JPH0195730U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

図面はこの考案の一実施例を示すもので、第１
図は側面図、第２図はプラズマ処理機全体での縦
断面図である。 Ｗ……ウエハー、１……反応室、２……外部電
極、３……内部電極、１０……ウエハー支持具、
１１……フレーム、１２……チヤンバ下部バルク
ヘツド、２１……昇降機構ベース、２２……モー
タ、２３……スライドシヤフト、２４……可動バ
ルクヘツド、２５……リニアベアリング、２６…
…送りネジシヤフト、２７……送りナツト、２８
……プーリーシヤフトサポート、２９……伝達手
段、３１……軸可動玉軸受、３２……スプリング
リング、３３……スラストスプリング、４１……
ウエハーピツチセンサー、４２……位置決めセン
サー、５０……リリーフ弁。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ プラズマ処理機での上部に配されている反応
   室の下方に固定した昇降機構ベースと、反応室を
   固定支持し、反応室入口が開口されているチヤン
   バ下部バルクヘツドと、これらの昇降機構ベース
   、チヤンバ下部バルクヘツド相互間で、被処理物
   を反応室内外で挿入、取出すよう昇降され、上昇
   時では反応室入口を閉塞する可動バルクヘツドと
   、この可動バルクヘツドをネジ送り作用で昇降さ
   せる回転する送りネジシヤフトとを有しているプ
   ラズマ処理機の昇降装置において、前記送りネジ
   シヤフトは、下方向への押圧作用によつて弾撥付
   勢させてあることを特徴とするプラズマ処理機の
   昇降装置。 ２ 送りネジシヤフトの下方向への弾撥押圧付勢
   は、送りネジシヤフトの下部を昇降機構ベース下
   方に突出配置し、昇降機構ベース下方位置で、送
   りネジシヤフトに固着したスプリングリング上面
   と昇降機構ベース下面との間にコイル状のスラス
   トスプリングを送りネジシヤフト自体に縮装し、
   送りネジシヤフト自体を下方向がわへ押圧するよ
   うにしてある実用新案登録請求の範囲第１項記載
   のプラズマ処理機の昇降装置。 ３ 送りネジシヤフトの上下端は、チヤンバ下部
   バルクヘツド、昇降機構ベース夫々で支承されて
   おり、その支承部位夫々は、軸可動玉軸受を介し
   てスラスト方向での遊びがある状態にしてある実
   用新案登録請求の範囲第１項または第２項記載の
   プラズマ処理機の昇降装置。