JPH019097Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH019097Y2 JPH019097Y2 JP8201682U JP8201682U JPH019097Y2 JP H019097 Y2 JPH019097 Y2 JP H019097Y2 JP 8201682 U JP8201682 U JP 8201682U JP 8201682 U JP8201682 U JP 8201682U JP H019097 Y2 JPH019097 Y2 JP H019097Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- current
- flange
- introduction
- connecting member
- sealed container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 5
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Connections Arranged To Contact A Plurality Of Conductors (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、密閉容器中で雰囲気制御して電気溶
接、アーク溶射又はプラズマ溶射を行う装置にお
ける、容器内への電流導入端子に係る。
接、アーク溶射又はプラズマ溶射を行う装置にお
ける、容器内への電流導入端子に係る。
従来密閉容器内に電流を導入するために用いら
れている電流導入端子を示す第１図において、１
は図示省略の容器壁に電流導入端子を取り付ける
ためのフランジ、２は電流導入部材、３は電流導
入部材２を絶縁物４を介してフランジ１中に固定
する接続部材、５は電流導入部材２と絶縁物４と
を固定する固定部材である。６は電流導入部材２
と接続部材３との間の空間であり図示省略の容器
内と連続している。
れている電流導入端子を示す第１図において、１
は図示省略の容器壁に電流導入端子を取り付ける
ためのフランジ、２は電流導入部材、３は電流導
入部材２を絶縁物４を介してフランジ１中に固定
する接続部材、５は電流導入部材２と絶縁物４と
を固定する固定部材である。６は電流導入部材２
と接続部材３との間の空間であり図示省略の容器
内と連続している。
密閉容器内の雰囲気を制御して、例えば低圧、
真空又はArガス等の不活性ガス雰囲気とし、そ
の容器内でプラズマ溶射又はTIG溶接を行う場
合、アークを発生させるために、一般に高電圧高
周波重畳電流を用いる。高電圧高周波重畳電流は
電流導入端子を通つて、図示省略のプラズマ溶射
ガン又はTIG溶接トーチに導かれる。この時、電
流導入端子を第１図に示した従来のものを用いる
と、高電圧高周波重畳電流は電流導入部材２から
空間６を通つて接続部材３に入り、フランジ１及
び図示省略の容器壁を通り他方の電流導入端子の
電流導入部分に通じ、従つてアークはプラズマ溶
射ガン又はTIG溶接トーチと母材の間で発生せず
に、電流導入端子の空間６に発生し、そのアーク
熱によつて接続部材３が瞬時に溶損し、本来のプ
ラズマ溶射又はTIG溶接が不可能となる。このよ
うな現象は雰囲気が真空又はArガス等の不活性
ガス雰囲気中では大気中に比較して放電電圧が低
下することによるものである。
真空又はArガス等の不活性ガス雰囲気とし、そ
の容器内でプラズマ溶射又はTIG溶接を行う場
合、アークを発生させるために、一般に高電圧高
周波重畳電流を用いる。高電圧高周波重畳電流は
電流導入端子を通つて、図示省略のプラズマ溶射
ガン又はTIG溶接トーチに導かれる。この時、電
流導入端子を第１図に示した従来のものを用いる
と、高電圧高周波重畳電流は電流導入部材２から
空間６を通つて接続部材３に入り、フランジ１及
び図示省略の容器壁を通り他方の電流導入端子の
電流導入部分に通じ、従つてアークはプラズマ溶
射ガン又はTIG溶接トーチと母材の間で発生せず
に、電流導入端子の空間６に発生し、そのアーク
熱によつて接続部材３が瞬時に溶損し、本来のプ
ラズマ溶射又はTIG溶接が不可能となる。このよ
うな現象は雰囲気が真空又はArガス等の不活性
ガス雰囲気中では大気中に比較して放電電圧が低
下することによるものである。
本考案は上記従来装置の欠点を排除するため
に、密閉容器に気密に接続するフランジと、同フ
ランジの内周面に一端部が固定された筒状の接続
部材と、同接続部材内を貫通されて絶縁的に固定
され上記密閉容器内へ高電圧高周波重畳電流を導
入する導入部材からなる電流導入端子において、
上記接続部材と上記導入部材との間にセラミツク
粉末層を充填し、かつ同セラミツク粉末層の前面
で上記密閉容器に接する部分に合成樹脂層を配設
してなることを特徴とする電流導入端子を提案す
る。
に、密閉容器に気密に接続するフランジと、同フ
ランジの内周面に一端部が固定された筒状の接続
部材と、同接続部材内を貫通されて絶縁的に固定
され上記密閉容器内へ高電圧高周波重畳電流を導
入する導入部材からなる電流導入端子において、
上記接続部材と上記導入部材との間にセラミツク
粉末層を充填し、かつ同セラミツク粉末層の前面
で上記密閉容器に接する部分に合成樹脂層を配設
してなることを特徴とする電流導入端子を提案す
る。
従つて、本考案電流導入端子は各種雰囲気にお
ける絶縁性が非常に良好であり、また電流導入端
子を取り付けた密閉容器壁の温度上昇等による熱
応力によつても絶縁部が破壊することなく、優れ
た使用性能を持つており、さらにその製作も非常
に簡単であり、実用上非常に有効である。
ける絶縁性が非常に良好であり、また電流導入端
子を取り付けた密閉容器壁の温度上昇等による熱
応力によつても絶縁部が破壊することなく、優れ
た使用性能を持つており、さらにその製作も非常
に簡単であり、実用上非常に有効である。
本考案電流導入端子の一実施例を第２図につい
て説明する。
て説明する。
第２図において、２１は密閉容器壁２９に電流
導入端子を取り付けるためのフランジ、２２は電
流導入部材、２３はその内部軸線上に貫通させた
電流導入部材２２を絶縁物２４を介してフランジ
２１に固定する筒状の接続部材、２５は電流導入
部材２２と絶縁物２４とを固定する固定部材であ
る。２６は電流導入部材２２と接続部材２３との
空間に充填されたアルミナ粒子層である。２７は
アルミナ粒子層２６を固定するための合成樹脂層
であり、フランジ２１の内面及び電流導入部材２
２の外面に接合している。２８はフランジ２１を
容器壁２９に取り付けるボルト穴である。
導入端子を取り付けるためのフランジ、２２は電
流導入部材、２３はその内部軸線上に貫通させた
電流導入部材２２を絶縁物２４を介してフランジ
２１に固定する筒状の接続部材、２５は電流導入
部材２２と絶縁物２４とを固定する固定部材であ
る。２６は電流導入部材２２と接続部材２３との
空間に充填されたアルミナ粒子層である。２７は
アルミナ粒子層２６を固定するための合成樹脂層
であり、フランジ２１の内面及び電流導入部材２
２の外面に接合している。２８はフランジ２１を
容器壁２９に取り付けるボルト穴である。
この電流導入端子を用いて、低圧、真空又は不
活性ガス雰囲気に制御された密閉容器内に、プラ
ズマ溶射又はTIG溶接のアーク発生用の高電圧高
周波電流重畳用電流を導入する場合、電流導入部
材２２と接続部材２３と又はフランジ２１の内面
との間に発生しようとする放電を、前述の雰囲気
よりも絶縁破壊電圧の高いアルミナ粒子集合体に
よつて防止することができる。さらに密閉容器内
でプラズマ溶射又はTIG溶接などを行うことによ
つて、容器壁温度が上昇し、フランジ２１と電流
導入部材２２との間に発生する熱応力はアルミナ
粒子集合体によつて吸収緩和される。
活性ガス雰囲気に制御された密閉容器内に、プラ
ズマ溶射又はTIG溶接のアーク発生用の高電圧高
周波電流重畳用電流を導入する場合、電流導入部
材２２と接続部材２３と又はフランジ２１の内面
との間に発生しようとする放電を、前述の雰囲気
よりも絶縁破壊電圧の高いアルミナ粒子集合体に
よつて防止することができる。さらに密閉容器内
でプラズマ溶射又はTIG溶接などを行うことによ
つて、容器壁温度が上昇し、フランジ２１と電流
導入部材２２との間に発生する熱応力はアルミナ
粒子集合体によつて吸収緩和される。
第１図は従来の電流導入端子の要領図、第２図
は本考案の電流導入端子の要領図である。 ２１……フランジ、２２……電流導入部材、２
３……接続部材、２６……アルミナ粒子層、２７
……合成樹脂層。
は本考案の電流導入端子の要領図である。 ２１……フランジ、２２……電流導入部材、２
３……接続部材、２６……アルミナ粒子層、２７
……合成樹脂層。
Claims (1)
- 密閉容器に気密に接続するフランジと、同フラ
ンジの内周面に一端部が固定された筒状の接続部
材と、同接続部材内を貫通されて絶縁的に固定さ
れ上記密閉容器内へ高電圧高周波重畳電流を導入
する導入部材からなる電流導入端子において、上
記接続部材と上記導入部材との間にセラミツク粉
末層を充填し、かつ同セラミツク粉末層の前面で
上記密閉容器に接する部分に合成樹脂層を配設し
てなることを特徴とする電流導入端子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8201682U JPS58184780U (ja) | 1982-06-02 | 1982-06-02 | 電流導入端子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8201682U JPS58184780U (ja) | 1982-06-02 | 1982-06-02 | 電流導入端子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58184780U JPS58184780U (ja) | 1983-12-08 |
| JPH019097Y2 true JPH019097Y2 (ja) | 1989-03-13 |
Family
ID=30091098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8201682U Granted JPS58184780U (ja) | 1982-06-02 | 1982-06-02 | 電流導入端子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58184780U (ja) |
-
1982
- 1982-06-02 JP JP8201682U patent/JPS58184780U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58184780U (ja) | 1983-12-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2432513A (en) | Ionic discharge device | |
| JP2000277052A (ja) | 口金付高圧放電ランプ | |
| US3295008A (en) | Electron discharge device with current surge attenuating resistance | |
| RU2196368C2 (ru) | Герметизированный проходной изолятор | |
| JPH019097Y2 (ja) | ||
| US20080116177A1 (en) | System for improved high frequency arc starting of a welding process | |
| JP3836131B2 (ja) | キャップ付き高圧放電ランプ | |
| US2478119A (en) | Gaseous discharge tube | |
| US2471263A (en) | Ionic discharge device | |
| JP2015537334A (ja) | 気密性ｈｆプラグコネクタ付きのコロナ点火装置 | |
| US3895254A (en) | Charged particle accelerator with integral transformer and shielding means | |
| CN210296061U (zh) | 高耐电压铝外壳绕线电阻器 | |
| JP2530065B2 (ja) | 超電導装置の電流リ―ド | |
| US3013174A (en) | Electrical discharge device | |
| US3509405A (en) | Coaxial vacuum gap devices including doubly reentrant electrode assemblies | |
| JP3264003B2 (ja) | 真空コンデンサ | |
| JPS6240495Y2 (ja) | ||
| JPH06310918A (ja) | 真空気密型方向性結合器 | |
| JPS5923321Y2 (ja) | ガス開閉器に於ける短筒碍管構造 | |
| JPS598853Y2 (ja) | プラズマト−チ用絶縁物 | |
| JPH0622946Y2 (ja) | ガス入り放電管 | |
| JPS6120105B2 (ja) | ||
| JPS6115414Y2 (ja) | ||
| JPS5912511A (ja) | ガスブツシング | |
| JPS5826799B2 (ja) | 誘導加熱炉 |