JPH02122020A - 誘導焼入れ装置 - Google Patents

誘導焼入れ装置

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JPH02122020A
JPH02122020A JP1191575A JP19157589A JPH02122020A JP H02122020 A JPH02122020 A JP H02122020A JP 1191575 A JP1191575 A JP 1191575A JP 19157589 A JP19157589 A JP 19157589A JP H02122020 A JPH02122020 A JP H02122020A
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JP
Japan
Prior art keywords
transformer
holding unit
workpiece
capacitor group
hardening
Prior art date
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Pending
Application number
JP1191575A
Other languages
English (en)
Inventor
Robert Jurgens
ロベルト ユルゲンス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SMS Elotherm GmbH
Original Assignee
AEG Elotherm GmbH
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Filing date
Publication date
Application filed by AEG Elotherm GmbH filed Critical AEG Elotherm GmbH
Publication of JPH02122020A publication Critical patent/JPH02122020A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/30Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for crankshafts; for camshafts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/06Surface hardening
    • C21D1/09Surface hardening by direct application of electrical or wave energy; by particle radiation
    • C21D1/10Surface hardening by direct application of electrical or wave energy; by particle radiation by electric induction
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/25Process efficiency

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Mechanical Engineering (AREA)
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  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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  • General Induction Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、焼入れ用容器を備え、被加工物をクランプす
る装置と被加工物に沿って移動され得る焼入れ用キャリ
ッジとを有し、焼入れ用キャリッジに関連して多軸的に
搬送され得る保持ユニットを支持し、その上にはインダ
クタが設けられ、インダクタは焼入れされるべき被加工
物のその領域ニ作用し、トランスフォーマの2次側の接
続部に連結され、トランスフォーマは1次側でコンデン
サ群に連結され、且つ可撓性を有する母線構成要素を介
してインパークから供給される、細長い被加工物、更に
詳しくはクランクシャフトの誘導焼入れ用の装置に関す
る。
〔従来技術と発明が解決しようとする課題〕特定される
タイプの装置はドイツ特許明細書第2332832号か
ら知られている。この従来装置において、トランスフォ
ーマ、そしてトランスフォーマのための支持板は、処理
される被加工物を介してインダクタに加えて保持ユニッ
ト上に配置される。トランスフォーマの1次側は可撓性
を有する供給部材を介して焼入れ用キャリッジのゲージ
ングに設けられるインバータに連結されるので、ユニッ
トは細長い被加工物の軸方向垂直面の内側を搬送され得
る。この公知装置において、焼入れ用キャリッジケーシ
ングはインバータの作動に必要なコンデンサを有し、そ
れらは被加工物、インダクタ及びトランスフォーマによ
り形成される総誘電体に平行に連結される。
平行振動回路インバータの誘導負荷構成要素(トランス
フォーマとインダクタ)及びコンデンサ負荷構成要素(
コンデンサ群)の間の、更に詳しくは可撓性を有する電
線上の、長い連結経路により重大な供給損失が生じると
いう不利益をこの構造は有する。コンバータの作動周波
数が上り高いために誘導性が比率においてより大きいの
で、場合によっては上記のことは一層顕著である。
しかしながら、誘導加熱を改善するため、更に詳しくは
輪郭精度を向上させ且つ焼入れ深度を減少させるため、
インバータの作動周波数として約10Kllzの慣習的
な従来の平均周波数から離れること、及び50KIlz
またはそれ以上のインバータ周波数を口ざずことが必要
である。しかしながら、その高い損失のため、この従来
装置はそれらの作動周波数で有益的に使用され得ない。
従って、本発明の目的は、作動周波数が約50Kllz
で使用され得る特定のタイプの装置を更に発展させるこ
とにある。
〔課題を解決するだめの手段〕
上記目的のため、本発明に従い、コンデンサ群はトラン
スフォーマの1次側の接続部に近接する保持ユニット上
に母線により偏狭的に配置される。
〔作 用〕
本発明の構造により、平行振動回路インバータの誘導負
荷及びコンデンサ負荷構成要素は保持ユニット上に配置
される。また、母線を介した2つの構成要素間の電気的
接続のため、極めて低い誘電性構造が達成でき、これに
より無駄なパワー損失が低く維持され得る。同時に、可
撓性を有する電流支持構成要素は真のパワーを単に搬送
し、これによりエネルギ消費が低減される。本発明は、
コンデンサ群、母線、トランスフォーマ及びインダクタ
が構造的なユニットを形成するために、コンパクトな構
造を提供する。
本発明の好適な実施例において、コンデンサ群は、母線
に沿い互いに隣接して配置される複数個の塊状コンデン
サにより形成される。結果として、コンデンサは、誘導
性の多少の増加もなく高容量のコンデンサ群に連合され
得る。
もし母線が、平行に延び且つトランスフォーマの1次側
の接続部の領域の共通な中央部分で収斂する複数個の母
線部分で形成されるならば、大多数のコンデンサは極め
て小さい空間内に収容されることが可能であり、全ての
コンデンサ及び1次側接続部の間の距離は1ヒ較的小さ
くなり、従って構造は低誘導性となる。
好ましくは本発明に従い、母線は2つの半部で形成され
得る2重のT形状の断面を有し、各半部は可撓性を有す
る供給結線に電気的に接続自在である。製造技術の面か
ら、このような母線は低価格的に生産され取付けられ得
る。更に、2重のT形状により形成された母線の面によ
り、低誘導性を及ぼすことなく冷却効果が充分高いもの
となる。
また、好ましくは連結板として形成された阻止コンデン
サの電気的接触子は各半部と関連する。
独立した接触子を備えた従来の:コンデンサの代わりに
、本発明に従い領域接触板を備えた塊状コンデンジが用
いられ、この特徴は一方においては充分な熱伝辻を、他
方においては母線へのコンデンサの低誘導性接続を保証
する。
もし、母線の各半部が、冷却液が貫流し得る連結板の領
域に連続する長手孔を有するならば、母線ばかりでなく
コンデンサもまた直接それにより冷却される。それによ
りライン損失は更に低減され得る。
本発明の他の特徴に従い、2つの母線の半部の隣接する
面の領域のギャップは高電圧に耐性を有する電気的絶縁
性媒体で充填され得る。従って、2つの母線の半部の間
のフラッシュオーバーは高電圧においても避けられ得る
更に、本発明の他の可能な特徴に従い、トランスフォー
マは、総損失のより低減に対して貢献するため、ディス
ク・トランスフォーマの形式で形成され得る。
〔実施例〕
第1図は焼入れ用容器1内にクランプ装置3により配置
された焼入れされるべき細長い被加工物2を示す。被加
工物2の長手軸線に沿ってローラ5の上方側を移動され
得る焼入れ用キャリッジ4が設けられる。焼入れ用・ト
ヤリッジ4の外側に配置されるのは被加工物2の領域の
上に掛かる保持ユニット6である。保持ユニット6は、
その上部領域に設けられたレールを介して水平方向に、
そして別のレール(図示せず)を介して垂直方向に被加
工物2の軸方向垂直面内に搬送され、これにより焼入れ
装置6の下側に位置されたインダクタ7は焼入れされる
べき被加工物2のその領域に供給され得る。補助的に、
他のインダクタ7aはインダクタ7の代わりに保持ユニ
ット6に取付けられ得るように設けられる。この目的の
ために保持ユニット6は、その下側にインダクタ7.7
aが連結され、その上にディスク・トランスフォーマ7
が置かれるベースプレート8を有する。ディスク・コン
テナ9はその2次側の側部を介してインダクタ7の接続
部に連結される。
1次側の側部のディスク・トランスフォーマ9上には、
ディスク・トランスフォーマ9の上方の保持ユニットに
配置される母線10に接触する1次側の連結器12があ
る。母線10上に配置されるのは塊状コンデンサ11の
列であり、これはディスク・トランスフォーマ9の1次
側側部に平行に連結される。母線10及び可撓性供給線
13a、13b(第2図参照)を介して1次側連結器1
2には電流が供給される。例えば焼入れ用キャリッジ4
の内側に配置される平行に振動する回路インパークは、
インダクタ、被加工物、及びディスク・トランスフォー
マにより形成される誘導部のためのパワーヲ供給し、ま
たコンデンサ11により形成されるコンデンサ部分のた
めのパワーを供給し、これらはそれぞれ平行振動回路の
ものである。保持ユニット6の構造は第2図において拡
大されて示される。
第2図の3−3′線に沿う、第3図の断面図に示す如く
、母線10は断面が2重のT部材形状であり、2つの母
線の半部10a、10bを有し、これらはギャップ15
により相互に空間的に分離され且つ互いに関して電気的
に絶縁されている。例えば銅で形成され得る2つの母線
の半部の各々は、関連する連結部祠を介して可撓性電流
供給線13a。
13bに連結される。2つの母線10a、10bの各々
は、折曲部分の概ね角部領域に長手孔14を有する。
長手孔には作動中に冷却液が供給される。冷却液はく図
示しない)連結部材を介して冷却液源から提供され、ま
た反対の場所で再度移送される。
母線の半部10a・10bにより形成される2重のT部
分の上方側に配置されるのは塊状コンデンサ11であり
、それらの板状連結接触子11a、llbの各々はそれ
ぞれ半分の母線10a、lObと関連する。
連結板11a、llbはそれぞれ節部分10a、10b
の上方側に螺合連結部を介して連結される。冷却液用孔
14は冷却されるべきコンデンサの隣接領域に配置され
、母線ばかりでなくコンデンサ11もまたそれらにより
効果的に冷却される。ギャップ15内に配置される絶縁
媒体は、コンデンサ11の連結接触子1の間に高い電位
差を有していてもフラッシュオーバーは2つの母線半部
間に起き得ないということを保δ圧する。
コンデンサ11が次々に一例に配置される第2図の如く
、母線IOは全体として多数の母線部分を有し、それら
は保持ユニット6の上に相互に平行に配置され且つ1次
側連結部12に近接離隔した共通端部部分で収斂する。
結果として、各コンデンサ11及び1次側連結部12の
間の平均距離は出来るだけ小さくされ、一方、保持ユニ
ット6に収容され得る総容量はディスク・トランスフォ
ーマ901次側連結部12及びコンデンサの間の補助的
な連結線を必要とすることなく増大される。
インバータから供給される平行振動回路のコンデンサ負
荷及び誘導負荷の前述の統一化の結果とし°C、パワー
損失は従来の焼入れ設(11fと比較して多少低減され
る。この結果に対する貢献は、本発明に従い可撓性電線
13a、13bを介して実際のパワーが伝達されねばな
らず無駄なパワーは決して伝えられるべきでないという
ことである。従って上記装置は50〜200KHzの作
動周波数を有するトランジスタ制御振動回路インバータ
による作動のために極めて有益的に用いられ得る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る誘導焼入れ装置の一実施例の斜視
図、 第2図は第1図に示す保持ユニットの拡大斜視図、 第3図は第2図の3−3′線に沿う断面図である。 1・・・焼入れ用容器、   2・・・被加工物、4・
・・焼入れ用キャリッジ、 6・・・保持ユニット、    7・・・インダクタ、
9・・・トランスフォーマ、11・・・コンデンサ群。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、細長い被加工物(2)、更に詳しくはクランクシャ
    フトの誘導焼入れ用の装置であって、焼入れ用容器(1
    )を備え、被加工物(2)をクランプする装置(3)と
    被加工物(2)に沿って移動され得る焼入れ用キャリッ
    ジ(4)とを有し、焼入れ用キャリッジ(4)に関連し
    て多軸的に搬送され得る保持ユニット(6)を支持し、
    その上にはインダクタ(7)が設けられ、インダクタ(
    7)は焼入れされるべき被加工物(2)のその領域に作
    用し、トランスフォーマ(9)の2次側の接続部に連結
    され、トランスフォーマ(9)は1次側でコンデンサ群
    (11)に連結され、且つ可撓性を有する母線構成要素
    (13)を介してインバータから供給される装置におい
    て、上記コンデンサ群(11)はトランスフォーマ(9
    )の1次側の接続部(12)に近接する保持ユニット(
    6)上に母線(10)により偏狭的に配置されることを
    特徴とする誘導焼入れ装置。 2、上記コンデンサ群(11)は、母線(10)に沿い
    互いに隣接して配置される複数個の塊状コンデンサによ
    り形成されることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の装置。 3、平行に延び且つ1次側の接続部(12)の領域の共
    通な中央部分で収斂する複数個の母線部分で母線が形成
    されることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2
    項に記載の装置。 4、上記母線(10)は2つの半部(10a、10b)
    で形成され得る2重のT形状の断面を有し、各半部(1
    0a、10b)は可撓性を有する供給結線(13a、1
    3b)に電気的に接続自在であることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項から第3項のいずれか記載の装置。 5、連結板として形成された阻止コンデンサ(11)の
    電気的接触子は上記各半部(10a、10b)と関連す
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項から第4項の
    いずれか記載の装置。 6、母線の各半部(10a、10b)は、冷却液が貫流
    し得る連結板(11a、11b)の領域に連続する長手
    孔を有することを特徴とする特許請求の範囲第1項から
    第5項のいずれか記載の装置。 7、2つの母線の半部(10a、10b)の隣接する面
    の領域のギャップ(15)は高電圧に耐性を有する電気
    的絶縁性媒体で充填され得ることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項から第6項のいずれか記載の装置。 8、上記トランスフォーマ(9)はディスク・トランス
    フォーマであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    から第7項のいずれか記載の装置。
JP1191575A 1988-10-25 1989-07-26 誘導焼入れ装置 Pending JPH02122020A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3836268A DE3836268C1 (ja) 1988-10-25 1988-10-25
DE3836268.6 1988-10-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02122020A true JPH02122020A (ja) 1990-05-09

Family

ID=6365845

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1191575A Pending JPH02122020A (ja) 1988-10-25 1989-07-26 誘導焼入れ装置

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EP (1) EP0366862A1 (ja)
JP (1) JPH02122020A (ja)
DE (1) DE3836268C1 (ja)

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Also Published As

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DE3836268C1 (ja) 1989-09-07
EP0366862A1 (de) 1990-05-09

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