JPH0199648A - ジシクロペンタジエン水和反応用触媒 - Google Patents
ジシクロペンタジエン水和反応用触媒Info
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- JPH0199648A JPH0199648A JP62258116A JP25811687A JPH0199648A JP H0199648 A JPH0199648 A JP H0199648A JP 62258116 A JP62258116 A JP 62258116A JP 25811687 A JP25811687 A JP 25811687A JP H0199648 A JPH0199648 A JP H0199648A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の用分野〕
本発明は、ニオブ化合物を含むジシクロペンタジェン(
以下DCFDと略す)水和反応用触媒に関し、更に詳し
くは、DCPDを接触流通法によって水和してトリシク
ロ(5,2,1,0’・6)=3−デセン−8オール及
び/又はトリシクロ(5゜2.1.O’・6)−3−デ
セン−9オール(以下合せてDCFD−OHと略す)を
製造することができる触媒に関する。
以下DCFDと略す)水和反応用触媒に関し、更に詳し
くは、DCPDを接触流通法によって水和してトリシク
ロ(5,2,1,0’・6)=3−デセン−8オール及
び/又はトリシクロ(5゜2.1.O’・6)−3−デ
セン−9オール(以下合せてDCFD−OHと略す)を
製造することができる触媒に関する。
DCPD−OHは、一般的にはヒドロキシ・ジシクロペ
ンタジェンと呼ばれる脂環式、不飽和二級アルコールで
あり、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂等の改質剤と
して使われている。更にDCPD−OHから誘導される
エステル等も同様の目的に使用されている。
ンタジェンと呼ばれる脂環式、不飽和二級アルコールで
あり、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂等の改質剤と
して使われている。更にDCPD−OHから誘導される
エステル等も同様の目的に使用されている。
従来DCFD−OHの製造には、硫酸による間接水和法
(に Am、 Chem、 Soc、 67巻、723
頁1945)やヘテロポリ酸を触媒として用いる水和法
(特公昭55−19205号公報)があった。しかし、
これらの方法は(1)装置の腐食が激しいこと、(2)
選択率が低いこと、(3)反応終了後アルカリによる中
和工程が必要なこと、あるいは(4)へテロポリ酸は反
応器の材質によっては反応中に分解を起こしてしまうこ
と、などの欠点を有するものであった。
(に Am、 Chem、 Soc、 67巻、723
頁1945)やヘテロポリ酸を触媒として用いる水和法
(特公昭55−19205号公報)があった。しかし、
これらの方法は(1)装置の腐食が激しいこと、(2)
選択率が低いこと、(3)反応終了後アルカリによる中
和工程が必要なこと、あるいは(4)へテロポリ酸は反
応器の材質によっては反応中に分解を起こしてしまうこ
と、などの欠点を有するものであった。
また、スルフォン基を有するスチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体である酸性陽イオン交換樹脂を触媒とする方
法(米国特許第3.345.419号)も提案されてい
るが、イオン交換樹脂触媒は、一般的に熱安定性が悪く
100℃以上の反応温度ではスルフォン基の脱離が起こ
り、脱離したスルフォン基は装置の腐食や製品の着色の
原因となった。
ン共重合体である酸性陽イオン交換樹脂を触媒とする方
法(米国特許第3.345.419号)も提案されてい
るが、イオン交換樹脂触媒は、一般的に熱安定性が悪く
100℃以上の反応温度ではスルフォン基の脱離が起こ
り、脱離したスルフォン基は装置の腐食や製品の着色の
原因となった。
上記のように、従来のDCPD−OH製造法には選択率
や装置の腐食など種々の問題があった。
や装置の腐食など種々の問題があった。
本発明は、これらの問題点を解決しようとするものであ
る。
る。
本発明者等は、上記の問題点を解決するために鋭意研究
を進めた結果、ニオブ酸を酸素の存在下焼成することに
よって得られるニオブ化合物がDCPDの水和反応触媒
として有効である事を見出して、本発明を完成するに至
った。
を進めた結果、ニオブ酸を酸素の存在下焼成することに
よって得られるニオブ化合物がDCPDの水和反応触媒
として有効である事を見出して、本発明を完成するに至
った。
すなわち、本発明は、ニオブ化合物を含むジシクロペン
タジェン水和反応用触媒に関する。
タジェン水和反応用触媒に関する。
本発明の触媒は、一般式NbzOs・nH2O(nは整
数)で示される酸化ニオブの水和物、いわゆるニオブ酸
を酸素の存在下、通常は空気の存在下において100〜
500℃好ましくは150〜450℃で焼成することに
よって得られるニオブ化合物である。通常の固体酸(金
属酸化物の場合)が500℃付近の焼成によって酸性が
発現するのに対して、ニオブ酸は、比較的低温で焼成す
ることによって酸性を発現し、600℃で焼成すると中
性を示し、触媒活性を示さなくなる傾向がある。焼成時
間は、採用される焼成温度によって決められるが、通常
は0.5〜10時間が好ましい。焼成によって得られた
ニオブ化合物は粉末状で、あるいはペレット状等に成形
してDCFD−OHの製造に用いられる。該ニオブ化合
物は、粉末状の他、そのまま圧縮成形等の方法によって
、あるいは結合剤としてシリカゲルや殿粉等を混合して
押出成形等の方法によって成形してDCPDの水和反応
に用いることができる。
数)で示される酸化ニオブの水和物、いわゆるニオブ酸
を酸素の存在下、通常は空気の存在下において100〜
500℃好ましくは150〜450℃で焼成することに
よって得られるニオブ化合物である。通常の固体酸(金
属酸化物の場合)が500℃付近の焼成によって酸性が
発現するのに対して、ニオブ酸は、比較的低温で焼成す
ることによって酸性を発現し、600℃で焼成すると中
性を示し、触媒活性を示さなくなる傾向がある。焼成時
間は、採用される焼成温度によって決められるが、通常
は0.5〜10時間が好ましい。焼成によって得られた
ニオブ化合物は粉末状で、あるいはペレット状等に成形
してDCFD−OHの製造に用いられる。該ニオブ化合
物は、粉末状の他、そのまま圧縮成形等の方法によって
、あるいは結合剤としてシリカゲルや殿粉等を混合して
押出成形等の方法によって成形してDCPDの水和反応
に用いることができる。
水和反応の形式は、接触流通式が最適であり、反応器型
式は流動床型あるいは固定床型等が採用できる。通常は
、固定床型接触流通反応方式が採用される。反応器に供
給される水とDCPDのモル比(H20/DCPD)は
1〜50、好ましくは5〜25の範囲である。単位触媒
量に対するDCFDの供給速度(mol/ h−g−’
)は0.005〜0.1の範囲、好ましくは0.01〜
0.05の範囲である。また、原料の供給と同時に、窒
素、炭酸ガス等の不活性ガスを供給すると触媒表面への
炭素質の蓄積を防止できる。
式は流動床型あるいは固定床型等が採用できる。通常は
、固定床型接触流通反応方式が採用される。反応器に供
給される水とDCPDのモル比(H20/DCPD)は
1〜50、好ましくは5〜25の範囲である。単位触媒
量に対するDCFDの供給速度(mol/ h−g−’
)は0.005〜0.1の範囲、好ましくは0.01〜
0.05の範囲である。また、原料の供給と同時に、窒
素、炭酸ガス等の不活性ガスを供給すると触媒表面への
炭素質の蓄積を防止できる。
反応温度は100〜250℃であり、特に120〜22
0℃が好適である。高温ではDCPDの熱重合が起こり
安く、DCPD−OH選択率を悪くする原因となる。反
応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでもよいが、工業
的な観点からは常圧が好ましい。
0℃が好適である。高温ではDCPDの熱重合が起こり
安く、DCPD−OH選択率を悪くする原因となる。反
応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでもよいが、工業
的な観点からは常圧が好ましい。
水和反応原料のDCPDとしては工業用(純度95〜9
3wt%)’DCPDをそのまま用いることができる。
3wt%)’DCPDをそのまま用いることができる。
ただしこれに制限されることなくより低純度又は高純度
(例えば99.5wt%)のDCPDを原料として用い
ることもできる。
(例えば99.5wt%)のDCPDを原料として用い
ることもできる。
冷却して得られる反応生成物は二層に分離するので、油
層を容易に分けとることができる。この際、油層をアル
カリ中和や洗浄する必要はない。
層を容易に分けとることができる。この際、油層をアル
カリ中和や洗浄する必要はない。
油層をそのまま蒸留に付せば、DCPD−OHが得られ
る。
る。
本発明の触媒を用いれば、連続反応で、且つ、高選択率
でDCPD−OHが得られ、反応後の生成物中和や洗浄
工程が不要である。また、本発明の触媒は、装置腐食の
問題もなくDCPD−OHの工業的製造に極必、て有効
な水和反応用触媒である。
でDCPD−OHが得られ、反応後の生成物中和や洗浄
工程が不要である。また、本発明の触媒は、装置腐食の
問題もなくDCPD−OHの工業的製造に極必、て有効
な水和反応用触媒である。
実施例に
ニオブ酸(CBMM社八〇−へ78)を粉砕し、電気炉
を用いて空気中において200℃で3時間焼成した。
を用いて空気中において200℃で3時間焼成した。
得られたニオブ化合物は圧縮成形したのち、粉砕し、そ
の36−42メツシユの部分1gを内径10雅のガラス
製連続流通式反応装置に充填し、反応を行った。
の36−42メツシユの部分1gを内径10雅のガラス
製連続流通式反応装置に充填し、反応を行った。
反応温度は170℃、反応圧力は常圧とした。
単位触媒量に対するDCPDの供給速度は0.014m
ol/ h −g−’、水/DCPDモル比は21.4
とした。また、窒素ガスを80 ml/minで反応器
に供給した。
ol/ h −g−’、水/DCPDモル比は21.4
とした。また、窒素ガスを80 ml/minで反応器
に供給した。
反応開始30分後に得られた油層を分析し、DCPDの
転化率およびDCFD−〇Hの選択率を表1に示す。
転化率およびDCFD−〇Hの選択率を表1に示す。
実施例2
実施例1と同一のニオブ酸を用いて、焼成温度を300
℃とする以外は実施例1と同一の方法で触媒を調製し、
実施例1と同一の反応装置を使用して反応を行った。ま
た、反応条件も実施例1と同一とした。
℃とする以外は実施例1と同一の方法で触媒を調製し、
実施例1と同一の反応装置を使用して反応を行った。ま
た、反応条件も実施例1と同一とした。
反応結果を、表1に示す。
実施例3
実施例1と同一のニオブ酸を用いて、焼成温度を400
℃とする以外は実施例1と同一の条件で焼成し、成形、
粉砕して14−20メツシユの部分を触媒として、実施
例1と同一の反応装置を使用して、反応を行った。反応
条件は単位触媒量に対するDCPD供給速度を0.02
1mol/ h −g”、水/DCPDモル比を7.1
とする以外は実施例1と同一とした。
℃とする以外は実施例1と同一の条件で焼成し、成形、
粉砕して14−20メツシユの部分を触媒として、実施
例1と同一の反応装置を使用して、反応を行った。反応
条件は単位触媒量に対するDCPD供給速度を0.02
1mol/ h −g”、水/DCPDモル比を7.1
とする以外は実施例1と同一とした。
反応結果を、表1に示す。
実施例4
ニオブ酸(CBMM社AD−460)を粉砕し、電気炉
を用いて空気中において200℃で3時間焼成した。
を用いて空気中において200℃で3時間焼成した。
得られたニオブ化合物は圧縮成形したのち粉砕し、その
14−20メツシユの部分1gを内径10關のガラス製
連続流通式反応装置に充填し、反応を行った。
14−20メツシユの部分1gを内径10關のガラス製
連続流通式反応装置に充填し、反応を行った。
反応温度は170℃、反応圧力は常圧とした。
単位触媒量に対するDCPDの供給速度は0.021m
ol/ h −g−’、水/DCPDモル比は7.1と
した。
ol/ h −g−’、水/DCPDモル比は7.1と
した。
また、窒素ガスを80 if/minで反応器に供給し
た。
た。
反応開始30分後に得られた油層を分析し、DCPDの
転化率およびDCFD−〇Hの選択率を表1に示す。
転化率およびDCFD−〇Hの選択率を表1に示す。
実施例5
実施例4と同一のニオブ酸を用いて、焼成温度を300
℃とする以外は実施例4と同一の条件で焼成し、成形、
粉砕して14−20メツシユの部分を触媒として、実施
例1と同一の反応装置を使用して反応を行った。反応条
件は単位触媒量に対するDCPD供給速度を0.028
mol/ h −g−’、水/DCPDモル比を7.1
とする以外は実施例1と同一とじた。
℃とする以外は実施例4と同一の条件で焼成し、成形、
粉砕して14−20メツシユの部分を触媒として、実施
例1と同一の反応装置を使用して反応を行った。反応条
件は単位触媒量に対するDCPD供給速度を0.028
mol/ h −g−’、水/DCPDモル比を7.1
とする以外は実施例1と同一とじた。
反応結果を、表1に示す。
実施例6
実施例5と同一の触媒を使用して、実施例1と同一の反
応装置を使用して反応を行った。反応条件は、反応温度
を220℃とする以外は実施例4と同一とした。
応装置を使用して反応を行った。反応条件は、反応温度
を220℃とする以外は実施例4と同一とした。
反応結果を、表1に示す。
実施例7
実施例4と同一のニオブ酸を用いて、焼成温度を150
℃とする以外は実施例4と同一の条件で焼成し、成形、
粉砕して14−20メツシニの部分を触媒として、実施
例1と同一の反応装置を使用して反応を行った。反応条
件は、反応温度を120℃とする以外は実施例4と同一
とした。
℃とする以外は実施例4と同一の条件で焼成し、成形、
粉砕して14−20メツシニの部分を触媒として、実施
例1と同一の反応装置を使用して反応を行った。反応条
件は、反応温度を120℃とする以外は実施例4と同一
とした。
反応結果を、表1に示す。
比較例1
酸性陽イオン交換樹脂(アンバーリスト15)0.8g
を実施例1と同一の反応装置を用いて反応を行った。反
応温度は100℃、単位触媒量に対するDCPDの供給
速度は0.018mol/ −h −g−’、水/DC
PDモル比は7.1とした。また、窒素を80 In!
/minで反応器に供給した。
を実施例1と同一の反応装置を用いて反応を行った。反
応温度は100℃、単位触媒量に対するDCPDの供給
速度は0.018mol/ −h −g−’、水/DC
PDモル比は7.1とした。また、窒素を80 In!
/minで反応器に供給した。
反応結果を、表1に示す。
Claims (3)
- (1)ニオブ化合物を含むジシクロペンタジエン水和反
応用触媒。 - (2)ニオブ化合物がニオブ酸を酸素の存在下焼成する
ことによって得られる特許請求の範囲第(1)項記載の
触媒。 - (3)焼成を100〜500℃の温度で行う特許請求の
範囲第(2)項記載の触媒。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62258116A JPH0199648A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | ジシクロペンタジエン水和反応用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62258116A JPH0199648A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | ジシクロペンタジエン水和反応用触媒 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0199648A true JPH0199648A (ja) | 1989-04-18 |
Family
ID=17315726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62258116A Pending JPH0199648A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | ジシクロペンタジエン水和反応用触媒 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0199648A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6044039A (ja) * | 1983-08-17 | 1985-03-08 | シ−ビ−エムエム・インタ−ナシヨナル・リミタ−ダ | 含水酸化ニオブ固体酸触媒 |
-
1987
- 1987-10-13 JP JP62258116A patent/JPH0199648A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6044039A (ja) * | 1983-08-17 | 1985-03-08 | シ−ビ−エムエム・インタ−ナシヨナル・リミタ−ダ | 含水酸化ニオブ固体酸触媒 |
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