32 、301.31
3(商品名、チッソ■社製)、シラキュアー(CYRA
CURE)8100.611O16200及びERL 
4090.4617.225B、5411 (商品名、
ユニオンカーバイド社製)など;脂肪族多価アルコール
の多価グリシジルエーテル類としては、例えばエチレン
クリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグ
リシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエ
ーテル、1,6−ヘキサンシオールジグリシジルエーテ
ル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロール
プロパントリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノ
ールAのジグリシジルエーテル、2.2−ジブロモネオ
ペンチルグリコールジグリシジルエーテル等;芳香族多
価アルコールから誘導された多価グリシジルエーテルと
しては、ビスフェノールAのアルキレンオキシドの2〜
18モル付加体のジグリシジルエーテル、ビスフェノー
ルFのフルキレンオキシドの2〜16モル付加体のジグ
リシジルエーテル、ビスフェノールSのフルキレンオキ
シドの2〜16モル付加体のジグリシジルエーテルなど
がある。
That is, as a bisphenol A type epoxy resin,
For example Epicote 828, 834, 871.100
1, 1004 (trade name, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.), DE
R331-J, 337-J, 881-J,
+3E14-J, 8137-J (manufactured by Dow Chemical Company), Epiclon 800 (trade name, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.), etc.; Examples of novolac type epoxy resins include Epicort 152.154, 172,
(Product name, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd., Araldai) EPN
1138 (product name, manufactured by Ciba Geigy), DE
R431, 438, and 439 (trade name, manufactured by Dow Chemical Company), etc.; Examples of alicyclic epoxy resins include 1, such as Araldite CY-175, -178, -179, -182,
-184, -182 (product name, manufactured by Ciba Geigy), Chissonox [0, 091, 0f32, 301.31
3 (product name, manufactured by Chisso Corporation), Syracure (CYRA)
CURE)8100.611O16200 and ERL
4090.4617.225B, 5411 (product name,
(manufactured by Union Carbide Co., Ltd.); polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols include, for example, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, and neopentyl glycol. Diglycidyl ether, 1,6-hexanesiol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, etc.; aromatic Polyhydric glycidyl ethers derived from polyhydric alcohols include alkylene oxides of bisphenol A,
Examples include diglycidyl ether as an 18 mol adduct, diglycidyl ether as a 2 to 16 mol adduct of bisphenol F and fullkylene oxide, and diglycidyl ether as a 2 to 16 mol adduct of bisphenol S and fullkylene oxide.

また、1分子内にエポキシ基を1個含む化合物としては
、オレフィンオキサイド、オレフィンオキサイド、ブチ
ルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、ア
クリルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、フェ
ニルグリシジルエーテル、n−ブチルフェノールグリシ
ジルエーテル、3−ペンタデシルフェニルグリシジルエ
ーテル、シクロヘキセンビニルモアオキサイド、α−ピ
ネンオキサイド、tert−カルボン酸のグリシジルエ
ステル等およびそれらの混合物などが挙げられる。
Compounds containing one epoxy group in one molecule include olefin oxide, olefin oxide, butyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, acrylic glycidyl ether, styrene oxide, phenyl glycidyl ether, n-butylphenol glycidyl ether, 3-pentadecyl Examples include phenylglycidyl ether, cyclohexene vinylmore oxide, α-pinene oxide, glycidyl ester of tert-carboxylic acid, and mixtures thereof.

これら−官能性エポキシ樹脂は、前述の多官能性エポキ
シ樹脂とともに、あるいはそれ自身単独でも用いること
ができる。
These -functional epoxy resins can be used in conjunction with the multifunctional epoxy resins described above, or by themselves.

本発明に用いる樹脂硬化膜形成用の樹脂組成物において
、上記エポキシ樹脂(ii)は、後述する重合開始剤(
iii)に活性エネルギー線が照射されることによって
発生するルイス酸が、該樹脂のエポキシ基に作用するこ
とによって生じる活性エネルギー線に対する高感度で十
分な硬化性を有しており、該硬化性によって精密で高解
像度のパターン形成を可能にするばかりか、これに加え
て、エポキシ樹脂の木来有する熱硬化性によって良好な
支持体との密着性、耐薬品性、寸法安定性等も付与する
ものである。
In the resin composition for forming a cured resin film used in the present invention, the epoxy resin (ii) is a polymerization initiator (
The Lewis acid generated by irradiation with active energy rays in iii) has sufficient curability with high sensitivity to the active energy rays generated by acting on the epoxy groups of the resin, and due to this curability, It not only enables precise and high-resolution pattern formation, but also provides good adhesion to the support, chemical resistance, dimensional stability, etc. due to the inherent thermosetting properties of epoxy resin. It is.

本発明において樹脂硬化膜形成用として用いる該樹脂組
成物に合力させる活性エネルギー線の照射によってルイ
ス酸を発生する重合開始剤(ii)とは、該ルイス酸の
作用によって前述のエポキシ樹脂(ii)を硬化させ、
本発明に用いる該樹脂組成物に活性エネルギー線に対す
る高感度で十分な硬化性を発揮させるための成分であり
、好適には例えば特公昭52−14278号公報に示さ
れている第VIa族に属する元素を含む光感知性を有す
る芳香族オニウム塩化合物、または特公昭52−142
711号公報に示されている第Va族に属する元素を含
む光感知性を有する芳香族基ニウム塩化合物、あるいは
特公昭52−14277号に示されている光感知性を有
する芳香族ハロニウム塩などを用いることができる。
In the present invention, the polymerization initiator (ii) that generates a Lewis acid by irradiation with active energy rays that is combined with the resin composition used for forming a resin cured film is the polymerization initiator (ii) that generates a Lewis acid by the action of the Lewis acid. harden,
It is a component for making the resin composition used in the present invention exhibit sufficient curability with high sensitivity to active energy rays, and preferably belongs to Group VIa as shown in, for example, Japanese Patent Publication No. 52-14278. Aromatic onium salt compounds containing elements and having photosensitivity, or Japanese Patent Publication No. 52-142
Aromatic group nium salt compounds having photosensitivity and containing elements belonging to group Va as shown in Publication No. 711, or aromatic halonium salts having photosensitivity as shown in Japanese Patent Publication No. 14277/1983, etc. can be used.

これら芳香族オニウム塩化合物または芳香族ハロこラム
塩は、そのいずれもが活性エネルギー線の照射によって
ルイス酸を放出してエポキシ樹脂(ii)を硬化させる
という特性を有している。
Both of these aromatic onium salt compounds and aromatic halochloram salts have the property of curing the epoxy resin (ii) by releasing a Lewis acid when irradiated with active energy rays.

上記の第VIa族若しくは第Va族に属する元素の光感
知性の芳香族オニウム塩化合物には、代表的には下記一
般式■; [(R3)a (R4)b (R5)eX]; [MQ
e ]−’−0・・・(III) (上記式中、R3は一価の有機芳香族基、ではアルキル
基、シクロアルキル基及び置換アルキル基から選らばれ
る一価の有機脂肪族基、R5は脂肪族基及び芳香族基か
ら選らばれる複素環若しくは縮合環構造を構成する多価
有機基、Xはイオウ、セレン及びテルルから選らばれる
第Via族または窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビ
スマスから選らばれる第Va族に属する元素、Mは金属
または半金属及びQはハロゲン基をそれぞれ表わし、a
はXが第Via族に属する元素である場合には0〜3の
整数、Xが第Va族に属する元素である場合には0〜4
の整数、bはO〜2の整数、CはXが51. VI a
族に属する元素である場合にはOまたはlの整数、Xが
第Va族に属する元素である場合にはO〜2の整数、f
はMの価数で2〜7の整数、eはfより大で8以下の整
数であり、かつaとbとCの和はXが第Vla族に属す
る元素である場合には3、Xが第Va族に属する元素で
ある場合には4及びd=e−fである)で表される化合
物が挙げられる。
The photosensitive aromatic onium salt compound of an element belonging to Group VIa or Group Va above typically has the following general formula (1); [(R3)a (R4)b (R5)eX]; MQ
e]-'-0...(III) (In the above formula, R3 is a monovalent organic aromatic group, R5 is a monovalent organic aliphatic group selected from an alkyl group, a cycloalkyl group, and a substituted alkyl group) is a polyvalent organic group constituting a heterocyclic or fused ring structure selected from aliphatic groups and aromatic groups; M represents a metal or semimetal, and Q represents a halogen group, and a
is an integer of 0 to 3 when X is an element belonging to group Via, and is an integer of 0 to 4 when X is an element belonging to group Va
b is an integer of 0 to 2, C is an integer of 51. VIa
If X is an element belonging to Group Va, an integer of O or l; if X is an element belonging to Group Va, an integer of O~2, f
is the valence of M and is an integer from 2 to 7, e is an integer greater than f and less than or equal to 8, and the sum of a, b, and C is 3 if X is an element belonging to group Vla, and When is an element belonging to Group Va, compounds represented by 4 and d=ef) can be mentioned.

また、光感知性の芳香族ハロニウム塩としては、下記一
般■; [(R6)g (R7)hX]i’  [MQJ  ]
−”−”   −(IV)(上記式中、R6は一価の芳
香族有機基、R7は二価の芳香族有機基、Xはハロゲン
基、Mは金属または半金属及びQはハロゲン基をそれぞ
れ表わし、gはOまたは2の整数かつhはOまたは1の
整数であって、gとhの和が2またはXの原子価に等し
く、iはに−Aに等しく、!はMの原子価に等しい2〜
7の整数であり、kはlよりも大きい8までの整数であ
る)で表される化合物が挙げられる。
In addition, as a photosensitive aromatic halonium salt, the following general ■; [(R6)g (R7)hX]i' [MQJ]
-"-" -(IV) (In the above formula, R6 is a monovalent aromatic organic group, R7 is a divalent aromatic organic group, X is a halogen group, M is a metal or metalloid, and Q is a halogen group. respectively, g is an integer of O or 2, h is an integer of O or 1, the sum of g and h is equal to 2 or the valence of X, i is equal to −A, and ! is an atom of M. 2~
7, and k is an integer greater than 1 and up to 8).

上記第VIa族若しくは第Va族に属する元素を含む光
感知性の芳香族オニウム塩化合物の具体例としては、例
えば などの第VIa族に属する元素の光感知性の芳香族オニ
ウム塩、及び例えば オニウム塩などを挙げることができる。
Specific examples of the photosensitive aromatic onium salt compounds containing elements belonging to Group VIa or Group Va include photosensitive aromatic onium salts of elements belonging to Group VIa, such as, and onium Examples include salt.

また、光感知性の芳香族ハロニウム塩の具体例としては
、例えば。
Moreover, as a specific example of the photosensitive aromatic halonium salt, for example.

等が挙げられる。etc.

尚、上記のようなルイス酸を放出する重合開始剤(ii
i)に加えて、エポキシ樹脂の硬化剤として一般に広く
知られているポリアミノ、ポリアミド、酸無水物、三フ
ッ化ホウ素−アミノコンプレックス、ジシアンジアミド
、イミダゾール類、イミダゾールと金属とのコンプレッ
クス等の硬化剤を必要に応じて用いてもよい。
In addition, a polymerization initiator (ii
In addition to i), curing agents such as polyamino, polyamide, acid anhydride, boron trifluoride-amino complex, dicyandiamide, imidazoles, and complexes of imidazole and metal, which are generally widely known as curing agents for epoxy resins, can be used. It may be used as necessary.

本発明に用いる樹脂硬化膜形成用の活性エネルギー線硬
化型樹脂組成物には、該樹脂組成物に含有させるラット
共重合高分子(i)として光重合性を有するものを用い
、かつ波長250ns〜450nmの活性エネルギー線
を用いる場合には、本発明に言うところの重合開始剤(
iii)に加えて、活性エネルギー線の作用により賦活
化し得る有機遊離ラジカル生成性のラジカル重合開始剤
を該樹脂組成物中に添加しておくことが好ましい、この
ラジカル重合開始剤としては、活性エネルギー線によっ
て賦活化し、有機遊離ラジカルを生成して、ラジカル重
合を開始させる性質を有する公知の物質を特に限定する
ことなく使用できる。
The active energy ray-curable resin composition for forming a cured resin film used in the present invention uses a photopolymerizable rat copolymer (i) to be contained in the resin composition, and has a wavelength of 250 ns to When using active energy rays of 450 nm, the polymerization initiator (
In addition to iii), it is preferable to add to the resin composition an organic free radical-generating radical polymerization initiator that can be activated by the action of active energy rays. Any known substance having the property of being activated by radiation, generating organic free radicals, and initiating radical polymerization can be used without particular limitation.

そのようなラジカル重合開始剤を具体的に示せば、ベン
ジル、ベンゾインアルキルエーテル類:ベンゾインイソ
ブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインメチルエーテルなど、ベンゾフェノン
類:ベンゾフェノン、4.4′−ビス(N、 N−ジエ
チルアミノ)ヘンシフエノン、ベンゾフェノンメチルエ
ーテルなど、アントラキノン類=2−二チルアントラキ
ノン、2−tブチルアントラキノンなど、キサントン類
+2.4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジインプ
ロピルチオキサントンなど、アセトフェノン類=2.2
−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、α、α−
ジクロロー4−フェノキシアセトフェノン、p −te
rt−ブチルトリクロロアセトフェノン、p −ter
t−ブチルジクロロアセトフェノン、2.2−ジェトキ
シアセトフェノン、P−ジメチルアミノアセトフェノン
など、あるいはヒドロキシシクロへキシルフェニルケト
ン(イルガキュア184  チバ・ガイギー■製)、1
−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2
−メチルプロパン−1−オン(ダロキュア1118  
メAyり(MERCK)M製)、2−1=ドロキシ−2
−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(ダロキ
ュア1173  メルク■製)等が好適に用いられるも
のとして挙げられる。これらのラジカル重合開始剤に加
えて、光重合促進剤としてアミノ化合物を添加してもよ
い。
Specific examples of such radical polymerization initiators include benzyl, benzoin alkyl ethers: benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin methyl ether, etc., benzophenones: benzophenone, 4 .4'-bis(N,N-diethylamino)hensiphenone, benzophenone methyl ether, etc., anthraquinones = 2-dithylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, etc., xanthones + 2.4-dimethylthioxanthone, 2,4-diinpropyl Acetophenones such as thioxanthone = 2.2
-dimethoxy-2-phenylacetophenone, α, α-
Dichloro-4-phenoxyacetophenone, p-te
rt-butyltrichloroacetophenone, p-ter
t-Butyldichloroacetophenone, 2,2-jetoxyacetophenone, P-dimethylaminoacetophenone, etc., or hydroxycyclohexylphenyl ketone (Irgacure 184 manufactured by Ciba Geigy ■), 1
-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2
-Methylpropan-1-one (Darocur 1118
Made by MERCK M), 2-1 = Doroxy-2
-Methyl-1-phenyl-propan-1-one (Darocure 1173 manufactured by Merck ■) and the like are preferably used. In addition to these radical polymerization initiators, an amino compound may be added as a photopolymerization accelerator.

光重合促進剤に用いられるアミノ化合物としては、エタ
ノールアミノ、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエー
ト、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、p−
ジメチルアミノ安息香酸n−アミルエステル、p−ジメ
チルアミノ安息香酸インアミルエステル等が挙げられる
Amino compounds used as photopolymerization accelerators include ethanolamino, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-(dimethylamino)ethylbenzoate, p-
Examples include dimethylaminobenzoic acid n-amyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid inamyl ester, and the like.

本発明に用いる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を構
成する前記材料の構成比率は、グラフト共重合高分子(
i)の含有量を0重量部、エポキシ樹脂(ii)の含有
量を8重量部とした場合に、G/(G+E)が0.2〜
0.8の範囲にあり、且つルイス酸を発生する重合開始
剤(iii)が(G+E)の100重量部に対して0.
2〜15重量部含有されることが好ましい、G/ (G
+E)が0.2より小さい場合には、該樹脂組成物中の
グラフト共重合高分子の含有量が少なくなって、グラフ
ト共重合高分子に基づく支持体との十分な密着性が発揮
されなくなったり、溶剤を用いる場合に溶剤の乾燥性が
悪化して硬化して得られるパターンの表面がべたつく等
の不都合を生じる。一方、G/ (G+E)が0.8を
越えると、エポキシ樹脂の含有量が少なくなって、活性
エネル゛ギー線に対する感度が劣化し、形成されるパタ
ーンの解像度が低下する等の不都合を生じる。
The composition ratio of the materials constituting the active energy ray-curable resin composition used in the present invention is the graft copolymer polymer (
When the content of i) is 0 parts by weight and the content of epoxy resin (ii) is 8 parts by weight, G/(G+E) is 0.2 to
0.8, and the polymerization initiator (iii) that generates Lewis acid is in the range of 0.8 to 100 parts by weight of (G+E).
It is preferable to contain 2 to 15 parts by weight of G/(G
When +E) is less than 0.2, the content of the graft copolymer in the resin composition decreases, and sufficient adhesion to the support based on the graft copolymer is no longer exhibited. In addition, when a solvent is used, the drying properties of the solvent deteriorate, resulting in problems such as the surface of the pattern obtained by curing becomes sticky. On the other hand, when G/(G+E) exceeds 0.8, the content of epoxy resin decreases, resulting in disadvantages such as deterioration of sensitivity to active energy rays and reduction in resolution of the formed pattern. .

また、該樹脂組成物に、活性化エネルギー線の作用によ
り賦活化するラジカル重合開始剤を用いる場合の該重合
開始剤は、グラフト共重合高分子(i)、エポキシ樹脂
(ii)及びルイス酸を発生する重合開始剤(iii)
より成る樹脂成分[(i)+(ii)+(iii)] 
1100重量に対して0.1〜20重量部、好ましくは
1〜10重量部の範囲である。
In addition, in the case where a radical polymerization initiator that is activated by the action of activation energy rays is used in the resin composition, the polymerization initiator includes a graft copolymer polymer (i), an epoxy resin (ii), and a Lewis acid. Polymerization initiator (iii) generated
A resin component consisting of [(i)+(ii)+(iii)]
The amount ranges from 0.1 to 20 parts by weight, preferably from 1 to 10 parts by weight, based on 1,100 parts by weight.

本発明に用いる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を溶
液状で用いる際、あるいはドライフィルムとする際のフ
ィルム基材であるプラスチックフィルムなどの上に塗布
する場合などに用いる溶剤としては、アルコール類、グ
リコールエーテル類、グリコールエステル類等の親水性
溶剤などが挙げられる。もちろん、これら親水性溶剤を
主体とし、それらに必要に応じてメチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢
酸イソブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素及びそのハロゲン置換体、塩化メチレン
、l、 1. t −トリクロルエタン等の塩素含有の
脂肪族溶剤等を適宜混合したものを用いることもできる
。尚、これら溶剤は。
The solvents used in the present invention include alcohols, Examples include hydrophilic solvents such as glycol ethers and glycol esters. Of course, these hydrophilic solvents are the main ones, and if necessary, methyl ethyl ketone,
Ketones such as methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate and isobutyl acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene and their halogen substituted products, methylene chloride, l, 1. It is also possible to use an appropriate mixture of a chlorine-containing aliphatic solvent such as t-trichloroethane. Furthermore, these solvents.

該組成物の現像液として用いることもできる。It can also be used as a developer for the composition.

本発明に用いる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物には
、上記ラジカル重合開始剤あるいは溶剤の他、例えば縮
合架橋の触媒、熱重合禁止剤、着色剤(染料及び顔料)
、微粒子状充填剤、密着促進剤、可塑剤等の添加物を必
要に応じて含有させることができる。
In addition to the above-mentioned radical polymerization initiator or solvent, the active energy ray-curable resin composition used in the present invention includes, for example, a condensation crosslinking catalyst, a thermal polymerization inhibitor, and a coloring agent (dye and pigment).
, particulate fillers, adhesion promoters, plasticizers, and other additives may be included as necessary.

縮合架橋触媒としては、パラトルエンスルホン酸に代表
されるスルホン酸、ギ酸などのカルボン酸等が挙げられ
る。熱重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびその
誘導体、パラメトキシフェノール、フェノチアジン等が
挙げられる0着色剤としては、油溶性染料及び顔料が活
性エネルギー線の透過を実質的に防げない範囲で添加さ
れ得る。充填剤は、塗膜の硬度上昇、着色、密着性、機
械的強度上昇のために、塗料一般で使用される体質顔料
、プラスチック微粒子等が用いられる。
Examples of the condensation crosslinking catalyst include sulfonic acids typified by para-toluenesulfonic acid, and carboxylic acids such as formic acid. Examples of thermal polymerization inhibitors include hydroquinone and its derivatives, paramethoxyphenol, and phenothiazine.As colorants, oil-soluble dyes and pigments may be added to the extent that they do not substantially prevent the transmission of active energy rays. As the filler, extender pigments, plastic particles, etc., which are commonly used in paints, are used to increase the hardness, color, adhesion, and mechanical strength of the coating film.

密着促進剤としては、無機質表面改質剤としてのシラン
カップリング剤、低分子界面活性剤が本発明で用いる該
樹脂組成物に有効である。
As adhesion promoters, silane coupling agents as inorganic surface modifiers and low molecular surfactants are effective for the resin composition used in the present invention.

以上説明した活性エネルギー線硬化型樹脂組成物をドラ
イフィルムの態様で本発明の記録ヘッドの形成に供する
場合には一般に該組成物をフィルム状基材で支持するの
が適当である。このとき使用するフィルム状基材として
は、例えば厚さ16μs〜 100牌の二軸延伸された
ポリエチレンテレフタレートフィルム、三酢酸セルロー
ス、ポリ−1−フッ化ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリエ
チレン、ポリプロピレンおよびこれらのラミネートまた
は共押出しフィルム等が使用できるものとして挙げられ
る。また、上記のようなフィルム状基材に該組成物を積
層してドライフィルムを製造する際の積層方法としては
、ロールコータ−、バーコーター等を用いた塗布法、浸
漬、スプレー塗布、ハケ塗り等の周知の方法を用いるこ
とができる。
When the active energy ray-curable resin composition described above is used in the form of a dry film to form the recording head of the present invention, it is generally appropriate to support the composition with a film-like base material. Film-like substrates used at this time include, for example, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 16 μs to 100 tiles, cellulose triacetate, poly-1-vinyl fluoride, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, Examples that can be used include 4-methylpentene-1, polyethylene, polypropylene, and laminates or coextruded films thereof. In addition, lamination methods for producing a dry film by laminating the composition on a film-like substrate as described above include coating methods using a roll coater, bar coater, etc., dipping, spray coating, and brush coating. Well-known methods such as can be used.

また、このようなドライフィルムを用いた際のパターン
ニング方法としては、例えば記録ヘッドの液体吐出のた
めのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子の設
けられた適当な基板や覆いとなる板材等のパターンを形
成すべき所望の支持体上に、ゴムロール等の弾力性を有
するロールを用いてドライフィルムを積層した後、加温
、加圧可能な周知のラミネート装置を用いてドライフィ
ルムを該支持体に固着させ、次いでドライフィルムのフ
ィルム状基材を除去するか、または除去することなく、
マスキングをした上で活性エネルギー線を照射するか、
あるいは活性エネルギー線を選択照射する等の方法によ
って行なうとよい。
Further, as a patterning method when using such a dry film, for example, patterning of a suitable substrate or a plate material serving as a cover is provided with an ejection energy generating element that generates energy for ejecting liquid from the recording head. The dry film is laminated onto the desired support using an elastic roll such as a rubber roll, and then the dry film is laminated onto the support using a well-known laminating device that can be heated and pressurized. fixing and then removing or not removing the film-like substrate of the dry film;
Either masking and irradiating active energy rays,
Alternatively, it may be carried out by a method such as selective irradiation with active energy rays.

以上のような組成からなる樹脂組成物を活性エネルギー
線によって硬化させて、本発明の記録ヘッドの有する樹
脂硬化膜3Hが形成される。
The cured resin film 3H of the recording head of the present invention is formed by curing the resin composition having the above composition with active energy rays.

以下、樹脂硬化膜3H形成用の樹脂組成物としてドライ
フィルムタイプのもを用いた場合を一例として、図面を
用いて本発明の液体噴射記録ヘッドの製造方法を詳細に
説明する。
Hereinafter, the method for manufacturing a liquid jet recording head of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, taking as an example a case where a dry film type resin composition is used as the resin composition for forming the cured resin film 3H.

第2図〜第6図は、本発明の液体噴射記録ヘッドの製作
手順を説明するための模式図である。
2 to 6 are schematic diagrams for explaining the manufacturing procedure of the liquid jet recording head of the present invention.

本発明の液体噴射記録ヘッドを形成するには。To form the liquid jet recording head of the present invention.

まず、第2図に示すように、ガラス、セラミック、プラ
スチックあるいは金属等の基板1上に発熱素子やピエゾ
素子等の吐出エネルギー発生素子2が所望の個数配置さ
れる。尚、必要に応じて記録用液体に対する耐性、電気
絶縁性等を基板1表面に付与する目的で、該表面にSi
O□、Ta205、ガラス等の保護層を被覆してもよい
、また、吐出エネルギー発生素子2には、図示されてい
ないが、記録信号入力用電極が接続しである。
First, as shown in FIG. 2, a desired number of ejection energy generating elements 2 such as heating elements or piezo elements are arranged on a substrate 1 made of glass, ceramic, plastic, metal, or the like. Incidentally, in order to provide the surface of the substrate 1 with resistance to recording liquid, electrical insulation, etc., if necessary, Si may be applied to the surface of the substrate 1.
It may be covered with a protective layer such as O□, Ta205, or glass.Although not shown, the ejection energy generating element 2 is connected to a recording signal input electrode.

次に、第2図の工程を経て得られた基板lの表面を清浄
化すると共に例えば80〜150℃で乾燥させた後、第
3図(a)及び第3図(b)に示したようにドライフィ
ルムタイプ(膜厚、約20μs〜200μs)の前述し
た活性エネルギー線硬化型樹脂組成物3を、40〜15
0℃程度に加温して、例えば0.5〜0.4 f / 
min、の速度、1〜3 Kg/ cm2の加圧条件下
で基板面IA上にラミネートする。
Next, after cleaning the surface of the substrate l obtained through the process shown in FIG. 2 and drying it at, for example, 80 to 150°C, The above-mentioned active energy ray-curable resin composition 3 of dry film type (film thickness, about 20 μs to 200 μs) was added to 40 to 15
Heating to about 0°C, for example, 0.5 to 0.4 f/
The substrate is laminated onto the substrate surface IA at a speed of 1 min, and under a pressure of 1 to 3 Kg/cm2.

続いて、第4図に示すように、基板面IA上に設けたド
ライフィルム層3上に、活性エネルギー線を透過しない
所定の形状のパターン4Pを有するフォトマスク4を重
ね合わせた後、このフォトマスク4の上部から露光を行
なう。
Subsequently, as shown in FIG. 4, a photomask 4 having a pattern 4P of a predetermined shape that does not transmit active energy rays is superimposed on the dry film layer 3 provided on the substrate surface IA. Exposure is performed from the top of the mask 4.

なお、フォトマスク4と基板lとの位置合わせは、露光
、現像処理等の工程を経て、最終的に形成される液体通
路領域中に上記素子2が位置するように行なわれ、例え
ば、位置合せマークを、基板1とマスク4のそれぞれに
予め描いておき、そのマークに従って位置合わせする方
法等によって実施できる。
Note that the alignment between the photomask 4 and the substrate l is performed so that the element 2 is located in the liquid passage area that is finally formed through steps such as exposure and development. This can be carried out by drawing marks on each of the substrate 1 and the mask 4 in advance and aligning them according to the marks.

このように露光を行うと、前記パターンに覆われた領域
以外、すなわちドライフィルム層3の露光された部分が
重合硬化し、露光されなかった部分が、溶剤可溶性のま
まであるのに対して溶剤不溶性となる。
When exposed in this way, the area other than the area covered by the pattern, that is, the exposed area of the dry film layer 3, polymerizes and hardens, and the unexposed area remains solvent soluble, whereas the solvent Becomes insoluble.

このパターン露光に用いる活性エネルギー線としては、
既に広く実用化されている紫外線あるいは電子線などが
挙げられる。紫外線光源としては、波長250nm〜4
50nmの光を多く含む高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メ
タルハライドランプ等が挙げられ、実用的に許容される
ランブー被照射物間の距離において385r+mの近傍
の光の強度が1 ar’d/C112〜1100II/
Cm2程度のものが好ましい、電子線照射装置としては
、特に限定はないが、 0.5〜20 M Radの範
囲の線量を有する装置が実用的に適している。
The active energy rays used for this pattern exposure are:
Examples include ultraviolet rays and electron beams, which have already been widely put into practical use. As an ultraviolet light source, the wavelength is 250 nm to 4
Examples include high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, etc. that contain a lot of 50 nm light, and the intensity of light in the vicinity of 385 r + m at the practically acceptable distance between the objects to be irradiated is 1 ar'd/C112 to 1100 II. /
There is no particular limitation on the electron beam irradiation device, which preferably has a dose of about Cm2, but a device with a dose in the range of 0.5 to 20 M Rad is practically suitable.

ドライフィルム層3のパターン露光を終了したら、次に
、露光済みのドライフィルム3を、例えば1,1.I−
トリクロルエタン等の揮発性有機溶剤中に浸漬するなど
して現像処理し、溶剤可溶性であるドライフィルム層3
の未重合(未硬化)部分を基板1上から溶解除去し、第
5図(a)および第5図(b)に示すように基板1上に
残存した樹脂硬化115!3Hによって最終的に液体通
路8−2及び液室6−1となる溝を形成する。
After pattern exposure of the dry film layer 3 is completed, next, the exposed dry film 3 is exposed, for example, 1, 1 . I-
A dry film layer 3 that is soluble in a solvent is developed by being immersed in a volatile organic solvent such as trichloroethane.
The unpolymerized (unhardened) portion of the resin is dissolved and removed from the substrate 1, and as shown in FIGS. Grooves that will become the passage 8-2 and the liquid chamber 6-1 are formed.

次に、基板1上の硬化樹脂膜3Hを、少なくとも80℃
以上の温度で、IO分〜3時間程度加熱し熱重合させる
。なお、熱硬化性のグラフト共重合高分子が樹脂組成物
3に用いられている場合には、この加熱処理温度を、少
なくとも100°Cで5〜60分程度とする。
Next, the cured resin film 3H on the substrate 1 is heated to at least 80°C.
The mixture is heated at the above temperature for about 10 minutes to 3 hours for thermal polymerization. Note that when a thermosetting graft copolymer polymer is used in the resin composition 3, the heat treatment temperature is at least 100° C. for about 5 to 60 minutes.

なお、本例の記録ヘッドにおいては、液体通路6−2及
び液室8−1となる溝の形成に、ドライフィルムタイプ
の樹脂組成物、つまり固体状のものを使用した例につい
て説明しているが、未発明の記録ヘッドの形成に際して
使用できる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物としては
、固体状のもののみに限られるものではなく、液状のも
のももちろん使用可能である。
In addition, in the recording head of this example, an example is described in which a dry film type resin composition, that is, a solid material is used to form the grooves that will become the liquid passage 6-2 and the liquid chamber 8-1. However, the active energy ray-curable resin composition that can be used in forming the uninvented recording head is not limited to solid ones, and of course liquid ones can also be used.

基板上に液状の樹脂組成物を用いて該組成物からなる層
を形成する方法としては、例えばレリーフ画像の作製時
に用いられるスキージによる方法、すなわち所望の樹脂
組成物の塗膜の厚さに相当した高さの壁を基板の周囲に
設け、スキージによって余分な樹脂組成物を除去する方
法等を挙げることができる。この場合、樹脂組成物の粘
度は、 100cp 〜3000cpが適当である。ま
た、基板の周囲に置く壁の高さは、感光性樹脂組成物の
含有する溶剤分の蒸発による減量分を見込んで決定する
必要がある。
A method for forming a layer made of a liquid resin composition on a substrate using a squeegee, which is used when creating a relief image, for example, is a method that corresponds to the thickness of the coating film of the desired resin composition. For example, a method may be used in which a wall with a certain height is provided around the substrate and excess resin composition is removed using a squeegee. In this case, the appropriate viscosity of the resin composition is 100 cp to 3000 cp. Further, the height of the wall placed around the substrate must be determined in consideration of the amount of weight loss due to evaporation of the solvent contained in the photosensitive resin composition.

また、固体状の樹脂組成物を用いる場合には、前記のよ
うにドライフィルムを基板上に加熱圧着して貼着する方
法等が好適である。
In addition, when using a solid resin composition, the method of attaching a dry film to the substrate by heat-pressing as described above is suitable.

しかしながら、未発明の記録ヘッドを形成するに際して
は、取扱い上で、あるいは厚さの制御が容易かつ正確に
できる点に於いて、固体状のフィルムタイプのものが便
利である。
However, when forming a recording head that has not yet been invented, a solid film type is convenient in terms of handling and the ability to easily and accurately control the thickness.

このようにして、樹脂硬化膜3Hによって最終的に液体
通路6−2及び液室6−1を構成する溝を形成した後、
第6図(a)及び第6図(b)に示すように、溝の覆い
となる平板7を樹脂硬化膜3H上に接着剤に接合し、接
合体を形成する。
In this way, after forming the grooves that will finally constitute the liquid passage 6-2 and the liquid chamber 6-1 using the cured resin film 3H,
As shown in FIGS. 6(a) and 6(b), the flat plate 7 that covers the groove is bonded to the cured resin film 3H with an adhesive to form a bonded body.

第6図(a)及び第6図(b)に示した工程に於いて、
覆い7を付設する具体的な方法としては、例えばガラス
、セラミック、金属、プラスチック等の平板7にエポキ
シ樹脂系接着剤を厚さ3〜4鱗にスピンコードした後、
予備加熱して接着剤層を、いわゆるBステージ化させ、
これを硬化したドライフィルム3H上に貼り合わせた後
前記接着剤層を、本硬化させる等の方法があるが、アク
リル系樹脂、ABS樹脂、ポリエチレン等の熱可塑性樹
脂の平板7を樹脂硬化膜3H上に、直接、熱融着させる
等の接着剤を使用しない方法でも良い。
In the steps shown in FIG. 6(a) and FIG. 6(b),
A specific method for attaching the cover 7 is, for example, after applying an epoxy resin adhesive to a thickness of 3 to 4 scales on the flat plate 7 of glass, ceramic, metal, plastic, etc.,
The adhesive layer is preheated to a so-called B stage,
There is a method such as bonding this onto the cured dry film 3H and then curing the adhesive layer. A method that does not use an adhesive, such as directly heat-sealing the film, may also be used.

また、覆い7の液体通路と接合する側に、本発明におけ
る樹脂硬化膜形成用の樹脂組成物からなる樹脂層を設け
、これを液体通路を形成した樹脂硬化膜3Hと熱融着さ
せ、しかる後に活性エネルギー線を照射して加熱すると
いう方法、すなわち本発明における樹脂硬化膜形成用の
樹脂組成物を接着剤として用いる方法も好ましい。
Further, a resin layer made of the resin composition for forming a cured resin film according to the present invention is provided on the side of the cover 7 that is joined to the liquid passage, and this is heat-sealed to the cured resin film 3H forming the liquid passage. Also preferable is a method in which active energy rays are irradiated and heated afterwards, that is, a method in which the resin composition for forming a cured resin film of the present invention is used as an adhesive.

尚、第6図に於いて、6−1は液室、6−2は液体通路
、8は液室6−1に不図示の記録ヘッド、外部から内部
へ記録用液体を供給するための供給管(不図示)を連結
するための貫通孔を示す。
In FIG. 6, 6-1 is a liquid chamber, 6-2 is a liquid passage, 8 is a recording head (not shown) in the liquid chamber 6-1, and a supply for supplying recording liquid from the outside to the inside. A through hole is shown for connecting a tube (not shown).

このようにして、基板1上に設けられた樹脂硬化膜3H
と平板7との接合が完了した後、この接合体を第6図(
a)及び第6図(b)に示した液体通路6−2の下流側
にあたるc−c ′に添って切削して、切削面に於ける
液体通路の開口部である、記録用液体を吐出するための
オリフィスを形成する。
In this way, the cured resin film 3H provided on the substrate 1
After completing the joining of the and flat plate 7, this joined body is shown in Fig. 6 (
A) and along c-c' on the downstream side of the liquid passage 6-2 shown in FIG. form an orifice for

この工程は、吐出エネルギー発生素子2とオリフィス9
との間隔を適正化するために行なうものであり、ここで
切削する領域は適宜選択される。
This process involves the ejection energy generating element 2 and the orifice 9.
This is done to optimize the distance between the two, and the area to be cut here is selected as appropriate.

この切削に際しては、半導体工業で通常採用されている
ダイシング法等を採用することができる。
For this cutting, a dicing method or the like commonly employed in the semiconductor industry can be employed.

なお、本発明でいう液体通路下流部とは、記録ヘッドを
用いて記録を行なっている際の記録用液体の流れ方向に
於ける下流領域、具体的には、吐出エネルギー発生素子
2の設置位置より下流の液体通路の部分を言う。
Note that the downstream part of the liquid path in the present invention refers to the downstream region in the flow direction of the recording liquid when recording is performed using a recording head, specifically, the installation position of the ejection energy generating element 2. Refers to the part of the liquid passage further downstream.

切削が終了したところで、切削面を研磨して平滑化し、
貫通孔8に供給管10を取付けて第1図に示したような
液体噴射記録ヘッドを完成する。
Once cutting is complete, the cut surface is polished and smoothed.
A supply pipe 10 is attached to the through hole 8 to complete a liquid jet recording head as shown in FIG.

以上説明した例では、基板l上に樹脂硬化膜3Hを形成
した後、これに覆い7が接合されたが、覆い7の所定面
に樹脂硬化膜3Hを設けてから、これを基板l上に接合
しても良い、また先に説明した活性エネルギー線硬化型
樹脂組成物からなる部材から少なくとも液体通路ト2を
形成する溝に相当する部分を除去して、液体通路となる
溝を形成する樹脂硬化膜3Hと覆い7とが一体化されて
ともに該活性エネルギー線硬化型樹脂組成物から形成さ
れたものを形成し、これを基板上に接合して記録ヘッド
を形成しても良い。
In the example described above, after the cured resin film 3H was formed on the substrate l, the cover 7 was joined to it. A resin that may be joined or formed by removing at least a portion corresponding to the groove forming the liquid passage 2 from a member made of the active energy ray-curable resin composition described above to form the groove that will become the liquid passage. The cured film 3H and the cover 7 may be integrally formed from the active energy ray-curable resin composition, and this may be bonded onto a substrate to form a recording head.

また、以上に説明した記録ヘッドに於いては、液体通路
8−2と液室6−1が樹脂硬化膜3Hによって一体成形
されているが1本発明の記録ヘッドはこのような構造に
限定されるものではなく、液体通路と液室を別々に成形
したものでもよい、しかしながら、何れの構造を取る場
合においても、本発明の記録ヘッドは、液体通路を形成
する樹脂の少なくとも一部が、先に挙げた活性エネルギ
ー線硬化型樹脂組成物を用いて形成されたものである。
Further, in the recording head described above, the liquid passage 8-2 and the liquid chamber 6-1 are integrally molded by the cured resin film 3H, but the recording head of the present invention is not limited to such a structure. However, in either structure, in the recording head of the present invention, at least a part of the resin forming the liquid passage may be formed by molding the liquid passage and the liquid chamber separately. It is formed using the active energy ray-curable resin composition listed in .

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の液体噴射記録ヘッドは、該ヘッドの構成部材で
ある活性エネルギー線硬化型樹脂組成物として、該組成
物に必須成分として含有されたエポキシ樹脂(ii)と
ルイス酸を発生する重合開始剤(iii)とによって主
に付与されたパターン形成材料としての活性エネルギー
線に対する非常に優れた感度と解像度を有するものを用
いたものであり、該活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
を用いることによって、寸法精度に優れた液体噴射記録
ヘッドを歩留り良く得ることが可能になった。
The liquid jet recording head of the present invention includes an active energy ray-curable resin composition that is a component of the head, and an epoxy resin (ii) contained as an essential component in the composition and a polymerization initiator that generates a Lewis acid. (iii) The pattern forming material mainly provided by the method uses a pattern forming material that has very excellent sensitivity and resolution to active energy rays, and by using the active energy ray curable resin composition, It has become possible to obtain a liquid jet recording head with excellent dimensional accuracy at a high yield.

また、本発明に用いる樹脂硬化膜形成用の活性エネルギ
ー線硬化型樹脂組成物は、必須成分としてのグラフト共
重合高分子(i)及びエポキシ樹脂(ii)の特性が有
効に活されており、すなわち本発明の樹脂組成物は、主
に、グラフト共重合高分子(i)によって付与される優
れた支持体との密着性及び機械的強度に加えて、主に、
エポキシ樹脂(ii)によって付与される優れた耐薬品
性及び寸法安定性とを有しており、該組成物を用いるこ
とによって長期の耐久性を有する記録ヘッドを得ること
も可能になった。
In addition, the active energy ray-curable resin composition for forming a cured resin film used in the present invention effectively utilizes the characteristics of the graft copolymer polymer (i) and the epoxy resin (ii) as essential components. That is, the resin composition of the present invention mainly has, in addition to excellent adhesion to the support and mechanical strength provided by the graft copolymer polymer (i),
The epoxy resin (ii) has excellent chemical resistance and dimensional stability, and by using this composition, it has become possible to obtain a recording head with long-term durability.

更に、硬化性を有するグラフト共重合高分子を用いた活
性エネルギー線硬化型樹脂組成物を使用した場合には、
上記密着性1機械的強度あるいは耐薬品性が特に優れた
液体噴射記録ヘッドを得ることが可能である。
Furthermore, when using an active energy ray-curable resin composition using a graft copolymer polymer having curability,
It is possible to obtain a liquid jet recording head that has particularly excellent adhesion 1 mechanical strength or chemical resistance.

〔実施例〕〔Example〕

以下、合成例および実施例により本発明を更に詳細に説
明する。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Synthesis Examples and Examples.

合成例1 アニオン重合法で得られるリビングポリマー(2−ヒド
ロキシエチルメタアクリレート/ブチルアクリレート(
=80/20重量比))とp−ビニルベンジルクロリド
とを反応させて、分子鎖の片末端にビニル基を持つ重量
平均分子量約1800のマクロモノマー(p−ビニルベ
ンジルポリ−2−ヒドロキシエチルメタアクリレート/
ブチルアクリレート)を得た。このマクロモノマー30
重量部とメチルメタアクリレート70重量部をメチルセ
ロソルブ中で溶液重合し、重量平均分子量?、OX 1
04の熱可塑性のグラフト共重合高分子(これをGP−
1とする)を得た。なおこのGP−1の主鎖を構成する
ポリメチルメタクリレート鎖のガラス転移温度は100
℃である。
Synthesis Example 1 Living polymer obtained by anionic polymerization method (2-hydroxyethyl methacrylate/butyl acrylate (
= 80/20 weight ratio)) and p-vinylbenzyl chloride to form a macromonomer (p-vinylbenzyl poly-2-hydroxyethyl meth) with a weight average molecular weight of about 1800 having a vinyl group at one end of the molecular chain Acrylate/
butyl acrylate) was obtained. This macromonomer 30
part by weight and 70 parts by weight of methyl methacrylate were solution polymerized in methyl cellosolve to obtain a weight average molecular weight of ? ,OX1
04 thermoplastic graft copolymer polymer (this is GP-
1) was obtained. The glass transition temperature of the polymethyl methacrylate chain that constitutes the main chain of GP-1 is 100
It is ℃.

このGP−1を用い、下記組成の活性エネルギー線硬化
型樹脂組成物を調製した。
Using this GP-1, an active energy ray-curable resin composition having the following composition was prepared.

G P −1100重量部 エピコート1001農1         50  /
/エピコート1521         20〃七ロキ
サイド2021本3      30 〃トリフェニル
スルホニウム テトラフルオロポレート      10〃クリスタル
バイオレツト       Q 、 5 ttハイドロ
キノン          Q 、2 ttトルエン 
           100  ttメチルエチルケ
トン       200  tt月:油化シェルエポ
キシ(株)製のビスフェノールAタイプのエポキシ樹脂 エポキシ当量、450〜500 籾:油化シェルエポキシ(株)製のタレゾールノポラフ
クタイプのエポキシ樹脂 エポキシ当量、172〜178 零3:ダイセル化学(株)製の脂環タイプのエポキシ樹
脂 エポキシ当量、128〜145 この組成物を16鱗のポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(ルミラーTタイプ)に乾燥後の厚さが75−とな
るようにバーコーターで塗布した。その上に25JJj
のポリエチレンフィルムを加圧ラミネートすることによ
り塗膜を保護し、これを以後の本発明の記録ヘッドの形
成に使用した。
G P-1100 parts by weight Epicoat 1001 Agricultural 1 50 /
/ Epicote 1521 20 Heptoxide 2021 3 30 Triphenylsulfonium tetrafluoroporate 10 Crystal Violet Q, 5 tt Hydroquinone Q, 2 tt Toluene
100 tt Methyl ethyl ketone 200 tt Month: Bisphenol A type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. Epoxy equivalent, 450-500 Rice: Epoxy equivalent of Talezol Nopofuku type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. , 172-178 Zero 3: Alicyclic type epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.Epoxy equivalent, 128-145 This composition was applied to a 16-scale polyethylene terephthalate film (Lumirror T type) with a dry thickness of 75- It was applied with a bar coater so that 25JJj on top of that
The coating film was protected by pressure lamination with a polyethylene film, and this was used in the subsequent formation of the recording head of the present invention.

合成例2 アニオン重合法で得られるリビングポリマー(N−メチ
ロールメタクリルアミド/2−ヒドロキシエチルメタア
クリレート(=30770重量比))とp−ビニルベン
ジルクロリドとを反応させて1分子鎖の片末端にビニル
基を持つ重量平均分子量約1500のマクロモノマー(
p−ビニルベンジルポリ−N−メチロールメタクリルア
ミド/2−ヒドロキシエチルメタアクリレート)を得た
Synthesis Example 2 A living polymer (N-methylol methacrylamide/2-hydroxyethyl methacrylate (=30770 weight ratio)) obtained by anionic polymerization is reacted with p-vinylbenzyl chloride to form a vinyl polymer at one end of one molecular chain. A macromonomer with a weight average molecular weight of about 1500 having a group (
p-vinylbenzyl poly-N-methylol methacrylamide/2-hydroxyethyl methacrylate) was obtained.

コノマクロモノマー30重量部とメチルメタアクリレー
ト70重量部をメチルセロソルブ中で溶液重合し1重量
平均分子量7.7X 104で熱架橋性を有するグラフ
ト共重合高分子(これをCP−2とする)を得た。なお
このGP−2の主鎖を構成するポリメチルメタクリレー
ト鎖のガラス転移温度は100℃である。このGP−2
を用い、下記組成の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
を調製した。
30 parts by weight of conomacro monomer and 70 parts by weight of methyl methacrylate were solution-polymerized in methyl cellosolve to obtain a graft copolymer polymer (this will be referred to as CP-2) having a weight average molecular weight of 7.7×104 and having thermal crosslinkability. Obtained. Note that the glass transition temperature of the polymethyl methacrylate chain constituting the main chain of GP-2 is 100°C. This GP-2
An active energy ray-curable resin composition having the following composition was prepared using:

G P −21130重量部 エピコート828第4         2o 〃セロ
キサイド2021         20  ttジフ
ェニルヨードニウム テトラフルオロポレート      5  ttパラト
ルエンスルホン酸       4 〃クリスタルバイ
オレット       Q 、 5 //ハイドロキノ
ン           0.1111,1.1−1リ
クロルエタン      200  /1メチルセロソ
ルブ        200  //草4:油化シェル
エポキシ(株)製のビスフェノールAタイプのエポキシ
樹脂 エポキシ当量、183〜193 この組成物を16μのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(ルミラーTタイプ)に乾燥後の厚さが75μsと
なるようにバーコーターで塗布した。その上に25鱗の
ポリエチレンフィルムを加圧ラミネートすることにより
塗膜を保護し1、これを以後の本発明の記録ヘッドの形
成に使用した。
GP-21130 parts by weight Epicoat 828 No. 4 2o Celoxide 2021 20 tt Diphenyliodonium tetrafluoroporate 5 tt Para-toluenesulfonic acid 4 Crystal Violet Q, 5 //Hydroquinone 0.1111,1.1-1 Lichloroethane 200 /1 Methyl cellosolve 200 // Grass 4: Bisphenol A type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. Epoxy equivalent, 183-193 This composition was applied to a 16 μm polyethylene terephthalate film (Lumirror T type) with a dry thickness of The coating time was 75 μs using a bar coater. The coating film was protected by laminating 25 scales of polyethylene film thereon under pressure (1), and this was subsequently used to form the recording head of the present invention.

合成例3 アニオン重合法で得られるリビングポリマー(ブトキシ
メチルアクリルアミド/2−ヒドロキシエチルメタアク
リレ−) (=7G/30重量比))とアクリル酸クロ
リドとを反応させて、分子鎖の片末端にビニル基を持つ
重量平均分子量約3000のマクロ七ツマ−(アクリル
酸ポリブトキシメチルアクリルアミド/2−ヒドロキシ
エチルメタアクリレート)を得た。
Synthesis Example 3 A living polymer (butoxymethylacrylamide/2-hydroxyethylmethacrylate (=7G/30 weight ratio)) obtained by anionic polymerization method is reacted with acrylic acid chloride to form a polymer at one end of the molecular chain. A macro-septumer (polybutoxymethylacrylamide acrylate/2-hydroxyethyl methacrylate) having a vinyl group and a weight average molecular weight of about 3000 was obtained.

このマクロ七ツマー25重量部、メチルメタアク1yレ
ート?Qi量部およびアクリロニトリル5重量部をメチ
ルセロソルブ中で重合し、重量平均分子量e、axto
4の熱架橋性を有するグラフト共重合高分子(これをG
P−4とする)を得た。なおこのGP−4の主鎖を構成
するポリメチルメタクリレート鎖とポリアクリロニトリ
ル鎖の共重合鎖のガラス転移温度は105℃である。こ
のGP−4を用い、下記組成の活性エネルギー線硬化型
樹脂組成物を調製した。
25 parts by weight of this macro 7mer, methyl methacrylate? Parts of Qi and 5 parts of acrylonitrile were polymerized in methyl cellosolve to obtain a weight average molecular weight e, axto
Graft copolymer polymer having thermal crosslinking property of No. 4 (G
P-4) was obtained. Note that the glass transition temperature of the copolymer chain of polymethyl methacrylate chain and polyacrylonitrile chain constituting the main chain of GP-4 is 105°C. Using this GP-4, an active energy ray-curable resin composition having the following composition was prepared.

G P −440重量部 エピクロン828           80  //
エピクロンN−730本7         80 1
1トリフエニルスルフオニウム テトラフルオロボレー)       12//パラト
ルエンスルホン酸       41/クリスタルバイ
オレツト       Q 、 5 ttハイドロキノ
ン          Q 、l //メチルセロソル
ブ        300〃エタノール       
     50  II零7:大日本インキ化学工業(
株)製のフェノールノボラックタイプのエポキシ樹脂 エポキシ当量、170〜180 この組成物を厚さ18μsのポリエチレンテレフタレー
トフィルム(ルミラーTタイプ)に乾燥後の厚さが75
−となるようにバーコーターで塗布し、これを100℃
で、10分間乾燥することにより、膜厚75−の活性エ
ネルギー線硬化型樹脂組成物層を有するドライフィルム
を形成し、以後の本発明の記録ヘッドの形成に用いた。
GP-440 parts by weight Epicron 828 80 //
Epicron N-730 7 80 1
1 triphenylsulfonium tetrafluorobore) 12//para-toluenesulfonic acid 41/crystal violet Q, 5 tthydroquinone Q, l //methyl cellosolve 300〃ethanol
50 II Zero 7: Dainippon Ink Chemical Industry (
Phenol novolac type epoxy resin manufactured by Co., Ltd. Epoxy equivalent: 170 to 180 This composition was coated on a polyethylene terephthalate film (Lumirror T type) with a thickness of 18 μs to a thickness of 75 μs after drying.
- coated with a bar coater and heated to 100°C.
By drying for 10 minutes, a dry film having an active energy ray-curable resin composition layer having a thickness of 75 mm was formed, which was used in the subsequent formation of the recording head of the present invention.

合成例4 合成例1で得られた熱可塑性のグラフト共重合高分子G
P−1を用い、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が下
記組成となるように調整する以外は、合成例1と同様に
して、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物層を有するド
ライフィルムを形成し、以後の本発明の記録ヘッドの形
成に用いた。
Synthesis Example 4 Thermoplastic graft copolymer polymer G obtained in Synthesis Example 1
A dry film having an active energy ray curable resin composition layer was formed in the same manner as in Synthesis Example 1, except that P-1 was used and the active energy ray curable resin composition was adjusted to have the following composition. , which was subsequently used in the formation of the recording head of the present invention.

G P −1100重量部 エピコート828          80  tpエ
ピコート1001         50  //セロ
キサイド2021        40  //トリフ
ェニルスルフオニウム ヘキサフルオロアンチモン   lO〃パラトルエンス
ルホン酸      4  〃クリスタルバイオレット
      Q、5ttハイドロキノン       
   0.1〃メチルセロンルブ        35
0  tt合合成例 会成例2で得られた熱架橋性を有するグラフト共重合高
分子GP−2を用い、活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物が下記組成となるように調整する以外は、合成例2と
同様にして、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物層を有
するドライフィルムを形成し、以後の本発明の記録ヘッ
ドの形成に用いた。
G P-1100 parts by weight Epicote 828 80 tp Epicote 1001 50 // Celoxide 2021 40 // Triphenylsulfonium hexafluoroantimony lO Paratoluenesulfonic acid 4 Crystal Violet Q, 5tt Hydroquinone
0.1〃Methylceronlube 35
Synthesis Example except that the graft copolymer GP-2 having thermal crosslinkability obtained in Synthesis Example 2 was used and the active energy ray-curable resin composition was adjusted to have the following composition. A dry film having an active energy ray-curable resin composition layer was formed in the same manner as in Example 2, and used in the subsequent formation of the recording head of the present invention.

G P −2100重量部 エビコー)1001         100  //
ジフェニルヨードニウム テトラフルオロポレート     1011パラトルエ
ンスルホン酸      4  ttクリスタルバイオ
レット      0.5//ハイドロキノン    
      0.1//メチルセロソルブ      
  350〃実施例1 合成例1で製造したドライフィルムを用い、先に明細書
中で説明した第1図〜第6図の工程に従って、吐出エネ
ルギー発生素子として発熱素子[ハフニウムポライド(
HfB2) 110個のオリフィス(オリフィス寸法;
75QX50騨、ピッチ0.1251m)を有するオン
デマンド型液体噴射記録ヘッドの作成を以下のようにし
て実施した。尚、記録ヘッドは、同形状のものを各30
個宛試作した。
G P-2100 parts by weight Ebiko) 1001 100 //
Diphenyliodonium tetrafluoroporate 1011 para-toluenesulfonic acid 4 tt crystal violet 0.5//hydroquinone
0.1//Methyl cellosolve
350 Example 1 Using the dry film produced in Synthesis Example 1, a heating element [hafnium polide (
HfB2) 110 orifices (orifice dimensions;
An on-demand liquid jet recording head having a diameter of 75Q x 50 mm and a pitch of 0.1251 m was fabricated as follows. In addition, the recording head has the same shape as each 30
I made a prototype for individual use.

まず、シリコンからなる基板上に発熱素子の複数を所定
の位置に配設し、これらに記録信号印加用電極を接続し
た。
First, a plurality of heating elements were arranged at predetermined positions on a substrate made of silicon, and recording signal application electrodes were connected to these heating elements.

次に、発熱素子が配設された基板面上に保護膜としての
5i02層(厚さ1.0μs)を設け、保護層の表面を
清浄化すると共に乾燥させた後、保護層に重ねて、80
°Cに加温された合成例1で得たフィルムを、該フィル
ム上に設けられたポリエチレンフィルムを剥がしながら
ホットロール式ラミネータ(商品名HRL−24,デュ
ポン(株)社製)を用い、ロール温度80℃、1m/s
inの速度、I Kg/cm2の加圧条件下でラミネー
トした。なお、この状態で、基板上にラミネートされた
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物からなる層上には、
ポリエチレンテレフタレートフィルムがmeさhている
Next, a 5i02 layer (thickness: 1.0 μs) as a protective film is provided on the substrate surface on which the heating element is arranged, and after cleaning and drying the surface of the protective layer, it is stacked on the protective layer. 80
The film obtained in Synthesis Example 1 heated to Temperature 80℃, 1m/s
The lamination was carried out at a speed of 1 kg/cm 2 and a pressure of 1 kg/cm 2 . In this state, on the layer made of the active energy ray-curable resin composition laminated on the substrate,
Polyethylene terephthalate film is used.

続いて、基板面上に設けたドライフィルム上に、液体通
路及び液室の形状に対応したパターンを有するフォトマ
スクを重ね合わせ、最終的に形成される液体通路中に上
記素子が設けられるように位置合せを行なった後、この
フォトマスクの上部から照射表面での照度が8 mW/
cm2のディープUVランプを用いた露光光源(商品名
、PLA−501、キャノン■社製)を用いて150秒
間ドライフィルムを露光した。
Next, a photomask having a pattern corresponding to the shape of the liquid passage and the liquid chamber is superimposed on the dry film provided on the substrate surface, so that the above-mentioned element is provided in the liquid passage that is finally formed. After alignment, the illuminance at the irradiation surface from the top of this photomask is 8 mW/
The dry film was exposed for 150 seconds using an exposure light source (trade name: PLA-501, manufactured by Canon ■) using a cm2 deep UV lamp.

露光後、パターン露光された活性エネルギー線硬化型樹
脂組成物からなる層(ドライフィルム)上カラポリエチ
レンテレフタレートフィルムを剥がし、露光済みのドラ
イフィルムを、1,1.1−トリクロルエタン/エタノ
ール(=70/30重量比)の混合液を用いた超音波洗
浄機中で、35℃、60秒間の現像処理を行ない、ドラ
イフィルムの未重合(未硬化)部分を基板上から溶解除
去して、基板上に残存した硬化ドライフィルム膜によっ
て最終的に液体通路及び液室となる溝を形成した。
After exposure, the layer (dry film) made of the pattern-exposed active energy ray-curable resin composition was peeled off, and the colored polyethylene terephthalate film was peeled off, and the exposed dry film was treated with 1,1.1-trichloroethane/ethanol (=70 /30 weight ratio) in an ultrasonic cleaning machine at 35°C for 60 seconds to dissolve and remove the unpolymerized (uncured) portion of the dry film from the substrate. The remaining cured dry film formed grooves that would eventually become liquid passages and liquid chambers.

現像処理を終了した後、基板上の硬化ドライフィルム膜
を、80℃で1時間加熱し、更に、これにlOJ/C1
12の後露光を実施した後、ieo℃で60分間加熱し
て、更に十分に硬化させた。
After finishing the development process, the cured dry film film on the substrate was heated at 80°C for 1 hour, and then lOJ/C1
After performing 12 post-exposures, the film was heated at IEO° C. for 60 minutes to further cure the film sufficiently.

このようにして、硬化ドライフィルム膜によって液体通
路及び液室となる溝を基板上に形成した後、形成した溝
の覆いとなるソーダガラスからなる貫通孔の設けられた
平板にエポキシ系樹脂接着剤を厚さ3騨にスピンコード
した後、予備加熱してBステージ化させ、これを硬化し
たドライフィルム上に貼り合わせ、更に、接着剤を本硬
化させて接着固定し、接合体を形成した。
In this way, grooves that will become liquid passages and liquid chambers are formed on the substrate using the cured dry film film, and then an epoxy resin adhesive is applied to a flat plate with through holes made of soda glass that will cover the formed grooves. After spin-cording to a thickness of 3 mm, it was preheated to B-stage, bonded to a cured dry film, and then the adhesive was fully cured and fixed to form a bonded body.

続いて、接合体の液体通路の下流側、すなわち吐出エネ
ルギー発生素子の設置位置から下流側へ0.150 +
a+iのところを液体通路に対して垂直に、重版のダイ
シング・ソー(商品名、 [lAD 2H/e型、DI
SCO社製)を用いて切削し、記録用液体を吐出するた
めのオリフィスを形成した。
Subsequently, 0.150+
Place a reprinted dicing saw (trade name, [lAD 2H/e type, DI
(manufactured by SCO Corporation) to form an orifice for discharging recording liquid.

最後に、切削面を洗浄したのち乾燥させ、更に、切削面
を研磨して平滑化し、貫通孔に記録用液体の供給管を取
付けて液体噴射記録ヘッドを完成した。得られた記録ヘ
ッドは、何れもマスクパターンを忠実に再現した液体通
路及び液室を有する寸法精度に優れたものであった。ち
なみに、オリフィス寸法は、50± 5鱗、オリフィス
ピッチは、125±5μsの範囲にあった。
Finally, the cut surface was cleaned and dried, and the cut surface was polished to make it smooth, and a recording liquid supply pipe was attached to the through hole to complete the liquid jet recording head. The resulting recording heads all had liquid passages and liquid chambers that faithfully reproduced the mask pattern, and had excellent dimensional accuracy. Incidentally, the orifice size was in the range of 50±5 scales, and the orifice pitch was in the range of 125±5 μs.

このようにして試作した記録へ一2ドの品質及び長期使
用に際しての耐久性を以下のようにして試験した。
The quality and durability of the thus prototyped recorder during long-term use were tested in the following manner.

まず、得られた記録ヘッドについて、次の各組成からな
る記録用液体中に、60℃で1000時間浸漬処理(記
録ヘッドの長期使用時に匹敵する環境条件)する耐久試
験を実施した。
First, the obtained recording head was subjected to a durability test in which it was immersed in a recording liquid having the following composition at 60° C. for 1000 hours (environmental conditions comparable to those during long-term use of the recording head).

記録用液体成分 1)H20/エチレングリコール/ジエチレングリコー
ル/プロピレングリコール/ G、1. !イレクトブ
ラック154 ’ l /エマルケン931 ”(=8
4/201515/810.2重量部) pH−8,0
2)H20/ )リエチレングリコール/グリセリン/
c、 t 、フードブラック2” 2 /エマルダン8
31’ 4 /PVP K−30” 5 (−80/15/2/310.110.1重量部) p
H−9,03)H20/エチレングリコール/ジエチレ
ングリコール/ポリエチレングリコール#300/トメ
チル−2−ピロリドン/C,1,フードブラック 2″
2/エマルゲン931″4 (= 55710/2G15151510.2重量部)
 pH−7,04)H20/ジエチレングリコール/ポ
リエチレングリコール#200 /1,3−ジメチル−
2−イミダゾリジノン/C。1.ダイレクトブルー88
″3/エマルゲy831 ” /PVP K−30”(
−62/15/1515/310.110.1重量部)
 pH−10,0尚、注)141〜′3は、水溶性染料
であり。
Recording liquid component 1) H20/ethylene glycol/diethylene glycol/propylene glycol/G, 1. ! Electric Black 154'l/Emarken 931'' (=8
4/201515/810.2 parts by weight) pH-8.0
2) H20/ ) Liethylene glycol/Glycerin/
c, t, hood black 2” 2/emaldan 8
31' 4 /PVP K-30" 5 (-80/15/2/310.110.1 parts by weight) p
H-9,03) H20/ethylene glycol/diethylene glycol/polyethylene glycol #300/tomethyl-2-pyrrolidone/C,1, food black 2″
2/Emulgen 931″4 (= 55710/2G15151510.2 parts by weight)
pH-7,04) H20/diethylene glycol/polyethylene glycol #200/1,3-dimethyl-
2-imidazolidinone/C. 1. direct blue 88
``3/Emaruge y831''/PVP K-30'' (
-62/15/1515/310.110.1 parts by weight)
pH-10.0 Note: 141 to '3 are water-soluble dyes.

pHの調整には、カセイソーダを用いた。また。Caustic soda was used to adjust the pH. Also.

H4は商品名であり、花王石鹸■社製のポリオキシエチ
レンノニルフェニルエーテル、′45は商品名であり、
米国GAF社製のポリビニルピロリドンである。
H4 is the product name, polyoxyethylene nonylphenyl ether manufactured by Kao Soap Company, '45 is the product name,
Polyvinylpyrrolidone manufactured by GAF, USA.

耐久試験後、該試験を実施した各ヘッドにつき基板及び
覆いと硬化ドライフィルム膜の接合状態を観察した結果
、すべての記録ヘッドにおいて剥離や損傷は全く認めら
れず、良好な密着性を示していた。
After the durability test, we observed the state of bonding between the substrate and cover and the cured dry film for each head tested, and found that no peeling or damage was observed in any of the recording heads, indicating good adhesion. .

次いでこれとは別に、得られた記録ヘッドの10個につ
いて、各ヘッドを記録装置に取付け、前記の記録用液体
を用いて10”パルスの記録信号を14時間連続的に記
録ヘッドに印加して印字を行なう印字試験を実施した。
Separately, each of the 10 recording heads obtained was attached to a recording device, and a recording signal of 10'' pulse was continuously applied to the recording head for 14 hours using the recording liquid. A printing test was conducted.

何れの記録ヘッドに関しても、印字開始直後と14時間
経過後において、記録用液体の吐出性能及び印字状態共
に性能の低下が殆ど認められず、耐久性に優れた記録ヘ
ッドであった。
With respect to any of the recording heads, almost no deterioration in performance was observed in both recording liquid ejection performance and printing condition immediately after printing started and after 14 hours had elapsed, indicating that the recording heads had excellent durability.

実施例2 合成例2で製造したドライフィルムを用いる以外は実施
例1と同様にして液体噴射記録ヘッドの作成を実施した
Example 2 A liquid jet recording head was produced in the same manner as in Example 1 except that the dry film produced in Synthesis Example 2 was used.

更に作成した記録ヘッドのそれぞれについて実施例1と
同様の耐久試験及び印字試験を行なった。
Furthermore, the same durability test and printing test as in Example 1 were conducted for each of the produced recording heads.

耐久試験後、該試験を実施した各ヘッドにつき基板及び
覆いと硬化ドライフィルム膜の接合状態を観察した結果
、すべての記録ヘッドにおいて剥離や損傷は全く認めら
れず、良好な密着性を示していた。
After the durability test, we observed the state of bonding between the substrate and cover and the cured dry film for each head tested, and found that no peeling or damage was observed in any of the recording heads, indicating good adhesion. .

また、印字試験においても、何れの記録ヘッドに関して
も、印字開始直後と14時間経過後に、記録用液体の吐
出性能及び印字状態共に性能の低下は殆ど認められず、
何れの記録ヘッドも耐久性に優れたものであった。
In addition, in printing tests, there was almost no decline in the performance of any recording head, both in the recording liquid ejection performance and the printing condition, both immediately after printing started and after 14 hours.
All recording heads had excellent durability.

実施例3 合成例3で製造したドライフィルムを用い、これをホッ
トロール式ラミネータ(商品名HRL−24、デュポン
(株)社製)を用い、ロール温度80℃、ロール圧IK
g/c層2、ラミネートスピード1層/sinで基板上
にラミネートした後、露光光源として高圧水銀灯を用い
て、照射表面において2541層近傍の照度が34■−
/CC10なるようにパターン露光を行ない、更にパタ
ーン露光された活性エネルギー線硬化型樹脂組成物から
なる層(ドライフィルム)上からポリエチレンテレフタ
レートフィルムを剥がしてから、これを1.1.1−ト
リクロルエタン/ブチルセロソルブ(−70/30重i
L比)の混合液を、35℃で80秒間スプレーすること
によって現像処理てから、基板上の硬化ドライフィルム
膜を80℃で10分間加熱し、次に10J/cm2の後
露光を実施した後、 50℃で80分間加熱して、更に
十分に硬化させる以外は、実施例1と同様にして液体噴
射記録ヘッドの作成を実施した。
Example 3 Using the dry film produced in Synthesis Example 3, it was heated using a hot roll laminator (trade name: HRL-24, manufactured by DuPont Co., Ltd.) at a roll temperature of 80°C and a roll pressure of IK.
After laminating the g/c layer 2 on the substrate at a lamination speed of 1 layer/sin, using a high-pressure mercury lamp as the exposure light source, the illuminance near the 2541 layer on the irradiated surface was 34 -
/CC10, and then the polyethylene terephthalate film was peeled off from the pattern-exposed layer (dry film) made of the active energy ray-curable resin composition, and then exposed to 1.1.1-trichloroethane. /butyl cellosolve (-70/30 heavy i
L ratio) was developed by spraying it at 35°C for 80 seconds, and then the cured dry film film on the substrate was heated at 80°C for 10 minutes, followed by post-exposure at 10 J/cm2. A liquid jet recording head was produced in the same manner as in Example 1, except that it was heated at 50° C. for 80 minutes to further cure it sufficiently.

更に作成した記録ヘッドのそれぞれについて実施例1と
同様の耐久試験及び印字試験を行なった。
Furthermore, the same durability test and printing test as in Example 1 were conducted for each of the produced recording heads.

耐久試験後、該試験を実施した各ヘッドにつき基板及び
覆いと硬化ドライフィルム膜の接合状態を観察した結果
、すべての記録ヘッドにおいて剥離や損傷は全く認めら
れず、良好な密着性を示していた。
After the durability test, we observed the state of bonding between the substrate and cover and the cured dry film for each head tested, and found that no peeling or damage was observed in any of the recording heads, indicating good adhesion. .

また、印字試験においても、何れの記録ヘッドに関して
も、印字開始直後と14時間経過後に、記録用液体の吐
出性能及び印字状態共に性能の低下は殆ど認められず6
、何れの記録ヘッドも耐久性に優れたものであった。
In addition, in printing tests, there was almost no decline in the performance of any recording head, both in the recording liquid ejection performance and the printing condition, both immediately after printing started and after 14 hours.
Both recording heads had excellent durability.

実施例4及び5 合成例4及び5で得られたドライフィルムを個々に用い
る以外は、実施例1と同様にして液体噴射記録ヘッドの
作成を実施した。
Examples 4 and 5 A liquid jet recording head was produced in the same manner as in Example 1, except that the dry films obtained in Synthesis Examples 4 and 5 were used individually.

更に作成した記録ヘッドのそれぞれについて実施例1と
同様の耐久試験及び印字試験を行なった。
Furthermore, the same durability test and printing test as in Example 1 were conducted for each of the produced recording heads.

耐久試験後、該試験を実施した各ヘッドにつき基板及び
覆いと硬化ドライフィルム膜の接合状態を観察した結果
、すべての記録ヘッドにおいて剥離や損傷は全く認めら
れず、良好な密着性を示していた。
After the durability test, we observed the state of bonding between the substrate and cover and the cured dry film for each head tested, and found that no peeling or damage was observed in any of the recording heads, indicating good adhesion. .

また、印字試験においても、何れの記録ヘッドに関して
も、印字開始直後と14時間経過後に、記録用液体の吐
出性能及び印字状態共に性能の低下は殆ど認められず、
何れの記録ヘッドも耐久性に優れたものであった。
In addition, in printing tests, there was almost no decline in the performance of any recording head, both in the recording liquid ejection performance and the printing condition, both immediately after printing started and after 14 hours.
All recording heads had excellent durability.

比較例 膜厚75μsの市販のドライフィルムVacrel (
ドライフィルムソルダーマスクの商品名、デュポンド・
ネモアース■製)、および膜厚50鱗の市販のドライフ
ィルムPhotec 5R−3000(商品名、日立化
成工業■製)を用いる以外は、実施例1と同様にして、
記録ヘッドを作成した。
Comparative Example A commercially available dry film Vacrel (with a film thickness of 75 μs)
Product name of dry film solder mask, DuPont
In the same manner as in Example 1, except that a commercially available dry film Photec 5R-3000 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) with a film thickness of 50 scales was used.
Created a recording head.

これらの記録ヘッドについて、実施例1と同様の耐久性
試験を実施した。
A durability test similar to that in Example 1 was conducted on these recording heads.

耐久性試験の経過中、ドライフィルムとしてVacre
lを用いた場合は、100時間で2)および4)の記録
用液体で剥離が認められた。また、300時間で、1)
および3)の記録用液体で剥離が認められた。
During the course of the durability test, Vacre was used as a dry film.
When 1 was used, peeling was observed in recording liquids 2) and 4) after 100 hours. Also, in 300 hours, 1)
and 3) Peeling was observed with the recording liquid.

一方、ドライフィルムとしテPhotec 5R−30
00を用いた場合は、1)〜4)の各記録用液体で30
0時間で剥離が認められた。
On the other hand, the dry film Phototec 5R-30
When using 00, each recording liquid from 1) to 4)
Peeling was observed at 0 hours.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第6図は本発明の液体噴射記録ヘッドならびに
その製造方法を説明するための模式図である。 に基板 2:吐出エネルギー発生素子 3:樹脂層 3H:樹脂硬化膜 4:フォトマスク 4P:マスクパターン 6−1=液室 6−2:液体通路 7:覆い 8:貫通孔 9ニオリフイス lO:供給管 (a) (b) ′IPJ1図 第2図 (?1) (b)     ゛ 第6図
1 to 6 are schematic diagrams for explaining the liquid jet recording head of the present invention and its manufacturing method. Substrate 2: Discharge energy generating element 3: Resin layer 3H: Cured resin film 4: Photomask 4P: Mask pattern 6-1 = Liquid chamber 6-2: Liquid passage 7: Cover 8: Through hole 9 Niorifice 1O: Supply pipe (a) (b) 'IPJ1 Figure Figure 2 (?1) (b) 'Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)基板面に設けられ、液体の吐出口に連通する液体通
路が、活性エネルギー線によって硬化する樹脂組成物の
層に、該活性エネルギー線を用いた所定のパターン露光
を為して前記樹脂組成物の硬化領域を形成し、該層から
未硬化領域を除去して形成されている液体噴射記録ヘッ
ドであって、前記樹脂組成物が (i)アルキルメタアクリレート、アクリロニトリルお
よびスチレンからなる群より選ばれた一種以上のモノマ
ーに由来する構造単位を主体とする幹鎖に、(A)水酸
基含有アクリルモノマー、(B)アミノもしくはアルキ
ルアミノ基含有アクリルモノマー、(C)カルボキシル
基含有アクリルもしくはビニルモノマー、(D)N−ビ
ニルピロリドンもしくはその誘導体、(E)ビニルピリ
ジンもしくはその誘導体および(F)下記一般式 I で
表わされるアクリルアミド誘導体からなる群より選ばれ
た一種以上のモノマーに由来する構造単位を主体とする
枝鎖が付加されてなるグラフト共重合高分子と、 ▲数式、化学式、表等があります▼−−−( I ) (ただし、R^1は水素または炭素原子数が1〜3のア
ルキルもしくはヒドロキシアルキル基、R^2は水素ま
たは炭素原子数が1〜4のヒドロキシ基を有してもよい
アルキルもしくはアシル基を表わす。) (ii)分子内にエポキシ基を1個以上有する化合物の
少なくとも1種を含んでなるエポキシ樹脂と、 (iii)活性エネルギー線の照射によってルイス酸を
発生する重合開始剤 とを有してなるものであることを特徴とする液体噴射記
録ヘッド。 2)前記樹脂組成物が、前記(i)のグラフト共重合高
分子の含有量をG重量部、前記(ii)の樹脂の含有量
をE重量部としたとき、G/(G+E)が0.2〜0.
8の範囲にあるように、前記(i)のグラフト共重合高
分子及び前記(ii)の樹脂を含有し、且つ前記(ii
i)の重合開始剤を(G+E)の100重量部に対して
0.2〜15重量部の範囲で含有したものである特許請
求の範囲第1項に記載の液体噴射記録ヘッド。 3)前記(iii)の重合開始剤が芳香族ハロニウム塩
化合物、または周期率表第VIa族若しくは第Va族に属
する元素を含む光感知性を有する芳香族オニウム塩化合
物から成るものである特許請求の範囲第1項〜第2項の
いずれかに記載の液体噴射記録ヘッド。
[Claims] 1) A liquid passage provided on the substrate surface and communicating with a liquid discharge port exposes a layer of a resin composition that is cured by active energy rays in a predetermined pattern using active energy rays. A liquid jet recording head formed by forming a cured region of the resin composition and removing an uncured region from the layer, wherein the resin composition comprises (i) alkyl methacrylate, acrylonitrile and (A) a hydroxyl group-containing acrylic monomer, (B) an amino or alkylamino group-containing acrylic monomer, and (C) a carboxyl group in a backbone chain mainly composed of structural units derived from one or more monomers selected from the group consisting of styrene. containing acrylic or vinyl monomer, (D) N-vinylpyrrolidone or its derivative, (E) vinylpyridine or its derivative, and (F) one or more monomers selected from the group consisting of an acrylamide derivative represented by the following general formula I. Graft copolymer polymers with branched chains mainly derived from the structural units derived from them and is an alkyl or hydroxyalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R^2 represents an alkyl or acyl group that may have hydrogen or a hydroxy group having 1 to 4 carbon atoms.) (ii) An epoxy group in the molecule. A liquid injection comprising: an epoxy resin containing at least one compound having one or more compounds; and (iii) a polymerization initiator that generates a Lewis acid upon irradiation with active energy rays. recording head. 2) In the resin composition, when the content of the graft copolymer polymer in (i) is G parts by weight and the content of the resin in (ii) is E parts by weight, G/(G+E) is 0. .2~0.
8, contains the graft copolymer polymer of (i) and the resin of (ii), and
The liquid jet recording head according to claim 1, which contains the polymerization initiator i) in an amount of 0.2 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of (G+E). 3) A patent claim in which the polymerization initiator (iii) is composed of an aromatic halonium salt compound or a photosensitive aromatic onium salt compound containing an element belonging to Group VIa or Group Va of the Periodic Table. A liquid jet recording head according to any one of the ranges 1 to 2.
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DE86109444T DE3689090T2 (en) 1985-07-13 1986-07-10 Ink jet recording head.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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