JPH0135826B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0135826B2
JPH0135826B2 JP55084494A JP8449480A JPH0135826B2 JP H0135826 B2 JPH0135826 B2 JP H0135826B2 JP 55084494 A JP55084494 A JP 55084494A JP 8449480 A JP8449480 A JP 8449480A JP H0135826 B2 JPH0135826 B2 JP H0135826B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
bis
formula
copolymers
styrene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55084494A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS567764A (en
Inventor
Karaa Furiidoritsuhi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPS567764A publication Critical patent/JPS567764A/ja
Publication of JPH0135826B2 publication Critical patent/JPH0135826B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/06Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/36Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/56Nitrogen atoms
    • C07D211/58Nitrogen atoms attached in position 4
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3432Six-membered rings
    • C08K5/3435Piperidines

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Hydrogenated Pyridines (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、眮換基ずしおポリアルキルピペリゞ
ン基を少なくずも個有し、特に光による損傷か
らプラスチツクを保護するための、有甚なプラス
チツク甚安定剀である新芏な眮換された尿玠に関
する。 ポリアルキルピペリゞン眮換基を含有する尿玠
および安定剀ずしおのその甚途は、すでに公知で
ある。それ故、ドむツ特蚱公開第2040975号公報
には、次匏 匏䞭、 R1は、たたはアシル基を衚わし、 R2は、たたは䟡の基を衚わし、 R3は、ずりわけカルバモむル基たたは眮換カ
ルバモむル基、䟋えば―CONH2、―CONH―ア
ルキル基、―CONH―シクロアルキル基たたは
―CONH―アリヌル基を衚わす。 で衚わされる―アミノ――テト
ラメチル―ピペリゞンの誘導䜓が蚘茉されおい
る。 ドむツ特蚱公開第2349962号公報には、次匏 匏䞭、 R1およびR2は、アルキル基を衚わし、 R3は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基たたはアルアルキル基を衚わし、 R5は、たたは䟡の基を衚わし、 R4は、ずりわけ眮換もしくは未眮換のカルバ
モむル基、䟋えば―CONH2、―CONH―アルキ
ル基、―CONH―アリヌル基たたは―CONH―
アルアルキル基を衚わす。 で衚わされる類䌌の化合物が蚘茉されおいる。 これら぀の特蚱明现曞に開瀺されおいる尿玠
誘導䜓は、尿玠基の䜍の窒玠原子䞊たたは䜍
の窒玠原子䞊のいずれかに、少なくずも個の氎
玠原子を有しおいる。 䟋ずしお、―ベンゞル――
―ペンタメチル――ピペリゞル―尿玠
たたは―ゞメチル――
―ペンタメチル――ピペリゞル―尿玠
が挙げられる。これらの化合物は、䜎枩で凊理さ
れた時にはプラスチツク甚の良奜な光安定剀であ
る。しかしながら、より高い加工枩床の堎合に
は、幟分倉色が認められ比范的匱い安定化䜜甚を
瀺す。 本発明者は、尿玠基が䜍の窒玠原子䞊たたは
䜍の窒玠原子䞊のいずれにも氎玠原子を有しな
いポリアルキルピペリゞル尿玠が、光安定剀ずし
お非垞に優れた䜜甚を有するこずを芋い出した。
ある基材䞭ではこの化合物の安定化䜜甚は、公知
の光安定剀、すなわち化孊的に党く異なる構造の
ものを包含する倧郚分の光安定剀の䜜甚よりも優
れおいる。 かくしお、本発明は、次匏 〔匏䞭、 はたたはの数を衚わし、 は、CH3、アリル基たたはベンゞル基を衚わ
し、 がであるずき、 R1は次匏 匏䞭、は前蚘の意味を衚わす。で衚わされ
る基を衚わし、 がであるずき、 R1は炭玠原子数ないし20のアルキレン基たた
は炭玠原子数ないし12のモノ―もしくはゞオキ
サアルキレン基を衚わし、 R2およびR3は互いに独立しお炭玠原子数ない
し10のアルキル基、プニル基、シクロヘキシル
基たたはアリル基を衚わし、たたはR2およびR3
は䞀緒にな぀お炭玠原子数ないしのアルキレ
ン基たたは―オキサ――ベンチレン基を
圢成する。〕 で衚わされるポリアルキルピペリゞル尿玠、䞊び
に該化合物からなる、特に光による損傷からポリ
マヌを保護するためのポリマヌ甚安定剀に関す
る。 アルキレン基ずしおのR1は、分枝鎖もしくは
盎鎖のアルキレン基、䟋えば―゚チレン
基、―プロピレン基、―プロピレン
基、―ゞ゚チル――プロピレン基、
テトラメチレン基、ヘキサメチレン基たたはオク
タ―、デカ―、ドデカ―もしくはオクタデカ―メ
チレン基を衚わす。 オキサアルキレン基ずしおのR1は、䟋えば
―オキサ――ペンチレン基、―オキサ―
―ヘプチレン基たたは―ゞオキサ―
10―デシレン基を衚わす。R2およびR3が䞀
緒にな぀お炭玠原子数ないしのアルキレン基
たたは―オキサペンチレン基を衚わすずき、そ
れらが結合しおいる窒玠原子ず䞀緒にな぀お、䟋
えばピロリゞン環、ピペリゞン環、
―テトラメチルピペリゞン環たたはモルホリン
環を圢成する。 がである匏の化合物の䟋ずしおは
―ゞメチル――ゞ――
テトラメチル――ピペリゞル―尿玠、
―ゞブチル――ゞ――テ
トラメチル――ピペリゞル―尿玠、および
―ゞメチル――ゞ――アリル―
―テトラメチル――ピペリゞ
ル―尿玠などが挙げられる。 がである匏の化合物の䟋ずしおは
N′―ビス―ゞメチルカルバモむル―
N′―ビス――テトラメチル―
―ピペリゞル―ヘキサメチレンゞアミン、
N′―ビス―ゞメチルカルバモむル―
N′―ビス――アリル――テ
トラメチル――ピペリゞル―テトラメチレン
ゞアミン、N′―ビス―ゞ゚チルカルバモ
むル―N′―ビス――ベンゞル―
―テトラメチル――ピペリゞル―
―トリメチル―ヘキサメチレンゞアミ
ン、およびN′―ビス―ゞ゚チルカルバモ
むル―N′―ビス―
―ペンタメチル――ピペリゞル―ドデカメチ
レンゞアミンなどが挙げられる。 匏で衚わされる化合物は、皮々の方法によ぀
お補造するこずができる。最も重芁な方法は、匏
で衚わされる―アミノピペリゞンずカルバミ
ン酞クロラむドずの反応である この反応は、HC1受容䜓の等モル量の存圚䞋
で行なわれる。適圓なHC1受容䜓ずしおは、無
機もしくは有機塩基、䟋えばアルカリ金属氎酞化
物、アルカリ金属炭酞塩たたは第䞉アミンが挙げ
られる。 この反応は、奜たしくは溶媒䞭にお行なわれ
る。適圓な溶媒ずしおは、䟋えばクロロホルム、
塩化メチレン、ベンれン、トル゚ン、キシレン、
テトラヒドロフラン、ゞオキサン、ゞメトキシ゚
タンたたはゞメチルホルムアミドなどが挙げられ
る。 第の方法は、匏の化合物ずホスゲンずを、
所望によりプロトン受容䜓を存圚させお反応さ
せ、続いお生成した匏で衚わされるカルバモむ
ルクロラむドを第二アミンず反応させる方法であ
る 第段階での反応ホスゲン化は、䞍掻性溶
媒、䟋えばベンれン、トル゚ン、キシレン、クロ
ロホルム、酢酞゚チルなどの存圚䞋にお、−30゜な
いし50℃で効果的に行なわれる。匏で衚わさ
れる䞭間䜓は単離化する必芁がなく、第段階が
終了した埌すぐにアミンず反応させうる。アミン
ずの反応は、HC1受容䜓を少なくずもミリモ
ル添加させるこずによ぀お効果的に行なわれる。
第アミンの過剰量は、たたこの目的に䜿甚しう
る。 第の方法は、匏で衚わされる化合物ず
―ゞ眮換尿玠ずの反応である この反応においおも、尿玠は過剰に䜿甚しう
る。この反応は、溶媒を䜿甚せずに、たたは高沞
点の極性溶媒、䟋えばゞメチルホルムアミドたた
はゞメチルスルホキシドの存圚䞋には、150゜ない
し250℃の枩床で行なわれる。反応の進行は、生
成したNH3を枬定するこずによ぀お知るこずが
できる。 これらの皮の方法においお出発物質ずしお䜿
甚される匏で衚わされる―アミノピペリゞン
は、ドむツ特蚱公開第2040975号および第2349962
号公報に蚘茉されおいるように、次匏R1
NH2oで衚わされる第アミンの存圚䞋にお盞
圓する―オキ゜ピペリゞンを接觊還元させるこ
ずによ぀お埗られる。眮換基が炭化氎玠である
ずき、第アミンをアルキル化するための慣甚手
段によ぀お盞圓するNH化合物に基を導入しう
る。このの導入は、―オキ゜ピペリゞンの段
階で、たたは奜たしくは―りレむドピペリゞン
の段階で行なわれる。 さらに可胜な匏で衚わされる化合物の補法
は、匏、たたはで衚わされるトリ眮換もし
くはゞ眮換尿玠を、盞間移動方法の条件䞋で盞圓
するアルキル、アルケニルたたはアルアルキルハ
ラむドで―アシル化するこずよりなる。 これらの反応は、氎―䞍混和性溶媒、䟋えばベ
ンれン、トル゚ン、キシレン、塩化メチレンたた
はゞオキサン䞭にお行なわれ、アルカリ金属氎酞
化物を、䜿甚されるハラむド量に盞圓するモル量
で、粉末状たたは濃厚氎溶液の圢で添加する。固
䜓状K2CO3も䜿甚しうる。曎に、第アンモニ
りム塩、䟋えばベンゞル―トリメチルアンモニり
ムクロラむドも、盞間移動觊媒ずしお觊媒量で添
加される。 匏、およびで衚わされる化合物は、先に
述べたドむツ特蚱公開第2040975号たたは第
2349962号公報に開瀺されおおり、たたこれらの
公開公報に蚘茉されおいる方法によ぀お補造され
うる。奜たしくは、䜿甚される匏、たたは
で衚わされる化合物は、が氎玠原子を衚わさな
いものである。しかしながら、が氎玠原子を衚
わす匏、たたはで衚わされる化合物を䜿甚
するずきには、眮換基は同時にピペリゞン環の窒
玠原子䞊に導入され、匏においおがR3たた
はR1を衚わす化合物が埗られる。匏で衚わさ
れる化合物ずR1Ha1およびR3Ha1ずの反応は、
R1およびR3が同䞀であるずきに奜たしく䜿甚さ
れる。 匏で衚わされる化合物は、倚くの堎合再結晶
によ぀お粟補されうる結晶性物質である。しかし
ながら、これらの融点はCONH基を有する盞圓
する尿玠の融点よりも䜎い。皮々の物質䞭でのこ
れらの溶解性および盞溶性も、CONH化合物よ
り良い。匏で衚わされる化合物は、それ自䜓が
良奜である、CONH化合物の加氎分解に察する
安定性よりもかなり優れた加氎分解に察する顕著
な安定性によ぀おさらに特城づけられる。 匏で衚わされる化合物の最も重芁な特色は、
特に光の䜜甚による有機ポリマヌの劣化に察しお
の顕著な安定化䜜甚である。光䜜甚により劣化
し、匏で衚わされる化合物の添加によ぀お安定
化しうるポリマヌの䟋ずしおは、䞋蚘のポリマヌ
が挙げられる。  モノ―およびゞ―オレフむンのポリマヌ、䟋
えばポリ゚チレン架橋されおも良い。ポリ
プロピレン、ポリむ゜ブチレン、ポリブテ―
―゚ン、ポリメチルペンテ――゚ン、ポリむ
゜プレンたたはポリブタゞ゚ンおよびシクロオ
レフむン䟋えばシクロペンテンたたはノルボル
ネンのポリマヌ。  にあげたポリマヌの混合物、䟋えばポリ
プロピレンずポリ゚チレンたたはポリむ゜ブチ
レンずの混合物。  モノ―およびゞ―オレフむン同士たたはこれ
らず他のビニルモノマヌずのコポリマヌ、䟋え
ば゚チレンプロピレンコポリマヌ、プロピレ
ンブテ――゚ンコポリマヌ、プロピレン
む゜ブチレンコポリマヌ、゚チレンブテ―
―゚ンコポリマヌ、プロピレンブタゞ゚ンコ
ポリマヌ、む゜ブチレンむ゜ブレンコポリマ
ヌ、゚チレン゚チルアクリレヌトコポリマ
ヌ、゚チレンアルキルメタクリレヌトコポリ
マヌ、゚チレンビニルアセテヌトコポリマ
ヌ、たたぱチレンアクリル酞コポリマヌお
よびそれらの塩むオノマヌならびに゚チレ
ンずプロピレンおよびゞ゚ン、䟋えばヘキサゞ
゚ン、ゞシクロペンタゞ゚ンたたぱチリデン
ノルボルネンずのタヌポリマヌ。  ポリスチレン  スチレンたたはα―メチルスチレンずゞ゚ン
たたはアクリル誘導䜓ずのランダムコポリマ
ヌ、䟋えばスチレンブタゞ゚ン、スチレン
アクリロニトリル、スチレン゚チルメタクリ
レヌトたたはスチレンアクリロニトリルメ
タクリレヌトスチレンコポリマヌず他のポリ
マヌ䟋えばポリアクリレヌト、ゞ゚ンポリマヌ
たたぱチレンプロピレンゞ゚ンタヌポリ
マヌから埗られる耐衝撃性暹脂混合物さらに
たたスチレンのブロツクコポリマヌ、䟋えばス
チレンブタゞ゚ンスチレン、スチレンむ
゜プレンスチレン、スチレン゚チレン―ブ
チレンスチレンたたはスチレン゚チレン―
プロピレンスチレン。  スチレンのグラフトコポリマヌ、䟋えばスチ
レンの結合したポリブタゞ゚ン、スチレンおよ
びアクリロニトリルの結合したポリブタゞ゚
ン、スチレンおよびアルキルアクリレヌトの結
合したポリブタゞ゚ン、スチレンおよびアルキ
ルメタアクリレヌトの結合したポリブタゞ゚
ン、スチレンおよびアクリロニトリルの結合し
た゚チレンプロピレンゞ゚ンタヌポリマ
ヌ、スチレンおよびアクリロニトリルの結合し
たポリアルキルアクリレヌトもしくはポリアル
キルメタクリレヌト、たたはスチレンおよびア
クリロニトリルの結合したアクリレヌトブタ
ゞ゚ンコポリマヌ、およびこれらずに挙げ
たコポリマヌずの混合物、䟋えばABS、
MBS、ASAもしくはAESポリマヌずしお知ら
れる暹脂。  ハロゲン含有ポリマヌ、䟋えばポリクロロブ
レン、塩玠化ゎムたたは塩玠化もしくはクロロ
スルホン化ポリ゚チレン、および特にハロゲン
含有ビニル化合物のポリマヌ、䟋えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ北化ビニル
たたはポリ北化ビニリデンならびにこれらの
コポリマヌ、䟋えば塩化ビニル塩化ビニリデ
ン、塩化ビニル酢酞ビニルたたは塩化ビニリ
デン酢酞ビニル。  αβ―䞍飜和酞およびその誘導䜓から誘導
されるポリマヌ、䟋えばポリアクリレヌトおよ
びポリメタクリレヌト、ポリアクリルアミドお
よびポリアクリロニトリル。  に挙げたモノマヌ同士のコポリマヌたた
はに挙げたモノマヌず他の䞍飜和モノマヌ
ずのコポリマヌ、䟋えばアクリロニトリルブ
タゞ゚ンコポリマヌ、アクリロニトリルアル
キルアクリレヌトコポリマヌ、アクリロニトリ
ル塩化ビニルコポリマヌたたはアクリロニト
リルアルキルメタアクリレヌトブタゞ゚ン
タヌポリマヌ。 10 䞍飜和アルコヌルおよびアミンたたはそれ等
のアシル誘導䜓たたはアセタヌルから誘導され
るポリマヌ、䟋えばポリビニルアルコヌル、ポ
リ酢酞ビニル、ポリステアリン酞ビニル、ポリ
ビニルベンゟ゚ヌト、ポリビニルマレ゚ヌト、
ポリビニルブチラヌル、ポリアリルフタレヌト
たたはポリアリルメラミン。 11 環状゚ヌテルのホモポリマヌおよびコポリマ
ヌ、䟋えばポリアルキレングリコヌル、ポリ゚
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシドたた
はこれらずビス―グリシゞル゚ヌテルずのコポ
リマヌ。 12 ポリアセタヌル、䟋えばポリオキシメチレ
ン、およびたたコモノマヌ、䟋えば゚チレンオ
キシドを含有するポリオキシメチレン。 13 ポリプニレンオキシドおよびポリプニレ
ンスルフむド。 14 䞀方の成分が末端ヒドロキシル基をも぀ポリ
゚ヌテル、ポリ゚ステルおよびポリブタゞ゚ン
で、他方の成分が脂肪族もしくは芳銙族ポリむ
゜シアネヌトであるものから誘導されるポリり
レタン、ならびにこれらの前駆物質。 15 ゞアミンおよびゞカルボン酞から、および
たたはアミノカルボン酞たたは盞圓するラクタ
ムから誘導されるポリアミドおよびコポリアミ
ド、䟋えばポリアミド、ポリアミド、ポリ
アミド、ポリアミド10、ポリアミド
11、ポリアミド12、ポリ――トリメ
チルヘキサメチレン―テレフタルアミドたたは
ポリ――プニレン―む゜フタルアミド、な
らびにこれらずポリ゚ヌテル、䟋えばポリ゚チ
レングリコヌル、ポリプロピレングリコヌルた
たはポリテトラメチレングリコヌルずのコポリ
マヌ。 16 ポリ尿玠、ポリむミドおよびポリアミド―む
ミド。 17 ゞカルボン酞およびゞアルコヌルから、およ
びたたはヒドロキシカルボン酞たたは盞圓す
るラクトンから誘導されるポリ゚ステル䟋えば
ポリ゚チレンテレフタレヌト、ポリブチレンテ
レフタレヌト、ポリ――ゞメチロヌル―
シクロヘキサンテレフタレヌトたたはポリヒド
ロキシベンゟ゚ヌト、およびたた末端ヒドロキ
シル基をも぀ポリ゚ヌテルから誘導されるブロ
ツクポリ゚ヌテル゚ステル。 18 ポリカヌボネヌト。 19 ポリスルホンおよびポリ゚ヌテル―スルホ
ン。 20 䞀方の成分がアルデヒド、他方の成分がプ
ノヌル、尿玠もしくはメラミンであるものから
誘導される架橋ポリマヌ、䟋えばプノヌル―
ホルムアルデヒド暹脂、尿玠―ホルムアルデヒ
ド暹脂およびメラミン―ホルムアルデヒド暹
脂。 21 也性および䞍也性アルキド暹脂。 22 飜和および䞍飜和ゞカルボン酞ず倚䟡アルコ
ヌルずのビニル化合物を架橋剀ずするコポリ゚
ステルから誘導される、䞍飜和ポリ゚ステル暹
脂およびさらにそのハロゲン原子を含む難燃性
の倉性暹脂。 23 眮換アクリル酞゚ステル、䟋えば゚ポキシア
クリレヌト、りレタン―アクリレヌトたたはポ
リ゚ステル―アクリレヌトから誘導される架橋
性アクリル暹脂。 24 メラミン暹脂、尿玠暹脂、ポリむ゜シアネヌ
トたたぱポキシ暹脂で架橋されたアルキド暹
脂、ポリ゚ステル暹脂およびアクリレヌト暹
脂。 25 ポリ゚ポキシドから、䟋えばビス―グリシゞ
ル゚ヌテルたたは脂環匏ゞ゚ポキシドから誘導
される架橋゚ポキシ暹脂。 26 倩然のポリマヌ、䟋えばセルロヌスおよびゎ
ムおよびれラチンならびにそれ等を重合同族䜓
ずしお化孊倉性した誘導䜓、䟋えば酢酞セルロ
ヌス、プロピオン酞セルロヌス、セルロヌスブ
チレヌトおよびメチルセルロヌスの様なセルロ
ヌス゚ヌテル。 ポリオレフむンおよびスチレンポリマヌならび
にポリりレタンの安定化は、特に重芁であり、匏
で衚わされる化合物はこのために充分に適合す
る。このようなポリマヌの䟋ずしおは、高密床お
よび䜎密床のポリ゚チレン、ポリプロピレン、゚
チレンプロピレンコポリマヌ、ポリスチレン、
スチレンブタゞ゚ンアクリロニトリルコポリ
マヌ、ポリオレフむンの混合物たたはスチレンポ
リマヌの混合物、およびポリ゚ヌテルたたはポリ
゚ステルをベヌスずするポリりレタンなどが挙げ
られ、これらはフむルム、繊維、ラツカヌ、゚ラ
ストマヌたたはフオヌム状であ぀およい。ラツカ
ヌ暹脂、䟋えばアルキド暹脂、ポリ゚ステル暹脂
およびアクリル暹脂ならびにこれらずメラミン暹
脂ずの混合物などの安定化も、たた特に重芁であ
る。 安定剀は安定化すべき物質に察しお0.01ないし
重量の濃床でプラスチツクに添加される。安
定化すべき物質に察しお奜たしくは0.03ないし
1.5重量、特に奜たしくは0.2ないし0.6重量の
化合物が、前蚘物質に混入される。 安定剀の混入は、重合埌に行われ、䟋えば化合
物を所望により他の添加剀ずずもに、混合する
か、䟋えば、成圢前たたは成圢䞭に工業的な慣甚
手段により溶融物䞭にたたは溶解もしくは分散し
た化合物をポリマヌに塗垃し、必芁ならば続いお
溶媒を蒞発させるこずによ぀お、加えられる。 この化合物は、䟋えば2.5ないし25重量の濃
床で化合物を含有するマスタヌバツチの圢状で安
定化すべきプラスチツクに添加するこずもでき
る。 匏で衚わされる化合物に加えお、さらに他の
公知化合物をプラスチツク䞭に添加するこずもで
きる。公知の安定剀ずしおは、䟋えば酞化防止
剀、光安定剀たたは金属䞍掻性化剀あるいは共安
定剀、䟋えば有機リン系の安定剀をも䜿甚しう
る。さらに、プラスチツク技術分野で慣甚される
他の添加剀、䟋えば防炎剀、垯電防止剀、可塑
剀、滑剀、発泡剀、顔料、匷化剀、充填剀なども
添加しうる。このような公知で慣甚な添加剀の特
定の䟋は、ドむツ特蚱公開第2349962号公報第25
―32頁に列蚘されおいる。 それ故、本発明における匏で衚わされる化合
物0.01ないし重量を添加するこずによ぀お安
定化された、そしお所望により曎に他の公知で慣
甚されおいる添加剀を含有しうるプラスチツクが
埗られる。こうしお安定化されたプラスチツク
は、非垞に広範な圢状、䟋えばフむルム、繊維、
テヌプもしくは圢材ずしお、たたはラツカヌ、接
着剀もしくはパテ甚の結合材ずしお、あるいは写
真甚フむルムおよびペヌパヌ甚の塗垃物ずしお䜿
甚されうる。 本発明による化合物の補法および甚途を、以䞋
の実斜䟋により曎に詳现に説明する。郚および
は各々重量郚および重量を衚わす。枩床は摂氏
単䜍で衚わす。 実斜䟋  ゞメチルカルバモむルクロラむド33.9
0.315モルを、キシレン130ml䞭のN′―ビ
ス――テトラメチル――ピペ
リゞル―ヘキサメチレンゞアミン550.15モ
ルおよび゚チルゞむ゜プロピルアミン44.6
0.345モルの溶液に105―110℃で撹拌しながら
滎加し、この混合物を110℃で党䜓ずしお12時間
撹拌した。反応を仕䞊げるために、反応混合物を
氎で繰返しお掗浄し、硫酞ナトリりムで也燥しお
真空䞋に溶媒を完党に陀去させた。この粗化合物
をリグロむン沞点110―140℃から再結晶させ
るず、融点142―144℃のN′―ビス―ゞメチ
ルカルバモむル―N′―ビス―
―テトラメチルピペリド――むル―ヘキサ
メチレンゞアミンが埗られた。 䞋蚘化合物も同様にしお補造される ―ビス――テトラメチルピペ
リド――むル―N′―ゞ゚チル尿玠 ―ビス――テトラメチルピペ
リド――むル―N′―ゞメチル尿玠 N′―ビス――ペンタ
メチルピペリド――むル―N′―ビス―
ゞ―第―ブチル―カルバモむル―゚チレン
ゞアミン N′―ビス――テトラメチ
ルピペリド――むル―N′―ビス―ゞ
プニルカルバモむル―ヘキサメチレンゞアミ
ン N′―ビス――テトラメチ
ルピペリド――むル―N′―ビス―ゞ
メチルカルバモむル――ゞアミノ―
―ゞオキサ―オクタン N′―ビス――ペンタ
メチルピペリド――むル―N′―ビス―
ゞメチルカルバモむル―ヘキサメチレンゞア
ミン N′―ビス――ペンタ
メチルピペリド――むル―N′―ビス
ゞ゚チルカルバモむル―トリメチレンゞアミ
ン 粘皠油、分析倀 蚈算倀 C68.5 H11.5 N14.5 実枬倀 C68.5 H11.7 N14.5 ―ビス――ペンタメチル
ピペリド――むル―N′―ゞメチル尿玠 N′―ビス――テトラメチ
ルピペリド――むル―N′―ビス―ヘ
キサメチレンむミノカルボニル―ヘキサメチレ
ンゞアミン N′―ビス――テトラメチ
ルピペリド――むル―N′―ビス―モ
ルホリノカルボニル―ヘキサメチレンゞアミン N′―ビス――テトラメチ
ルピペリド――むル―N′―ビス―ゞ
アリルカルバモむル―ヘキサメチレンゞアミン N′―ビス――テトラメチ
ルピペリド――むル―N′―ビス―ゞ
シクロヘキシルカルバモむル―ヘキサメチレン
ゞアミン ―ビス――ペンタメチル
ピペリド――むル―N′―ゞ―第ブチル―
尿玠 ―ドデシル―――テトラメ
チルピペリド――むル―N′―ゞメチル―尿
玠 ―ブチル―――ペンタ
メチルピペリド――むル―N′―ゞオクチル
―尿玠 N′―ビス――テトラ
メチルピペリド――むル―N′―ビス―
メチルメトキシカルバモむル―トリメチレン
ゞアミン 元玠分析倀 C29H58N6O4 蚈算倀C62.78 H10.54 N15.15 実枬倀C62.5 H10.8 N14.9  実斜䟋  N′―ビス―ゞメチルカルバモむル―
N′―ビス――テトラメチ
ル――ピペリゞル―ヘキサメチレンゞアミン
実斜䟋により補造された化合物26.9
0.05モル、臭化アリル18.20.15モル、炭酞
カリりム粉末16.6、沃化カリりム粉末0.5お
よび゚チルメチルケトン70mlを、窒玠雰囲気䞭に
お玄72―74℃還流枩床で24時間撹拌した。次
に反応混合物を濟過しお無機塩を陀去し、真空䞋
で濟液から溶媒を陀去しお粗化合物をペンタンか
ら再結晶するず、融点96―98℃のN′―ビス
―ゞメチルカルバモむル―N′―ビス―
―アリル――テトラメチルピ
ペリド――むル―ヘキサメチレンゞアミンが
埗られた。 元玠分析倀 C36H68N6O2 蚈算倀C70.08 H11.11 N13.62 O5.19 実枬倀C69.9 H11.3 N13.5 O5.1  䞋蚘化合物も同様にしお補造される ―ビス――アリル――テト
ラメチルピペリド――むル―N′―ゞメチル
尿玠 N′―ビス――アリル―
―テトラメチルピペリド――むル―
N′―ビス―ゞ゚チルカルバモむル―ヘキサ
メチレンゞアミン N′―ビス――アリル―
―テトラメチルピペリド――むル―
N′―ビス―ゞシクロヘキシルカルバモむル
―ヘキサ゚チレンゞアミン 実斜䟋  ゞ゚チルカルバモむルクロラむド17.60.13
モルを、キシレン150mlおよびトリ゚チルアミ
ン15䞭にN′―ビス――ベンゞル―
―テトラメチルピペリド――むル
―ヘキサメチレンゞアミン融点101―103℃、
―ベンゞル――テトラメチル―
ピペリド――オンのヘキサメチレンゞアミンに
よる還元的アミノ化によ぀お補造された化合物
34.60.06モルの入぀た溶液䞭に撹拌しなが
ら110―120℃で滎加した。玄115℃で時間反応
させた埌、反応混合物を宀枩たで冷华し、トル゚
ンで垌釈し、氎で繰返し掗浄し、硫酞ナトリりム
で也燥しお真空䞋にお溶媒を完党に陀去した。こ
の粗化合物をシリカゲル䞊のクロマトグラフむヌ
溶離剀ゞ゚チル゚ヌテルによ぀お曎に粟補
し、―ヘキサンから再結晶するず、玔粋な
N′―ビス―ゞ゚チルカルバモむル―N′―ビ
ス――ベンゞル――テトラメ
チルピペリド――むル―ヘキサメチレンゞア
ミンが埗られた。融点123―124℃。 元玠分析倀 C48H80N6O2 蚈算倀C75.56  H10.43  N10.87 実枬倀C75.7 H10.4 N10.9  䞋蚘化合物も同様にしお補造される N′―ビス――テトラメチ
ルピペリド――むル―N′―ビス―ゞ
゚チルカルバモむル―ヘキサメチレンゞアミン 実斜䟋  ベンれン10ml䞭に―臭化ブチル16.5を含む
溶液を、――ペンタメチ
ルピペリゞン――むル―N′―ゞメチルりレ
ア―アミノ――ペンタメ
チルピペリゞンおよびゞメチルカルバモむルクロ
ラむドから補造される化合物融点111―112℃
9.65、ベンれン40ml、氎酞化ナトリりム5.6、
炭酞カリりム11.6および硫酞氎玠テトラブチル
アンモニりム1.4を激しく撹拌した混合物に、
78℃で90分かけお滎加した。次に混合物を78―80
℃で曎に30時間撹拌した。反応終了埌、癜色懞濁
液を宀枩たで冷华し、ゞ゚チル゚ヌテル200mlを
添加し、生成した混合物を濟過し、真空䞋で濟液
から溶媒を陀去しお残枣をシリカゲル60メル
ク䞊のカラムクロマトグラフむヌ溶離剀ゞ
゚チル゚ヌテルメタノヌルトリ゚チルアミ
ン、90によ぀お粟補するず、融点83―
85℃の玔粋な―ブチル――
―ペンタメチルピペリド――むル―
N′―ゞメチル尿玠が埗られたアセトニトリル
から結晶化。 元玠分析倀 C17H35N3O281.47 蚈算倀C68.64  H11.86  N14.13 実枬倀C68.5 H11.6 N14.1  実斜䟋  キシレン50ml䞭に再蒞留された
―テトラメチルピペリゞン29.70.21モルを
入れた溶液を、撹拌しながら䞍掻性ガス雰囲気䞋
で、キシレン䞭の25.7ホスゲン溶液0.105モ
ル40.2䞭に−40℃で1.5時間かけお滎加した。
アミン添加埌、混合物を−10℃で曎に時間およ
び−ないし℃で18時間撹拌した。こうしお埗
られた―テトラメチルピペリゞノ
カルボン酞クロラむドを単離せずにキシレン50ml
䞭のN′―ビス――テトラ
メチル―ピペリド――むル―ヘキサメチレン
ゞアミン19.730.05モルおよびゞむ゜プロ
ピル―゚チルアミン20.4ml0.12モルの溶液
を、−10℃で時間かけお添加しながら凊理した。
宀枩で曎に18時間および50℃で時間撹拌した
埌、反応混合物を宀枩たで冷华し、ヘキサン300
mlで垌釈しお氎150mlで回抜出し、有機盞を硫
酞ナトリりムで也燥し、溶媒を真空氎流ポンプで
完党に留去した。短時間埌に結晶ずしお固化した
残留物をアクリロニトリルから再結晶するず、玔
粋なN′―ビス――テトラ
メチル―ピペリド――むル―N′―ビス
――テトラメチルピペリゞノ―
カルボニル―ヘキサメチレンゞアミンが融点
137―139℃の無色の化合物ずしお埗られた。 元玠分析倀 C44H84N6O2 蚈算倀 N11.54 実枬倀 N11.5  実斜䟋  光に察するポリプロピレンの安定化プロピレン
粉末〔モンテゞ゜ンMontedison瀟補の繊維
甚モプレンMoplen〕100郚を、オクタデシル
β――ゞ―第ブチル――ヒドロキシ
プニル―プロピオネヌト0.2郚、ステアリン
酞カルシりム0.1郚および䞋蚘第衚の安定剀
0.25郚ず200℃でブラベンダヌ・プラストグラフ
Brabender plastograph䞭で10分間均質化さ
せた。こうしお埗られた組成物をできる限りすば
やくニヌダヌから取出し、トグルプレスでプレス
しお厚さ―mmのシヌトにした。埗られたプレ
ス圢板の䞀郚を切取り、実隓宀甚手動匏油圧機を
甚いお二板の高光沢硬質アルミニりム薄板の間に
お260℃で分間抌圧しお厚さ0.1mmのフむルムを
埗、これを盎ちに冷氎䞭に浞挬した。このフむル
ムからパンチしお詊隓片を切取り、キセノテスト
Xenotest1200で照射した。これらの詊隓片を
䞀定時間で照射装眮から取出し、そのカルボニル
含有量を赀倖分光光床蚈で調べた。照射による
5.85Όでのカルボニル吞収の増加は、ポリマヌ
の光―酞化的劣化の指暙であり〔バラバン
Balaban等、ゞダヌナル・オブ・ポリマヌ・
サむ゚ンスJ.Polymer Sci.、パヌトPart
、第22巻、第1059―1071頁1969幎参照〕、
本発明者の経隓によればポリマヌの機械的特性の
悪化に䞀臎する。カルボニル吞収が玄0.3に達す
るたでの経過時間この時点で察照フむルムは脆
匱化するを、保護䜜甚の指暙ずした。 光安定剀を含有しない比范詊料の照射時間に察
する本発明の詊料の照射時間の比を保護因子PF
で瀺した。 PF本発明詊料の照射時間比范詊料の照射時間 詊隓を行な぀た光安定剀の保護因子を、䞋蚘衚
に瀺した。
【衚】 実斜䟋  オクタデシルβ――ゞ第䞉ブチル―
―ヒドロキシプニルプロピオネヌト0.2及
び䞋蚘に瀺す光安定剀0.25を含有する0.1mm厚
のポリプロピレンフむルムを、䞊蚘実斜䟋に蚘
茉された方法により補造した。これらフむルムの
詊料をキセノンテスト1200装眮においお照射し
た。詊料の砎断点䌞びを芏則的な時間間隔で枬定
した。䞋蚘の衚は初期の䌞びの50になるたでの
照射時間を瀺す。 詊隓された光安定剀は次の構造を有する。 安定剀 照射時間 無し 800h  6300h CH3 9100h この結果より、がを衚わす䞊蚘匏の化合物
は良奜な安定剀であるが、がCH3を衚わす同匏
の化合物の性胜はそれより玄50高いこずがわか
る。埌者の化合物は化合物番号の本発明化合物
である。 実斜䟋  ポリプロピレン粉末モブレン、繊維銘柄、モ
ンテゞ゜ンMontedison瀟より入手100郚を
オクタデシルβ――ゞ第䞉ブチル――
ヒドロキシプニルプロピオネヌト0.2郚およ
び光安定剀0.1郚たたは0.25郚ずブラベンダヌ䞭
で200℃にお10分間均質化した。而しお埗られた
組成物をできる限りすばやく該ニヌダヌから取り
出し、トグルプレス䞭でプレスしお―mm厚シ
ヌトにした。結果ずしお埗られたプレス圢板の䞀
郚を取り出し、そしお実隓宀甚手動匏油圧機を甚
いお二枚の高光沢硬質アルミニりム箔の間にお
260℃で分間加圧しお、0.1mm厚フむルムにし、
これを即座に冷氎䞭で冷やす。次いでこのフむル
ムから切取り片をパンチ抜きしそしおキセノテス
トXenotest1200䞭で曝露した。これら詊隓
片を䞀定時間で照射装眮から取り出しそしおその
カルボニル含有量を赀倖分光光床蚈で調べた。曝
露の間における5.85Όでのカルボニル吞収の増
加はポリマヌの光―酞化劣化の瀺床であり〔参照
バラバンBalaban等、J.Polymer Sci.Part
22、1059―10711969〕、そしお経隓により、
ポリマヌの機械的特性の悪化ず関連する。玄0.3
のカルボニル吞収に達するたでの時間この時点
で察照フむルムは脆匱化するがを保護効果の指
暙ずした。 次の光安定剀を詊隓した。
【衚】 LSずLSの間の構造䞊の差異が小さいにも
拘らずこれらの安定化掻性の差異は盞圓に倧きい
ずいう結果が瀺された。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  次匏 〔匏䞭、 はたたはの数を衚わし、 は、CH3、アリル基たたはベンゞル基を衚わ
    し、 がであるずき、 R1は次匏 匏䞭、は前蚘の意味を衚わす。で衚わされ
    る基を衚わし、 がであるずき、 R1は炭玠原子数ないし20のアルキレン基たた
    は炭玠原子数ないし12のモノ―もしくはゞオキ
    サアルキレン基を衚わし、 R2およびR3は互いに独立しお炭玠原子数ない
    し10のアルキル基、プニル基、シクロヘキシル
    基たたはアリル基を衚わし、たたはR2およびR3
    は䞀緒にな぀お炭玠原子数ないしのアルキレ
    ン基たたは―オキサ――ペンチレン基を
    圢成する。〕 で衚わされるポリアルキルピペリゞル尿玠。  次匏 〔匏䞭、 はたたはの数を衚わし、 は、CH3、アリル基たたはベンゞル基を衚わ
    し、 がであるずき、 R1は次匏 匏䞭、は前蚘の意味を衚わす。で衚わされ
    る基を衚わし、 がであるずき、 R1は炭玠原子数ないし20のアルキレン基たた
    は炭玠原子数ないし12のモノ―もしくはゞオキ
    サアルキレン基を衚わし、 R2およびR3は互いに独立しお炭玠原子数ない
    し10のアルキル基、プニル基、シクロヘキシル
    基たたはアリル基を衚わし、たたはR2およびR3
    は䞀緒にな぀お炭玠原子数ないしのアルキレ
    ン基たたは―オキサ――ペンチレン基を
    圢成する。〕 で衚わされるポリアルキルピペリゞル尿玠からな
    る、特に光による損傷からポリマヌを保護するた
    めのポリマヌ甚安定剀。
JP8449480A 1979-06-21 1980-06-21 Novel polyalkylpiperidylurea and stabilizer made therefrom Granted JPS567764A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH580779 1979-06-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS567764A JPS567764A (en) 1981-01-27
JPH0135826B2 true JPH0135826B2 (ja) 1989-07-27

Family

ID=4299634

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8449480A Granted JPS567764A (en) 1979-06-21 1980-06-21 Novel polyalkylpiperidylurea and stabilizer made therefrom

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4412021A (ja)
EP (1) EP0022079B1 (ja)
JP (1) JPS567764A (ja)
DE (1) DE3066156D1 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4369274A (en) * 1981-07-20 1983-01-18 American Cyanamid Company Hindered amine light stabilizers for polymers
US4590268A (en) * 1982-05-10 1986-05-20 Ciba-Geigy Corporation Process for the preparation of 1-diorganocarbamoyl-polyalkylpiperidines
JPS59155405A (ja) * 1983-02-22 1984-09-04 Du Pont Mitsui Polychem Co Ltd 有機材料甚耐候安定剀
GB8515672D0 (en) * 1985-06-20 1985-07-24 Sandoz Ltd Organic compounds
IT1216560B (it) * 1988-04-07 1990-03-08 Ciba Geigy Spa Procedimento per la preparazione di bis(2,2,6,6_tetrametil_4_piperidil)ammina.
US4859759A (en) * 1988-04-14 1989-08-22 Kimberly-Clark Corporation Siloxane containing benzotriazolyl/tetraalkylpiperidyl substituent
US6545156B1 (en) * 2000-11-03 2003-04-08 Cytec Technology Corp. Oligomeric hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds and methods of making same
CN104530476B (zh) * 2014-12-15 2016-03-23 绍兎瑞康生物科技有限公叞 䞀种倚功胜协同高分子抗氧化皳定剂及其制倇方法和应甚
CN115677565A (zh) * 2022-10-17 2023-02-03 南通倧孊 䞀种受阻胺类光皳定剂䞭闎䜓的制倇方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51143673A (en) * 1975-05-28 1976-12-10 Sankyo Co Ltd New derivatives of 4-aminopiperidines
JPS53144579A (en) * 1977-05-18 1978-12-15 Sankyo Co Ltd 4-aminopolyalkylpiperidine derivatives

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3684765A (en) * 1970-01-08 1972-08-15 Sankyo Co Stabilization of synthetic polymers
US4191683A (en) * 1975-05-28 1980-03-04 Ciba-Geigy Corporation Derivatives of 4-aminopiperidine as stabilizers for polymers
CH626109A5 (ja) * 1976-05-11 1981-10-30 Ciba Geigy Ag
DE2642461A1 (de) * 1976-09-21 1978-03-30 Bayer Ag Permanent stabilisierte polymere
DE2642446A1 (de) * 1976-09-21 1978-03-30 Bayer Ag Methylolderivate von 2,2,6,6-tetraalkylpiperidin, deren herstellung und verwendung

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51143673A (en) * 1975-05-28 1976-12-10 Sankyo Co Ltd New derivatives of 4-aminopiperidines
JPS53144579A (en) * 1977-05-18 1978-12-15 Sankyo Co Ltd 4-aminopolyalkylpiperidine derivatives

Also Published As

Publication number Publication date
US4412021A (en) 1983-10-25
EP0022079B1 (de) 1984-01-18
JPS567764A (en) 1981-01-27
DE3066156D1 (en) 1984-02-23
EP0022079A1 (de) 1981-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4191683A (en) Derivatives of 4-aminopiperidine as stabilizers for polymers
US5410047A (en) Polymer stabilizers containing both hindered amine and hydroxlamine moieties
JPS59182826A (ja) 安定化有機高分子組成物
US5338853A (en) Derivatives of N-HALS-substituted amic acid hydrazides
EP0413665B1 (en) Polymer stabilizers containing both hindered amine and nitrone moieties
JPS6341394B2 (ja)
EP0112690A2 (en) Tris(piperidylaminotriazylamino) compounds, their preparation and their use as polymer stabilizers
US4340533A (en) Novel stabilizers
JPH0135826B2 (ja)
EP0314472B1 (en) Novel piperidyl-triazine derivatives and their use as polymer stabilizers
JPS6345388B2 (ja)
US4118368A (en) Synthetic polymer stabilizers
US4883860A (en) Triazine-based light stabilizers for plastics
US4569997A (en) Polyalkylpiperidine compounds
US4618634A (en) Compounds containing piperidine groups, as stabilizers for synthetic polymers
EP0172138B1 (de) N-Piperidyl-tetrahydro-1,4-oxazin-2-one als Lichtschutzmittel
JP2781036B2 (ja) メラミンをベヌスずしたプラスチック甚光安定剀
US4263505A (en) Polyalkylpiperidine-spirooxazolones and their use as light stabilizers
US4816585A (en) Tetraalkylpiperidinyl substituted uracil derivatives and their use as ultraviolet light stabilizers
EP0434079B1 (en) N,N'-hydrocarbylenebis(N-hals-substituted amic acid hydrazides) and their derivatives
JPH0641166A (ja) 新芏な環状ホスファむトのポリアルキルピペリゞン誘導䜓及び該化合物を含有する安定化有機ポリマヌ
US4621110A (en) Alkyl-substituted 4-methyl-piperidine derivatives and use thereof as stabilizers
US4904714A (en) Synthetic resin composition and its method of use
US4837403A (en) Novel polyalkylpiperidine derivatives having alkylene bridges, use thereof as stabilizers, and intermediates
US4219465A (en) Piperidine-spiro-hydantoin derivatives and their use as polymer stabilizers