JPH02122497A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH02122497A
JPH02122497A JP63276466A JP27646688A JPH02122497A JP H02122497 A JPH02122497 A JP H02122497A JP 63276466 A JP63276466 A JP 63276466A JP 27646688 A JP27646688 A JP 27646688A JP H02122497 A JPH02122497 A JP H02122497A
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Ichirou Kondou
近藤 伊知良
Kazuki Yoshitake
和樹 吉武
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Abstract

PURPOSE:To prevent a parasitic bipolar transistor (TR) by leading off a EPROM write power source from a second P channel TR source and a back gate. CONSTITUTION:At the time of writing the EPROM, a double use terminal 1 is made into a potential higher than that of a normal high potential side power source (VDD), first, a write voltage detecting circuit 2 executes a detecting operation at around VDD + 2.5V, and the inverse of P signal is set at an 'L' level. At such a time, since a first P channel enhancement TR 3 exists, a drain 13-3 of a second P channel enhancement TR 4 is not supplied with the voltage of the double use terminal until the TR 3 is turned on, and at such a time, since the TR 4 is turned on, the section of the emitter based o a parasitic PNP TR 21 is clamped at <= 0.1V, and charge is applied through a channel. Thus, the parasitic TR is not turned on, a TR 5 is turned off, and the over current can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、EPROM内蔵で、書き込み電源供給端子を
、他の入力ないしは、出力端子と、兼用している相補型
MIS集積回路に関し、特に、書き込み電源供給端子の
他の入力ないしは、出力端子との兼用端子とすることに
関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a complementary MIS integrated circuit that has a built-in EPROM and uses a write power supply terminal as another input or output terminal, and particularly, This relates to using the write power supply terminal as another input or output terminal.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来この種の端子兼用化のためには、第6図のようにN
チャンネルトランジスタ19をスイッチし、書き込み時
これをオンさせるかまたは、第7図のように、ダイオー
ド20及びPチャンネルトランジスタ3を用いて、電源
の供給を行なっていた。(例えば特公昭6l−1114
01)〔発明が解決しようとする課題〕 上述した従来の端子兼用化回路のうち、第4図に示す回
路は、書き込み時Nチャンネルトランジスタ19がバッ
クゲート特性を示すため、供給電圧が、略VtN分降下
し、書き込み特性を劣化させるので、ゲート電圧を内部
昇圧するチャージポンプ回路が必要であった。また、第
5図に示す回路は、ダイオード20の順方向を利用して
書き込むため、ダイオードの立ち上り電圧及び、直列抵
抗による電圧降下を生じ、また、寄生バイポーラトラン
ジスタを防止するために、ダイオード形成には、−工程
追加する必要があるという欠点がある。
Conventionally, for this type of dual-use terminal, N
Power is supplied by switching the channel transistor 19 and turning it on during writing, or by using a diode 20 and a P-channel transistor 3 as shown in FIG. (For example, special public Sho 6l-1114
01) [Problems to be Solved by the Invention] Among the conventional terminal dual-purpose circuits described above, in the circuit shown in FIG. Therefore, a charge pump circuit was required to internally boost the gate voltage. In addition, since the circuit shown in FIG. 5 writes using the forward direction of the diode 20, a rise voltage of the diode and a voltage drop due to the series resistance occur, and in order to prevent a parasitic bipolar transistor, a diode is formed. has the disadvantage of requiring an additional step.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の端子兼用化回路は、ソースとバックゲートとな
るN型ウェルが、兼用端子に接続された第1のPチャン
ネルエンハンスメントトランジスタと、ドレインが、前
記第1のPチャンネルトランジスタのドレインと接続さ
れた第2のPチャンネルエンハンスメントトランジスタ
ト、トレインが、前記第2のPチャンネルトランジスタ
のソース及びバックゲートとなるN型ウェルと接続され
、ソースが通常高電位側電源(以下、vol)と称す)
と接続された第1のNチャンネルデプレショントランジ
スタと、兼用端子を入力とし、書込み電圧を検出し、前
記第1.第2のPチャンネルトランジスタ及び、第1の
Nチャンネルトランジスタのゲートを制御する検出回路
を有している。
In the terminal dual-purpose circuit of the present invention, an N-type well serving as a source and a back gate is connected to a first P-channel enhancement transistor connected to the dual-purpose terminal, and a drain is connected to the drain of the first P-channel transistor. A second P-channel enhancement transistor train is connected to an N-type well serving as the source and back gate of the second P-channel transistor, and the source is normally a high potential side power supply (hereinafter referred to as vol).
The first N-channel depletion transistor connected to the first N-channel depletion transistor and the dual-purpose terminal are input, detect the write voltage, and the first N-channel depletion transistor is connected to the first N-channel depletion transistor. It has a detection circuit that controls the gates of the second P-channel transistor and the first N-channel transistor.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明について、図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例の回路図、第2図は、第1
図の3.4.5の部分の構造断面図である。兼用端子1
は、書き込み電圧検出回路2及び、第1のPチャンネル
エンハンスメントトランジスタ3のソース13−1及び
バックゲートとなるN型ウェル11−1にN型高濃度拡
散層12−1を介して、及び、EPROMブロック8の
一部と、入、出力回路に接続され、トランジスタ3のド
レイン13−2は、第2のPチャンネルエンハンスメン
トトランジスタ4のドレイン13−3に接続され、トラ
ンジスタ4のソース13−4及びバ。
FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention.
It is a structural sectional view of the part 3.4.5 in the figure. Dual-purpose terminal 1
is connected to the write voltage detection circuit 2 and the N-type well 11-1 which becomes the source 13-1 and back gate of the first P-channel enhancement transistor 3 via the N-type high concentration diffusion layer 12-1, and to the EPROM. The drain 13-2 of the transistor 3 is connected to the drain 13-3 of the second P-channel enhancement transistor 4, the source 13-4 of the transistor 4, and the input and output circuits. .

クゲートとなるN型ウェル11−2及び、N型高濃度拡
散層12−2は、第1のNチャンネルデプレショントラ
ンジスタ5のドレイン12−3と接続され、EPROM
ブロック8の電源供給を行ない、トランジスタ5のソー
スは、VI)Dに接続され、トランジスタ3,4.5の
ゲートは、書き込み電圧検出回路2の電圧検出時“L”
レベルとなる制御信号Fに接続されている。
The N-type well 11-2 and the N-type high concentration diffusion layer 12-2, which serve as a gate, are connected to the drain 12-3 of the first N-channel depletion transistor 5.
Power is supplied to the block 8, the source of the transistor 5 is connected to VI)D, and the gates of the transistors 3 and 4.5 are set to "L" when the write voltage detection circuit 2 detects the voltage.
It is connected to the control signal F that becomes the level.

次に、本例の動作を説明する。Next, the operation of this example will be explained.

通常動作時(EPROM書き込み状態では無い場合)は
、兼用端子は、接地電位とV□との間にあり、この場合
、トランジスタ3のドレイン13−2と、N型ウェル1
1−1及び、トランジスタ4のドレイン13−3とN型
ウェル11−2により構成されるダイオードのいずれか
は、逆バイアスとなり、端子1とvDnとの間のもれ電
流は無い。
During normal operation (not in EPROM writing state), the dual-purpose terminal is between the ground potential and V□, and in this case, the drain 13-2 of transistor 3 and the N-type well 1
1-1 and the diode formed by the drain 13-3 of the transistor 4 and the N-type well 11-2 are reverse biased, and there is no leakage current between the terminal 1 and vDn.

EPROM書き込み時は、兼用端子1は、VDDより高
電位にするが、まず、書込み電圧検出回路が、VDD+
 2.5 V程度で、検出動作を行ない、丁信号が“L
″レベルなる。この時もし、トランジスタ3が無いと、
トランジスタ4のドレイン13−3とN型ウェル11−
2は、兼用端子電圧がVDD〜VDD + 2.5 V
の間順バイアスとなり、ドレイン13−3をエミッタN
型ウェル11−2をベースP型基板10をコレクタとす
る寄生PNP)ランジスタ21がオンし、過大電流が生
じる。本発明では、トランジスタ3があるため、これが
オンして、初めて、トランジスタ4のドレイン13−3
に、兼用端子の電圧が供給され、その時トランジスタ4
も、オンしているため、前述の寄生PNPトランジスタ
のエミッターベース間は0.1 V以下にクランプされ
、電荷は、チャンネル中を流れて、寄生トランジスタを
オンさせることはない。なおかつ、トランジスタ5もオ
フとなり、過大電流を防止することができる。
When writing to EPROM, dual-purpose terminal 1 is set to a higher potential than VDD, but first, the write voltage detection circuit
The detection operation is performed at about 2.5 V, and the signal becomes “L”.
" level. At this time, if transistor 3 is not present,
Drain 13-3 of transistor 4 and N-type well 11-
2, the shared terminal voltage is VDD ~ VDD + 2.5 V
becomes forward biased between the drain 13-3 and the emitter N
The parasitic PNP (PNP) transistor 21 having the type well 11-2 as the base and the P-type substrate 10 as the collector is turned on, and an excessive current is generated. In the present invention, since there is a transistor 3, the drain 13-3 of the transistor 4 is turned on only when the transistor 3 is turned on.
, the voltage of the dual-purpose terminal is supplied to the transistor 4.
Since both are on, the voltage between the emitter and base of the parasitic PNP transistor is clamped to 0.1 V or less, and the charge does not flow through the channel to turn on the parasitic transistor. Furthermore, the transistor 5 is also turned off, making it possible to prevent excessive current.

第3図は、本発明の第2の実施例の回路図、第4図は、
第3図の3.6.11の部分の断面図である。
FIG. 3 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the section 3.6.11 in FIG. 3;

兼用端子1は、書き込み電圧検出回路2.EPROMブ
ロック9.ダイオード3の陽極4及びダイオード3が形
成されているN型ウェル16に接続されている。ダイオ
ード3の陰極5は、PチャンネルMIS型エンハンスメ
ントトランジスタ60バックゲートとなるN型ウェル1
7とソースに接続され、トランジスタ4のゲート6は、
書き込み電圧検出回路からの制御信号Fが、Pチャンネ
ルエンハンスメントトランジスタ19とNチャンネルエ
ンハンスメントトランジスタ21、Pチャンネルエンハ
ンスメントトランジスタ20とNチャンネルエンハンス
メントトランジスタ22によって、構成される相補型M
IS論理反転回路2段を通して接続され、ドレインは、
Nチャンネルデプレショントランジスタ7のドレイン、
そして、EPROMブロックに接続されている。Nチャ
ンネルデプレショントランジスタ8のドレインは、トラ
ンジスタ60バツクゲートへ接続されている。
The dual-purpose terminal 1 is used for the write voltage detection circuit 2. EPROM block9. It is connected to the anode 4 of the diode 3 and the N-type well 16 in which the diode 3 is formed. The cathode 5 of the diode 3 is connected to the N-type well 1 which becomes the back gate of the P-channel MIS type enhancement transistor 60.
7 and the source, and the gate 6 of the transistor 4 is connected to the
The control signal F from the write voltage detection circuit is a complementary type M configured by a P-channel enhancement transistor 19, an N-channel enhancement transistor 21, a P-channel enhancement transistor 20, and an N-channel enhancement transistor 22.
It is connected through two stages of IS logic inversion circuit, and the drain is
the drain of the N-channel depletion transistor 7;
And it is connected to the EPROM block. The drain of N-channel depletion transistor 8 is connected to the backgate of transistor 60.

トランジスタ11,8のソースは、通常の高電位側電源
7に接続され、ゲートは、書き込み電圧検出回路の制御
信号Fに接続されている。
The sources of the transistors 11 and 8 are connected to a normal high potential side power supply 7, and the gates are connected to a control signal F of a write voltage detection circuit.

本回路の動作について説明する。The operation of this circuit will be explained.

兼用端子lに書き込み電源電圧、たとえば21Vが印加
されている状態の時この電圧を書き込み電圧検出回路が
検出して、その制御信号下=“L”となる。この状態で
はトランジスタ11゜8はカットオフし、トランジスタ
6はオン状態になる。この時、トランジスタ6のソース
及びバックゲートは、ダイオード3を介してバイアスさ
れている。この時、EPROMブロックに接続される接
点lOの電位■1゜は、ダイオード3のv2をVF6、
ダイオード3のシリーズ抵抗なRs、  )ランジスタ
ロのオン抵抗なR6Nい電流を工、とすると V+o= 21’  (Vys+I o (Rx+Ro
Na))となる。R3、RoNeは、ダイオードの面積
、トランジスタ6のW/Lの比により決定できるため、
ID=2〜3mA、V+o=20Vとすルコとが容易に
できる。
When a write power supply voltage, for example 21V, is applied to the shared terminal l, this voltage is detected by the write voltage detection circuit, and the control signal becomes "L". In this state, transistor 11.8 is cut off and transistor 6 is turned on. At this time, the source and back gate of the transistor 6 are biased through the diode 3. At this time, the potential ■1° of the contact lO connected to the EPROM block changes v2 of the diode 3 to VF6,
Assuming that the series resistance of diode 3 is Rs, and the current is R6N, which is the on-resistance of the transistor, then V+o=21' (Vys+I o (Rx+Ro
Na)). Since R3 and RoNe can be determined by the area of the diode and the W/L ratio of the transistor 6,
It is easy to set ID=2 to 3mA and V+o=20V.

上記状態以外の時は、書き込み電圧検出回路の制御信号
下=“H”となり、トランジスタ11゜8はオンし、ト
ランジスタ6はカットオフする。
In a state other than the above, the control signal of the write voltage detection circuit becomes "H", the transistor 11.8 is turned on, and the transistor 6 is cut off.

このとき、トランジスタ60バツクゲートは、トランジ
スタ8を通して、通常の高電位側電源と同電位となり、
接点10も、トランジスタ7を通して通常の高電位側電
源と同電位になる。ダイオード3の陰極側は、通常の高
電位側電源と同電位になっているため、兼用端子lの電
位が、通常の相補型論理回路の論理振幅で変化している
限りは、ダイオード3は、逆バイアスとなり、端子lと
、通常高電位側電源との間に電流が流れることはない。
At this time, the back gate of transistor 60 becomes the same potential as the normal high potential power supply through transistor 8,
The contact 10 also has the same potential as the normal high potential side power supply through the transistor 7. The cathode side of the diode 3 is at the same potential as the normal high-potential side power supply, so as long as the potential of the dual-purpose terminal l changes with the logic amplitude of the normal complementary logic circuit, the diode 3 It is reverse biased, and no current flows between the terminal 1 and the normal high potential power supply.

第5図は、本発明の第3の実施例の回路図である。前述
の第1の実施例に対し、トランジスタ4.5とトランジ
スタ3のゲート信号の間に遅延回路17を入れている。
FIG. 5 is a circuit diagram of a third embodiment of the present invention. In contrast to the first embodiment described above, a delay circuit 17 is inserted between the gate signals of transistors 4.5 and 3.

この実施例では、遅延回路17により、トランジスタ3
のオンするタイミングを、トランジスタ4のオンするタ
イミングに対し、数μ冠遅らせているため、第2図中の
寄生PNP、)ランジスタ21がよりオンしにくいとい
う利点がある。
In this embodiment, the delay circuit 17 causes the transistor 3 to
Since the turn-on timing of transistor 4 is delayed by several micrometers with respect to the turn-on timing of transistor 4, there is an advantage that the parasitic PNP transistor 21 shown in FIG. 2 is more difficult to turn on.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明は、トランジスタ3.4をオ
ン、トランジスタ5をオフの状態で、書き込み電圧を供
給するために、寄生パイポーラランジスタ動作を防止し
、かつ、供給電圧の電圧降下を非常に少くでき、しかも
、従来例と比較して工程及び、占有面積を少なくできる
という効果がある。
As explained above, the present invention prevents the parasitic bipolar transistor operation and extremely reduces the voltage drop in the supply voltage in order to supply the write voltage while the transistor 3.4 is on and the transistor 5 is off. Moreover, the process and area occupied can be reduced compared to the conventional example.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の一実施例の回路図、第2図は第1図
の3.4.5部の構造断面図、第3図は本発明の第2の
実施例の回路図、第4図は第3図の回路の部分断面図、
第5図は、本発明の第3の実施例の回路図、第6図及び
第7図は、従来の端子兼用化回路の回路図。 l・・・・・・兼用端子、2・・・・・・書き込み電圧
検出回路、3.4・・・・・・Pチャンネルエンハンス
メントトランジスタ、5・・・・・・Nチャンネルデプ
レショントランジスタ、7・・・・・・通常高電位側電
源(vt、n)、8・・・・・・EPROMブロック、
10・・・・・・P型基板、11−1.11−2・・・
・・・N型ウェル、12−1.12−2.12−3.1
2−4・・・・・・N型高濃度拡散層、13−1.13
−2.13−3.13−4・・・・・・P型高濃度拡散
層、14・・・・・・熱酸化膜、15・・・・・・層間
絶縁膜、16・・・・・・金属電極、17・・・・・・
遅延回路、18・・・・・・チャージポンプ、19・・
・・・・Nチャンネルエンハンスメントトランジスタ、
20・・・・・・ダイオード、21・・・・・・寄生P
NP )ランジスタ、22・・・・・・ポリシリコン。 代理人 弁理士  内 原   晋 芽 曹 ! 面 茅 図 半 聞 茅 乙 図 第 図
FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a structural sectional view of section 3.4.5 in FIG. 1, and FIG. 3 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention. Figure 4 is a partial cross-sectional view of the circuit in Figure 3;
FIG. 5 is a circuit diagram of a third embodiment of the present invention, and FIGS. 6 and 7 are circuit diagrams of conventional terminal dual-purpose circuits. l...Common terminal, 2...Write voltage detection circuit, 3.4...P channel enhancement transistor, 5...N channel depletion transistor, 7 ... Normal high potential side power supply (vt, n), 8 ... EPROM block,
10...P-type substrate, 11-1.11-2...
...N type well, 12-1.12-2.12-3.1
2-4...N-type high concentration diffusion layer, 13-1.13
-2.13-3.13-4...P-type high concentration diffusion layer, 14...Thermal oxide film, 15...Interlayer insulating film, 16... ...Metal electrode, 17...
Delay circuit, 18...Charge pump, 19...
...N-channel enhancement transistor,
20... Diode, 21... Parasitic P
NP) transistor, 22...polysilicon. Agent: Patent Attorney Shinmeiso Uchihara! Menkazuzu half-monkayaotsuzu diagram

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)紫外線消去型EPROMを内蔵し、かつ、書き込
み電源供給端子と他の入力ないしは出力端子を兼用する
兼用端子を有する相補型MIS集積回路において、第1
、第2のPチャンネルエンハンスメントトランジスタと
、第1のNチャンネルデプレショントランジスタ及び書
き込み電圧検出回路を有し、第1のPチャンネルエンハ
ンスメントトランジスタのソース及びそのバックゲート
となるN型ウェルは、兼用端子に接続し、ドレインは、
第2のPチャンネルエンハンスメントトランジスタのド
レインと接続し、第2のPチャンネルエンハンスメント
トランジスタのソース及びバックゲートとなるN型ウェ
ルは、第1のNチャンネルデプレショントランジスタの
ドレインに接続され、第1のNチャンネルデプレション
トランジスタのソースは、集積回路のEPROM部以外
の高電位側電源に接続され、第1、第2のPチャンネル
エンハンスメントトランジスタのゲート及び、第1のN
チャンネルデプレショントランジスタのゲートは、書き
込み電圧検出回路の、検出時低レベルになる端子に接続
され、EPROM書き込み用電源を前記第2のPチャン
ネルトランジスタのソース及びバックゲートから取り出
すことを特徴とする相補型MIS集積回路。
(1) In a complementary MIS integrated circuit that incorporates an ultraviolet erasable EPROM and has a dual-purpose terminal that also serves as a write power supply terminal and another input or output terminal, the first
, has a second P-channel enhancement transistor, a first N-channel depletion transistor, and a write voltage detection circuit, and the N-type well serving as the source of the first P-channel enhancement transistor and its back gate is connected to a shared terminal. Connect and drain the
The N-type well is connected to the drain of the second P-channel enhancement transistor and serves as the source and back gate of the second P-channel enhancement transistor. The source of the channel depletion transistor is connected to a high-potential side power source other than the EPROM section of the integrated circuit, and the source of the channel depletion transistor is connected to the gates of the first and second P-channel enhancement transistors and the first N-channel enhancement transistor.
A complementary device characterized in that the gate of the channel depletion transistor is connected to a terminal of the write voltage detection circuit which becomes low level at the time of detection, and the power supply for writing to the EPROM is taken out from the source and back gate of the second P-channel transistor. Type MIS integrated circuit.
(2)第1のPチャンネルトランジスタのゲートと、第
2のPチャンネルトランジスタ及び、第1のNチャンネ
ルトランジスタのゲートとの間に、数μsecのディレ
ー回路を挿入し、第1のPチャンネルトランジスタのゲ
ート信号が、第2のPチャンネルトランジスタ及び第1
のPチャンネルトランジスタのゲート信号より、遅延し
ていることを特徴とした特許請求の範囲第(1)項記載
の相補型MIS集積回路。
(2) A delay circuit of several μsec is inserted between the gate of the first P-channel transistor and the gates of the second P-channel transistor and the first N-channel transistor, and A gate signal is applied to the second P-channel transistor and the first P-channel transistor.
The complementary MIS integrated circuit according to claim 1, wherein the signal is delayed from the gate signal of the P-channel transistor.
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