JPH02115765A - Ｇｃ用減圧ガスサンプリングシステム - Google Patents
Ｇｃ用減圧ガスサンプリングシステムInfo
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- JPH02115765A JPH02115765A JP26880888A JP26880888A JPH02115765A JP H02115765 A JPH02115765 A JP H02115765A JP 26880888 A JP26880888 A JP 26880888A JP 26880888 A JP26880888 A JP 26880888A JP H02115765 A JPH02115765 A JP H02115765A
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- sampling chamber
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- 238000005070 sampling Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 claims description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、減圧下にあるガスをクロマトグラフ（ＧＣ）
に導入するシステムに関する。
に導入するシステムに関する。
（従来の技術）
質量分析装置（ＭＳ）は高真空下で作動する装置なので
、分析対象としては減圧状態のガス試料が適している。
、分析対象としては減圧状態のガス試料が適している。
しかし、ＭＳ単独では試料の分析同定は困難なため、他
の分析法との組合せが必要であり、−ａにはクロマトグ
ラフと組合せたＧＣ−ＭＳがよく用いられている。所が
、ＧＣは大気圧或は加圧状態で分析を行うために、減圧
試料を分析するには適していないと言う問題がある。
の分析法との組合せが必要であり、−ａにはクロマトグ
ラフと組合せたＧＣ−ＭＳがよく用いられている。所が
、ＧＣは大気圧或は加圧状態で分析を行うために、減圧
試料を分析するには適していないと言う問題がある。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は、減圧下にあるガスをガスクロマトグラフに導
入するシステムを提供することを目的とする。
入するシステムを提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
サンプリングチャンバーに測定試料ガスが入った減圧ガ
ス容器と加圧キャリアガス源と真空ポンプとガス流出流
路とを夫々パルプを介して接続し、上記流出流路を分析
ガスの量を計量してガスクロマトグラフカラムに導入さ
せる流路機構に接続し、上記サンプリングチャンバーを
真空状態にして、減圧ガス容器内の試料ガスをサンプリ
ングチャンバー内に導入させ、キャリアガスの圧力で分
析ガスを圧縮輸送し、ガスクロマトグラフカラムに導入
させるようにした。
ス容器と加圧キャリアガス源と真空ポンプとガス流出流
路とを夫々パルプを介して接続し、上記流出流路を分析
ガスの量を計量してガスクロマトグラフカラムに導入さ
せる流路機構に接続し、上記サンプリングチャンバーを
真空状態にして、減圧ガス容器内の試料ガスをサンプリ
ングチャンバー内に導入させ、キャリアガスの圧力で分
析ガスを圧縮輸送し、ガスクロマトグラフカラムに導入
させるようにした。
（作用）
クロマトグラフはキャリアガスを加圧してカラムに流入
させていたので、試料ガスも加圧されている必要があっ
た。
させていたので、試料ガスも加圧されている必要があっ
た。
本発明は、まず、減圧下にあるガスを減圧ガス容器から
引出す方法として、サンプリングチャンバーを設け、同
サンプリングチャンバーを減圧することにより、上記減
圧容器内の試料ガスをサンブンリグチャンバー内に導こ
うとするものである、次にサンブンリグチャンバー内に
引出された試料ガスを、同サンプリングチャンバー内に
圧入するキャリアガスで混合加圧する０次に、同混合ガ
スを一定量計量してガスクロマトグラフのカラムに導入
させるようにしたらのである。
引出す方法として、サンプリングチャンバーを設け、同
サンプリングチャンバーを減圧することにより、上記減
圧容器内の試料ガスをサンブンリグチャンバー内に導こ
うとするものである、次にサンブンリグチャンバー内に
引出された試料ガスを、同サンプリングチャンバー内に
圧入するキャリアガスで混合加圧する０次に、同混合ガ
スを一定量計量してガスクロマトグラフのカラムに導入
させるようにしたらのである。
（実施例）
第１図に本発明の一実施例を示す、第１図において、１
は大気圧以下の状態で試料ガスが入っている減圧ガス容
器である。２はサンプリングチャンバーで４方向に流路
が接続してあり夫々の流路にはバルブＶｌ、Ｖ２．Ｖ３
．Ｖ４が挿入されている。流路の１つは上記減圧ガス容
器１にバルブＶ１を介して接続されており、１つは試料
ガスと混合して試料ガスを適当な圧力下で輸送するため
のキャリアガス（Ｈｅ）を充填した容器にバルブＶ２を
介して接続されており、１つは上記サンプリングチャン
バー２の空気を排気して真空下にする真空ポンプ３がバ
ルブＶ２を介して接続されており、１つは六方バルブ４
がバルブＶ４を介して接続されており、後述したバルブ
制御によって試料ガスとキャリアガスとを混合した分析
ガスを六方バルブ４に流入させている。六方バルブ４は
図に示すように６個の開口Ａ〜Ｆを持ち、バルブ回転子
内に上記開口の相隣る２個口を連通ずる３つの流路を有
するもので、切換えによって６個の開口Ａ〜Ｆの接続を
流路１（実線）と流路２（点線）とに切換えるバルブで
ある。開口Ａはサンプリングチャンバー２にバルブ■４
を介して接続されており、ＢとＥは計量管５の両端に接
続されており、Ｃはキャリアガス容器に接続されており
、Ｄはガスクロマトグラフカラム６に接続されており、
ＦはバルブＶ５を介して大気に接続されている、六方バ
ルブ４の操作により流路１と流路２とに切換えられる。
は大気圧以下の状態で試料ガスが入っている減圧ガス容
器である。２はサンプリングチャンバーで４方向に流路
が接続してあり夫々の流路にはバルブＶｌ、Ｖ２．Ｖ３
．Ｖ４が挿入されている。流路の１つは上記減圧ガス容
器１にバルブＶ１を介して接続されており、１つは試料
ガスと混合して試料ガスを適当な圧力下で輸送するため
のキャリアガス（Ｈｅ）を充填した容器にバルブＶ２を
介して接続されており、１つは上記サンプリングチャン
バー２の空気を排気して真空下にする真空ポンプ３がバ
ルブＶ２を介して接続されており、１つは六方バルブ４
がバルブＶ４を介して接続されており、後述したバルブ
制御によって試料ガスとキャリアガスとを混合した分析
ガスを六方バルブ４に流入させている。六方バルブ４は
図に示すように６個の開口Ａ〜Ｆを持ち、バルブ回転子
内に上記開口の相隣る２個口を連通ずる３つの流路を有
するもので、切換えによって６個の開口Ａ〜Ｆの接続を
流路１（実線）と流路２（点線）とに切換えるバルブで
ある。開口Ａはサンプリングチャンバー２にバルブ■４
を介して接続されており、ＢとＥは計量管５の両端に接
続されており、Ｃはキャリアガス容器に接続されており
、Ｄはガスクロマトグラフカラム６に接続されており、
ＦはバルブＶ５を介して大気に接続されている、六方バ
ルブ４の操作により流路１と流路２とに切換えられる。
流路１はＡ−Ｂ、Ｃ−Ｄ、Ｅ−Ｆが接続し、流路２はＢ
−Ｃ，Ｄ−Ｅ、Ｆ−Ａが接続する。
−Ｃ，Ｄ−Ｅ、Ｆ−Ａが接続する。
減圧ガス容器１内の試料ガスをガスクロマトグラフカラ
ム６に導入する操作について詳細な説明を行う、第２図
に各バルブについての制御タイムチャートが示されてい
るｌ初は六方バルブ４以外の全バルブが閉じた状態にあ
り、六方バルブ４は流路１の状態にある。先ず、バルブ
■２を開き、真空ポンプ３によりサンプリングチャンバ
ー２内を所定の真空度にする。所定の真空度に到達すれ
ば、バルブＶ２を閉じる。次に、バルブｖ１を開き減圧
ガス容器１内の試料ガスをサンプリングチャンバー２内
に導入する。サンプリングチャンバー２内の圧力と減圧
ガス容器１内の圧力が平衡状態になるまで待ってからバ
ルブ■１を閉じる。
ム６に導入する操作について詳細な説明を行う、第２図
に各バルブについての制御タイムチャートが示されてい
るｌ初は六方バルブ４以外の全バルブが閉じた状態にあ
り、六方バルブ４は流路１の状態にある。先ず、バルブ
■２を開き、真空ポンプ３によりサンプリングチャンバ
ー２内を所定の真空度にする。所定の真空度に到達すれ
ば、バルブＶ２を閉じる。次に、バルブｖ１を開き減圧
ガス容器１内の試料ガスをサンプリングチャンバー２内
に導入する。サンプリングチャンバー２内の圧力と減圧
ガス容器１内の圧力が平衡状態になるまで待ってからバ
ルブ■１を閉じる。
次に、バルブ３を開きキャリアガスをサンプリングチャ
ンバー２に導入する。サンプリングチャンバー２内の圧
力が指定圧力（加圧状態）になった時に、バルブＶ４と
■５を開き、サンプリングチャンバー２内の分析ガスを
キャリアガスの圧力で押し出して計量管５に導入する。
ンバー２に導入する。サンプリングチャンバー２内の圧
力が指定圧力（加圧状態）になった時に、バルブＶ４と
■５を開き、サンプリングチャンバー２内の分析ガスを
キャリアガスの圧力で押し出して計量管５に導入する。
計量管５内のガスがサンプリングチャンバー２内からの
分析ガスで完全に置換される時間Ｔ４が経過した後、六
方バルブ４を流路２に切換える。ｒＭ口Ｃから流入され
るキャリアガスの圧力により計量管５内の分析ガスが開
口Ｅ−Ｄを通ってガスクロマトグラフカラム６に導入さ
れる。計量管５内の分析ガスがガスクロマトグラフカラ
ム６に完全に充填される時間Ｔ５が経過後、六方バルブ
４は流路１に戻される。その後バルブ■３を通してキャ
リアガスを流し続け、計量管５内をキャリアガスで洗浄
し、計量管５内にキャリアガスを充満させて（時間Ｔ６
〉から、バルブＶ４．Ｖ５を閉じ、計量管５を密封状態
にすると同時に、バルブＶ２を開き、サンプリングチャ
ンバー２内にキャリアガスを導入させながら、真空ポン
プ３で排気させてサンプリングチャンバー内を洗浄する
０次にバルブｖ３を閉じ、キャリアガスの導入をストッ
プし、サンプリングチャンバー２内を真空ポンプ３で排
気し、サンプリングチャンバー２内を所定の真空度にす
る、これで最初の状態に戻る０次の分析ガスの測定を開
始する。即ち、所定の真空度に到達すれば、バルブＶ２
を閉じて次に分析ガスをサンプリングチャンバー２に導
入させる。以下上記と同じ動作を繰り返す、上述したバ
ルブ開閉制御動作はコンピュータを用いて自動的に制御
する。ガスクロマトグラフカラム６に充填された分析ガ
スはイオン化されて、質量分析装置で質量分析される。
分析ガスで完全に置換される時間Ｔ４が経過した後、六
方バルブ４を流路２に切換える。ｒＭ口Ｃから流入され
るキャリアガスの圧力により計量管５内の分析ガスが開
口Ｅ−Ｄを通ってガスクロマトグラフカラム６に導入さ
れる。計量管５内の分析ガスがガスクロマトグラフカラ
ム６に完全に充填される時間Ｔ５が経過後、六方バルブ
４は流路１に戻される。その後バルブ■３を通してキャ
リアガスを流し続け、計量管５内をキャリアガスで洗浄
し、計量管５内にキャリアガスを充満させて（時間Ｔ６
〉から、バルブＶ４．Ｖ５を閉じ、計量管５を密封状態
にすると同時に、バルブＶ２を開き、サンプリングチャ
ンバー２内にキャリアガスを導入させながら、真空ポン
プ３で排気させてサンプリングチャンバー内を洗浄する
０次にバルブｖ３を閉じ、キャリアガスの導入をストッ
プし、サンプリングチャンバー２内を真空ポンプ３で排
気し、サンプリングチャンバー２内を所定の真空度にす
る、これで最初の状態に戻る０次の分析ガスの測定を開
始する。即ち、所定の真空度に到達すれば、バルブＶ２
を閉じて次に分析ガスをサンプリングチャンバー２に導
入させる。以下上記と同じ動作を繰り返す、上述したバ
ルブ開閉制御動作はコンピュータを用いて自動的に制御
する。ガスクロマトグラフカラム６に充填された分析ガ
スはイオン化されて、質量分析装置で質量分析される。
上記実施例では、１つの減圧ガス容器１内のガス分析を
行っているが、同様のサンプリングシステムで複数個の
減圧ガス容器内のガス分析を行うことも可能である。こ
の場合、減圧ガス容器１に接続されるバルブｖ１が分析
する容器の数だけ増加し、バルブは分析操作が一巡する
毎に順次開閉して、容器内の試料ガスを順次分析するこ
とも可能である。
行っているが、同様のサンプリングシステムで複数個の
減圧ガス容器内のガス分析を行うことも可能である。こ
の場合、減圧ガス容器１に接続されるバルブｖ１が分析
する容器の数だけ増加し、バルブは分析操作が一巡する
毎に順次開閉して、容器内の試料ガスを順次分析するこ
とも可能である。
また、上記実施例では、キャリアガスはバルブ■３を介
してサンプリングチャンバー２に供給すると共に、計量
管からの試料ガスの押出しのためのキャリアガスを別途
六方バルブを介して供給しているが、サンプリングチャ
ンバー自体に計量性を持たせ、六方バルブなしにバルブ
Ｖ４がら直接カラム６に行くようにし、キャリアガス源
とカラムとの間にバルブＶ３．Ｖ４を通らない流路を適
当な抵抗を介在させて設けるようにすることも可能であ
る。
してサンプリングチャンバー２に供給すると共に、計量
管からの試料ガスの押出しのためのキャリアガスを別途
六方バルブを介して供給しているが、サンプリングチャ
ンバー自体に計量性を持たせ、六方バルブなしにバルブ
Ｖ４がら直接カラム６に行くようにし、キャリアガス源
とカラムとの間にバルブＶ３．Ｖ４を通らない流路を適
当な抵抗を介在させて設けるようにすることも可能であ
る。
（発明の効果）
本発明によれば、減圧下にある試料ガスを容易に、ガス
クロマトグラフカラムに導入させることが可能になった
ことで、減圧下の試料ガスをＧＣＭＳ分析することが可
能となり、減圧下の試料ガスの分析性能が向上した。
クロマトグラフカラムに導入させることが可能になった
ことで、減圧下の試料ガスをＧＣＭＳ分析することが可
能となり、減圧下の試料ガスの分析性能が向上した。
第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図は全バルブ
の開閉操作のタイムチャートである。 ■１〜Ｖ５・・・バルブ、１・・・減圧ガス容器、２・
・・サンプリングチャンバー、３・・・真空ポンプ、４
・・・六方バルブ、５・・・計量管、６・・・ガスクロ
マトグラフカラム。
の開閉操作のタイムチャートである。 ■１〜Ｖ５・・・バルブ、１・・・減圧ガス容器、２・
・・サンプリングチャンバー、３・・・真空ポンプ、４
・・・六方バルブ、５・・・計量管、６・・・ガスクロ
マトグラフカラム。
Claims (1)
- サンプリングチャンバーに測定試料ガスが入った減圧ガ
ス容器と加圧キャリアガス源と真空ポンプと流出流路と
をバルブを介して接続し、上記流出流路をガスクロマト
グラフカラムに接続し、上記サンプリングチャンバーを
真空状態にして、減圧ガス容器内の試料ガスをサンプリ
ングチャンバー内に導入させ、キャリアガスの圧力で分
析ガスを輸送し、ガスクロマトグラフカラムに導入させ
るようにしたことを特徴とするＧＣ用減圧ガスサンプリ
ングシステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26880888A JPH02115765A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | Ｇｃ用減圧ガスサンプリングシステム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26880888A JPH02115765A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | Ｇｃ用減圧ガスサンプリングシステム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02115765A true JPH02115765A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17463547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26880888A Pending JPH02115765A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | Ｇｃ用減圧ガスサンプリングシステム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02115765A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04131736A (ja) * | 1990-09-25 | 1992-05-06 | Power Reactor & Nuclear Fuel Dev Corp | 真空抽出装置からのガスサンプリング装置 |
| JPH06201538A (ja) * | 1993-01-06 | 1994-07-19 | Rengo Co Ltd | 複数系のガスサンプリング方法及び装置 |
| WO2005026717A1 (ja) * | 2003-09-10 | 2005-03-24 | Astellas Pharma Inc. | 溶媒の蒸発パターン解析方法および溶媒真空蒸発装置 |
| JP2008256714A (ja) * | 2008-06-17 | 2008-10-23 | Shimadzu Corp | ガスクロマトグラフ |
| WO2019022081A1 (ja) * | 2017-07-28 | 2019-01-31 | 京セラ株式会社 | センサモジュール |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5912333A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-23 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 負圧下の蒸気中の不凝縮性ガスの計測方法 |
-
1988
- 1988-10-25 JP JP26880888A patent/JPH02115765A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5912333A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-23 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 負圧下の蒸気中の不凝縮性ガスの計測方法 |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH06201538A (ja) * | 1993-01-06 | 1994-07-19 | Rengo Co Ltd | 複数系のガスサンプリング方法及び装置 |
| WO2005026717A1 (ja) * | 2003-09-10 | 2005-03-24 | Astellas Pharma Inc. | 溶媒の蒸発パターン解析方法および溶媒真空蒸発装置 |
| JPWO2005026717A1 (ja) * | 2003-09-10 | 2006-11-24 | アステラス製薬株式会社 | 溶媒の蒸発パターン解析方法および溶媒真空蒸発装置 |
| US7758317B2 (en) | 2003-09-10 | 2010-07-20 | Astellas Pharma Inc. | Method of analyzing vaporization pattern of solvent and solvent vacuum vaporization device |
| JP2008256714A (ja) * | 2008-06-17 | 2008-10-23 | Shimadzu Corp | ガスクロマトグラフ |
| WO2019022081A1 (ja) * | 2017-07-28 | 2019-01-31 | 京セラ株式会社 | センサモジュール |
| CN110945338A (zh) * | 2017-07-28 | 2020-03-31 | 京瓷株式会社 | 传感器模块 |
| JPWO2019022081A1 (ja) * | 2017-07-28 | 2020-07-02 | 京セラ株式会社 | センサモジュール |
| US11703484B2 (en) | 2017-07-28 | 2023-07-18 | Kyocera Corporation | Sensor module |
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