JPH0192714A - 走査光学系 - Google Patents

走査光学系

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JPH0192714A
JPH0192714A JP62250288A JP25028887A JPH0192714A JP H0192714 A JPH0192714 A JP H0192714A JP 62250288 A JP62250288 A JP 62250288A JP 25028887 A JP25028887 A JP 25028887A JP H0192714 A JPH0192714 A JP H0192714A
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JP
Japan
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lens
optical system
imaging optical
deflector
plastic
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Application number
JP62250288A
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English (en)
Inventor
Yoshihisa Nakano
嘉久 中野
Katsuhiko Gotoda
克彦 後藤田
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Bando Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Bando Chemical Industries Ltd
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Publication date
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
    • G03F7/70466Multiple exposures, e.g. combination of fine and coarse exposures, double patterning or multiple exposures for printing a single feature
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
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    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/31Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
    • H01L21/3205Deposition of non-insulating-, e.g. conductive- or resistive-, layers on insulating layers; After-treatment of these layers
    • H01L21/321After treatment
    • H01L21/3213Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer
    • H01L21/32139Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer using masks

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、レーザプリンタおよびファクシミリなどにお
ける印字装置、ならびにファクシミリ、イメージスキャ
ナおよびバーコードリーダなどにおける読取り装置にお
いて好適に実施される走査光学系に関する。
背景技術 レーザプリンタにおいては、帯電された直円筒状の感光
体の表面を光ビームによって、感光体の軸線方向に平行
に走査しながら選択的に照射して除電し、静電潜像が形
成される。該静電潜像は現像―置によって、トナー像に
顕像化され、このトナー像が印字用紙仁転写されて、印
刷が行なわれる。
感光体の表面をレーザ光によって走査するための走査光
学系は、半導体レーザ装置などの光源、光源からの光ビ
ームを電光し、線状に結像するシリンドリカルレンズ、
前記線状に結像されてできる線像の近傍に偏向反射面を
有し、感光体の表面を走査するために光ビームの進行方
向を経時的に変化させる偏向器、前記線像をe光体の表
面にスポットとして結像し、かつ光ビームによる感光体
の表面の走査速度を一定に保つように設計されたfθレ
ンズなどから構成される。前記偏向器はたとえば、軸直
角断面が正六角形であって軸線方向に一様である正六角
柱であって、その側面が反射鏡となっていて、その軸線
まわりに回転駆動される。該偏向器はその軸線が、感光
体の軸線およびfθレンズの光軸とを含む平面に垂直に
なるように配設される。
光源を発した光ビームは、シリンドリカルレンズによっ
て偏向器の偏向反射面近傍に線状に結像し、該偏向器に
よってその偏向方向が経時的に変化される。前記線像は
fθレンズを介して感光体の表面にスポットとして結像
し、該スポットは光ビームの進行方向の変化に伴って、
感光体の軸線に平行な方向に移動する。これによって感
光体の表面の主走査が行なわれ、感光体が回転すること
によって副走査が行なわれる。このようにして感光体の
表面にはllP電潜電炉像成される。
シリンドリカルレンズ、fθレンズは、その形状の複雑
さ、コスト、量産などの要求から、近年、ガラスに代え
てプラスチックがその材料として用いられるようになっ
てきている。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、プラスチックは環境の変化、特に温度、
湿度の変化によって、その形状、屈折率などが変化しや
すいという性質を有している。したがって、シリンドリ
カルレンズ、fθレンズはプラスチック製のレンズを含
んで構成するようにした場合に、その形状、屈折率が環
境の変化に伴って変化し、これによって焦−点距離が変
化してしまう、前記2つのレンズ系の焦点距離が変化す
ると、光ビームが感光体の表面においてスポットとして
結像せず、したがって像が不明瞭になってしまって、た
とえばレーザプリンタにおいては印刷品質が劣化する。
本発明の目的は、プラスチック製のレンズを用いて、し
かも環境の変化に無関係に所望の位置への光源光の結像
を可能とする走査光学系を提供することである。
問題点を解決するための手段 本発明は、光源と、第1結像光学系と、偏向器と、第2
結像光学系とを含み、第1結像光学系を介した光源光が
偏向器の近傍に縁結像し、偏向器によって経時的にその
進行方向を変えられて、第2結像光学系を介して被走査
媒体上に点結像することによって被走査媒体上を走査す
る走査光学系において、 第1結像光学系は、ガラス製のレンズとプラスチック製
のレンズとを含み、かつ全体で正の屈折力を有し、 第2結像光学系は、少なくとも1つ、プラスチック製の
レンズを含み、かつ全体で正の屈折力を有し、 第1結像光学系のプラスチック製のレンズと第2結像光
学系のプラスチック製のレンズとのいずれか一方は凸レ
ンズとし、いずれか他方は凹レンズとするようにしたこ
とを特徴とする走査光学系である。
作  用 本発明においては、第1結像光学系はガラス製のレンズ
とプラスチック製のレンズとを含み、第2結像光学系は
少なくとも1つ、プラスチック製のレンズを含み、第1
、第2結像光学系がともに正の屈折力を有している。第
1結像光学系のプラスチック製のレンズと第2結像光学
系のプラスチック製のレンズとのいずれか一方は凸レン
ズとし、いずれか他方は凹レンズとするようにする。こ
れによって、第1結像光学系、第2結像光学系のいずれ
か一方の焦点距離が長くなると、他方の焦点距離は短く
なり、したがって、環境の変化に無関係に所望の位置へ
の光源光の結像が可能となる。
実施例 プラスチックの屈折率はガラスに比べて温度依存性が大
きいことが知られている。たとえば、ポリメチルメタア
クリレート(PMMA)の場合、温度t (’C)とナ
トリウムD線における屈折率noとの間に、 n o= 1.4933−1.1x 10−’t −2
,IX 10−’t ”・・・ (1) なる関係があることが発表されている(工業材料、35
、[5]、(36−40)、’87)、また、レンズの
屈折力ψ、焦点圧11jif、屈折率rl 、光の″進
行方向上流側の面の曲率半径r I s下流側の面の曲
率半径r2は、 ・・・(2) なる関係を満たす、ただし、曲率半径は対応する面の曲
率中心がその面に対して光の進行方向下流側にあるとき
には正、上流側にあるときには負とされる。
上記第1式および第2式から、温度が上昇した場合にお
いて、屈折力ψが正のレンズにおいては焦点圧111t
fが増加し、屈折力ψが負のレンズにおいては焦点距離
fが減少することがわかる。また、湿度の変化に対して
も、屈折力ψが正のレンズと、屈折力ψが負のレンズと
は、いずれか一方のレンズの焦点圧Nfが増加すると、
いずれか他方のレンズの焦点距離は減少することが知ら
れている。
したがって屈折力ψが正のレンズと負のレンズとを適当
に組かわせることによって、環境の変化に対して焦点距
離fの変動の少ないレンズ系を構成することができる。
第1図は、本発明の一実施例である走査光学系1の基本
的な構成を示す系統図である。半導体レーザ装置などに
よって実現される光源2には、処理回路3から、たとえ
ば感光体などの被走査媒体4に書込むべき情報に対応す
る信号が与えられ、これによって光源2は、与えられた
信号に対応して、光ビームを発生する。該光ビームは、
第1結像光学系であるシリントリカールレンズ5を介し
て、偏向器6の偏向反射面近傍に線状に集束する。前記
偏向反射面によって偏向された光ビームは、第2結像光
学系であるfθレンズ7によって、その被走査媒体4上
における断面がほぼ円形となるように整形され、被走査
媒体4の表面にスポットを形成するように集束する。
fθレンズ7は光ビームによる被走査媒体4の表面の走
査速度を一定に保ち、また、光ビームを整形して被走査
媒体4上に良好なスポットを形成するように設計される
被走査媒体4は、たとえば直円筒状であって、その軸線
とfθレンズ7の光軸とは直交する。光ビームは、基本
的には、前記被走査媒体4の軸線と、fθレンズ7の光
軸とを含む平面内においてのみその進行方向が変化する
。偏向器6はたとえば、軸直角断面が正六角形であって
軸線方向に一様である正六角柱であって、各側面は反射
鏡とされ、偏向反射面を構成している。
偏向器6は被走査媒体4の軸線とfθレンズ7の光軸と
を含む平面に垂直な軸線まわりに、矢符11方向に回転
駆動される。シリンドリカルレンズ5は、第1シリンド
リカルレンズ部分51と、第2シリンドリカルレンズ部
分52とから構成される。fθレンズ7は第1fθレン
ズ部分71と第2fθレンズ部分72とから構成される
偏向器6がその軸線まわりに回転すると、偏向反射面の
法線と、該偏向反射面に入射する光ビームとがなす角、
すなわち偏向反射面への光ビームの入射角は、経時的に
変化し、これによってその反射角も変化するため、被走
査媒体4上に光ビームが結像してできるスポットの位置
は、被走査媒体4の軸線と平行に矢符12方向に移動す
る。このようにして光ビームによる被走査媒体4の表面
の主走査が行なわれ、また、被走査媒体4がその軸線ま
わりに回転することによって副走査が行なわれる。
第2図は、シリンドリカルレンズ5の光軸およびfθレ
ンズ7の光軸を含む平面に垂直であって、前記2つの光
軸を含むように、偏向器6の偏向反射面において折返さ
れた平面で切った断面図である。シリンドリカルレンズ
5は、第2図の切断面内で正の屈折力を有するガラス製
の第1シリンドリカルレンズ部分51と、負の屈折力を
有し、したがって凹レンズであるプラスチック製の第2
シリンドリカルレンズ部分52とから構成される。
前記第1シリンドリカルレンズ部分51、第2シリンド
リカルレンズ部52は、シリンドリ力ルレンズ5が正の
屈折力を有するように、それぞれの光ビームの進行方向
上流側、下流側の面R1,R2、R3,R4の曲率が適
当に選ばれる。これによって、光ビームは偏向器6の偏
向反射面の近傍に線状に結像される。
fθレンズ7は、第2図の切断面内で正の屈折力を有す
るプラスチック製の第1fθレンズ部分71と、正の屈
折力を有し、したがって凸レンズとなっているプラスチ
ック製の第2fθレンズ部分72とから構成され、各レ
ンズ部分の表面曲率は該fθレンズ7が正の屈折力を有
するように選ばれる1本実施例においては、後述のよう
に第1fθレンズ部分71の光ビームの進行方向上流側
−の面R5は球面であり、下流側の面R6は非球面であ
って、第2fθレンズ部分72の光ビームの進行方向上
流側の面R7はトーリック面であり、下流側の面R8は
球面となっている。このようなfθレンズ7に入射した
光ビームは、集束されて被走査媒体4上にスポットを形
成する。
第3図は、前記シリンドリカルレンズ5の詳しい形状を
説明するための図である。第3図(1)は、シリンドリ
カルレンズ5の光軸とfθレンズ7の光軸とを含む平面
に平行であって、シリンドリカルレンズ5の光軸に垂直
な方向から見た側面図であり、第3図(2)は、第3図
(1)2糸の矢符13方向に見た平面図である。たとえ
ば第1シリンドリカルレンズ部分51の面R2は平面と
され、面R1は第1シリンドリカルレンズ部分51の長
手方向に垂直な断面において、円弧部分を構成する面で
あって、前記円弧部分の曲率中心は光ビームの進行方向
下流側にあって、したがって正の曲率半径r1を有する
面である。
第2シリンドリカルレンズ一部分52の面R3゜R4は
、いずれも第2シリンドリカルレンズ部分52の長手方
向に垂直な断面において、円弧部分を構成する面であり
、その円弧部分の曲率半径は、面R3,R4に対応して
それぞれ負の曲率半径r3、正の曲率半径r4である。
また、第1シリンドリカルレンズ部分51は、その光軸
上の厚み(以下、軸上厚)d、2を有し、また面R2,
R3間は光軸上において距離dSSだけ隔てて配設され
、第2シリンドリカルレンズ部分52は軸上厚d34を
有している。
第4図は、被走査媒体4の軸線とfθレンズ7の光軸と
を含む平面に垂直な方向からみたfθレンズ7の平面図
である。第1fθレンズ部分71は軸上厚d、6を有し
、第2fθレンズ部分72は軸上厚aysを有しており
、第1fθレンズ部分71の面R6と第2fθレンズ部
分72の面R7とは光軸上で距離dlfを隔てて配設さ
れる。
第5図は、第1fθレンズ部分71のさらに詳しい形状
を説明するための図であり、第5図は第4図と同方向か
ら見た平面図である0面R5は球面であって、その曲率
中心は、光ビームの進行方向下流側にあり、したがって
正の曲率半径r5を有する0面R6は、被走査媒体4上
で良好なスポットが得られるように光ビームを整形する
ために、非球面とされ、近軸曲率半径r6を有する。該
第1fθレンズ部分71は、前述のように軸上厚d、6
を有する。
第6図(1)は第411ffiと同方向から見た第2f
θレンズ部分72の平面図であり、第6図(2)は第6
図(1)図示の切断面線VI−Vlから見た断面図であ
る。第6図(1)を参照して、被走査媒体4の軸線とf
θレンズ7の光軸とを含む平面内において、面R7は負
の曲率半径r 7 nを有する。
面R8は、球面であって、負の曲率半径r8を有してい
る8本実施例においては、 l r 7 n I > l r 8 l      
  −(3)となるように曲率半径r7i+、r8が選
ばれ、第2fθレンズ部分72は、前記平面内において
、正の屈折力を有するように構成される。また第2fθ
レンズ部分72は前述のように軸上厚dtmを有してい
る。
第6図(2)を参照して、fθレンズ−7の光軸を含み
、前記平面に垂直な平面内において、面R7は正の曲率
半径r 7 vを有する。このようにして、面R7はト
ーリック面を構成している。また、面R8は前述のよう
に球面であるから、該平面内においても曲率半径r8を
有している。
上記のように構成されなfθレンズ7は、偏向器6の偏
向反射面と被走査媒体4の走査位置との位置関係を光学
的に共役にするように配設され、また第1fθレンズ部
分71および第2fθレンズ部分72の各曲率半径、屈
折率が前述の条件を満たすように選ばれる。このように
することによって、偏向器6の回転軸が、被走査媒体4
の軸線とfθレンズ7の光軸とを含む平面の法線に対し
てわずかに傾いても、また偏向反射面が前記回転軸に対
して平行でなくとも、被走査媒体4上でのスポットが形
成される位置は該被走査媒体4の軸線とfθレンズ7の
光軸とを含む平面に垂直な方向へは変化しなくなる。
第7[2!および第8図は、本件発明者による実験結果
を示す図である。この実験は次のような条件下で行なわ
れている。すなわちプラスチックとしてポリメチルメタ
アクリレート(屈折率n=1゜48)を用い、シリンド
リカルレンズ5は、rl=14.094       
・・・(4)r2==−■          ・・・
〈5)r3=−19,703−(6) r4=19. 703           ・・・ 
(7)d+x=3.0               
 ・・・ (8)dzs=1.0          
     −・・ (9)d34=2.0      
          ・・・ (10)とする、これに
よって、シリンドリカルレンズ5はその焦点圧Nf5が
、 f5=55.340       ・・−(11)のレ
ンズ系として構成される。また、fθレンズ7は、 r5=459.763      ・・・(12)r6
=−105,7438・・・(13)r 7 vr= 
 150’、 35      ・= (14)r7シ
=47.817       ・・・(15)r8=−
144,521・・・(16)dig=17.20  
            ・・・ (1))d av”
” 0 、50         ・・・(18)d 
丁m”3.50                 ・
・・ (19)ただし、面R6は非球面、面R7はトー
リック面である。このようにしてfθレンズ7はその焦
点距離f7が、 f7=175.178      ・・・(20)であ
るレンズ系として構成される。また、偏向器6の偏向反
射面と、第1fθレンズ部分71の面R5との間の距離
d、(第1図参照)は、do=57.85      
   ・・・(21)とする、ただし、上記の長さに関
する数値の単位は、いずれもミリメートル(mm>であ
る。
以下において、走査角θとは、たとえば光ビームが偏向
器6の偏向反射面において偏向され、第1図示の光経路
11を介して被走査媒体4上にスポットを形成するとき
に、fθレンズ7の光軸と光経路11とがなす角をさす
、また、走査角θは第1図において光経路が光軸から反
時計まわりの方向にあるときには“−”の符号を付し、
時計まわりの方向にあるときには“+”の符号を付して
示す。
第7図(1)〜第7図(13)および第8図(1)〜第
8図(13)は、第1表に示すように温度t (”C)
 、走査角θ(°)をそれぞれ変化させて計測した結果
を示している。第7図は被走査媒体4上に形成されたス
ポットの形状を、そのスポットの中心の強度を1として
、1/e”(eは自然対数の底)の強度となる点を結ん
だ線によって示している。第8図は、前記スポット周辺
の光ビームの強度分布を示している。それぞれの走査角
θ(″)、温度t (’C)に対応する主走査方向Xの
スポット径ΔX、および副走査方向Yのスポット径ΔY
の測定結果が第1表に示される。たとえば第7図(1)
と第8図(1)とは、 1=0             ・・・(22)θミ
ー35          ・・・(23)にセける測
定結果を示しており、主走査方向Xのスポット径ΔXが
123μmであり、副走査方向Yのビーム径ΔYが11
2μmであることを示している。ただし、第7図におけ
る目盛は、スポットの中心を原点にとっており、単位は
マイクロメ −一トル(μm)である、第8図(1)で
は、第7図〈1)図示の主走査方向X、副走査方向Yの
座標軸上の光ビームの強度分布が示され、主走査方向X
のそれは実線で、副走査方向Yのそれは破線で示される
。以下、第7図(2)〜第7図(13)および第8図(
2)〜第8図(13)についても同様である。
第9図(1)〜第9図(3)および第10図(1)〜第
10図(3)は、温度t (”C)を、t=20   
        ・・・(24)として、プラスチック
製のレンズ(第2シリンドリカルレンズ部分52、第1
fθレンズ部分71、第2fθレンズ部分72)を吸湿
により膨潤させて、その寸法を変化させて、0.4%変
形させて、第2表に示すように走査角θ(°)を変化さ
せて実験を行なったときの測定結果である。第9図は被
走査媒体4上に形成されたスポットの形状をスポットの
中心の強度を1として、強度が1/e2となる点を結ん
でできる線によって示し、第10図は前記スポット周辺
の光ビー ムの強度分布を示している。それぞれの走査
角θ(゛)に対応する主走査方向Xのスポット径ΔX、
および副走査方向Yのスポット径ΔYの測定結果が第2
表に示される。
(以下余白) 第  2  表 第7図〜第10111に示されるように、温度、湿度の
変化に対しても、スポット径ΔX、ΔYは120μm±
8%の範囲内で変化するにすぎず、たとえばレーザプリ
ンタなどに走査光学系1を用いた場合には、印字される
ドツトは全て同じような形状となる。
fθレンズでは、その光軸と角度θ1をなす光ビームが
入射したとき、光軸に垂直な平面上に形成されるスポッ
トと、前記平面と光軸との交点との間の距離、すなわち
像高りが、 h = f・θ1         ・・・(25)(
ただしfはfθレンズの焦点距離) となることが理想的である。したがって、fθレンズの
特性(以下、fθ特性)は、実際の像高を角度θ1の関
数としてh(θ1)と表し、・・・ (26) として評価することができる。
このようなfθ特性を、前述のような構成の走査光学系
1について調べた結果が第11図に示される。走査角θ
(°)を0°〜+35°の間で変化させ、温度θ℃、2
0℃、40℃の各々の場合について調べた測定結果はそ
れぞれ曲線!1,12、!3が示されている。たとえば
300ドツト/インチの分解能を得るために必要なfθ
特性は、+(fθ特性)(%)I<5(%)  ・・・
(27)である、このことから、第11図に示されるよ
うに本実施例において用いられるfθレンズ7はO℃〜
40℃の温度変化にも充分対応し得ることがわかる。
以上のように本実施例においては、第2シリンドリカル
レンズ部分52は負の屈折力を有するプラスチック製の
レンズとされ、fθレンズ7は正の屈折力を有するプラ
スチック製のレンズによって構成されるようにする。し
たがって、温度変化、湿度変化に充分対応して、良好な
特性を有する走査光学系1が実現され、また、fθレン
ズ7の構成は前述のように第1fθレンズ部分71の面
R6を非球面とし、第2fθレンズ部分72の面R7を
トーリック面として光ビームの整形を両者で行うように
しているので、走査角θ(°)の変化に伴うスポットの
形状の変化が抑制される。また、面R7をトーリック面
としていることによって、偏向器6の回転軸の、被走査
媒体4の軸線とfθレンズ7の光軸とを含む平面の法線
からの傾斜や、偏向反斜面の偏向器6の回転軸に対する
傾斜による被走査媒体4上の走査位置の変化も抑制され
る。
したがって、走査光学系lをたとえばレーザプリンタに
対して応用したt%合において、高品質の画像が得られ
るようになる。
前述の実施例においては、第2シリンドリカルレンズ部
分52が負の屈折力を有し、第2fθレンズ部分72が
正の屈折力を有するようにしたが、これは、第2シリン
ドリカルレンズ部分52が正の、第2fθレンズ部分7
2が負の屈折力を有するようにしてもよい。
また、前述の実施例において用いられる偏向器6は、た
とえばホログラムやガルバノミラ−などによっても実現
される。
効  果 以上のように本発明に従えば、プラスチック製のレンズ
を用いて、しかも、環境の変化に無関係に所望の位置へ
の光源光の結像が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の走査光学系1の基本的な構成を示す系
統図、第2図は前記走査光学系1のシリンドリカルレン
ズ5の光軸およびfθレンズ7の光軸を含む平面に垂直
であつ−て、前記2つの光軸を含むように偏向器6の偏
向反射面において折返された平面で切った断面図、第3
図はシリンドリカルレンズ5の詳しい形状を説明するた
めの図、第4図はfθレンズ7の被走査媒体4の軸線と
fθレンズ7の光軸とを含む平面に垂直な方向から見た
平面図、第5区は第1fθレンズ部分71の形状を説明
するための図、第6図は第2fθレンズ部分72の形状
を説明するための図、第7図〜第11図は本件発明者に
よる実験結果を示す図である。 1・・・走査光学系、2・・・光源、4・・・被走査媒
体、5・・・シリンドリカルレンズ、6・・・偏向器、
7・・・fθレンズ、51・・・第1シリンドリカルレ
ンズ部分、52・・・第2シリンドリカルレンズ部分、
71・・・第1fθレンズ部分、72・・・第2fθレ
ンズ部分代理人  弁理士 画数 圭一部 第4図     第5図 第6 第7図      第8図 第7図      第8図 第7図      第8図 第7図      第8図 第7図      第8図 Δ入 第7図      第8図 第7図      第8図 第9I21        第10図 第9図      zlo図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 光源と、第1結像光学系と、偏向器と、第2結像光学系
    とを含み、第1結像光学系を介した光源光が偏向器の近
    傍に線結像し、偏向器によつて経時的にその進行方向を
    変えられて、第2結像光学系を介して被走査媒体上に点
    結像することによつて被走査媒体上を走査する走査光学
    系において、第1結像光学系は、ガラス製のレンズとプ
    ラスチツク製のレンズとを含み、かつ全体で正の屈折力
    を有し、 第2結像光学系は、少なくとも1つ、プラスチック製の
    レンズを含み、かつ全体で正の屈折力を有し、 第1結像光学系のプラスチック製のレンズと第2結像光
    学系のプラスチック製のレンズとのいずれか一方は凸レ
    ンズとし、いずれか他方は凹レンズとするようにしたこ
    とを特徴とする走査光学系。
JP62250288A 1987-10-02 1987-10-02 走査光学系 Pending JPH0192714A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5148190A (en) * 1989-12-19 1992-09-15 Asahi Kogaku Kogya K.K. Scanning optical system with plural focusing units
US5196957A (en) * 1990-03-20 1993-03-23 Olive Tree Technology, Inc. Laser scanner with post-facet lens system
US5247383A (en) * 1990-03-20 1993-09-21 Olive Tree Technology, Inc. Scanner with a post facet lens system

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5148190A (en) * 1989-12-19 1992-09-15 Asahi Kogaku Kogya K.K. Scanning optical system with plural focusing units
US5196957A (en) * 1990-03-20 1993-03-23 Olive Tree Technology, Inc. Laser scanner with post-facet lens system
US5247383A (en) * 1990-03-20 1993-09-21 Olive Tree Technology, Inc. Scanner with a post facet lens system

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