JPH0210628A - Ｘ線管の回転陽極ターゲット及びその製造方法 - Google Patents
Ｘ線管の回転陽極ターゲット及びその製造方法Info
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- JPH0210628A JPH0210628A JP15989488A JP15989488A JPH0210628A JP H0210628 A JPH0210628 A JP H0210628A JP 15989488 A JP15989488 A JP 15989488A JP 15989488 A JP15989488 A JP 15989488A JP H0210628 A JPH0210628 A JP H0210628A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的コ
（産業上の利用分野）
この発明は回転陽極型Ｘ線管の製造方法に係り、特に回
転陽極ターゲットの製造方法に関する。
転陽極ターゲットの製造方法に関する。
（従来の技術）
一般にＸ線管は、例えばＸ線診断として医療用に利用さ
れているが、胃の検診などの場合には、回転陽極型Ｘ線
管が用いられている。
れているが、胃の検診などの場合には、回転陽極型Ｘ線
管が用いられている。
この種のＸ線管は、真空外囲器内の一方に陰極が配置さ
れ、この陰極には偏心して陰極フィラメント及び集束電
極を内蔵したカップが設けられている。又、真空外囲器
内の中央付近には、陰極に対向して略傘状の回転陽極タ
ーゲットが配設され、回転機構により通常３０００〜９
０００ｒｐｍで回転するようになっている。
れ、この陰極には偏心して陰極フィラメント及び集束電
極を内蔵したカップが設けられている。又、真空外囲器
内の中央付近には、陰極に対向して略傘状の回転陽極タ
ーゲットが配設され、回転機構により通常３０００〜９
０００ｒｐｍで回転するようになっている。
そして、動作時には、陰陽極間に高電圧（３０〜１５０
ＫＶ）が印加され、陰極フィラメントから発射された電
子が集束電極により集束されて、回転陽極ターゲット上
に焦点を形成する。
ＫＶ）が印加され、陰極フィラメントから発射された電
子が集束電極により集束されて、回転陽極ターゲット上
に焦点を形成する。
ところで上記のような回転陽極型Ｘ線管において、従来
の回転陽極ターゲットはグラファイト若しくはモリブデ
ン基体と、この基体に設けたタングステン又はタングス
テン合金の表面層即ちＸ線放射層からなっている。この
回転陽極ターゲットは、通常、第４図に示す製造工程（
主要工程のみを示す）を経て製作される。
の回転陽極ターゲットはグラファイト若しくはモリブデ
ン基体と、この基体に設けたタングステン又はタングス
テン合金の表面層即ちＸ線放射層からなっている。この
回転陽極ターゲットは、通常、第４図に示す製造工程（
主要工程のみを示す）を経て製作される。
周知の通り、タングステンは高溶融金属であるため、そ
の性質上、粉末成形・焼結・転打加工を経て製造される
ものであり、従って、この過程中にドープ材、不純物、
焼結孔等が混入、含有され、吸蔵ガス源が混在する状態
となる。
の性質上、粉末成形・焼結・転打加工を経て製造される
ものであり、従って、この過程中にドープ材、不純物、
焼結孔等が混入、含有され、吸蔵ガス源が混在する状態
となる。
（発明が解決しようとする課題）
通常、この吸蔵ガスのガス出しとして、ターゲット単体
での真空熱処理（ＶＴ）を、又、Ｘ線管に組入れてから
は排気工程での電子衝撃によるガス出し等を実施してい
るが、真空熱処理温度、ターゲットの変形、焦点荒れ、
回転機構の損傷等の制約を受けるため、十分温度を上げ
ての脱ガスを実施することが困難であった。
での真空熱処理（ＶＴ）を、又、Ｘ線管に組入れてから
は排気工程での電子衝撃によるガス出し等を実施してい
るが、真空熱処理温度、ターゲットの変形、焦点荒れ、
回転機構の損傷等の制約を受けるため、十分温度を上げ
ての脱ガスを実施することが困難であった。
従って、このような製造工程を経て製造された回転陽極
ターゲットを使用して、Ｘ線管動作を行なうと、電子衝
撃によってターゲット温度が約１０００℃程度の高温に
なり、特に電子衝撃がなされる焦点軌道面での温度は、
１２００〜１４００℃近くまで上昇し、焦点面の瞬時最
高温度が２５００〜２８００℃近くまで上昇する。この
結果、ターゲット内部の吸蔵ガスが徐々に表面へ拡散・
放出され、耐電圧不良などによりＸ線管の寿命を短くす
るという恐れがあった。
ターゲットを使用して、Ｘ線管動作を行なうと、電子衝
撃によってターゲット温度が約１０００℃程度の高温に
なり、特に電子衝撃がなされる焦点軌道面での温度は、
１２００〜１４００℃近くまで上昇し、焦点面の瞬時最
高温度が２５００〜２８００℃近くまで上昇する。この
結果、ターゲット内部の吸蔵ガスが徐々に表面へ拡散・
放出され、耐電圧不良などによりＸ線管の寿命を短くす
るという恐れがあった。
この発明は、上記従来の不都合を解消したもので、耐電
圧の向上及び長寿命化を図った回転陽極型Ｘ線管の製造
方法を提供することを目的とする。
圧の向上及び長寿命化を図った回転陽極型Ｘ線管の製造
方法を提供することを目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
この発明は、タングステン製の回転陽極ターゲットを真
空処理した後、真空ベルジャー内で回転させながら高エ
ネルギー線衝撃により焦点軌道面を２２００℃以上にし
てガス出しし、これを常温で表面研磨仕上げした後、真
空外囲器内に組込む回転陽極型Ｘ線管の製造方法である
。
空処理した後、真空ベルジャー内で回転させながら高エ
ネルギー線衝撃により焦点軌道面を２２００℃以上にし
てガス出しし、これを常温で表面研磨仕上げした後、真
空外囲器内に組込む回転陽極型Ｘ線管の製造方法である
。
（作用）
この発明によれば、回転陽極ターゲットが予め再結晶温
度以上の加熱で内蔵ガスが十分除去された後に組込まれ
ているので、動作初期から放出ガスによる耐電圧劣化や
ターゲットの変形等が起り難く、信頼性が高く、長寿命
化が図れる。
度以上の加熱で内蔵ガスが十分除去された後に組込まれ
ているので、動作初期から放出ガスによる耐電圧劣化や
ターゲットの変形等が起り難く、信頼性が高く、長寿命
化が図れる。
（実施例）
以下、図面を参照して、この発明の一実施例を詳細に説
明する。
明する。
この発明による回転陽極型Ｘ線管の製造方法は、第１図
に示すような工程により行なわれる。
に示すような工程により行なわれる。
即ち、先づタングステンの粉末を成形・焼結・鍛造の各
工程を経た後、機械加工により傘形の回転陽極ターゲッ
トを形成する。その後、この回転陽極ターゲットを真空
熱処理する。尚、この発明では、電子衝撃によるＸ線放
射面は純タングステン又はタングステンを主体とする合
金である。
工程を経た後、機械加工により傘形の回転陽極ターゲッ
トを形成する。その後、この回転陽極ターゲットを真空
熱処理する。尚、この発明では、電子衝撃によるＸ線放
射面は純タングステン又はタングステンを主体とする合
金である。
次に、第２図に示すように、回転陽極ターゲット１を真
空ベルジャー５内に収容して、ステータ３により回転さ
せながら、高エネルギー線衝撃例えば電子衝撃により焦
点軌道面１ａ及びその近傍を２０００℃以上、より好ま
しくは２２００℃以上に加熱してガス出しする。この工
程では、第３図に示すように、電子衝撃で陽極ターゲッ
ト１の焦点面が再結晶化される。
空ベルジャー５内に収容して、ステータ３により回転さ
せながら、高エネルギー線衝撃例えば電子衝撃により焦
点軌道面１ａ及びその近傍を２０００℃以上、より好ま
しくは２２００℃以上に加熱してガス出しする。この工
程では、第３図に示すように、電子衝撃で陽極ターゲッ
ト１の焦点面が再結晶化される。
尚、この電子衝撃により加熱、再結晶化する領域は、製
品での焦点軌道面１ａを含め、それから内側及び外側に
ある程度拡大した領域である。それにより、確実に焦点
軌道領域を予め再結晶化することが出来る。
品での焦点軌道面１ａを含め、それから内側及び外側に
ある程度拡大した領域である。それにより、確実に焦点
軌道領域を予め再結晶化することが出来る。
その後、室温にてこの回転陽極ターゲット１の焦点軌道
面１ａを含む表面を機械研削により表面研磨仕上げした
後、バランシング・検査の各工程を経てからＸ線管の真
空外囲器内に組込み、通常の排気工程等を経る。第２図
中の２は回転機構（ロータ）、４は陰極である。
面１ａを含む表面を機械研削により表面研磨仕上げした
後、バランシング・検査の各工程を経てからＸ線管の真
空外囲器内に組込み、通常の排気工程等を経る。第２図
中の２は回転機構（ロータ）、４は陰極である。
尚、上記実施例においては、回転陽極ターゲット１の軌
道面への高エネルギー線衝撃は、電子衝撃であったが、
高エネルギー線衝撃は電子衝撃に限定されることなく、
例えばレーザ照射等の方法により行なうことも可能であ
る。
道面への高エネルギー線衝撃は、電子衝撃であったが、
高エネルギー線衝撃は電子衝撃に限定されることなく、
例えばレーザ照射等の方法により行なうことも可能であ
る。
尚又、高エネルギー線の照射においては、ターゲットを
回転させずに電子或いはレーザビームをターゲット焦点
軌道面に沿って高速でスキャニングさせてターゲットを
加熱し、再結晶化、ガス出しをしても良い。
回転させずに電子或いはレーザビームをターゲット焦点
軌道面に沿って高速でスキャニングさせてターゲットを
加熱し、再結晶化、ガス出しをしても良い。
［発明の効果コ
以上説明したようにこの発明によれば、回転陽極ターゲ
ットの少なくとも焦点軌道面が予め再結晶温度以上の加
熱で内蔵ガスが十分除去された後に組込まれているので
、動作初期から放出ガスによる耐電圧劣化が起り難く、
又、回転陽極ターゲットの変形も防止出来、信頼性の高
い回転陽極型Ｘ線管が得られる。
ットの少なくとも焦点軌道面が予め再結晶温度以上の加
熱で内蔵ガスが十分除去された後に組込まれているので
、動作初期から放出ガスによる耐電圧劣化が起り難く、
又、回転陽極ターゲットの変形も防止出来、信頼性の高
い回転陽極型Ｘ線管が得られる。
又、この発明では、回転陽極ターゲットの変形も防止出
来る。
来る。
第１図はこの発明の一実施例に係る回転陽極型Ｘ線管の
製造方法を示す工程説明図、第２図はこの発明の一工程
であるターゲット表面電子衝撃処理方法を示す構成図、
第３図はこの発明におけるターゲット表面電子衝撃処理
を実施後のターゲットを示す断面図、第４図は従来の回
転陽極型Ｘ線管の製造方法を示す工程説明図である。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第 図 第 図
製造方法を示す工程説明図、第２図はこの発明の一工程
であるターゲット表面電子衝撃処理方法を示す構成図、
第３図はこの発明におけるターゲット表面電子衝撃処理
を実施後のターゲットを示す断面図、第４図は従来の回
転陽極型Ｘ線管の製造方法を示す工程説明図である。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第 図 第 図
Claims (1)
- 少なくとも電子衝撃面がタングステン製の回転陽極ター
ゲットを真空処理した後、真空ベルジャー内で高エネル
ギー線衝撃により焦点軌道面を２０００℃以上にてガス
出しし、しかる後、これを表面研磨仕上げし、その後、
これを真空外囲器内に組込むことを特徴とする回転陽極
型Ｘ線管の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63159894A JP2714004B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | Ｘ線管の回転陽極ターゲット及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63159894A JP2714004B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | Ｘ線管の回転陽極ターゲット及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0210628A true JPH0210628A (ja) | 1990-01-16 |
| JP2714004B2 JP2714004B2 (ja) | 1998-02-16 |
Family
ID=15703499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63159894A Expired - Fee Related JP2714004B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | Ｘ線管の回転陽極ターゲット及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2714004B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5450290A (en) * | 1977-09-28 | 1979-04-20 | Toshiba Corp | Production of target for x-ray tube |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP63159894A patent/JP2714004B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5450290A (en) * | 1977-09-28 | 1979-04-20 | Toshiba Corp | Production of target for x-ray tube |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2714004B2 (ja) | 1998-02-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |