JPH02105571A - 固体撮像素子 - Google Patents
固体撮像素子Info
- Publication number
- JPH02105571A JPH02105571A JP63258516A JP25851688A JPH02105571A JP H02105571 A JPH02105571 A JP H02105571A JP 63258516 A JP63258516 A JP 63258516A JP 25851688 A JP25851688 A JP 25851688A JP H02105571 A JPH02105571 A JP H02105571A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent electrode
- electrode layer
- semiconductor substrate
- state image
- solid state
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims abstract 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 11
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 10
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 abstract 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 3
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006853 SnOz Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は固体撮像素子に関し、特にCCD型固体撮像素
子に関する。
子に関する。
[従来の技術〕
従来のガラスフィルタを貼り合わせていない白黒用の固
体撮像素子や画素上方に直接色フィルタを形成するカラ
ー用の固体撮像素子では、ガラスフィルタを素子表面に
正確に位置合わせをした上で接着剤で固定するといった
工数を必要とせず、コストも安くできる。また、ガラス
フィルタ貼り付はデバイスは、画素とμmオーダの精度
で接着するという作業性の悪さのほかに、接着剤の気泡
、ゴミがない状態で薄く均一性よく接着するといった管
理もたいへんである。
体撮像素子や画素上方に直接色フィルタを形成するカラ
ー用の固体撮像素子では、ガラスフィルタを素子表面に
正確に位置合わせをした上で接着剤で固定するといった
工数を必要とせず、コストも安くできる。また、ガラス
フィルタ貼り付はデバイスは、画素とμmオーダの精度
で接着するという作業性の悪さのほかに、接着剤の気泡
、ゴミがない状態で薄く均一性よく接着するといった管
理もたいへんである。
しかし、ガラスフィルタが貼り付けられていないデバイ
スは、第3図のようにパッケージの封止ガラス(図示し
ない)に静電気が帯電した場合に、直接素子表面に帯電
し、表面に電極の形成されていないフォトダイオード3
6の5i02Si界面に影響を及ぼす。このため、フォ
トダイオード36や垂直C0D38などに余分な電荷が
発生し、異常出力が出たり、素子表面を破壊し、電荷が
蓄積しなくなるといったように静電気に対して弱いとい
う欠点があった。
スは、第3図のようにパッケージの封止ガラス(図示し
ない)に静電気が帯電した場合に、直接素子表面に帯電
し、表面に電極の形成されていないフォトダイオード3
6の5i02Si界面に影響を及ぼす。このため、フォ
トダイオード36や垂直C0D38などに余分な電荷が
発生し、異常出力が出たり、素子表面を破壊し、電荷が
蓄積しなくなるといったように静電気に対して弱いとい
う欠点があった。
上述のように従来のガラスフィルタを貼り付けていない
型の固体撮像素子は、封止ガラスに静電気が帯電した場
合に、素子の特性異常が生じなり破壊されやすいといっ
た欠点がある。
型の固体撮像素子は、封止ガラスに静電気が帯電した場
合に、素子の特性異常が生じなり破壊されやすいといっ
た欠点がある。
本発明の目的は、静電気による悪影響のない固体撮像素
子を提供することにある。
子を提供することにある。
本発明の固体撮像装置は、入射光に応じた電荷を発生し
て蓄積する感光手段と、前記感光手段から前記電荷に応
じた信号電流を読み出すための信号読み出し手段とを有
する感光セルが半導体基板に集積して設けられた固体撮
像素子において、前記半導体基板の前記感光セルが設け
られた主表面の上方に、一定電位供給手段を備えた透明
電極層が設けられているというものである。
て蓄積する感光手段と、前記感光手段から前記電荷に応
じた信号電流を読み出すための信号読み出し手段とを有
する感光セルが半導体基板に集積して設けられた固体撮
像素子において、前記半導体基板の前記感光セルが設け
られた主表面の上方に、一定電位供給手段を備えた透明
電極層が設けられているというものである。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例を示すセンサ・チップの
縦断面図である。
縦断面図である。
封止ガラス(図示せず)を通って上方から入射した光は
、フォトダイオード16で光電変換され電荷が蓄積され
、その電荷はトランスファーゲート17を経て垂直CC
D18へと移動する。この実施例では、通常の固体撮像
素子の半導体基板11の表面上に透明電極層19を設け
ている。この透明電極層19は、NESA膜やITOy
lAなどにより形成されている。NESA膜の場合は酸
化スズ(SnOz)の膜をスプレィ法、またはCVD法
により被着させて形成し、ITO膜の場合は、酸化イン
ジウム(In203)単体、または酸化インジウムに少
量の酸化スズを添加した混合物を蒸着法などにより被着
させて形成する。
、フォトダイオード16で光電変換され電荷が蓄積され
、その電荷はトランスファーゲート17を経て垂直CC
D18へと移動する。この実施例では、通常の固体撮像
素子の半導体基板11の表面上に透明電極層19を設け
ている。この透明電極層19は、NESA膜やITOy
lAなどにより形成されている。NESA膜の場合は酸
化スズ(SnOz)の膜をスプレィ法、またはCVD法
により被着させて形成し、ITO膜の場合は、酸化イン
ジウム(In203)単体、または酸化インジウムに少
量の酸化スズを添加した混合物を蒸着法などにより被着
させて形成する。
静電気が封止ガラスやパッケージに帯電した場合、半導
体基板11の表面上に電荷が付着しても透明電極N19
により電荷が逃げて、悪影響を及ぼさない。この透明電
極層19は通常接地電位あるいは一定の直流電圧が与え
られる(例えば、そういう端子に接続されている)。こ
の透明電極層19の効果は、SiO□−Si界面を利用
するようなフローティング型P−N接合を感光、蓄積手
段としているインターライン転送型2次元CODイメー
ジセンサで顕著である他、表面チャンネルCCD部を有
するイメージセンサにおいてもその効果は大である。
体基板11の表面上に電荷が付着しても透明電極N19
により電荷が逃げて、悪影響を及ぼさない。この透明電
極層19は通常接地電位あるいは一定の直流電圧が与え
られる(例えば、そういう端子に接続されている)。こ
の透明電極層19の効果は、SiO□−Si界面を利用
するようなフローティング型P−N接合を感光、蓄積手
段としているインターライン転送型2次元CODイメー
ジセンサで顕著である他、表面チャンネルCCD部を有
するイメージセンサにおいてもその効果は大である。
また、この透明電極層19は比較的大きな静電容量を持
つことになるため、素子全面で同一電位を保持する必要
から抵抗率としてlXIO3Ω・1以下のものであるこ
とが望ましい。
つことになるため、素子全面で同一電位を保持する必要
から抵抗率としてlXIO3Ω・1以下のものであるこ
とが望ましい。
第2図は本発明の第2の実施例を示すセンサ・チップの
縦断面図である。
縦断面図である。
第1図の第1の実施例に対して、透明電極層29の上に
直接形成した色フィルタ27を設けたものである。第1
の実施例と同様、センサチップは透明電極層26のシー
ルド作用により、静電気の影響を受けない、これらの効
果は第1の実施例と同様である。この透明電極29も通
常接地電位あるいは一定の直流電圧に保たれる。又、透
明電極層は、色フイルタ30上に設けてもよいが、その
場合には、色フィルタの耐熱性から150℃以内の低温
で形成出来るようなものに限られるが、それには例えば
InをI X 10−3〜I X 10−’m+iHg
程度の酸素中で蒸着ないしはスパッタすればよいのであ
る。抵抗率lXIO3Ω・1以下のものは容易に得られ
る。
直接形成した色フィルタ27を設けたものである。第1
の実施例と同様、センサチップは透明電極層26のシー
ルド作用により、静電気の影響を受けない、これらの効
果は第1の実施例と同様である。この透明電極29も通
常接地電位あるいは一定の直流電圧に保たれる。又、透
明電極層は、色フイルタ30上に設けてもよいが、その
場合には、色フィルタの耐熱性から150℃以内の低温
で形成出来るようなものに限られるが、それには例えば
InをI X 10−3〜I X 10−’m+iHg
程度の酸素中で蒸着ないしはスパッタすればよいのであ
る。抵抗率lXIO3Ω・1以下のものは容易に得られ
る。
以上説明したように本発明は、センサ・チップの上方に
透明電極層を有しているので、静電気による素子の特性
異常を防ぎ静電破壊を防止する効果がある。
透明電極層を有しているので、静電気による素子の特性
異常を防ぎ静電破壊を防止する効果がある。
第1図は本発明の第1の実施例を示すセンサ・チップの
縦断面図、第2図は本発明の第2の実施例を示すセンサ
・チップの縦断面図、第3図は従来例を示すセンサ・チ
ップの縦断面図である。 11.21.31・・・n型半導体基板、12゜22.
32・・・pウェル、13,23.33・・・遮光アル
ミニウム膜、14,24.34・・・電極、15゜ 26 。 28゜ 19゜ 25.35・・・5i02−3i界面、16゜36・・
・フォトダイオード(のn領域)、27.37・・・ト
ランスファーゲート、18゜38・・・垂直CCD (
の埋込みチャネル)、29・・・透明電極層、30・・
・色フィルタ。 13 /415 /6 /7 /3
縦断面図、第2図は本発明の第2の実施例を示すセンサ
・チップの縦断面図、第3図は従来例を示すセンサ・チ
ップの縦断面図である。 11.21.31・・・n型半導体基板、12゜22.
32・・・pウェル、13,23.33・・・遮光アル
ミニウム膜、14,24.34・・・電極、15゜ 26 。 28゜ 19゜ 25.35・・・5i02−3i界面、16゜36・・
・フォトダイオード(のn領域)、27.37・・・ト
ランスファーゲート、18゜38・・・垂直CCD (
の埋込みチャネル)、29・・・透明電極層、30・・
・色フィルタ。 13 /415 /6 /7 /3
Claims (1)
- 入射光に応じた電荷を発生して蓄積する感光手段と、前
記感光手段から前記電荷に応じた信号電流を読み出すた
めの信号読み出し手段とを有する感光セルが半導体基板
に集積して設けられた固体撮像素子において、前記半導
体基板の前記感光セルが設けられた主表面の上方に、一
定電位供給手段を備えた透明電極層が設けられているこ
とを特徴とする固体撮像素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63258516A JPH02105571A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 固体撮像素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63258516A JPH02105571A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 固体撮像素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02105571A true JPH02105571A (ja) | 1990-04-18 |
Family
ID=17321298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63258516A Pending JPH02105571A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 固体撮像素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02105571A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0546047U (ja) * | 1991-11-27 | 1993-06-18 | 三洋電機株式会社 | 固体撮像素子 |
JP2002281362A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | デジタルカメラ及び撮像素子 |
JP2007019189A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体撮像素子及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-10-14 JP JP63258516A patent/JPH02105571A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0546047U (ja) * | 1991-11-27 | 1993-06-18 | 三洋電機株式会社 | 固体撮像素子 |
JP2002281362A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | デジタルカメラ及び撮像素子 |
JP2007019189A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体撮像素子及びその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6259085B1 (en) | Fully depleted back illuminated CCD | |
US8039809B2 (en) | Sensor panel and image detecting device | |
US11637147B2 (en) | Imaging device | |
JPS6218755A (ja) | 固体撮像装置 | |
JP2000058808A (ja) | 二次元画像検出器 | |
JPS6386973A (ja) | 露光ブロツキング素子をもつ感光ピクセル | |
JPH02105571A (ja) | 固体撮像素子 | |
JP4391079B2 (ja) | 固体撮像装置及び放射線撮像装置 | |
JPS6286855A (ja) | 放射線用固体撮像素子 | |
JP3788740B2 (ja) | アクティブマトリクス基板および電磁波検出器 | |
JP3600028B2 (ja) | X線画像検出器及びその製造方法 | |
JPH0449787B2 (ja) | ||
JP2509592B2 (ja) | 積層型固体撮像装置 | |
JPH02281658A (ja) | 固体撮像装置 | |
JPS61280659A (ja) | 密着形イメ−ジセンサ− | |
US7928401B2 (en) | Radiation detecting system | |
JPH01295458A (ja) | 積層型固体撮像装置 | |
JP2831752B2 (ja) | 固体撮像装置 | |
FR2794287A1 (fr) | Detecteur a semi-conducteur pour la detection de rayonnements ionisants | |
JPH02110969A (ja) | 光電変換素子 | |
JPH01147863A (ja) | 固体撮像装置 | |
JPS60245166A (ja) | 固体撮像装置 | |
JPS63129661A (ja) | 固体撮像装置 | |
JPS61168956A (ja) | 光半導体装置 | |
Holland | Fully depleted back illuminated CCD |