JPH02125412A - バーコード付き物品とその製法 - Google Patents
バーコード付き物品とその製法Info
- Publication number
- JPH02125412A JPH02125412A JP63278818A JP27881888A JPH02125412A JP H02125412 A JPH02125412 A JP H02125412A JP 63278818 A JP63278818 A JP 63278818A JP 27881888 A JP27881888 A JP 27881888A JP H02125412 A JPH02125412 A JP H02125412A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bar
- recess
- roughness
- brightness
- barcode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 abstract description 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 22
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
- H01L2223/544—Marks applied to semiconductor devices or parts
- H01L2223/54413—Marks applied to semiconductor devices or parts comprising digital information, e.g. bar codes, data matrix
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
- H01L2223/544—Marks applied to semiconductor devices or parts
- H01L2223/54493—Peripheral marks on wafers, e.g. orientation flats, notches, lot number
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、半導体ウェハ等のバーコード付き物品及び
その製法に関するものである。
その製法に関するものである。
[発明のa要]
この発明は、例えば半導体ウェハの鏡面状の面に回転刃
等で溝切り加工を施して粗面状の底面を有するバー状凹
部を形成することにより寸法精度並びに明暗コントラス
トが良好なバーコードを実現したものである。
等で溝切り加工を施して粗面状の底面を有するバー状凹
部を形成することにより寸法精度並びに明暗コントラス
トが良好なバーコードを実現したものである。
[従来の技術]
一般に、各種の半導体デバイスを製造するにあたっては
、半導体ウェハをロフト単位で処理しており、各ロフト
は、数枚から数百枚の半導体ウェハで構成されている。
、半導体ウェハをロフト単位で処理しており、各ロフト
は、数枚から数百枚の半導体ウェハで構成されている。
そして、各半導体ウェハには、管理と認識のために番号
を付すのが通例である。
を付すのが通例である。
従来、半導体ウェハに認識番号を付す方法としては、フ
ォトリングラフィ処理によりウェハ面をエツチング加工
して認識番号対応の数字を表わすようにしたものが知ら
れている。
ォトリングラフィ処理によりウェハ面をエツチング加工
して認識番号対応の数字を表わすようにしたものが知ら
れている。
[発明が解決しようとする課題]
上記のように認識番号が付された半導体ウェハにあって
は、ウェハ面から目視によ、り認識番号を読取るのが容
易でなく、高価な数字読取装置を使用する必要があった
。
は、ウェハ面から目視によ、り認識番号を読取るのが容
易でなく、高価な数字読取装置を使用する必要があった
。
そこで、安価な読取装置の使用を可能にするため、ウェ
ハ面にバーコードを印刷することが試みられた。しかし
、半導体ウェハは、半導体デバイスの製造過程において
熱処理や薬液処理を受けることが多く、これらの処理に
より印刷部が消去されてバーコードを読取不能となる事
態が生じた。
ハ面にバーコードを印刷することが試みられた。しかし
、半導体ウェハは、半導体デバイスの製造過程において
熱処理や薬液処理を受けることが多く、これらの処理に
より印刷部が消去されてバーコードを読取不能となる事
態が生じた。
このような問題は、半導体ウェハに限らず、熱処理や薬
液処理等の厳しい環境下に置かれる他の物品についても
生じうるものである。
液処理等の厳しい環境下に置かれる他の物品についても
生じうるものである。
この発明の目的は、消えにくいバーコードを有する物品
及びその製法を提供することにある。
及びその製法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
この発明は、粗さが小さい面には粗さが大きい面を有す
るバー状部を、粗さが大きい面には粗さが小さい面を有
するバー状部を形成し、いずれの場合にも八−状部及び
その近傍面の反射率差に基づく明暗によりコード構成用
バーを表わすことを特徴とするものである。
るバー状部を、粗さが大きい面には粗さが小さい面を有
するバー状部を形成し、いずれの場合にも八−状部及び
その近傍面の反射率差に基づく明暗によりコード構成用
バーを表わすことを特徴とするものである。
バー状部を形成するには、エツチング、レーザー加工、
サンドブラスト(硬質微粒子の吹付け)等の加工法を用
いることができるが、加工幅及び加工粗さの制御の容易
な回転刃、回転砥石等の回転工具による溝切り加工を用
いるのが好ましい。
サンドブラスト(硬質微粒子の吹付け)等の加工法を用
いることができるが、加工幅及び加工粗さの制御の容易
な回転刃、回転砥石等の回転工具による溝切り加工を用
いるのが好ましい。
すなわち、粗さが小さい面には溝切り加工を施すことに
より粗さが大きい底面を有するバー状凹部を形成し、こ
の凹部の底面及び該凹部の近傍面の反射率差に基づく明
暗によりコード構成用バーを表わすようにする。
より粗さが大きい底面を有するバー状凹部を形成し、こ
の凹部の底面及び該凹部の近傍面の反射率差に基づく明
暗によりコード構成用バーを表わすようにする。
また、粗さが大きい面には溝りJり加工を施すことによ
り粗さが小さい底面を有するバー状凹部を形成し、この
凹部の底面及び該凹部の近傍面の反射率差に基づく明暗
によりコード構成用バーを表わすようにする。
り粗さが小さい底面を有するバー状凹部を形成し、この
凹部の底面及び該凹部の近傍面の反射率差に基づく明暗
によりコード構成用バーを表わすようにする。
[作 用]
この発明のバーコード付き物品にあっては、粗さの相違
を利用してバーコードを表現するので。
を利用してバーコードを表現するので。
例えば熱処理や薬液処理等を受けても物品自体が変形又
は変質しないような条件下ではバーコードが消されて読
取不能となる事態は殆ど生じない。
は変質しないような条件下ではバーコードが消されて読
取不能となる事態は殆ど生じない。
また、八−状部を凹部とした場合には、平面状とした場
合に比べて摩擦等による凹部底面の粗さ変動が少なく、
−層消えにくいバーコードの実現が可能となる。
合に比べて摩擦等による凹部底面の粗さ変動が少なく、
−層消えにくいバーコードの実現が可能となる。
さらに、八−コードを付与すべき面に回転刃、回転砥石
等の回転工具で溝切り加工を施すことによりバー状凹部
を形成した場合には、回転工具の交換使用により任意の
溝幅を有し且つ任意の底面粗さを有する八−状凹部を簡
単に得ることができる。すなわち、バー状凹部のエツジ
がシャープになり、バーの幅を一定にすることができる
と共に、バー状凹部の底面粗さの選定により凹部底面及
び凹部近傍面の反射率差に基づく明暗のコントラストを
印刷による白黒バーコードに劣らぬものにすることがで
きる。従って、通常の読取能力を有する安価なバーコー
ドリーダーの使用が可能となる。そのと、バー状凹部の
エツジ近傍で鏡面状jムが損われることがないので、鏡
面状態や平坦度を確保する必要のある所にもバーコード
を形成することができる。
等の回転工具で溝切り加工を施すことによりバー状凹部
を形成した場合には、回転工具の交換使用により任意の
溝幅を有し且つ任意の底面粗さを有する八−状凹部を簡
単に得ることができる。すなわち、バー状凹部のエツジ
がシャープになり、バーの幅を一定にすることができる
と共に、バー状凹部の底面粗さの選定により凹部底面及
び凹部近傍面の反射率差に基づく明暗のコントラストを
印刷による白黒バーコードに劣らぬものにすることがで
きる。従って、通常の読取能力を有する安価なバーコー
ドリーダーの使用が可能となる。そのと、バー状凹部の
エツジ近傍で鏡面状jムが損われることがないので、鏡
面状態や平坦度を確保する必要のある所にもバーコード
を形成することができる。
[実施例]
第1図は、この発明の一実施例による半導体ウェハへの
バーコード形成法を示すものである。
バーコード形成法を示すものである。
半導体ウェハ10は、例えばシリコンからなるもので、
その鏡面状の表面には、周辺部の適宜の個所にバーコー
ド部12.12”等が形成される。
その鏡面状の表面には、周辺部の適宜の個所にバーコー
ド部12.12”等が形成される。
バーコードの形成にあたっては、バーコード部12’に
関して例示するように、グイサーブレード目が用いられ
る。グイサーブレード14は、ダイサーの駆動軸に装着
されて回転駆動されるもので、所望の加工幅及び加工粗
さに応じて適宜交換可能である0回転するグイサーブレ
ード14をウェハ面に押し当てて溝切り加工を行なうこ
とにより複数のバー状凹部12a 、 12c等が順次
に並べて形成される。
関して例示するように、グイサーブレード目が用いられ
る。グイサーブレード14は、ダイサーの駆動軸に装着
されて回転駆動されるもので、所望の加工幅及び加工粗
さに応じて適宜交換可能である0回転するグイサーブレ
ード14をウェハ面に押し当てて溝切り加工を行なうこ
とにより複数のバー状凹部12a 、 12c等が順次
に並べて形成される。
第2図は、ノぐ−コード部12の一部を拡大して示すも
ので、バー状凹部12a及び12cは、鏡面状の上面を
有する介在部分12bを介して隣り合うようになってい
る。凹部12aは、細い黒バーを構成するためのもので
、その底面が粗面をなすように形成される。また、凹部
12cは、太い黒バーを構成するためのもので、その底
面が粗面をなすように形成される。凹部12aの溝幅を
a(例えば200gm)とすると、凹部12cの溝幅は
2a〜3aの範囲に入るように定められる。
ので、バー状凹部12a及び12cは、鏡面状の上面を
有する介在部分12bを介して隣り合うようになってい
る。凹部12aは、細い黒バーを構成するためのもので
、その底面が粗面をなすように形成される。また、凹部
12cは、太い黒バーを構成するためのもので、その底
面が粗面をなすように形成される。凹部12aの溝幅を
a(例えば200gm)とすると、凹部12cの溝幅は
2a〜3aの範囲に入るように定められる。
介在部分12bは、細い白バーを構成するためのもので
、その鏡面状の上面の粗さを例えば0〜0.3 p、m
とすると、凹部12a 、 12cの各底面はその粗さ
が例えば1.0 p■以上となるように粗面化される。
、その鏡面状の上面の粗さを例えば0〜0.3 p、m
とすると、凹部12a 、 12cの各底面はその粗さ
が例えば1.0 p■以上となるように粗面化される。
バー状凹部12a 、 12c等を形成するに際しては
、形成すべき凹部の幅に対応した幅を有し且つ該凹部の
底面を所望の粗さにするようなグイサーブレード14を
用い、1回の溝切り加工で所望の溝幅及び底面粗さを有
するバー状凹部を得るようにするのが好ましい、しかし
、溝切り工程と粗面化工程とを別々に行なうようにして
もよい。
、形成すべき凹部の幅に対応した幅を有し且つ該凹部の
底面を所望の粗さにするようなグイサーブレード14を
用い、1回の溝切り加工で所望の溝幅及び底面粗さを有
するバー状凹部を得るようにするのが好ましい、しかし
、溝切り工程と粗面化工程とを別々に行なうようにして
もよい。
第3rf4は、バーコード部の他の実施例を示すもので
、この例では、半導体ウェハlOの粗面状の裏面に鏡面
状の底面を有するバー状凹部18A 、 18C等を形
成したものである。この場合、凹部18A。
、この例では、半導体ウェハlOの粗面状の裏面に鏡面
状の底面を有するバー状凹部18A 、 18C等を形
成したものである。この場合、凹部18A。
16Cは、それぞれ太い白バー及び細い白バーを構成す
るためのもので、凹部18A及び18cの間の介在部分
18Bは、その上面が粗面状であり、細い黒バーを構成
するためのものである。
るためのもので、凹部18A及び18cの間の介在部分
18Bは、その上面が粗面状であり、細い黒バーを構成
するためのものである。
バー状凹部18A 、 18C等の形成の際にも、溝切
りと鏡面化を1工程で行なうのが好ましいが、2工程に
分けて行なってもよい。
りと鏡面化を1工程で行なうのが好ましいが、2工程に
分けて行なってもよい。
第4図は、第2図に示したバー状凹部12cの断面を示
すもので、矢印で示す入射光は、鏡面状の介在部分12
bでほぼ正反射するが、凹部12cの粗面状の底面では
乱反射する。介在部分12bでの反射率をAとし、凹部
12cの底面での反射率をBとすると、(A−B)/A
≧0.75となり、通常のバーコードリーダーの読取能
力で十分にバーコードを読取可能となる。
すもので、矢印で示す入射光は、鏡面状の介在部分12
bでほぼ正反射するが、凹部12cの粗面状の底面では
乱反射する。介在部分12bでの反射率をAとし、凹部
12cの底面での反射率をBとすると、(A−B)/A
≧0.75となり、通常のバーコードリーダーの読取能
力で十分にバーコードを読取可能となる。
第4図は、第3図に示したバー状凹部16Cの断面を示
すもので、矢印で示す入射光は、粗面状の介在部分18
Bで乱反射するが、凹部18Cの鏡面状の底面でほぼ正
反射する。この場合も反射率の関係は第4図で述べたと
同様になり1通常のバーコードリーダーで十分にバーコ
ードの読取りが可能となる。
すもので、矢印で示す入射光は、粗面状の介在部分18
Bで乱反射するが、凹部18Cの鏡面状の底面でほぼ正
反射する。この場合も反射率の関係は第4図で述べたと
同様になり1通常のバーコードリーダーで十分にバーコ
ードの読取りが可能となる。
この発明は、上記実施例に限定されるものではなく1種
々の改変形態で実施可能なものである。
々の改変形態で実施可能なものである。
例えば、次のような変更が可能である。
(1)この発明によるバーコード形成は、半導体ウェハ
に限らず、高温処理、薬品処理等を受けることのある他
の材料(例えば、サファイア、ガーネット、石英等)か
らなるウェハ、ウェハホルダー、容器等にも応用可能で
ある。
に限らず、高温処理、薬品処理等を受けることのある他
の材料(例えば、サファイア、ガーネット、石英等)か
らなるウェハ、ウェハホルダー、容器等にも応用可能で
ある。
(2)実施例では、被処理品に直接バーコードを付与す
る例を示したが、この発明は、被処理品又はその保持具
等に付すべきラベルに適用することもできる。
る例を示したが、この発明は、被処理品又はその保持具
等に付すべきラベルに適用することもできる。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、厳しい環境下に置か
れる物品に消えにくいバーコードを付与することができ
ると共に、寸法精度及び明暗コントラストの良好なバー
コードを簡単に実現でき、安価なバーコードリーダーの
使用が可能となる効果が得られるものである。
れる物品に消えにくいバーコードを付与することができ
ると共に、寸法精度及び明暗コントラストの良好なバー
コードを簡単に実現でき、安価なバーコードリーダーの
使用が可能となる効果が得られるものである。
第1図は、この発明の一実施例による半導体ウェハへの
バーコード形成法を示す斜視図。 第2図は、第1図のウェハにおけるバーコード部の一部
切断斜視図、 第3図は、バーコード部の他の実施例を示す一部切断斜
視図、 第4図は、凹部12cの断面図、 第5図は、凹部16Gの断面図である。 10・・・半導体ウェハ、12.12′・・・バーコー
ド部、12a 、 12c 、 18A 、 1eC−
・・バー状凹部、12.b。 18B・・・介在部分、 14・・・ダイサープレー ド。
バーコード形成法を示す斜視図。 第2図は、第1図のウェハにおけるバーコード部の一部
切断斜視図、 第3図は、バーコード部の他の実施例を示す一部切断斜
視図、 第4図は、凹部12cの断面図、 第5図は、凹部16Gの断面図である。 10・・・半導体ウェハ、12.12′・・・バーコー
ド部、12a 、 12c 、 18A 、 1eC−
・・バー状凹部、12.b。 18B・・・介在部分、 14・・・ダイサープレー ド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、粗さが小さい面に粗さが大きい面を有するバー状部
を形成し、このバー状部及びその近傍面の反射率差に基
づく明暗によりコード構成用バーを表わすようにしたこ
とを特徴とするバーコード付き物品。 2、粗さが小さい面に粗さが大きい底面を有するバー状
凹部を形成し、この凹部の底面及び該凹部の近傍面の反
射率差に基づく明暗によりコード構成用バーを表わすよ
うにしたことを特徴とするバーコード付き物品。 3、鏡面状の面に粗面状の底面を有するバー状凹部を形
成し、この凹部の底面及び該凹部の近傍面の反射率差に
基づく明暗によりコード構成用バーを表わすようにした
ことを特徴とするバーコード付き半導体ウェハ。 4、粗さが大きい面に粗さが小さい面を有するバー状部
を形成し、このバー状部及びその近傍面の反射率差に基
づく明暗によりコード構成用バーを表わすようにしたこ
とを特徴とするバーコード付き物品。 5、粗さが大きい面に粗さが小さい底面を有するバー状
凹部を形成し、この凹部の底面及び該凹部の近傍面の反
射率差に基づく明暗によりコード構成用バーを表わすよ
うにしたことを特徴とするバーコード付き物品。 6、粗面状の面に鏡面状の底面を有するバー状凹部を形
成し、この凹部の底面及び該凹部の近傍面の反射率差に
基づく明暗によりコード構成用バーを表わすようにした
ことを特徴とするバーコード付き半導体ウェハ。 7、粗さが小さい面に粗面化加工を施すことにより粗さ
が大きい面を有するバー状部を形成し、このバー状部及
びその近傍面の反射率差に基づく明暗によりコード構成
用バーを表わすことを特徴とするバーコード付き物品の
製法。 8、粗さが小さい面に回転工具による溝切り加工を施す
ことにより粗さが大きい底面を有するバー状凹部を形成
し、この凹部の底面及び該凹部の近傍面の反射率差に基
づく明暗によりコード構成用バーを表わすことを特徴と
するバーコード付き物品の製法。 9、粗さが大きい面に鏡面化加工を施すことにより粗さ
が小さい面を有するバー状部を形成し、このバー状部及
びその近傍面の反射率差に基づく明暗によりコード構成
用バーを表わすことを特徴とするバーコード付き物品の
製法。 10、粗さが大きい面に回転工具による溝切り加工を施
すことにより粗さが小さい底面を有するバー状凹部を形
成し、この凹部の底面及び該凹部の近傍面の反射率差に
基づく明暗によりコード構成用バーを表わすことを特徴
とするバーコード付き物品の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63278818A JPH02125412A (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | バーコード付き物品とその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63278818A JPH02125412A (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | バーコード付き物品とその製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02125412A true JPH02125412A (ja) | 1990-05-14 |
Family
ID=17602580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63278818A Pending JPH02125412A (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | バーコード付き物品とその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02125412A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998057361A1 (fr) * | 1997-06-12 | 1998-12-17 | Nikon Corporation | Substrat de fabrication de dispositif, procede de fabrication de ce substrat, et procede d'exposition avec ce substrat |
US7728445B2 (en) | 2005-03-16 | 2010-06-01 | Yamaha Corporation | Semiconductor device production method and semiconductor device |
US7830011B2 (en) | 2004-03-15 | 2010-11-09 | Yamaha Corporation | Semiconductor element and wafer level chip size package therefor |
JP2021144963A (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-24 | 株式会社ディスコ | マーキング方法 |
WO2023080016A1 (ja) * | 2021-11-04 | 2023-05-11 | 日東電工株式会社 | 光学積層体およびシステム |
-
1988
- 1988-11-04 JP JP63278818A patent/JPH02125412A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998057361A1 (fr) * | 1997-06-12 | 1998-12-17 | Nikon Corporation | Substrat de fabrication de dispositif, procede de fabrication de ce substrat, et procede d'exposition avec ce substrat |
US7830011B2 (en) | 2004-03-15 | 2010-11-09 | Yamaha Corporation | Semiconductor element and wafer level chip size package therefor |
US7728445B2 (en) | 2005-03-16 | 2010-06-01 | Yamaha Corporation | Semiconductor device production method and semiconductor device |
JP2021144963A (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-24 | 株式会社ディスコ | マーキング方法 |
WO2023080016A1 (ja) * | 2021-11-04 | 2023-05-11 | 日東電工株式会社 | 光学積層体およびシステム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11216686B2 (en) | Artificial neural network-based method for detecting surface pattern of object | |
JPH10256105A (ja) | レーザマークを付けたウェーハ | |
US8388410B2 (en) | RFID-containing carriers used for silicon wafer quality | |
JPH02122387A (ja) | バーコード区画とバーコードの読取装置 | |
KR100887269B1 (ko) | 고정밀 에지 프로파일을 갖는 반도체 웨이퍼 및 반도체웨이퍼의 제작 방법 | |
US11475262B2 (en) | Unique secured product identification for gemstones | |
JPH02125412A (ja) | バーコード付き物品とその製法 | |
US11783145B2 (en) | Systems for authentication and related devices and methods | |
US20090057847A1 (en) | Gallium nitride wafer | |
CN108327102A (zh) | 修整板、切削刀具的修整方法和切削装置 | |
US20130264391A1 (en) | Reflective surface having a computer readable code | |
JP2004503081A (ja) | シリコンウェーハのエッチング方法 | |
JP2001313238A (ja) | 識別マークを有する半導体ウェハ | |
RU2003136266A (ru) | Защищенная от подделки металлическая фольга | |
WO2017124599A1 (zh) | 具有识别码的瓶盖及加工方法、产品监控方法 | |
EP0604061A1 (en) | Semiconductor fabrication | |
JP2007234945A (ja) | レーザーマーキングウェーハおよびその製造方法 | |
JP2021123503A (ja) | 物品管理システム | |
JPH02278809A (ja) | 半導体ウェハ | |
CN206780159U (zh) | 研磨垫 | |
JPH08287204A (ja) | 識別票およびその製造方法 | |
JP2020003548A (ja) | フォトマスク用基板およびその製造方法 | |
JPH0571855U (ja) | フォトマスク用ガラス基板 | |
JP2024511110A (ja) | データマトリックスコードをスキャンするための装置 | |
US20230222766A1 (en) | System and method for capturing consistent standardized photographs and using photographs for categorizing products |