JPS6216153A - Liquid jet recording head - Google Patents

Liquid jet recording head

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JPS6216153A
JPS6216153A JP15335785A JP15335785A JPS6216153A JP S6216153 A JPS6216153 A JP S6216153A JP 15335785 A JP15335785 A JP 15335785A JP 15335785 A JP15335785 A JP 15335785A JP S6216153 A JPS6216153 A JP S6216153A
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JP
Japan
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recording head
resin composition
liquid
active energy
jet recording
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JP15335785A
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Japanese (ja)
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JPH0444579B2 (en
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Hiromichi Noguchi
弘道 野口
Tadaki Inamoto
忠喜 稲本
Emi Munakata
棟方 恵美
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Canon Inc
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Publication of JPH0444579B2 publication Critical patent/JPH0444579B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C09D4/06Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00

Abstract

PURPOSE:To provide a precise liquid jet recording head excellent in durability, by using a specific resin composition in the preparation of the liquid jet recording head. CONSTITUTION:A liquid jet recording head is constituted by a method wherein predetermined pattern exposure using active energy rays is applied to the layer comprising a resin composition cured by active energy rays formed on a substrate to form the cured regions of the resin composition and uncured regions are removed from said layer to form liquid passages communicated with liquid emitting orifices to the surface of the substrate. Said resin composition consists of (i) a linear polyme of which the glass transition temp. is 50 deg.C or more and the wt. average MW is about 3.0X10<4> or more, (ii) an epoxy resin containing at least one of compounds each having one or more of an epoxy group in the molecule thereof and (iii) a polymerization initiator generating Lewis acid by the irradiation of active energy rays. By using this resin composition, a recording head excellent in the durability of each member and adhesion between members and having a resin cured film layer finely procesesed with good accuracy and excellent in recording characteristics and durability is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液体噴射記録ヘッド、詳しくは、インク等の
記録用液体の小滴を発生させ、それを紙などの被記録材
に付着させて記録を行なう液体噴射記録方式に用いる記
録用液体の小滴発生用の記録ヘッドに関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a liquid jet recording head, specifically, a liquid jet recording head that generates droplets of a recording liquid such as ink and attaches them to a recording material such as paper. The present invention relates to a recording head for generating small droplets of recording liquid used in a liquid jet recording method that performs recording.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

インク等の記録用液体の小滴を発生させ、それを紙など
の被記録材に付着させて記録を行なう液体噴射記録方式
は、記録時の騒音の発生が無視できる程度に極めて小さ
く、かつ高速記録が可能であり、しかも普通紙に定着な
どの特別な処理を必要とせずに記録を行なうことのでき
る記録方式として注目され、最近種々のタイプのものが
活発に研究されている。
The liquid jet recording method generates small droplets of recording liquid such as ink and attaches them to a recording material such as paper to perform recording, and the noise generated during recording is extremely small and can be ignored at high speed. It has attracted attention as a recording method that can record on plain paper without requiring any special processing such as fixing, and various types have recently been actively researched.

液体噴射記録方式に用いられる記録装置の記録ヘッド部
は、一般に、記録用液体を吐出するためのオリフィス(
液体吐出口)と、該オリフィスに連通し、記録用液体を
吐出するためのエネルギーが記録用液体に作用する部分
を有する液体通路と、該液体通路に供給する記録用液体
を貯留するための液室とを有して構成されている。
The recording head section of a recording device used in the liquid jet recording method generally has an orifice (
a liquid passage communicating with the orifice and having a portion where energy for ejecting the recording liquid acts on the recording liquid; and a liquid for storing the recording liquid to be supplied to the liquid passage. It is configured with a chamber.

記録の際に、記録用液体を吐出するためのエネルギーは
、液体通路の一部を構成する記録用液体に吐出エネルギ
ーを作用させる部分(エネルギー作用部)の所定の位置
に配設された発熱素子、圧電素子等の種々のタイプの吐
出エネルギー発生素子によって発生されるものが多い。
During recording, the energy for ejecting the recording liquid is generated by a heating element disposed at a predetermined position in a part (energy application part) that applies ejection energy to the recording liquid, which forms part of the liquid path. In many cases, ejection energy is generated by various types of ejection energy generating elements such as piezoelectric elements.

このような構成の液体噴射記録ヘッドを製造する方法と
しては1例えば、ガラス、金属等の平板に切削やエツチ
ング等によって、微細な溝を形成し、更にこの溝を形成
した平板に他の適当な板を接合して液体通路を形成する
工程を含む方法、あるいは例えば吐出エネルギー発生素
子の配置された基板上に硬化した感光性樹脂の溝壁をフ
ォトリソグラフィ一工程によって形成して、基板上に液
体通路となる溝を設け、このようにして形成された溝付
き板に、他の平板(覆い)を接合して液体通路を形成す
る工程を含む方法が知られている(例えば特開昭57−
43878号)。
One method for manufacturing a liquid jet recording head with such a configuration is to form fine grooves on a flat plate of glass, metal, etc. by cutting or etching, and then to form other suitable grooves on the flat plate with these grooves. A method that includes a step of bonding plates to form a liquid passage, or, for example, forming a groove wall of a cured photosensitive resin on a substrate on which an ejection energy generating element is arranged by a single photolithography step, and forming a liquid passage on the substrate. A method is known that includes a step of providing a groove to serve as a passage, and joining another flat plate (cover) to the thus formed grooved plate to form a liquid passage (for example, Japanese Patent Application Laid-open No. 1983-1999)
No. 43878).

これらの液体噴射記録ヘッドの製造方法のなかでは、感
光性樹脂を使用した後者の方法は、前者の方法に対して
、液体通路をより精度良く、かつ歩留り良く微細加工で
き、しかも量産化が容易であるので、品質が良く、より
安価な液体噴射記録ヘッドを提供することができるとい
う利点を有している。
Among these methods for manufacturing liquid jet recording heads, the latter method using photosensitive resin allows fine processing of liquid passages with higher accuracy and higher yield than the former method, and is also easier to mass produce. Therefore, it has the advantage that it is possible to provide a liquid jet recording head of good quality and at a lower cost.

このような記録ヘッドの製造に用いる感光性樹脂として
は、印刷版、プリント配線等におけるパターン形成用と
して用いられてきたもの、あるいはガラス、金属、セラ
ミックス等に用いる光硬化型の塗料や接着剤として知ら
れているものが用いられており、また作業能率などの面
からドライフィルムタイプの樹脂が主に利用されてきた
The photosensitive resins used to manufacture such recording heads are those that have been used for pattern formation in printing plates, printed wiring, etc., and those that have been used as photocurable paints and adhesives for glass, metals, ceramics, etc. Known resins are used, and dry film type resins have been mainly used from the viewpoint of work efficiency.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

感光性樹脂の硬化膜を用いた記録ヘッドにおいては、高
度な記録特性、耐久性及び信頼性等の優れた特性を得る
ために、記録ヘッドに用いる感光性樹脂には、 (1)特に、硬化膜としての基板との接着性に優れてい
る、 (2)硬化した際の機械的強度及び耐久性等に優れてい
る、 (3)パターン雷光を用いたパターン形成用の際の感度
及び解像度に優れている などの特性を有していることが要求される。
In a recording head using a cured film of a photosensitive resin, in order to obtain excellent characteristics such as advanced recording characteristics, durability, and reliability, the photosensitive resin used for the recording head has the following characteristics: (2) Excellent mechanical strength and durability when cured; (3) Excellent sensitivity and resolution when forming patterns using pattern lightning. It is required to have characteristics such as excellent properties.

ところが、これまでに知られている液体噴射記録ヘッド
の形成に用いられる感光性樹脂としては、上記の要求特
性を全て満足したものが見当たらないのが現状である。
However, the current situation is that there is no photosensitive resin that satisfies all of the above-mentioned required characteristics among the photosensitive resins used to form hitherto known liquid jet recording heads.

すなわち、記録ヘッド用の感光性樹脂として、印刷版、
プリント配線等におけるパターン形成用として用いられ
ているものは、感度及び解像度においては優れているが
、基板として用いられるガラス、セラミックス、プラス
チックフィルムなどに対する接着性や密着性に劣り、し
かも硬化した際の機械的強度や耐久性が十分でない。そ
のため、記録ヘッドの製造段階において、または使用に
ともなって、例えば液体通路内の記録用液体の流れを阻
害したり、あるいは液滴吐出方向を不安定にするなどし
て記録特性を低下させる等、記録ヘッドの信頼性を著し
く損なう原因となる樹脂硬化膜の変形や基板からの剥離
、損傷などが起き易いという欠点を有している。
That is, printing plates, photosensitive resins for recording heads,
The materials used for pattern formation in printed wiring etc. have excellent sensitivity and resolution, but have poor adhesion and adhesion to glass, ceramics, plastic films, etc. used as substrates, and moreover, they have poor adhesiveness when cured. Mechanical strength and durability are insufficient. Therefore, during the manufacturing stage of the print head or during use, for example, the flow of the print liquid in the liquid passage may be obstructed, or the direction of droplet ejection may be made unstable, resulting in deterioration of the print characteristics. This method has the disadvantage that the cured resin film is easily deformed, peeled off from the substrate, and damaged, which significantly impairs the reliability of the recording head.

一方、ガラス、金属、セラミックス等に用いる光硬化型
の塗料や接着剤として知られているものは、これらの材
質からなる基板に対する密着性や接着性に優れ、かつ硬
化した際に十分な機械的強度や耐久性が得られるという
利点を有しているものの、感度及び解像度に劣るために
、より高強度の露光装置や長時間の露光操作が必要とさ
れ、また、その特性上、解像度良く精密な高密度パター
ンを得ることができないために、特に微細な精密加工が
要求される記録ヘッド用としては向いていないという問
題点を有している。
On the other hand, known photocuring paints and adhesives used for glass, metals, ceramics, etc. have excellent adhesion and adhesion to substrates made of these materials, and have sufficient mechanical strength when cured. Although it has the advantage of being strong and durable, it is inferior in sensitivity and resolution, requiring higher-intensity exposure equipment and longer exposure operations. Since it is not possible to obtain a high-density pattern, this method has the problem that it is not suitable for use in recording heads that require particularly fine precision machining.

本発明は、このような問題点に鑑みなされたものであり
、前述したような諸要求特性を全て満足した樹脂硬化膜
からなる液体通路壁を有し、安価で精密であり、信頼性
が高く、耐久性に優れた液体噴射記録ヘッドを提供する
ことを目的とする。
The present invention was made in view of these problems, and has a liquid passage wall made of a cured resin film that satisfies all the required characteristics as described above, and is inexpensive, precise, and highly reliable. The purpose of the present invention is to provide a liquid jet recording head with excellent durability.

本発明の他の目的は、液体通路が精度良くかつ歩留り良
く微細加工された構成を有した液体噴射記録ヘッドを提
供することにある。
Another object of the present invention is to provide a liquid jet recording head having a structure in which liquid passages are microfabricated with high precision and high yield.

本発明の他の目的は、マルチオリフィス化された場合に
も信頼性が°高く、耐久性に優れた液体噴射記録ヘッド
を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a liquid jet recording head that is highly reliable and has excellent durability even when it has multiple orifices.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記の目的は以下の本発明によって達成することができ
る。
The above objects can be achieved by the following invention.

本発明は、基板面に設けられ、液体の吐出口に連通ずる
液体通路が、活性エネルギー線によって硬化する樹脂組
成物の層に、該活性エネルギー線を用いた所定のパター
ン露光を為して前記樹脂組成物の硬化領域を形成し、該
層から未硬化領域を除去して形成されている液体噴射記
録ヘッドであって、前記樹脂組成物が (i)ガラス転移温度が50℃以上で、且つ重量平均分
子量が約3.OX 104以上である線状高分子と。
The present invention provides a method in which a liquid passage provided on a substrate surface and communicating with a liquid discharge port exposes a layer of a resin composition that is cured by active energy rays in a predetermined pattern using active energy rays. A liquid jet recording head formed by forming a cured region of a resin composition and removing an uncured region from the layer, wherein the resin composition (i) has a glass transition temperature of 50° C. or higher, and The weight average molecular weight is approximately 3. A linear polymer having an OX of 104 or more.

(ii)分子内にエポキシ基を1個以上有する化合物の
少なくとも1種を含んでなるエポキシ樹脂と、(iii
)活性エネルギー線の照射によってルイス酸を発生する
重合開始剤 とを有してなるものであることを特徴とする液体噴射記
録ヘッドである。
(ii) an epoxy resin comprising at least one compound having one or more epoxy groups in the molecule;
) A liquid jet recording head comprising a polymerization initiator that generates a Lewis acid upon irradiation with active energy rays.

すなわち本発明の記録ヘッドは、基板と、少なくとも液
体通路となる溝を形成する樹脂硬化膜層とを有してなり
、記録ヘッドを構成する各部材の耐久性及び各部材間で
の接着性に優れ、しかも樹脂硬化膜層が精度良く微細加
工されており、優れた記録特性を有し、信頼性も高く、
使用に際しての耐久性にも優れた記録ヘッドである。
That is, the recording head of the present invention includes a substrate and a cured resin film layer that forms at least grooves serving as liquid passages, and improves the durability of each member constituting the recording head and the adhesiveness between each member. Moreover, the cured resin film layer is precisely micro-processed, has excellent recording characteristics, and is highly reliable.
This recording head also has excellent durability during use.

以下、図面に従って本発明の液体噴射記録ヘッドを詳細
に説明する。
Hereinafter, the liquid jet recording head of the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

第1図は本発明の液体噴射記録ヘッドの一例であり、第
1図(a)はその主要部の斜視図、第1図(b)は第1
図(a)のC(: ’線に添った切断断面図である。
FIG. 1 shows an example of the liquid jet recording head of the present invention, FIG. 1(a) is a perspective view of its main parts, and FIG.
This is a cross-sectional view taken along line C(:' in Figure (a).

この液体噴射記録ヘッドは、基本的に、基板lと、該基
板上に設けられ、所定の形状にパターン露光グされた樹
脂硬化膜3Hと、該樹脂硬化膜上に積層された覆い7と
を有してなり、これらの部材によって、記録用液体を吐
出するためのオリフィス9、該オリフィスに連通し、記
録用液体を吐出するためのエネルギーが記録用液体に作
用する部分を有する液体通路8−2及び該液体通路に供
給する記録用液体を貯留するための液室e−tが形成さ
れている。更に、覆いに設けられた貫通孔8には、記録
ヘッド外部から液室”8−1に記録用液体を供給するた
めの供給管10が接合されている。尚、第1図(a)に
は、供給管lOは省略しである。
This liquid jet recording head basically includes a substrate 1, a cured resin film 3H provided on the substrate and pattern-exposed in a predetermined shape, and a cover 7 laminated on the cured resin film. These members include an orifice 9 for discharging the recording liquid, and a liquid passage 8 that communicates with the orifice and has a portion on which energy for discharging the recording liquid acts on the recording liquid. 2 and a liquid chamber e-t for storing recording liquid to be supplied to the liquid passage. Furthermore, a supply pipe 10 for supplying recording liquid from the outside of the recording head to the liquid chamber "8-1" is connected to the through hole 8 provided in the cover. , the supply pipe IO is omitted.

記録の際に、記録用液体を吐出するためのエネルギーは
、液体通路6−2の一部を構成する記録用液体に吐出エ
ネルギーを作用させる部分の所定の位置に配設された発
熱素子、圧電素子等の種々のタイプの吐出エネルギー発
生素子2に、これら素子に接続しである配線(不図示)
を介して吐出信号を所望に応じて印加することにより発
生される。
During recording, the energy for ejecting the recording liquid is generated by a heating element or a piezoelectric element disposed at a predetermined position in a part of the liquid passage 6-2 that applies ejection energy to the recording liquid. Wiring (not shown) connected to various types of ejection energy generating elements 2 such as elements, etc.
The ejection signal is generated by applying an ejection signal as desired via the ejection signal.

本発明の記録ヘッドを構成する基板lは、ガラス、セラ
ミックス、プラスチックあるいは金属等からなり、発生
素子2が所望の個数所定位置に配設される。なお、第1
図の例においては発生素子が2個設けられているが、発
熱素子の個数及び配置は記録ヘッドの所定の構成に応じ
て適宜決定される。
The substrate l constituting the recording head of the present invention is made of glass, ceramics, plastic, metal, or the like, and a desired number of generating elements 2 are disposed at predetermined positions. In addition, the first
In the illustrated example, two generating elements are provided, but the number and arrangement of the heating elements are determined as appropriate depending on the predetermined configuration of the recording head.

また、覆い7は、ガラス、セラミックス、プラスチック
あるいは金属等の平板からなり、融着あるいは接着剤を
用いた接着方法により樹脂硬化11莫3H上に接合され
ており、また所定の位置に供給管10を接続するための
貫通孔8が設けられている。
Further, the cover 7 is made of a flat plate made of glass, ceramics, plastic, metal, etc., and is bonded to the resin hardening layer 11 by a bonding method using fusion or adhesive, and the supply pipe 10 is placed in a predetermined position. A through hole 8 is provided for connecting.

本発明の記録ヘッドにおいて、液体通路6−2及び液室
e−tの壁を構成する所定の形状にパターンニングされ
た樹脂硬化膜3Hは、基板1上に、または覆い7上に設
けた以下に説明する組成の樹脂組成物からなる層をフォ
トリソグラフィ一工程によってパターンニングして得ら
れたものである。
In the recording head of the present invention, the cured resin film 3H patterned in a predetermined shape and forming the walls of the liquid passage 6-2 and the liquid chamber e-t is formed on the substrate 1 or on the cover 7. It was obtained by patterning a layer made of a resin composition having the composition described in 1. by one step of photolithography.

なお、該樹脂硬化膜3Hは、以下に説明する組成の樹脂
組成物からなる覆いに一体化して、パターンニングされ
たものであっても良い。
Note that the cured resin film 3H may be patterned and integrated with a cover made of a resin composition having the composition described below.

このような少なくとも液体通路となる部分を構成するた
めに基板上に設けられた樹脂硬化膜を形成するために用
いる樹脂組成物は、 (i)ガラス転移温度が50℃以上で、且つ重量平均分
子量が約3.OX 10’以上である線状高分子と、 (11)分子内にエポキシ基を1個以上有する化合物の
少なくとも1種を含んでなるエポキシ樹脂と、(iii
)活性エネルギー線の照射によってルイス酸を発生する
重合開始剤 とを必須成分として含有する活性エネルギー線硬化型樹
脂組成物であり、特に硬化膜とした際にガラス、プラス
チック、セラミックス等からなる基板に対して良好な接
着性を有し、かつインク等の記録用液体に対する耐性及
び機械的強度にも優れ、しかも活性エネルギー線による
パターニングによって精密で高解像度のパターンを形成
することができるという液体噴射記録ヘッドの構成部材
として優れた特性を有するものである。更に、この樹脂
組成物は、ドライフィルムとして用いることができ、そ
の際にも上記の優れた特性が発揮される。
The resin composition used to form the cured resin film provided on the substrate to constitute at least the portion that becomes the liquid passage has the following properties: (i) a glass transition temperature of 50°C or higher and a weight average molecular weight; is about 3. a linear polymer having OX 10' or more; (11) an epoxy resin comprising at least one compound having one or more epoxy groups in the molecule; and (iii)
) An active energy ray-curable resin composition containing as an essential component a polymerization initiator that generates a Lewis acid when irradiated with active energy rays, and is particularly effective when formed into a cured film on a substrate made of glass, plastic, ceramics, etc. Liquid jet recording has good adhesion to recording liquids such as ink, has excellent mechanical strength and resistance to recording liquids such as ink, and can form precise, high-resolution patterns by patterning with active energy rays. It has excellent properties as a component of a head. Furthermore, this resin composition can be used as a dry film, and the above-mentioned excellent properties are exhibited in that case as well.

以下、この本発明の記録ヘッドの形成に用いる活性エネ
ルギー硬化型樹脂組成物の組成について詳細に説明する
Hereinafter, the composition of the active energy curable resin composition used for forming the recording head of the present invention will be explained in detail.

この活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、例えば該組
成物をドライフィルムとして本発明の記録ヘッドの形成
に供する際に、該組成物を固形のフィルム状で維持する
ための適性を与え、且つ硬化形成されたパターンに優れ
た機械的強度を付与するための(i)ガラス転移温度が
50℃以上で、且つ重量平均分子量が約3.OX 10
4以上である線状高分子を必須成分として含有する。
This active energy ray-curable resin composition provides suitability for maintaining the composition in the form of a solid film when the composition is used as a dry film to form the recording head of the present invention, and is also suitable for curing. In order to impart excellent mechanical strength to the formed pattern, (i) the glass transition temperature is 50°C or higher and the weight average molecular weight is approximately 3. OX10
Contains a linear polymer having a molecular weight of 4 or more as an essential component.

上記線状高分子のガラス転移温度および重量平均分子量
が上記値に満たない場合には、例えばドライフィルムを
製造する際に、プラスチックフィルム等の支持体上にフ
ィルム状の固体樹脂層として形成される該組成物が、保
存中に徐々に流動してシワを発生したり、あるいは層厚
の不均一化等の現象を生じ、良好なドライフィルムを得
ることができない。
When the glass transition temperature and weight average molecular weight of the linear polymer are less than the above values, for example, when producing a dry film, it is formed as a film-like solid resin layer on a support such as a plastic film. The composition gradually flows during storage, causing wrinkles or uneven layer thickness, making it impossible to obtain a good dry film.

このような線状高分子を具体的に示せば、例えばそのホ
モポリマーが比較的剛直な性状を有し、上記のようなガ
ラス転移温度を与え得る七ツマ−(A)を主成分とし、
必要に応じて第2の成分として、例えば親水性を有し、
本発明の組成物に更に優れた密着性を付与し得るCB)
水酸基含有アクリルモノマー、(C)アミンもしくはア
ルキルアミノ基含有アクリルモノマー、(D)カルボキ
シル基含有アクリルもしくはビニルモノマー、(E) 
N−ビニルピロリドンもしくはその誘導体、CF)ビニ
ルピリジンもしくはその誘導体などのモノマーや。
Specifically, such linear polymers include, for example, a homopolymer mainly composed of 7-mer (A), which has relatively rigid properties and can provide the above-mentioned glass transition temperature,
If necessary, as a second component, for example, having hydrophilicity,
CB which can provide even better adhesion to the composition of the present invention)
hydroxyl group-containing acrylic monomer, (C) amine or alkylamino group-containing acrylic monomer, (D) carboxyl group-containing acrylic or vinyl monomer, (E)
Monomers such as N-vinylpyrrolidone or its derivatives, CF) vinylpyridine or its derivatives.

(G)該活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に高い凝集
強度を与え、その機械的強度を向上させ得る下記一般式
1 (ただし、R1は水素または炭素原子数が1〜3のアル
キル基、R2はその内部にエーテル結合を有してもよく
、且つハロゲン原子で置換されてもよい2価の炭化水素
基 R3は炭素原子数が3〜12のアルキルもしくはフ
ェニルアルキル基またはフェニル基を表わす。) で示されるモノマー等を40モル%以下の範囲で共重合
の成分として用いて得られる熱可塑性の共重合高分子な
どが挙げられる。
(G) The following general formula 1 can impart high cohesive strength to the active energy ray-curable resin composition and improve its mechanical strength (wherein R1 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R2 (R3 represents an alkyl or phenylalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a phenyl group.) Examples include thermoplastic copolymer polymers obtained by using monomers represented by the following as components of copolymerization in a range of 40 mol % or less.

成分(A)として用いられるモノマーを具体的に示せば
、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、
インブチルメタアクリレート、t−ブチルメタアクリレ
ートなどのアルキル基の炭素数が1〜4のアルキルメタ
アクリレート、アクリロニトリルおよびスチレンが挙げ
られる。これら七ツマ−は、線状共重合高分子に上記の
ガラス転移温度を付与するため、60モル%以上含有さ
れることが好ましい。
Specifically, the monomers used as component (A) include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
Examples include alkyl methacrylates in which the alkyl group has 1 to 4 carbon atoms, such as inbutyl methacrylate and t-butyl methacrylate, acrylonitrile, and styrene. In order to impart the above-mentioned glass transition temperature to the linear copolymer, it is preferable that 60 mol % or more of these hexamers are contained.

第2の成分として用いられる上記(B)〜(G)のモノ
マーを具体的に示せば、(B)の水酸基含有アクリルモ
ノマーとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート (以下、(メタ)アクリレートと記す場合、ア
クリレートおよびメタアクリレートの双方を含むこと意
味するものとする。)、2−ヒドロキシプロピル(メタ
)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)
アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ
ート、5−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、
6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、あるい
は1,4−シクロヘキサンジメタツールとアクリル酸ま
たはメタアクリル醜とのモノエステルなどが挙げられ、
商品名アロニックスM5700(東亜合成化学■製) 
、TONE Mloo(カプロラクトンアクリレート、
ユニオンカーバイド株製)、ライトエステルHO−11
PP (共栄社油脂化学工業■製)、ライトエステルト
ロ00A(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルア
クリレートの商品名、共栄社油脂化学工業株製)として
知られているものや、二価アルコール類、例えば1.1
0−デカンジオール、ネオペンチルグリコール、ビス(
2−ヒドロキシエチル)テレフタレート、ビスフェノー
ルAとエチレンオキシドまたはプロピレンオキシドとの
付加反応物等と(メタ)アクリル酸とのモノエステル等
を使用することができる。
Specifically, the monomers (B) to (G) above used as the second component include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate (hereinafter referred to as (meth)acrylate) as the hydroxyl group-containing acrylic monomer (B). ), 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate.
Acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, 5-hydroxypentyl (meth)acrylate,
Examples include 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, or a monoester of 1,4-cyclohexane dimetatool and acrylic acid or methacrylic acid,
Product name: Aronix M5700 (manufactured by Toagosei Chemical Co., Ltd.)
, TONE Mloo (caprolactone acrylate,
Union Carbide Co., Ltd.), Light Ester HO-11
PP (manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.), those known as Light Ester Toro 00A (trade name of 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.), and dihydric alcohols, e.g. .1
0-Decanediol, neopentyl glycol, bis(
2-hydroxyethyl) terephthalate, a monoester of an addition reaction product of bisphenol A and ethylene oxide or propylene oxide, and (meth)acrylic acid, etc. can be used.

(C)のアミノもしくはアルキルアミノ基含有アクリル
モノマーとしては、(メタ)アクリルアミド、K N−
ジメチルアミンエチル(メタ)アクリルアミド、K N
−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N、 N−ジメチ
ルアミンプロピル(メタ)アクリルアミド、N、 N−
ジし一ブチルアミノエチル(メタ)アクリルアミドなど
が挙げられる。
As the amino or alkylamino group-containing acrylic monomer (C), (meth)acrylamide, KN-
Dimethylamine ethyl (meth)acrylamide, KN
-dimethyl (meth)acrylamide, N, N-dimethylaminepropyl (meth)acrylamide, N, N-
Examples include dibutylaminoethyl (meth)acrylamide.

CD)のカルボキシル基含有アクリルもしくはビニルモ
ノマーとしては(メタ)アクリル酸、フマール酸、イタ
コン酸あるいは東亜合成化学■製品の商品名アロニック
スト5400、アロニックスM−5500等で知られる
ものが挙げられる。
Examples of the carboxyl group-containing acrylic or vinyl monomer (CD) include (meth)acrylic acid, fumaric acid, itaconic acid, and those known under the trade names of Aronixt 5400 and Aronix M-5500 manufactured by Toagosei Kagaku.

CF)のビニルピリジンもしくはその誘導体としては、
2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン、2−ビニル
−6−メチルピリジン、4−ビニル−1−メチルピリジ
ン、2−ビニル−5−エチルピリジン及び4−(4−ピ
ペニリノエチル)ビ1ノジン等を挙げることができる。
CF) as vinylpyridine or its derivatives,
Examples include 2-vinylpyridine, 4-vinylpyridine, 2-vinyl-6-methylpyridine, 4-vinyl-1-methylpyridine, 2-vinyl-5-ethylpyridine, and 4-(4-pipenylinoethyl)bi-1nodine. be able to.

上記(B)〜(F)のモノマーは、その何れもが親木性
を有するものであり、本発明に用いる該活性エネルギー
線硬化型樹脂組成物がガラス、セラミックス、プラスチ
ックなどの支持体に接着する際に1強固な密着性を付与
するものである。
All of the above monomers (B) to (F) have wood-philicity, and the active energy ray-curable resin composition used in the present invention adheres to a support such as glass, ceramics, or plastic. 1. It provides strong adhesion when applying.

(G)の一般式1で表わされるモノマーを具体的に示せ
ば、1分子中に水酸基を1個含有する(α−アルキル)
アクリル酸エステルにモノインシアナート化合物を反応
させて成る、1分子中にウレタン結合を1個以上有する
(α−アルキル)アクリル酸エステルが挙げられる。尚
、一般式1で表わされるモノマーにおけるR2は、その
内部にエーテル結合を有してもよく、且つハロゲン原子
で置換されてもよい2価の任意の炭化水素基とすること
ができるが、好ましいR2としては、炭素原子数が2〜
12のハロゲン原子で置換されてもよいアルキレン基、
1,4−ビスメチレンシクロヘキサンのような脂環式炭
化水素基、ビスフェニルジメチルメタンのような芳香環
を含む炭化水素基等を挙げることができる。
Specifically, the monomer (G) represented by the general formula 1 contains one hydroxyl group in one molecule (α-alkyl)
Examples include (α-alkyl) acrylic esters having one or more urethane bonds in one molecule, which are obtained by reacting an acrylic ester with a monoincyanate compound. Incidentally, R2 in the monomer represented by general formula 1 can be any divalent hydrocarbon group which may have an ether bond therein and may be substituted with a halogen atom, but is preferably As R2, the number of carbon atoms is 2 to
an alkylene group optionally substituted with 12 halogen atoms,
Examples include alicyclic hydrocarbon groups such as 1,4-bismethylenecyclohexane and hydrocarbon groups containing aromatic rings such as bisphenyldimethylmethane.

上記一般式1で表わされるモノマーを製造するに際し用
いられる1分子中に水酸基を少なくとも1個含有する(
メタ)アクリル酸エステルとしては、2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(
メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アク
リレート、5−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレー
ト、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレートある
いはライトエステルHO−11PP(共栄社油脂化学工
業■製)などが挙げられる。
Containing at least one hydroxyl group in one molecule used when producing the monomer represented by the above general formula 1 (
As meth)acrylic acid esters, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (
meth)acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl(meth)acrylate, 4-hydroxybutyl(meth)acrylate, 3-hydroxybutyl(meth)acrylate, 5-hydroxypentyl(meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl(meth)acrylate ) acrylate or light ester HO-11PP (manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo ■).

1分子中に水酸基を1個含有する(α−アルキル)アク
リル酸エステルとしは、上記以外に(a)脂肪族または
芳香族の二価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエス
テルや(b)モノエポキシ化合物の(メタ)アクリル酸
エステルを同様に使用することができる。
In addition to the above, (α-alkyl)acrylic acid esters containing one hydroxyl group in one molecule include (a) esters of aliphatic or aromatic dihydric alcohols and (meth)acrylic acid, and (b) monoesters. (Meth)acrylic esters of epoxy compounds can likewise be used.

上記(a)に用いられる二価アルコールとしては、1.
4−シクロヘキサンジメタツール、  1.10−デカ
ンジオール、ネオペンチルグリコール(2−ヒドロキシ
エチル)テレフタレート、ビスフェノールAへのエチレ
ンオキシドまたはプロピレンオキシドの2〜lOモル付
加反応物などが挙げられる.また、上記(b)に用・い
られるモノエポキシ化合物としては,エボライトト12
30 (商品名、共栄社油脂化学工業■製)、フェニル
グリシジルエーテル、タレシルグリシジルエーテル、ブ
チルグリシジルエーテル、オクチレンオキサイド、n−
ブチルフェノールグリシジルエーテルなどが挙げられる
The dihydric alcohol used in (a) above includes 1.
Examples include 4-cyclohexane dimetatool, 1.10-decanediol, neopentyl glycol (2-hydroxyethyl) terephthalate, and addition reaction products of 2 to 10 moles of ethylene oxide or propylene oxide to bisphenol A. In addition, as the monoepoxy compound used in (b) above, Evolite 12
30 (trade name, manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo ■), phenyl glycidyl ether, talesyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, octylene oxide, n-
Examples include butylphenol glycidyl ether.

また、一般式1で表わされるモノマーを製造するに際し
用いられるモノイソシアナート化合物としては、炭素原
子数が3〜12のアルキル基に1個のインシアナート基
を付与してなるアルキルモノイソシアナート、およびフ
ェニルイソシアナート、タレジルモノイソシアナートな
どが挙げられる。
Further, as the monoisocyanate compound used in producing the monomer represented by general formula 1, alkyl monoisocyanate formed by adding one incyanato group to an alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and phenyl monoisocyanate Examples include isocyanate and talesyl monoisocyanate.

一般式1で表わされる七ツマ−は、50モル%迄の範囲
で線状共重合高分子に含有されることが好ましい.含有
量が50モル%を越えると、得られる組成物の軟化点の
低下が顕著になり、該組成物を。
It is preferable that the heptamine represented by the general formula 1 is contained in the linear copolymer polymer in an amount of up to 50 mol%. If the content exceeds 50 mol%, the softening point of the resulting composition will be significantly lowered.

硬化して得られるパターンの表面硬度の低下や。Decreased surface hardness of the pattern obtained by curing.

膨潤による耐薬品性の劣化等の問題を生じる。This causes problems such as deterioration of chemical resistance due to swelling.

本発明で用いる樹脂硬化膜形成用の該樹脂組成物は、溶
液状あるいは固形のフィルム状等、使用目的に応じた種
々の形状で提供することができるが、ドライフィルムの
態様で実用に供するのが扱い易く、また膜厚の管理も容
易であり、特に有利である.もちろん、溶液状で用いる
ことは一向に差しつかえない。
The resin composition for forming a cured resin film used in the present invention can be provided in various forms depending on the purpose of use, such as a solution or a solid film, but it is not practical to use it in the form of a dry film. It is particularly advantageous because it is easy to handle and the film thickness can be easily controlled. Of course, there is no problem in using it in the form of a solution.

以上、主として熱可塑性の線状高分子を用いる場合を説
明してきたが、本発明で用いる該活性エネルギー線硬化
型樹脂組成物には、熱架橋性あるいは光架橋性を有する
線状高分子を用いることもできる。
The case where thermoplastic linear polymers are mainly used has been explained above, but the active energy ray-curable resin composition used in the present invention uses linear polymers that have thermal crosslinkability or photocrosslinkability. You can also do that.

熱架橋性の線状高分子は、例えば上記熱可塑性の線状高
分子に、下記一般式II     −(ただし、R4は
水素または炭素原子数が1〜3のアルキルもしくはヒド
ロキシアルキル基、RSは水素または炭素原子数が1−
 4のヒドロキシ基を有してもよいアルキルもしくはア
シル基を表わす.) で示されるような熱架橋性の七ツマ−を共重合の第2成
分として導入することにより得ることができる.上記一
般式■で表わされるモノマーは,熱架橋性であるばかり
か、親木性も有しており、該熱架橋性によって本発明の
組成物に構造材料としての優れた性状、例えば耐熱性、
耐薬品性、あるいは機械的強度等を、また親水性によっ
て支持体への優れた密着性を発揮させるものである。
The thermally crosslinkable linear polymer is, for example, a thermoplastic linear polymer having the following general formula II - (where R4 is hydrogen or an alkyl or hydroxyalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and RS is hydrogen). or the number of carbon atoms is 1-
Represents an alkyl or acyl group that may have 4 hydroxy groups. ) can be obtained by introducing a thermally crosslinkable heptamer as the second component in copolymerization. The monomer represented by the general formula (3) has not only thermal crosslinkability but also wood-philicity, and due to the thermal crosslinkability, the composition of the present invention has excellent properties as a structural material, such as heat resistance,
It exhibits chemical resistance, mechanical strength, etc., and excellent adhesion to a support due to its hydrophilicity.

上記一般式■で示されるモノマーを具体的に示せば、N
−メチロール(メタ)アクリルアミド(以下、(メタ)
アクリルアミドと記す場合、アクリアミドおよびメタア
クリアミドの双方を含むこと意味するものとする。)、
N−プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−n
−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、β−ヒドロ
キシエトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−エト
キシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチ
ル(メタ)アクリルアミド、N−アセトキシメチル(メ
タ)アクリルアミド、α−ヒドロキシメチル−N−メチ
ロールアクリルアミド、α−ヒドロキシエチル−N−ブ
トキシメチルアクリルアミド、α−ヒドロキシプロピル
−N−プロポキシメチルアクリルアミド、α−エチル−
N−メチロールアクリルアミド、α−プロピル−N−メ
チロールアクリルアミド等のアクリルアミド誘導体が挙
げられる。
Specifically, the monomer represented by the above general formula (■) is N
-Methylol (meth)acrylamide (hereinafter referred to as (meth)
When it is written as acrylamide, it is meant to include both acrylamide and metaacryamide. ),
N-propoxymethyl (meth)acrylamide, N-n
-Butoxymethyl (meth)acrylamide, β-hydroxyethoxymethyl (meth)acrylamide, N-ethoxymethyl (meth)acrylamide, N-methoxymethyl (meth)acrylamide, N-acetoxymethyl (meth)acrylamide, α-hydroxymethyl- N-methylolacrylamide, α-hydroxyethyl-N-butoxymethylacrylamide, α-hydroxypropyl-N-propoxymethylacrylamide, α-ethyl-
Examples include acrylamide derivatives such as N-methylolacrylamide and α-propyl-N-methylolacrylamide.

これら一般式IIで表わされるモノマーは、上記の如く
親木性はもとより加熱による縮合架橋性を有しており、
一般には100℃以上の温度で水分子あるいはアルコー
ルが脱離し架橋結合を形成して硬化後に線状共重合高分
子自体にも網目構造を形成させ、硬化して得られるパタ
ーンに優れた耐薬品性および機械的強度を付与するもの
である。
These monomers represented by the general formula II have not only wood-philic properties but also condensation crosslinking properties by heating, as described above.
In general, at temperatures of 100°C or higher, water molecules or alcohol are released and form crosslinks, and after curing, the linear copolymer polymer itself also forms a network structure, and the pattern obtained by curing has excellent chemical resistance. and provides mechanical strength.

線状高分子として熱硬化性を有するものを使用する場合
には、これら一般式■で表わされる七ツマ−は、 5〜
30モル%が線状高分子に含有されることが好ましい、
含有量が上記範囲内であると、熱硬化に基づく十分な耐
薬品性が付与される。これに対して、含有量が30モル
%を越えると、硬化して得られるパターンが脆くなる等
の問題を生じる。
When a thermosetting linear polymer is used, the seven polymers represented by the general formula (■) are 5 to 5.
Preferably, 30 mol% is contained in the linear polymer,
When the content is within the above range, sufficient chemical resistance based on thermosetting is provided. On the other hand, if the content exceeds 30 mol %, problems such as the pattern obtained by curing will become brittle.

上記一般式■で表わされる七ツマ−の他、熱によって開
環し、架橋する七ツマ−1例えばグリシジル(メタ)ア
クリレート等を適宜共重合のJilとして用いることに
よって、上記一般式Hの場合におけると同様の効果を得
ることができる。
In addition to the heptamers represented by the above general formula You can get the same effect as .

光架橋性の線状高分子は、例えば以下に例示するような
方法によって、光重合性の側鎖を線状高分子に導入する
等の方法によって得ることができる。そのような方法を
示せば1例えば ■(メタ)アクリル酸等に代表されるカルボキシル基含
有モノマー、またはアミノ基もしくは三級アミン基含有
モノマーを共重合させ、しかる後にグリシジル(メタ)
アクリレート等と反応させる方法、 ■1分子内に1個のインシアネート基と1個以上のアク
リルエステル基を持つポリイソシアネートの部分ウレタ
ン化合物と、枝鎖の水酸基、アミン基あるいはカルボキ
シル基とを反応させる方法、 ■枝鎖の水酸基にアクリル酸クロライドを反応させる方
法、 ■枝鎖の水酸基に酸無水物を反応させ、しかる後にグリ
シジル(メタ)アクリレートを反応させる方法、 [相]枝鎖の水酸基と(F)に例示した縮合架橋性モノ
マーとを縮合させ、側鎖にアクリルアミド基を残す方法
、 ■枝鎖の水酸基にグリシジル(メタ)アクリレートを反
応させる方法、 等の方法が挙げられる。
A photocrosslinkable linear polymer can be obtained, for example, by introducing a photopolymerizable side chain into a linear polymer, as exemplified below. Examples of such a method include 1. Copolymerizing a monomer containing a carboxyl group, such as (meth)acrylic acid, or a monomer containing an amino group or a tertiary amine group, followed by copolymerization of glycidyl (meth)
Method of reacting with acrylate, etc., (1) Reacting a partial urethane compound of polyisocyanate having one incyanate group and one or more acrylic ester groups in one molecule with a branched hydroxyl group, amine group or carboxyl group. Method, ■Method of reacting acrylic acid chloride with the hydroxyl group of the branch chain, ■Method of reacting the hydroxyl group of the branch chain with an acid anhydride, and then reacting with glycidyl (meth)acrylate, [Phase] The method of reacting the hydroxyl group of the branch chain with ( Examples include methods such as condensation with the condensation crosslinking monomer exemplified in F) to leave an acrylamide group on the side chain, and (2) reacting the hydroxyl group of the branched chain with glycidyl (meth)acrylate.

本発明で用いる該活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に
含有される線状高分子が熱架橋性である場合には、活性
エネルギー線の照射によりパターンを形成した後に該樹
脂組成物の加熱処理を行なうことが好ましい、一方、該
組成物に光重合性の線状高分子を用いた場合にも、支持
体の耐熱性の面で許容され得る範囲内で加熱を行なうこ
とは何ら問題はなく、むしろより好ましい結果を与える
When the linear polymer contained in the active energy ray-curable resin composition used in the present invention is thermally crosslinkable, the resin composition is heat-treated after forming a pattern by irradiation with active energy rays. On the other hand, even when a photopolymerizable linear polymer is used in the composition, there is no problem in heating within an allowable range in terms of the heat resistance of the support. In fact, it gives a more favorable result.

本発明で用いる該活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に
含有することのできる線状高分子は、上記の如く硬化性
を有しないもの、光架橋性のもの、および熱架橋性のも
のに大別されるが、何れにしても本発明で用いる該組成
物の硬化工程(すなわち、活性エネルギー線照射による
パターンの形成および必要に応じての熱硬化)において
、該組成物に形態保持性を付与して精密なパターニング
を可能にするとともに、硬化して得られるパターンに対
しては優れた密着性、耐薬品性ならびに高い機械的強度
を与えるものである。
The linear polymers that can be contained in the active energy ray-curable resin composition used in the present invention can be broadly classified into those without curability, those with photocrosslinkability, and those with thermal crosslinkability. However, in any case, in the curing process of the composition used in the present invention (i.e., pattern formation by active energy ray irradiation and thermal curing as necessary), shape retention is imparted to the composition. It not only enables precise patterning, but also provides excellent adhesion, chemical resistance, and high mechanical strength to the pattern obtained by curing.

本発明で用いる活性エネルギー線硬化型樹脂組酸物に含
有させる1分子内にエポキシ基を1 (11以上含む化
合物の1種以上からなるエポキシ樹脂(ii)とは、後
述する重合開始剤(iii)の存在下に本発明に用いる
該組成物に活性エネルギー線による高感度で十分な硬化
性を発揮させ、これに加えて、本発明の樹脂組成物を、
ガラス、プラスチックス、セラミックス等からなる各種
支持体上に液体状で塗布してからこれを硬化させて硬化
膜として形成した際に、あるいはドライフィルムの形で
各種支持体上に接着して用いた際に該樹脂組成物からな
る硬化膜に、より良好な支持体との密着性、耐水性、耐
薬品性、寸法安定性等を付与するための成分である。
The epoxy resin (ii) consisting of one or more compounds containing 1 (11 or more) epoxy groups in one molecule contained in the active energy ray-curable resin compound acid used in the present invention refers to the polymerization initiator (iii) described below. ), the composition used in the present invention exhibits sufficient curability with high sensitivity to active energy rays, and in addition, the resin composition of the present invention is
It is used when it is applied in liquid form onto various supports made of glass, plastics, ceramics, etc. and then cured to form a cured film, or by adhering it to various supports in the form of a dry film. In particular, it is a component for imparting better adhesion to a support, water resistance, chemical resistance, dimensional stability, etc. to a cured film made of the resin composition.

このエポキシ樹脂(ii)としては、1分子内にエポキ
シ基を1個以上含む化合物の1種以上を用いてなるエポ
キシ樹脂であれば、特に限定することなく用いることが
できる。しかしながら1例えば記録ヘッドを形成した際
に、この樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜の耐薬品
性や機械的強度、構造材料としての高い耐久性などを考
慮したり、あるいは該組成物の硬化膜からなる液体通路
となる溝を含むパターンを支持体上に形成する際の作業
性や、形成されるパターンの解像度などを考慮すると、
1分子内にエポキシ基を2個以上含む化合物の1種以上
からなるエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
As the epoxy resin (ii), any epoxy resin can be used without particular limitation as long as it is made of one or more compounds containing one or more epoxy groups in one molecule. However, 1. For example, when forming a recording head, consideration must be given to the chemical resistance and mechanical strength of the cured film obtained by curing this resin composition, high durability as a structural material, etc. Considering the workability and resolution of the formed pattern when forming a pattern on a support that includes grooves that serve as liquid passages made of a cured film,
It is preferable to use an epoxy resin made of one or more compounds containing two or more epoxy groups in one molecule.

上記1分子内にエポキシ基を2個以上含むエポキシ樹脂
としては、ビスフェノールA型、ノボラック型、脂環型
に代表されるエポキシ樹脂、あるいは、ビスフェノール
S、ビスフェノールF。
The above-mentioned epoxy resins containing two or more epoxy groups in one molecule include epoxy resins represented by bisphenol A type, novolak type, and alicyclic type, or bisphenol S and bisphenol F.

テトラヒドロキシフェニルメタンテトラグリシジルエー
テル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、グリセリ
ントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリ
グリシジルエーテル、イソシアヌール酸トリグリシジル
エーテルおよび下記一般晟m υ              U (ただし、Rはアルキル基またはオキシアルキルキル基
を表わす) で表わされるエポキシウレタン樹脂等の多官能性のエポ
キシ樹脂及びこれらの一種以上の混合物などを挙げるこ
とができる。
Tetrahydroxyphenylmethane tetraglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, isocyanuric acid triglycidyl ether and the following general compounds m υ U (However, R is an alkyl group or an oxyalkyl group. Examples include polyfunctional epoxy resins such as epoxy urethane resins represented by the following formulas, and mixtures of one or more of these resins.

、       なお、これら多官能性エポキシ樹脂の
具体例・とじては以下のようなものを挙げることができ
る。
Incidentally, specific examples of these polyfunctional epoxy resins include the following.

すなわち、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては1
例えばエピコー) 828 、834 、871.10
01、1004(商品名、シェル化学社製) 、 DE
R331−J 、 337−J 、 881−J 、 
1184−J 、 81117−J  (ダウケミカル
社製)及びエピクロン800(商品名、大日本インキ化
学工業−社製)など;ノボラック型エポキシ樹脂として
は、例えばエピコート152゜154 、172、(商
品名、シェル化学社製)、アラルダイ) KPM 11
38 (商品名、チバガイギー社製) 、 DER43
1、438及び43S(商品名、ダウケミカル社製)な
ど;脂環式エポキシ樹脂とじては、例えばアラルダイト
CY−175、−178,−179゜−182、−18
4、−192(商品名、チバガイギー社製)、チッソノ
ックス090 、091 、092 、301.313
(商品名、チッソ■社製)、シラキュアー(CYRAC
URE)810G、611O18200及びERL 4
G90.4817、225B、5411 (商品名、ユ
ニオンカーバイド社製)など;脂肪族多価アルコールの
多価グリシジルエーテル類としては、例えばエチレング
リコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエー
テル、1.6−ヘキサンシオールジグリシジルエーテル
、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノー
ルAのジグリシジルエーテル、2.2−ジブロモネオペ
ンチルグリコールジグリシジルエーテル等;芳香族多価
アルコールから誘導された多価グリシジルエーテルとし
ては、ビスフェノールAのアルキレンオキシドの2〜1
6モル付加体のジグリシジルエーテル、ビスフェノール
Fのアルキレンオキシドの2〜16モル付加体のジグリ
シジルエーテル、ビスフェノールSのアルキレンオキシ
ドの2〜16モル付加体のジグリシジルエーテルなどが
ある。
That is, as a bisphenol A type epoxy resin, 1
For example, Epicor) 828, 834, 871.10
01, 1004 (trade name, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.), DE
R331-J, 337-J, 881-J,
1184-J, 81117-J (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) and Epiclon 800 (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.); examples of novolac type epoxy resins include Epicort 152°154, 172, (trade name, Shell Chemical Co., Ltd.), Araldai) KPM 11
38 (product name, manufactured by Ciba Geigy), DER43
1, 438, and 43S (trade name, manufactured by Dow Chemical Company); examples of alicyclic epoxy resins include Araldite CY-175, -178, -179° -182, -18
4, -192 (product name, manufactured by Ciba Geigy), Chisson Knox 090, 091, 092, 301.313
(Product name, manufactured by Chisso Corporation), Syracure (CYRAC)
URE) 810G, 611O18200 and ERL 4
G90.4817, 225B, 5411 (trade name, manufactured by Union Carbide), etc.; Examples of polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether , polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanethiol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 2,2-dibromo Neopentyl glycol diglycidyl ether, etc.; polyhydric glycidyl ethers derived from aromatic polyhydric alcohols include 2 to 1 of alkylene oxide of bisphenol A.
Examples include diglycidyl ether as a 6 mol adduct, diglycidyl ether as a 2 to 16 mol adduct of bisphenol F with alkylene oxide, and diglycidyl ether as a 2 to 16 mol adduct of bisphenol S with alkylene oxide.

また、1分子内にエポキシ基を1個含む化合物としては
、オレフィンオキサイド、オレフィンオキサイド、ブチ
ルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、ア
クリルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、フェ
ニルグリシジルエーテル、n−ブチルフェノールグリシ
ジルエーテル、3−ペンタデシルフェニルグリシジルエ
ーテル、シクロヘキセンビニルモノオキサイド、α−ピ
ネンオキサイド、tert−カルボン酸のグリシジルエ
ステル等およびそれらの混合物などが挙げられる。
Compounds containing one epoxy group in one molecule include olefin oxide, olefin oxide, butyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, acrylic glycidyl ether, styrene oxide, phenyl glycidyl ether, n-butylphenol glycidyl ether, 3-pentadecyl Examples include phenyl glycidyl ether, cyclohexene vinyl monooxide, α-pinene oxide, glycidyl ester of tert-carboxylic acid, and mixtures thereof.

これら−官能性エポキシ樹脂は、前述の多官能性エポキ
シ樹脂とともに、あるいはそれ自身単独でも用いること
ができる。
These -functional epoxy resins can be used in conjunction with the multifunctional epoxy resins described above, or by themselves.

本発明に用いる樹脂硬化膜形成用の該樹脂組成物におい
て、と記エポキシ樹脂(ii)は、後述する重合開始剤
(iii)に活性エネルギー線が照射されることによっ
て発生するルイス酸が、該樹脂のエポキシ基に作用する
ことによって生じる活性エネルギー線に対する高感度で
十分な硬化性を有しており、該硬化性によって精密で高
解像度のパターン形成を可能にするばかりか、これに加
えて、エポキシ樹脂の木来有する熱硬化性によって良好
な支持体との密着性、耐薬品性、寸法安定性等も付与す
るものである。
In the resin composition for forming a resin cured film used in the present invention, the epoxy resin (ii) has a Lewis acid generated when the polymerization initiator (iii) described below is irradiated with active energy rays. It has sufficient curability with high sensitivity to active energy rays generated by acting on the epoxy groups of the resin, and not only does this curability enable precise and high-resolution pattern formation, but in addition to this, The inherent thermosetting properties of epoxy resins also provide good adhesion to supports, chemical resistance, dimensional stability, etc.

本発明において樹脂硬化膜形成用として用いる該樹脂組
成物に含有させる活性エネルギー線の照射によってルイ
ス酸を発生する重合開始剤(iii)とは、該ルイス酸
の作用によって前述のエポキシ樹脂(ii)を硬化させ
、本発明に用いる該樹脂組成物に活性エネルギー線に対
する高感度で十分な硬化性を発揮させるための成分であ
り、好適には例えば特公昭52−14278号公報に示
されている第Vla族に属する元素を含む光感知性を有
する芳香族オニウム塩化合物、または特公昭52−14
279号公報に示されている第Va族に属する元素を含
む光感知性を有する芳香族オニウム塩化合物、あるいは
特公昭52−14277号に示されている光感知性を有
する芳香族ハロニウム塩などを用いることができる。
In the present invention, the polymerization initiator (iii) that generates a Lewis acid upon irradiation with active energy rays, which is contained in the resin composition used for forming a cured resin film, refers to the above-mentioned epoxy resin (ii) due to the action of the Lewis acid. It is a component for curing the resin composition used in the present invention to exhibit sufficient curability with high sensitivity to active energy rays. Aromatic onium salt compounds with photosensitivity containing elements belonging to the Vla group, or Japanese Patent Publication No. 52-14
Aromatic onium salt compounds having photosensitivity containing elements belonging to Group Va as shown in Publication No. 279, or aromatic halonium salts having photosensitivity shown in Japanese Patent Publication No. 52-14277. Can be used.

これら芳香族オニウム塩化合物または芳香族l\ロニウ
ム塩は、そのいずれもが活性エネルギー線の照射によっ
てルイス酸を放出してエポキシ樹脂(ii)を硬化させ
るという特性を有している。
Both of these aromatic onium salt compounds and aromatic l\ronium salts have the property of curing the epoxy resin (ii) by releasing a Lewis acid when irradiated with active energy rays.

上記の第VIa族若しくは第Va族に属する元素の光感
知性の芳香族オニウム塩化合物には、代表的には下記一
般式■; [(R6)a (R’)b (R8)eX]; [MQ
@ ]−’−”・・・(IV) (上記式中、R6は一価の有機芳香族基、R7はアルキ
ル基、シクロアルキル基及び置換アルキル基から選らば
れる一価の有機脂肪族基、R8は脂肪族基及び芳香族基
から選らばれる複素環若しくは縮合環構造を構成する多
価有機基、Xはイオウ、セレン及びテルルから選らばれ
る第Vla族または窒素、リン、ヒ素、アンチモン及び
ビスマスから選らばれる第Va族に属する元素、Mは金
属または半金属及びQはハロゲン基をそれぞれ表わし、
aはXが第VIa族に属する元素である場合には0〜3
の整数、Xが第Va族に属する元素である場合には0〜
4の整数、bは、0〜2の整数、CはXが第VIa族に
属する元素である場合にはOまたは1の整数、Xが第V
a族に属する元素である場合にはO〜2の整数、fはM
の価数で2〜7の整数、eはfより大で8以下の整数で
あり、かつaとbとCの和はXが第Vla族に属する元
素である場合には3、Xが第Va族に属する元素である
場合には4及びd=e−fである)で表される化合物が
°挙げられる。
The photosensitive aromatic onium salt compound of an element belonging to Group VIa or Group Va above typically has the following general formula (1): [(R6)a (R')b (R8)eX]; [MQ
@]-'-"...(IV) (In the above formula, R6 is a monovalent organic aromatic group, R7 is a monovalent organic aliphatic group selected from an alkyl group, a cycloalkyl group, and a substituted alkyl group, R8 is a polyvalent organic group constituting a heterocyclic or fused ring structure selected from aliphatic groups and aromatic groups; A selected element belonging to Group Va, M represents a metal or metalloid, and Q represents a halogen group,
a is 0 to 3 when X is an element belonging to Group VIa
an integer of 0 to 0 if X is an element belonging to Group Va
an integer of 4, b is an integer of 0 to 2, C is an integer of O or 1 when X is an element belonging to group VIa, X is an integer of group V
In the case of an element belonging to group a, f is an integer of O~2, f is M
is an integer from 2 to 7 in valence, e is an integer greater than f and less than or equal to 8, and the sum of a, b, and C is 3 if X is an element belonging to group Vla, and In the case of an element belonging to the Va group, examples thereof include compounds represented by 4 and d=ef).

また、光感知性の芳香族ハロニウム塩としては、下記一
般V) [(R9)*  (R’)hX]i’  [MQJ  
]−”−”   ・・・ (V)(上記式中、R9は一
価の芳香族有機基、−は二価の芳香族有機基、Xはハロ
ゲン基、Mは金属または半金属及びQはハロゲン基をそ
れぞれ表わし、gはOまたは2の整数かつhは0または
lの整数であって、gとhの和が2またはXの原子価に
等しく、iはに−tに等しく、lはMの原子価に等しい
2〜7の整数であり、kは!よりも大きい8までの整数
である)で表される化合物が挙げられる。
In addition, as photosensitive aromatic halonium salts, the following general V) [(R9)* (R')hX]i' [MQJ
]-"-" ... (V) (In the above formula, R9 is a monovalent aromatic organic group, - is a divalent aromatic organic group, X is a halogen group, M is a metal or metalloid, and Q is each represents a halogen group, g is an integer of O or 2, h is an integer of 0 or l, the sum of g and h is equal to 2 or the valence of X, i is equal to -t, and l is is an integer from 2 to 7 equal to the valence of M, and k is an integer up to 8 that is larger than !).

上記第■a族若しくは第Va族に属する元素を含む光感
知性の芳香族オニウム塩化合物の具体例としては、例え
ば などの第VIa族に属する元素の光感知性の芳香族オニ
ウ、ム塩などを挙げることができる。
Specific examples of the photosensitive aromatic onium salt compounds containing elements belonging to Group IVa or Group Va include photosensitive aromatic onium salts of elements belonging to Group VIa, such as can be mentioned.

また、光感知性の芳香族ハロニウム塩の具体例としては
、例えば、 等が挙げられる。
Moreover, as a specific example of the photosensitive aromatic halonium salt, the following may be mentioned.

尚、L記のようなルイス酸を放出する重合開始剤(ii
i)に加えて、エポキシ樹脂の硬化剤として一般に広く
知られているポリアミン、ポリアミド、酸無水物、三フ
ッ化ホウ素−アミンコンプレックス、ジシアンジアミド
、イミダゾール類、イミダゾールと金属塩のコンプレッ
クス等の硬化剤を必要に応じて用いてもよい。
In addition, a polymerization initiator (ii) that releases a Lewis acid such as L
In addition to i), curing agents such as polyamines, polyamides, acid anhydrides, boron trifluoride-amine complexes, dicyandiamide, imidazoles, and complexes of imidazole and metal salts, which are generally widely known as curing agents for epoxy resins, can be used. It may be used as necessary.

本発明に用いる樹脂硬化膜形成用の活性エネルギー線硬
化型樹脂組成物には、該組成物に含有させる線状高分子
(i)として光重合性を有するものを用い、かつ光重合
させる際に波長250n■〜450nmの活性エネルギ
ー線を用いる場合には、本発明に言うところの重合開始
剤(iii)に加えて、活性エネルギー線の作用により
賦活化し得る右RM離ラジカル生成性のラジカル重合開
始剤を該樹脂組成物中に添加しておくことが好ましい、
このラジカル重合開始剤としては、活性エネルギー線に
よって賦活化し、有機遊離ラジカルを生成して、ラジカ
ル重合を開始させる性質を有する公知の物質を特に限定
することなく使用できる。
In the active energy ray-curable resin composition for forming a cured resin film used in the present invention, a linear polymer (i) that is photopolymerizable is used as the linear polymer (i) contained in the composition, and when photopolymerized, When using active energy rays with a wavelength of 250 nm to 450 nm, in addition to the polymerization initiator (iii) referred to in the present invention, a radical polymerization initiator capable of generating right RM separation radicals that can be activated by the action of the active energy rays is used. It is preferable to add the agent into the resin composition,
As this radical polymerization initiator, any known substance having the property of being activated by active energy rays, generating organic free radicals, and initiating radical polymerization can be used without particular limitation.

そのようなラジカル重合開始剤を具体的に示せば、ベン
ジル、ベンゾインアルキルエーテル類:ベンゾインイソ
ブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ペ
ンツイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインメチルエーテルなど、ベンゾフェノン
類:ベンゾフェノン、4.4′−ビス(N、 N−ジエ
チルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾフェノンメチルエ
ーテルなど、アントラキノン類:2−二チルアントラキ
ノン、2−tブチルアントラキノンなど、キサントン類
:2,4−ジメチルチオキサントン、2.4−ジイソプ
ロピルチオキサントンなど、アセトフェノン類:2,2
−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、α、α−
ジクロロー4−フェノキシアセトフェノン、p −te
rt−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert
−ブチルジクロロアセトフェノン、2.2−ジェトキシ
アセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノンな
ど、あるいはヒドロキシシクロへキシルフェこルケトン
(イルガキュア184  チバーガイギー株製)、1−
(4−インプコビルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン−1−オン(ダロキュア1116  メ
ルク(MERCK)[製)、2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−フェニル−プロパン−1−オン(グロキュア1
173  メルク補装)等が好適に用いられるものとし
て挙げられる。これらのラジカル重合開始剤に加えて、
光重合促進剤とり、てアミノ化合物を添加してもよい。
Specific examples of such radical polymerization initiators include benzyl, benzoin alkyl ethers: benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, pentwin-n-butyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin methyl ether, etc., benzophenones: benzophenone, 4 .4'-bis(N,N-diethylamino)benzophenone, benzophenone methyl ether, etc., anthraquinones: 2-dithylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, etc., xanthones: 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diisopropyl Acetophenones such as thioxanthone: 2,2
-dimethoxy-2-phenylacetophenone, α, α-
Dichloro-4-phenoxyacetophenone, p-te
rt-butyltrichloroacetophenone, p-tert
-butyl dichloroacetophenone, 2,2-jetoxyacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, etc., or hydroxycyclohexylphecol ketone (Irgacure 184 manufactured by Civer Geigy), 1-
(4-impcobylphenyl)-2-hydroxy-2-
Methylpropan-1-one (Darocur 1116 manufactured by MERCK), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (Glocure 1
173 Merck Compensation) etc. are preferably used. In addition to these radical polymerization initiators,
An amino compound may be added in addition to a photopolymerization accelerator.

光重合促進剤に用いられるアミノ化合物としては、エタ
ノールアミン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエー
ト、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、P−
ジメチルアミノ安息香酸n−アミルエステル、p−ジメ
チルアミノ安息香酸イソアミルエステル等が挙げられる
Amino compounds used as photopolymerization accelerators include ethanolamine, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-(dimethylamino)ethylbenzoate, P-
Examples include dimethylaminobenzoic acid n-amyl ester and p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester.

本発明に用いる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を構
成する前記材料の構成比率は、線状高分子(i)の含有
量をL重量部、エポキシ樹脂(ii)の含有量を8重量
部とした場合に、L/ (L+E)が0.2〜0.8の
範囲にあり、且つルイス酸を発生する重合開始剤(ii
i)が(L+E)の100重量部に対して0.2〜15
重量部含有されることが好ましい、L/ (L+E)が
0.2より小さい場合には、該樹脂組成物中の線状高分
子の含有量が少なくなって、線状高分子に基づく支持体
との十分な密着性が発揮されなくなったり、溶剤を用い
る場合に溶剤の乾燥性が悪化して硬化して得られるパタ
ーンの表面がべたつく等の不、都合を生じる。一方、L
/ (L+E)が0.8を越えると、エポキシ樹脂の含
有量が少なくなって、活性エネルギー線に対する感度が
低下し、形成されるパターンの解(’l Ifが低下す
る等の不都合を生じる。
The composition ratio of the materials constituting the active energy ray-curable resin composition used in the present invention is such that the content of the linear polymer (i) is L parts by weight, and the content of the epoxy resin (ii) is 8 parts by weight. When L/(L+E) is in the range of 0.2 to 0.8, and the polymerization initiator (ii
i) is 0.2 to 15 per 100 parts by weight of (L+E)
When L/(L+E), which is preferably contained in parts by weight, is smaller than 0.2, the content of the linear polymer in the resin composition decreases, and the linear polymer-based support Inconveniences arise, such as insufficient adhesion with the resin, or when a solvent is used, the drying properties of the solvent deteriorate, resulting in a sticky surface of the pattern obtained by curing. On the other hand, L
/ (L+E) exceeds 0.8, the content of the epoxy resin decreases, the sensitivity to active energy rays decreases, and problems such as a decrease in the solution ('l If) of the formed pattern occur.

また、該樹脂組成物に、活性化エネルギー線の作用によ
り賦活化するラジカル重合開始剤を用いる場合の該重合
開始剤は、線状高分子(i)、エポキシ樹脂(i i)
及びルイス酸を発生する重合開始剤(iii)より成る
樹脂成分[(i)+(ii)+(iii)] 1100
重量に対して0.1〜20重量部、好ましくは1〜10
重量部の範囲である。
In addition, when a radical polymerization initiator that is activated by the action of activation energy rays is used in the resin composition, the polymerization initiator is a linear polymer (i), an epoxy resin (ii)
and a polymerization initiator (iii) that generates a Lewis acid [(i)+(ii)+(iii)] 1100
0.1 to 20 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight
Parts by weight range.

本発明で用いる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を溶
液状で用いる際、あるいはドライフィルムとする際のフ
ィルム基材であるプラスチックフィルムなどの上に塗布
する場合などに用いる溶剤としては、アルコール類、グ
リコールエーテル類、グリコールエステル類等の親水性
溶剤などが挙げられる。もちろん、これら親木性溶剤を
主体とし、それらに必要に応じてメチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢
酸イソブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素及びそのハロゲン置換体、塩化メチレン
、l、 1. l −トリクロルエタン等の塩素含有の
脂肪族溶剤等を適宜混合したものを用いることもできる
。尚、これら溶剤は、該樹脂組成物の現像液として用い
ることもできる。
The solvents used in the present invention include alcohols, Examples include hydrophilic solvents such as glycol ethers and glycol esters. Of course, these wood-philic solvents are the main ones, and if necessary, methyl ethyl ketone,
Ketones such as methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate and isobutyl acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene and their halogen substituted products, methylene chloride, l, 1. It is also possible to use an appropriate mixture of a chlorine-containing aliphatic solvent such as 1-trichloroethane. Incidentally, these solvents can also be used as a developer for the resin composition.

本発明で用いる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物には
、上記ラジカル重合開始剤あるいは溶剤の他、例えば縮
合架橋の触媒、熱重合禁止剤、着色剤(染料及び顔料)
、微粒子状充填剤、密着促進剤、可塑剤等の添加物を必
要に応じて含有させることができる。
In addition to the above-mentioned radical polymerization initiator or solvent, the active energy ray-curable resin composition used in the present invention includes, for example, a condensation crosslinking catalyst, a thermal polymerization inhibitor, and a coloring agent (dye and pigment).
, particulate fillers, adhesion promoters, plasticizers, and other additives may be included as necessary.

縮合架橋触媒としては、パラトルエンスルホン酸に代表
されるスルホン酸、ギ酸などのカルボン酸等が挙げられ
る。熱重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびその
誘導体、バラメトキシフェノール、フェノチアジン等が
挙げられる0着色剤としては、油溶性染料及び顔料が活
性エネルギー線の透過を実質的に防げない範囲で添加さ
れ得る。充填剤は、塗膜の硬度上昇、着色、密着性。
Examples of the condensation crosslinking catalyst include sulfonic acids typified by para-toluenesulfonic acid, and carboxylic acids such as formic acid. Examples of thermal polymerization inhibitors include hydroquinone and its derivatives, paramethoxyphenol, and phenothiazine.As colorants, oil-soluble dyes and pigments may be added to the extent that they do not substantially prevent the transmission of active energy rays. Fillers increase the hardness, color, and adhesion of the coating film.

機械的強度上昇のために、塗料一般で使用される体質顔
料、プラスチック微粒子等が用いられる。
To increase mechanical strength, extender pigments, plastic particles, etc., which are commonly used in paints, are used.

密着促進剤としては、無機質表面改質剤としてのシラン
カップリング剤、低分子界面活性剤が該樹脂組成物に有
効である。
As adhesion promoters, silane coupling agents as inorganic surface modifiers and low molecular surfactants are effective for the resin composition.

以上説明した活性エネルギー線硬化型樹脂組成物をドラ
イフィルムの態様で本発明の記録ヘッドの形成に供する
場合には一般に該組成物をフィルム状基材で支持するの
が適当である。このとき使用するフィルム状基材として
は、例えば厚さ16騨〜 100μsの二軸延伸された
ボ、リエチレンテレフタレートフィルム、三酢酸セルロ
ース、ポリ−1−フッ化ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリ−4−メチルペンテン−1,ポリ
エチレン、ポリプロピレンおよびこれらのラミネートま
たは共押出しフィルム等が使用できるものとして挙げら
れる。また、上記のようなフィルム状基材に該組成物を
積層してドライフィルムを製造する際の積層方法として
は、ロールコータ−、バーコーター等を用いた塗布法、
浸漬、スプレー塗布、へヶ塗り等の周知の方法を用いる
ことができる。
When the active energy ray-curable resin composition described above is used in the form of a dry film to form the recording head of the present invention, it is generally appropriate to support the composition with a film-like base material. Examples of film-like substrates used at this time include biaxially stretched films with a thickness of 16 to 100 μs, polyethylene terephthalate film, cellulose triacetate, poly-1-vinyl fluoride, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, Possible examples include poly-4-methylpentene-1, polyethylene, polypropylene, and laminates or coextruded films thereof. In addition, as a lamination method when producing a dry film by laminating the composition on a film-like base material as described above, a coating method using a roll coater, a bar coater, etc.
Well-known methods such as dipping, spray coating, and coating can be used.

また、このようなドライフィルムを用いたパターンの形
成方法としては、例えば記録ヘッドの液体吐出エネルギ
ー発生素子の設けられた基板や覆いとなる板材等のパタ
ーンを形成すべき所望の支持体上に、ゴムロール等の弾
力性を有するロールを用いてドライフィルムを積層した
後、加温、加圧可能な周知のラミネート装置を用いてド
ライフィルムを支持体に固着させ、次いでドライフィル
ムのフィルム状基材を除去するか、または除去すること
なく、マスキングをした上で活性エネルギー線を照射す
るか、あるいは活性エネルギー線を選択照射する等の方
法によって行なうとよい。
Further, as a method for forming a pattern using such a dry film, for example, on a desired support on which a pattern is to be formed, such as a substrate on which a liquid ejection energy generating element of a recording head is provided or a plate material serving as a cover, After laminating the dry film using elastic rolls such as rubber rolls, the dry film is fixed to the support using a well-known laminating device that can be heated and pressurized, and then the film-like base material of the dry film is laminated. This may be carried out by removing or not removing, masking and irradiating active energy rays, or selectively irradiating active energy rays.

以上のような組成からなる樹脂組成物を活性エネルギー
線によって硬化させて、本発明の記録ヘッドの有する樹
脂硬化膜3Hが形成される。
The cured resin film 3H of the recording head of the present invention is formed by curing the resin composition having the above composition with active energy rays.

以下、樹脂硬化膜3H形成用の樹脂組成物としてドライ
フィルムタイプのもを用いた場合を一例として、図面を
用いて本発明の液体噴射記録ヘッドの製造方法を詳細に
説明する。
Hereinafter, the method for manufacturing a liquid jet recording head of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, taking as an example a case where a dry film type resin composition is used as the resin composition for forming the cured resin film 3H.

第2図〜第6図は、本発明の液体噴射記録ヘッドの製作
手順を説明するための模式図である。
2 to 6 are schematic diagrams for explaining the manufacturing procedure of the liquid jet recording head of the present invention.

本発明の液体噴射記録ヘッドを形成するには、まず、第
2図に示すように、ガラス、セラミック、プラスチック
あるいは金属等の基板1上に発熱素子やピエゾ素子等の
吐出エネルギー発生素子2が所望の個数配置される。尚
、必要に応じて記録用液体に対する耐性、電気絶縁性等
を基板1表面に付与する目的で、該表面に5iOz、T
a205、ガラス等の保護層を被覆してもよい、また、
吐出エネルギー発生素子2には、図示されていないが、
記録信号入力用電極が接続しである。
In order to form the liquid jet recording head of the present invention, first, as shown in FIG. The number of pieces will be placed. In addition, for the purpose of imparting resistance to recording liquid, electrical insulation, etc. to the surface of the substrate 1 as necessary, 5iOz, T is applied to the surface of the substrate 1.
a205, may be coated with a protective layer such as glass, and
Although not shown in the ejection energy generating element 2,
The recording signal input electrode is connected.

次に、第2図の工程を経て得られた基板1の表面を清浄
化すると共に例えば80〜150℃で乾燥させた後、第
3図(a)及び第3図(b)に示したようにドライフィ
ルムタイプ(膜厚、約20−〜20〇−)の前述した活
性エネルギー線硬化型樹脂組成物3を、40〜150℃
程度に加温して、例えば0.5〜Q、4 f /rai
n、の速度、1〜3 Kg/ c+s2の加圧条件下で
基板面IA上にラミネートする。
Next, after cleaning the surface of the substrate 1 obtained through the process shown in FIG. 2 and drying it at, for example, 80 to 150°C, as shown in FIGS. 3(a) and 3(b), The above-mentioned active energy ray-curable resin composition 3 of dry film type (film thickness, about 20-200 mm) was heated at 40-150°C.
For example, 0.5 to Q, 4 f/rai
The substrate is laminated onto the substrate surface IA at a speed of n, under pressure conditions of 1 to 3 Kg/c+s2.

続いて、第4図に示すように、基板面IA上に設けたド
ライフィルム層3上に、活性エネルギー線を透過しない
所定の形状のパターン4Pを有するフォトマスク4を重
ね合わせた後、このフォトマスク4の上部から露光を行
なう。
Subsequently, as shown in FIG. 4, a photomask 4 having a pattern 4P of a predetermined shape that does not transmit active energy rays is superimposed on the dry film layer 3 provided on the substrate surface IA. Exposure is performed from the top of the mask 4.

なお、フォトマスク4と基板1との位置合わせ11、露
光、現像処理等の工程を経て、最終的に形成される液体
通路領域中に上記素子2が位置するように行なわれ、例
えば、位置合せマークを、基板1とマスク4のそれぞれ
に予め描いておき、そのマークに従って位置合わせする
方法等によって実施できる。
It should be noted that through processes such as alignment 11 of the photomask 4 and the substrate 1, exposure, and development processing, the element 2 is positioned in the liquid passage area that is finally formed. This can be carried out by drawing marks on each of the substrate 1 and the mask 4 in advance and aligning them according to the marks.

このように露光を行うと、前記パターンに覆われた領域
以外、すなわちドライフィルム層3の露光された部分が
重合硬化し、露光されなかった部分が、溶剤可溶性のま
まであるのに対して溶剤不溶性となる。
When exposed in this way, the area other than the area covered by the pattern, that is, the exposed area of the dry film layer 3, polymerizes and hardens, and the unexposed area remains solvent soluble, whereas the solvent Becomes insoluble.

このパターン露光に用いる活性エネルギー線としては、
既に広く実用化されている紫外線あるいは電子線などが
挙げられる。紫外線光源としては、波長250nm〜4
50r++sの光を多く含む高圧水銀灯、超高圧水銀灯
、メタルハライドランプ等が挙げられ、実用的に許容さ
れるランブー被照射物間の距離において385nmの近
傍の光の強度が1mW/cm2〜10011w/c11
2程度のものが好ましい、電子線照射装置としては、特
に限定はないが、 0.5〜20 M Radの範囲の
線量を有する装置が実用的に適している。
The active energy rays used for this pattern exposure are:
Examples include ultraviolet rays and electron beams, which have already been widely put into practical use. As an ultraviolet light source, the wavelength is 250 nm to 4
Examples include high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, and metal halide lamps that contain a lot of 50r++s light, and the intensity of light in the vicinity of 385 nm is 1 mW/cm2 to 10011 w/c11 at a practically acceptable distance between the irradiated objects.
Although there is no particular limitation on the electron beam irradiation device, which preferably has a dose of about 2.2 M Rad, a device with a dose in the range of 0.5 to 20 M Rad is practically suitable.

ドライフィルム層3のパターン露光を終了したら、次に
、露光済みのドライフィルム3を、例えばt、t、t−
トリクロルエタン等の揮発性有機溶剤中に浸漬するなど
して現像処理し、溶剤可溶性であるドライフィルム層3
の未重合(未硬化)部分を基板1上から溶解除去し、第
5図(a)および第5図(b)に示すように基板1上に
残存した樹脂硬化膜3Hによって最終的に液体通路6−
2及び液室6−1となる溝を形成する。
After pattern exposure of the dry film layer 3 is completed, next, the exposed dry film 3 is exposed to t, t, t-
A dry film layer 3 that is soluble in a solvent is developed by being immersed in a volatile organic solvent such as trichloroethane.
The unpolymerized (unhardened) portion of the resin is dissolved and removed from the substrate 1, and the cured resin film 3H remaining on the substrate 1 finally forms a liquid passage as shown in FIGS. 5(a) and 5(b). 6-
2 and a groove that will become the liquid chamber 6-1 is formed.

次に、基板1上の硬化樹脂膜3Hを、少なくとも80℃
以上の温度で、lO分〜3時間程度加熱し熱重合させる
。なお、ドライフィルム3に熱硬化性の線状高分子を含
有させである場合等には、この加熱処理の温度を、少な
くとも100’Cとすると良い。
Next, the cured resin film 3H on the substrate 1 is heated to at least 80°C.
The mixture is heated at the above temperature for about 10 minutes to 3 hours for thermal polymerization. In addition, when the dry film 3 contains a thermosetting linear polymer, the temperature of this heat treatment is preferably at least 100'C.

なお、本例の記録ヘー、ドにおいては、液体通路6−2
及び液室6−1となる溝の形成に、ドライフィルムタイ
プの樹脂組成物、つまり固体状のものを使用した例につ
いて説明しているが、本発明の記録ヘッドの形成に際し
て使用できる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物として
は、固体状のもののみに限られるものではなく、液状の
ものももちろん使用可能である。
In addition, in the recording head of this example, the liquid passage 6-2
An example is described in which a dry film type resin composition, that is, a solid material is used to form the grooves that will become the liquid chambers 6-1. The curable resin composition is not limited to solid ones, and of course liquid ones can also be used.

基板上に液状の樹脂組成物を用いて該組成物からなる層
を形成する方法としては、例えばレリーフ画像の作製時
に用いられるスキージによる方法、すなわち所望の樹脂
組成物の塗膜の厚さに相当した高さの壁を基板の周囲に
設け、スキージによって余分な樹脂組成物を除去する方
法等を挙げることができる。この場合、樹脂組成物の粘
度は、100cp 〜3000cpが適当である。また
、基板の周囲に置く壁の高さは、感光性樹脂組成物の含
有する溶剤分の蒸発による減量分を見込んで決定する必
要がある。
A method for forming a layer made of a liquid resin composition on a substrate using a squeegee, which is used when creating a relief image, for example, is a method that corresponds to the thickness of the coating film of the desired resin composition. For example, a method may be used in which a wall with a certain height is provided around the substrate and excess resin composition is removed using a squeegee. In this case, the appropriate viscosity of the resin composition is 100 cp to 3000 cp. Further, the height of the wall placed around the substrate must be determined in consideration of the amount of weight loss due to evaporation of the solvent contained in the photosensitive resin composition.

また、固体状の樹脂組成物を用いる場合には、前記のよ
うにドライフィルムを基板上に加熱圧着して貼着する方
法等が好適である。
In addition, when using a solid resin composition, the method of attaching a dry film to the substrate by heat-pressing as described above is suitable.

しかしながら、本発明の記録ヘッドを形成するに際して
は、取扱い上で、あるいは厚さの制御が容易かつ正確に
できる点に於いて、固体状のフィルムタイプのものが便
利である。
However, when forming the recording head of the present invention, it is convenient to use a solid film type recording head in terms of handling and the fact that the thickness can be easily and accurately controlled.

このようにして、樹脂硬化膜3Hによって最終的に液体
通路6−2及び液室8−1を構成する溝を形成した後、
第6図(a)及び第6図(b)に示すように、溝の覆い
となる平板7を樹脂硬化膜3H上に接着剤に接合し、接
合体を形成する。
In this way, after forming the grooves that will finally constitute the liquid passage 6-2 and the liquid chamber 8-1 using the cured resin film 3H,
As shown in FIGS. 6(a) and 6(b), the flat plate 7 that covers the groove is bonded to the cured resin film 3H with an adhesive to form a bonded body.

第6図(a)及び第6図(b)に示した工程に於いて、
覆い7を付設する具体的な方法としては、例えばガラス
、セラミック、金属、プラスチック等の平板7にエポキ
シ樹脂系接着剤を厚さ3〜4−にスピンコードした後、
予備加熱して接着剤層を、いわゆるBステージ化させ、
これを硬化したドライフィルム3H上に貼り合わせた後
前記接着剤層を、本硬化させる等の方法があるが、アク
リル系樹脂、ABS樹脂、ポリエチレン等の熱可塑性樹
脂の平板7を樹脂硬化膜3H上に、直接、熱融着させる
等の接着剤を使用しない方法でも良い。
In the steps shown in FIG. 6(a) and FIG. 6(b),
A specific method for attaching the cover 7 is, for example, after applying an epoxy resin adhesive to the flat plate 7 of glass, ceramic, metal, plastic, etc. to a thickness of 3 to 4 mm,
The adhesive layer is preheated to a so-called B stage,
There is a method such as bonding this onto the cured dry film 3H and then curing the adhesive layer. A method that does not use an adhesive, such as directly heat-sealing the film, may also be used.

また、覆い7の液体通路と接合する側に、本発明におけ
る樹脂硬化膜形成用の樹脂組成物からなる樹脂層を設け
、これを液体通路を形成した樹脂硬化膜3Hと熱融着さ
せ、しかる後に活性エネルギー線を照射して加熱すると
いう方法、すなわち本発明における樹脂硬化膜形成用の
樹脂組成物を接着剤として用いる方法も好ましい。
Further, a resin layer made of the resin composition for forming a cured resin film according to the present invention is provided on the side of the cover 7 that is joined to the liquid passage, and this is heat-sealed to the cured resin film 3H forming the liquid passage. Also preferable is a method in which active energy rays are irradiated and heated afterwards, that is, a method in which the resin composition for forming a cured resin film of the present invention is used as an adhesive.

尚、第6図に於いて、e−tは液室、8−2は液体通路
、8は液室8−1に不図示の記録ヘッド外部から内部へ
記録用液体を供給するための供給管(不図示)を連結す
るための貫通孔を示す。
In FIG. 6, e-t is a liquid chamber, 8-2 is a liquid passage, and 8 is a supply pipe for supplying recording liquid from the outside of the recording head (not shown) to the inside of the recording head. (not shown).

このようにして、基板l上に設けられた樹脂硬化膜3H
と平板7との接合が完了した後、この接合体を第6図(
a)及び第6図(b)に示した液体通路8−2の下流側
にあたるc−c ′に添って切削して、切削面に於ける
液体通路の開口部である、記録用液体を吐出するための
オリフィスを形成する。
In this way, the resin cured film 3H provided on the substrate l
After completing the joining of the and flat plate 7, this joined body is shown in Fig. 6 (
A) and along c-c' on the downstream side of the liquid passage 8-2 shown in FIG. form an orifice for

この工程は、吐出エネルギー発生素子2とオリフィス9
との間隔を適正化するために行なうものであり、ここで
切削する領域は適宜選択される。
This process involves the ejection energy generating element 2 and the orifice 9.
This is done to optimize the distance between the two, and the area to be cut here is selected as appropriate.

この切削に際しては、半導体工業で通常採用されている
ダイシング法等を採用することができる。
For this cutting, a dicing method or the like commonly employed in the semiconductor industry can be employed.

なお、本発明でいう液体通路下流部とは、記録ヘッドを
用いて記録を行なっている際の記録用液体の流れ方向に
於ける下流領域、具体的には、吐出エネルギー発生素子
2の設置位置より下流の液体通路の部分を言う。
Note that the downstream part of the liquid path in the present invention refers to the downstream region in the flow direction of the recording liquid when recording is performed using a recording head, specifically, the installation position of the ejection energy generating element 2. Refers to the part of the liquid passage further downstream.

切削が終了したところで、切削面を研磨して平滑化し、
貫通孔8に供給管lOを取付けて第1図に示したような
液体噴射記録ヘッドを完成する。
Once cutting is complete, the cut surface is polished and smoothed.
A supply pipe IO is attached to the through hole 8 to complete a liquid jet recording head as shown in FIG.

以上説明した例では、基板l上に樹脂硬化膜3Hを形成
した後、これに覆い7が接合されたが、覆い7の所定面
に樹脂硬化膜3Hを設けてから、これを基板l上に接合
しても良い、また先に説明した活性−ネルイー線硬化型
樹脂組成物からなる部材から少なくとも液体通路6−2
を形成する溝に相当する部分を除去して、液体通路とな
る溝を形成する樹脂硬化膜3Hと覆い7とが一体化され
てともに該活性エネルギー線硬化型樹脂組成物から形成
されたものを形成し、これを基板上に接合して記録ヘッ
ドを形成しても良い。
In the example described above, after the cured resin film 3H was formed on the substrate l, the cover 7 was joined to it. At least the liquid passage 6-2 may be connected to the member made of the activated-Nelli radiation-curable resin composition described above.
By removing the portion corresponding to the groove forming the liquid passage, the resin cured film 3H forming the groove forming the liquid passage and the cover 7 are integrated and are both formed from the active energy ray curable resin composition. The recording head may also be formed by forming a recording head and bonding this onto a substrate.

また、以上に説明した記録ヘッドに於いては、液体通路
6−2と液室6−1が樹脂硬化膜3Hによって一体成形
されているが、本発明の記録ヘッドはこのような構造に
限定されるものではなく、液体通路と液室を別々に成形
したものでもよい、しかしながら、何れの構造を取る場
合においても、本発明の記録ヘッドは、液体通路を形成
する樹脂の少なくとも一部が、先に挙げた活性エネルギ
ー線硬化型樹脂組成物を用いて形成されたものである。
Further, in the recording head described above, the liquid passage 6-2 and the liquid chamber 6-1 are integrally molded by the cured resin film 3H, but the recording head of the present invention is not limited to such a structure. However, in either structure, in the recording head of the present invention, at least a part of the resin forming the liquid passage may be formed by molding the liquid passage and the liquid chamber separately. It is formed using the active energy ray-curable resin composition listed in .

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の液体噴射記録ヘッドは、該ヘッドの構成部材で
ある活性エネルギー線硬化型樹脂組成物として、該組成
物に必須成分として含有されたエポキシ樹脂(ii)と
ルイス酸を発生する重合開始剤(iii)とによって主
に付与されたパターン形成材料としての活性エネルギー
線に対する非常に優れた感度と解像度を有するものを用
いたものであり、該活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
を用いることによって、寸法精度に優れた液体噴射記録
ヘッドを歩留り良く得ることが可能になった。
The liquid jet recording head of the present invention includes an active energy ray-curable resin composition that is a component of the head, and an epoxy resin (ii) contained as an essential component in the composition and a polymerization initiator that generates a Lewis acid. (iii) The pattern forming material mainly provided by the method uses a pattern forming material that has very excellent sensitivity and resolution to active energy rays, and by using the active energy ray curable resin composition, It has become possible to obtain a liquid jet recording head with excellent dimensional accuracy at a high yield.

また、本発明に用いる樹脂硬化膜形成用の活性エネルギ
ー線硬化型樹脂組成物は、必須成分としての線状高分子
(i)及びエポキシ樹脂(i i)の特性が有効に活さ
れており、すなわち木発[Jlの樹脂組成物は、主に、
線状高分子(i)によって付与される優れた支持体との
密着性及び機械的強度に加えて、主に、エポキシ樹脂(
i i)によって付与される優れた耐薬品性及び1法安
定性とを有しており、該組成物を用いることによって長
期の耐久性を有する記録ヘー、ドを得ることも可能にな
った。
In addition, the active energy ray-curable resin composition for forming a cured resin film used in the present invention effectively utilizes the characteristics of the linear polymer (i) and the epoxy resin (ii) as essential components. In other words, the resin composition of wood [Jl] is mainly made of
In addition to the excellent adhesion to the support and mechanical strength provided by the linear polymer (i), the epoxy resin (
It has excellent chemical resistance and one-method stability imparted by i), and by using this composition, it has become possible to obtain a recording head with long-term durability.

更に、硬化性を有する線状高分子を用いた活性エネルギ
ー線硬化型樹脂組成物を使用した場合には、L記密着性
、機械的強度あるいは耐薬品性に更に優れた液体噴射記
録へ一7ドを得ることが可能である。
Furthermore, when an active energy ray-curable resin composition using a linear polymer having curability is used, liquid jet recording with even better adhesion, mechanical strength, or chemical resistance can be achieved. It is possible to obtain a

〔実施例〕〔Example〕

以下、合成例および実施例により本発明を更に詳細に説
明する。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Synthesis Examples and Examples.

合成例1 メチルメタクリレートとブチルカルバミルエチルメタア
クリレートとブトキシメチルアクリルアミド(= 80
/10/10モル比)とをトルエン中で溶液重合し、重
量平均分子量1.4 XIO3、ガラス転移温度75℃
の熱架橋性を有する線状高分子化合物(これをLP−2
とする)を得た。
Synthesis Example 1 Methyl methacrylate, butyl carbamylethyl methacrylate, and butoxymethyl acrylamide (= 80
/10/10 molar ratio) in toluene to obtain a weight average molecular weight of 1.4 XIO3 and a glass transition temperature of 75°C.
A linear polymer compound with thermal crosslinking properties (this is called LP-2
) was obtained.

このLP−2を用い、下記組成の活性エネルギー線硬化
型樹脂組成物を調製した。
Using this LP-2, an active energy ray-curable resin composition having the following composition was prepared.

L P −2100重量部 エピコートtoot末4        60   /
/エピクロンN−730求5       40  〃
セロキサイド2021        50  ttト
リフェニルスルホニウム       11テトラフル
オロポレート12〃 クリスタルバイオレット      0.51/メチル
イソブチルケトン     200  ttトルエン 
          100  ttI:油化シェルエ
ポキシ(株)製のビスフェノールAタイプのエポキシ樹
脂 エポキシ当量、450〜500 攻5:大日本インキ化学工業(株)製のフェノールノボ
チックタイプのエポキシ樹脂 エポキシ当量、 170〜180 この組成物を厚さ16鱗のポリエチレンテレフタレート
フィルム(ルミラーTタイプ)に乾燥後の厚さが75−
となるように八−ツーターで塗布して、100℃、 1
0分間乾燥させて、ドライフィルムタイプの上記の組成
の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物層を有するフィル
ムを形成し、以後の本発明の記録ヘッドの形成に用いた
LP-2100 parts by weight Epicoat toot powder 460/
/ Epicron N-730 request 5 40 〃
Celloxide 2021 50 tt Triphenylsulfonium 11 Tetrafluoroporate 12 Crystal Violet 0.51/Methyl Isobutyl Ketone 200 tt Toluene
100 ttI: Bisphenol A type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. Epoxy equivalent weight, 450-500 Attack 5: Phenol nobotic type epoxy resin manufactured by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd. Epoxy equivalent weight, 170-180 This composition was applied to a polyethylene terephthalate film (Lumirror T type) with a thickness of 16 scales and a thickness of 75 mm after drying.
Apply with an 8-two tool and heat at 100℃, 1
This was dried for 0 minutes to form a dry film type film having an active energy ray-curable resin composition layer having the above composition, which was used in the subsequent formation of the recording head of the present invention.

合成例2 メチルメタクリレートとアクリル酸と2−ヒドロキシエ
チルメタアクリレート(=70/10/20モル比)と
をトルエン中で溶液重合し共重合体を得た0次にこの共
重合体中のカルボキシル基に対して当量のグリシジルメ
タアクリレートを添加し触媒としてのトリエチルベンジ
ルアンモニウムクロライドを用い80℃で反応させ重量
平均分子量1.lXl0’、ガラス転移温度96℃の光
架橋性を有する線状高分子化合物(これをLP−3とす
る)を得た。
Synthesis Example 2 A copolymer was obtained by solution polymerizing methyl methacrylate, acrylic acid, and 2-hydroxyethyl methacrylate (=70/10/20 molar ratio) in toluene. An equivalent amount of glycidyl methacrylate is added thereto, and the reaction is carried out at 80° C. using triethylbenzylammonium chloride as a catalyst to give a weight average molecular weight of 1. A photocrosslinkable linear polymer compound (referred to as LP-3) with a glass transition temperature of 96°C and a glass transition temperature of 96°C was obtained.

このLP−3を用い、下記組成の活性エネルギー線硬化
型樹脂組成物を調製した。
Using this LP-3, an active energy ray-curable resin composition having the following composition was prepared.

LP−3100重量部 エピクロン83018         80   /
/エピコート152本7         60   
//セロキサイド2021        50  /
/ジフェニルヨードニウム テトラフルオロポレート     12//クリスタル
バイオレツト      0.5〃メチルイソブチルケ
トン     200  ttトルエン       
    100〃t6二大日本インキ化学工業(株)製
のビスフェノールFタイプのエポキシ樹脂 エポキシ当量、170〜190 衣7:油化シェルエポキシ(株)製のクレゾールノボラ
ックタイプのエポキシ樹脂 エポキシ当量、172〜179 この組成物を16−のポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(ルミラーTタイプ)に乾燥後の厚さが75−とな
るようにバーコーターで塗布した。その上に25−のポ
リエチレンフィルムを加圧ラミネートすることにより塗
膜を保護し、ドライフィルムタイプの上記の組成の活性
エネルギー線硬化型樹脂組成物層を有するフィルムを形
成し、以後の本発明の記録ヘッドの形成に用いた。
LP-3100 parts by weight Epicron 83018 80 /
/ Epicote 152 bottles 7 60
//Celoxide 2021 50/
/ diphenyliodonium tetrafluoroporate 12 // crystal violet 0.5 methyl isobutyl ketone 200 tt toluene
100 t6 Bisphenol F type epoxy resin manufactured by Nidai Nippon Ink Chemical Industry Co., Ltd. Epoxy equivalent weight, 170-190 Coating 7: Cresol novolak type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. Epoxy equivalent weight, 172-179 This composition was coated on a 16-inch polyethylene terephthalate film (Lumirror T type) using a bar coater so that the thickness after drying was 75-inch. The coating film is protected by pressure laminating a 25-g polyethylene film thereon to form a dry film type film having an active energy ray curable resin composition layer having the above composition. It was used to form a recording head.

実施例1 合成例1で製造したドライフィルムを用い、先に明細書
中で説明した第1図〜第6図の工程に従って、吐出エネ
ルギー発生素子として発熱素子[ハフニウムポライド(
HfB2) ] 10個のオリフィス(オリフィス寸法
;75μs×50μ、ピッチ0.125■■)を有する
オンデマンド型液体噴射記録ヘッドの作成を以下のよう
にして実施した。尚、記録ヘッドは、同形状のものを各
30個宛試作した。
Example 1 Using the dry film produced in Synthesis Example 1, a heating element [hafnium polide (
HfB2) ] An on-demand liquid jet recording head having 10 orifices (orifice dimensions: 75 μs×50 μ, pitch 0.125) was fabricated as follows. Incidentally, 30 recording heads each having the same shape were prototyped.

まず、シリコンからなる基板上に発熱素子の複数を所定
の位置に配設し、これらに記録信号印加用電極を接続し
た。
First, a plurality of heating elements were arranged at predetermined positions on a substrate made of silicon, and recording signal application electrodes were connected to these heating elements.

次に1発熱素子が配設された基板面上に保護膜としての
5i02層(厚さ1.0μs)を設け、保護層の表面を
清浄化すると共に乾燥させた後、保護層に重ねて、80
℃に加温された合成例1で得たフィルムを、ホットロー
ル式ラミネータ(商品名HRL−24、デュポン(株)
社製)を用い、ロール温度80℃、Is/winの速度
、l Kg/as2ty)加圧条件下でラミネートした
。なお、この状態で、基板上にラミネートされた活性エ
ネルギー線硬化型樹脂組成物からなる層上には、ポリエ
チレンテレフタレートフィルムが積層されている。
Next, a 5i02 layer (thickness: 1.0 μs) was provided as a protective film on the substrate surface on which one heating element was arranged, and after cleaning and drying the surface of the protective layer, it was stacked on the protective layer. 80
The film obtained in Synthesis Example 1 heated to
Lamination was carried out under pressure conditions using a roll temperature of 80° C., a speed of Is/win, and a pressure of 1 Kg/as2ty). In this state, a polyethylene terephthalate film is laminated on the layer made of the active energy ray-curable resin composition laminated on the substrate.

続いて、基板面上に設けたドライフィルム上に、液体通
路及び液室の形状に対応したパターンを有するフォトマ
スクを重ね合わせ、最終的に形成される液体通路中に上
記素子が設けられるように位置合せを行なった後、この
フォトマスクの上部から照射表面において254ns近
傍の照度が34mW/as2になるような高圧水銀灯を
用いて50秒間露光した。
Next, a photomask having a pattern corresponding to the shape of the liquid passage and the liquid chamber is superimposed on the dry film provided on the substrate surface, so that the above-mentioned element is provided in the liquid passage that is finally formed. After alignment, exposure was performed for 50 seconds from the top of the photomask using a high-pressure mercury lamp with an illumination intensity of 34 mW/as2 in the vicinity of 254 ns on the irradiated surface.

露光後、パターン露光された活性エネルギー線硬化型樹
脂組成物からなる層(ドライフィルム)上からポリエチ
レンテレフタレートフィルムを剥がし、露光済みのドラ
イフィルムを、1,1.1−トリクロルエタン/ブチル
セロソルブ(270730重量比)混合液を用いて35
℃にて、60秒間のスプレ一方式によって現像処理し、
ドライフィルムの未重合(未硬化)部分を基板上から溶
解除去して、基板上に残存した硬化ドライフィルム膜に
よって最終的に液体通路及び液室となる溝を形成した。
After exposure, the polyethylene terephthalate film is peeled off from the pattern-exposed layer (dry film) made of the active energy ray-curable resin composition, and the exposed dry film is coated with 1,1,1-trichloroethane/butyl cellosolve (270,730 wt. ratio) 35 using a mixed solution
Developed by spraying for 60 seconds at ℃,
The unpolymerized (uncured) portion of the dry film was dissolved and removed from the substrate, and the cured dry film film remaining on the substrate formed grooves that would eventually become liquid passages and liquid chambers.

現像処理を終了した後、基板上の硬化ドライフィルム膜
を、80℃で10分間、加熱乾燥し、続いて10J/c
112の後露光を実施してから、さらに約150℃で6
0分間これを加熱し樹脂成分を充分硬化させた。
After completing the development process, the cured dry film film on the substrate was heated and dried at 80°C for 10 minutes, and then heated at 10J/c.
112 post-exposures followed by an additional 6 at about 150°C.
This was heated for 0 minutes to fully cure the resin component.

このようにして、硬化ドライフィルム膜によって液体通
路及び液室となる溝を基板上に形成した後、形成した溝
の覆いとなるソーダガラスからなる貫通孔の設けられた
平板にエポキシ系樹脂接着剤を厚さ3鱗にスピンコード
した後、予備加熱してBステージ化させ、これを硬化し
たドライフィルム上に貼り合わせ、更に、接着剤を本硬
化させて接着固定し、接合体を形成した。
In this way, grooves that will become liquid passages and liquid chambers are formed on the substrate using the cured dry film film, and then an epoxy resin adhesive is applied to a flat plate with through holes made of soda glass that will cover the formed grooves. After spin-coding to a thickness of 3 scales, preheating was performed to B-stage, this was bonded onto a cured dry film, and the adhesive was further cured and fixed to form a bonded body.

続いて、接合体の液体通路の下流側、すなわち吐出エネ
ルギー発生素子の設置位置から下流側へ0.150 a
mのところを液体通路に対して垂直に、市販のダイシン
グ・ソー(商品名、 DAD 2H/B型、D l5C
O社製)を用いて切削し、記録用液体を吐出するための
オリフィスを形成した。
Next, 0.150 a is applied to the downstream side of the liquid passage of the bonded body, that is, from the installation position of the ejection energy generating element.
vertically to the liquid path using a commercially available dicing saw (product name: DAD 2H/B type, D 15C).
(manufactured by O Company) to form an orifice for discharging recording liquid.

最後に、切削面を洗浄したのち乾燥させ、更に、切削面
を研磨して平滑化し、貫通孔に記録用液体の供給管を取
付けて液体噴射記録ヘッドを完成した。得られた記録ヘ
ッドは、何れもマスクパターンを忠実に再現した液体通
路及び液室を有する寸法精度に優れたものであった。ち
なみに、オリフィス寸法は、50± 5牌、オリフィス
ピッチは、125 ±5μsの範囲にあった。
Finally, the cut surface was cleaned and dried, and the cut surface was polished to make it smooth, and a recording liquid supply pipe was attached to the through hole to complete the liquid jet recording head. The resulting recording heads all had liquid passages and liquid chambers that faithfully reproduced the mask pattern, and had excellent dimensional accuracy. Incidentally, the orifice size was in the range of 50±5 tiles, and the orifice pitch was in the range of 125±5 μs.

このようにして試作した記録ヘッドの品質及び長期使用
に際しての耐久性を以下のようにして試験した。
The quality and durability of the thus prototyped recording head during long-term use were tested as follows.

まず、得られた記録ヘッドについて、次の各組成からな
る記録用液体中に、80℃で1000時間浸漬処理(記
録ヘッドの長期使用時に匹敵する環境条件)する耐久試
験を実施した。
First, the obtained recording head was subjected to a durability test in which it was immersed in a recording liquid having the following compositions at 80° C. for 1000 hours (environmental conditions comparable to those during long-term use of the recording head).

記録用液体成分 1)H20/ジエチレングリコール/ポリエチレングリ
コール#200 /1.3−ジメチル−2−イミダゾリ
ジノン/C,1,タイレクトブルー86°1/エマルゲ
ン931” /PVP K−30” (=f(2/15/1515/310.110.1重量
部) pH=8.02)H20/エチレングリコール/
ジエチレングリコール/ポリエチレングリコール#30
0/N−メチル−2−ピロリドン/C,1,フードブラ
ック 2″/エマルゲン931’ 3 (−55/10/2015151510.2重量部) 
pH−9,03))120/ジエチレングリコール/グ
リセリン/トリエチレングリコールモノメチルエーテル
/C,1,ダイレクトブJl/−88” /PVP K
−30”(−721515/15/310.1重量部)
 pi(−7,04)H20/エチレングリコール/ジ
エチレングリコール/ポリエチレングリコール#300
 /ポリエチレングリコール#400/N−メチル−2
−ピロリドン/C,1,フードブラック 2′2(=6
5/10/101515/2/3重量部) PH=10
.0尚、注)〜″は、水溶性染料であり、pHの調整に
は、カセイソーダを用いた。1′3は商品名であり、花
王石鍮■社製のポリオキシエチレンノニルフェニルエー
テル、H4は商品名であり米国GAF社製のポリビニル
ピロリドンである。
Recording liquid component 1) H20/diethylene glycol/polyethylene glycol #200/1,3-dimethyl-2-imidazolidinone/C,1, Direct Blue 86°1/Emulgen 931"/PVP K-30" (=f (2/15/1515/310.110.1 parts by weight) pH=8.02) H20/ethylene glycol/
Diethylene glycol/polyethylene glycol #30
0/N-Methyl-2-pyrrolidone/C,1, Food Black 2''/Emulgen 931' 3 (-55/10/2015151510.2 parts by weight)
pH-9,03))120/diethylene glycol/glycerin/triethylene glycol monomethyl ether/C,1, Direct BuJl/-88"/PVP K
-30” (-721515/15/310.1 parts by weight)
pi(-7,04)H20/ethylene glycol/diethylene glycol/polyethylene glycol #300
/Polyethylene glycol #400/N-methyl-2
-pyrrolidone/C, 1, food black 2'2 (=6
5/10/101515/2/3 parts by weight) PH=10
.. 0 Note) ~'' is a water-soluble dye, and caustic soda was used for pH adjustment. is a trade name of polyvinylpyrrolidone manufactured by GAF, USA.

耐久試験後、線試験を実施した各ヘッドにつき基板及び
覆いと硬化ドライフィルム膜の接合状態を観察した結果
、すべての記録ヘッドにおいて剥離や損傷は全く認めら
れず、良好な密着性を示していた。
After the durability test, we observed the state of bonding between the substrate and cover and the cured dry film for each head subjected to the line test. As a result, no peeling or damage was observed in any of the recording heads, indicating good adhesion. .

次いでこれとは別に、得られた記録ヘッドの10個につ
いて、各ヘッドを記録装置に取付け、前記の記録用液体
を用いて10Bパルスの記録信号を14時間連続的に記
録ヘッドに印加して印字を行なう印字試験を実施した。
Separately, each of the 10 recording heads obtained was attached to a recording device, and a 10B pulse recording signal was continuously applied to the recording head using the recording liquid for 14 hours to perform printing. A printing test was conducted to perform the following.

何れの記録ヘッドに関しても、印字開始直後と14時間
経過後において、記録用液体の吐出性能及び印字状態共
に性能の低下が殆ど認められず、耐久性に優れた記録ヘ
ッドであった。
With respect to any of the recording heads, almost no deterioration in performance was observed in both recording liquid ejection performance and printing condition immediately after printing started and after 14 hours had elapsed, indicating that the recording heads had excellent durability.

実施例2 合成例2で製造したドライフィルムを用い、ドライフィ
ルムの基板上へのラミネートを、該ドライフィルムに積
層しであるポリエチレンフィルムを剥がしながら行ない
、パターン露光を照射表面での照度が8■W/cm2の
ディープUVランプを用いた半導体用露光光源(P L
 A−501、キャノン(株)製)によって、150秒
間露光することによって実施し、かつ露光済みのドライ
フィルムの現像をポリエチレンテレフタレートフィルム
を剥がしてから1,1.1− )リクロルエタン/エタ
ノール(−70/30重量比)の混合液を用い35℃に
て60秒間のスプレ一方式によって実施する以外は実施
例1と同様にして液体噴射記録ヘッドの作成を実施した
Example 2 Using the dry film produced in Synthesis Example 2, the dry film was laminated onto a substrate while peeling off the polyethylene film laminated to the dry film, and pattern exposure was performed at an illuminance of 8 cm on the irradiated surface. Exposure light source for semiconductors (P L
A-501 (manufactured by Canon Co., Ltd.) for 150 seconds, and the exposed dry film was developed by peeling off the polyethylene terephthalate film and developing with 1,1.1-)lichloroethane/ethanol (-70). A liquid jet recording head was prepared in the same manner as in Example 1, except that a mixed liquid of 30% by weight was used and sprayed at 35° C. for 60 seconds.

更に作成した記録ヘッドのそれぞれについて実施例1と
同様の耐久試験及び印字試験を行なった。
Furthermore, the same durability test and printing test as in Example 1 were conducted for each of the produced recording heads.

耐久試験後、該試験を実施した各ヘッドにつき基板及び
覆いと硬化ドライフィルム膜の接合状態を観察した結果
、すべての記録ヘッドにおいて剥離や損傷は全く認めら
れず、良好な密着性を示していた。
After the durability test, we observed the state of bonding between the substrate and cover and the cured dry film for each head tested, and found that no peeling or damage was observed in any of the recording heads, indicating good adhesion. .

また、印字試験においても、何れの記録ヘッドに関して
も、印字開始直後と14時間経過後に、記録用液体の吐
出性能及び印字状態共に性能の低下は殆ど認められず、
何れの記録ヘッドも耐久性に優れたものであった。
In addition, in printing tests, there was almost no decline in the performance of any recording head, both in the recording liquid ejection performance and the printing condition, both immediately after printing started and after 14 hours.
All recording heads had excellent durability.

比較例 膜厚75騨の市販のドライフィルムVacrel (ド
ライフィルムソルダーマスクの商品名、デュボンド・ネ
モアース株製)、および膜厚50騨の市販のドライ74
ルムPhotec 5R−3000(商品名、日立化成
工業■製)を用いる以外は、実施例1と同様にして、記
録ヘッドを作成した。
Comparative Examples Commercially available dry film Vacrel (trade name of dry film solder mask, manufactured by Dubond Nemo Earth Co., Ltd.) with a film thickness of 75 mm, and commercially available Dry 74 with a film thickness of 50 mm.
A recording head was produced in the same manner as in Example 1, except that Lum Photoc 5R-3000 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used.

これらの記録ヘッドについて、実施例1と同様の耐久性
試験を実施した。
A durability test similar to that in Example 1 was conducted on these recording heads.

耐久性試験の経過中、ドライフィルムとじてVacre
lを用いた場合は、100 m間テ2)および4)の記
録用液体で剥離が認められた。また、300時間で、l
)および3)の記録用液体で剥離が認められた。
During the durability test, the dry film was
When 1 was used, peeling was observed with recording liquids 2) and 4) over a distance of 100 m. Also, in 300 hours, l
) and 3) peeling was observed with the recording liquids.

一方、ドライフィルムとしてPhotec 5R−30
00を用いた場合は、l)〜4)の各記録用液体で30
0時間で@離が認められた。
On the other hand, as a dry film, Photoc 5R-30
When using 00, each recording liquid from 1) to 4)
@ separation was observed at 0 hours.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図〜第6図は本発明の液体噴射記録ヘッドならびに
その製造方法を説明するための模式図である。 に基板 2:吐出エネルギー発生素子 3:樹脂層 3H:樹脂硬化膜 4:フォトマスク 4P:マスクパターン 6−1:液室 6−2:液体通路 7:覆い 8:貫通孔 9ニオリフイス 10:供給管 特許出願人   キャノン株式会社 (a) (b) 第1図       − 第2図 第3図        − (b) 第6図
1 to 6 are schematic diagrams for explaining the liquid jet recording head of the present invention and its manufacturing method. Substrate 2: Discharge energy generating element 3: Resin layer 3H: Cured resin film 4: Photomask 4P: Mask pattern 6-1: Liquid chamber 6-2: Liquid passage 7: Cover 8: Through hole 9 Niorifice 10: Supply pipe Patent applicant: Canon Corporation (a) (b) Figure 1 - Figure 2 Figure 3 - (b) Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)基板面に設けられ、液体の吐出口に連通する液体通
路が、活性エネルギー線によって硬化する樹脂組成物の
層に、該活性エネルギー線を用いた所定のパターン露光
を為して前記樹脂組成物の硬化領域を形成し、該層から
未硬化領域を除去して形成されている液体噴射記録ヘッ
ドであって、前記樹脂組成物が (i)ガラス転移温度が50℃以上で、且つ重量平均分
子量が約3.0×10^4以上である線状高分子と、 (ii)分子内にエポキシ基を1個以上有する化合物の
少なくとも1種を含んでなるエポキシ樹脂と、 (iii)活性エネルギー線の照射によってルイス酸を
発生する重合開始剤、 とを有してなるものであることを特徴とする液体噴射記
録ヘッド。 2)前記樹脂組成物が、前記(i)の線状高分子の含有
量をL重量部、前記(ii)の樹脂の含有量をE重量部
としたときに、L/(L+E)が0.2〜0.8の範囲
にあるように前記(i)の線状高分子及び前記(ii)
の樹脂を含有し、且つ前記(iii)の重合開始剤を(
L+E)の100重量部に対して0.2〜15重量部の
範囲で含有したものである特許請求の範囲第1項に記載
の液体噴射記録ヘッド。 3)前記(iii)の重合開始剤が芳香族ハロニウム塩
化合物、または周期率表第VIa族若しくは第Va族に属
する元素を含む光感知性を有する芳香族オニウム塩化合
物から成るものである特許請求の範囲第1項〜第2項の
いずれかに記載の液体噴射記録ヘッド。
[Claims] 1) A liquid passage provided on the substrate surface and communicating with a liquid discharge port exposes a layer of a resin composition that is cured by active energy rays in a predetermined pattern using active energy rays. A liquid jet recording head formed by forming a cured region of the resin composition and removing an uncured region from the layer, wherein the resin composition (i) has a glass transition temperature of 50°C. (ii) an epoxy resin comprising at least one compound having one or more epoxy groups in the molecule; (iii) a polymerization initiator that generates a Lewis acid upon irradiation with active energy rays. 2) In the resin composition, when the content of the linear polymer (i) is L parts by weight and the content of the resin (ii) is E parts by weight, L/(L+E) is 0. The linear polymer of (i) and the linear polymer of (ii) are in the range of .2 to 0.8.
containing the resin, and the polymerization initiator (iii) above (
The liquid jet recording head according to claim 1, wherein the liquid jet recording head contains 0.2 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of L+E). 3) A patent claim in which the polymerization initiator (iii) is composed of an aromatic halonium salt compound or a photosensitive aromatic onium salt compound containing an element belonging to Group VIa or Group Va of the Periodic Table. A liquid jet recording head according to any one of the ranges 1 to 2.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60153356A (en) * 1984-01-19 1985-08-12 Ricoh Co Ltd Detector for conveyance of multiple sheets

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60153356A (en) * 1984-01-19 1985-08-12 Ricoh Co Ltd Detector for conveyance of multiple sheets

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